JPS6060914A - ケイ素またはフェロシリコンを精製する方法 - Google Patents
ケイ素またはフェロシリコンを精製する方法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/02—Silicon
- C01B33/037—Purification
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C33/00—Making ferrous alloys
- C22C33/003—Making ferrous alloys making amorphous alloys
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明祉1元素状ケイ素およびフェロシリコンをスラグ
(この場合スラグは融液状態で存在する)で処理する方
法に関する。
(この場合スラグは融液状態で存在する)で処理する方
法に関する。
従来の技術
ケイ素を、酸化カルシウム2〜30重量%。
酸化マグネシウム5〜35重量%、酸化アルミニウム0
.5〜28重量%および酸化ケイ素45〜70重量%の
ほかに、少なくとも処理すべきケイ素量に対して銅0.
29重量%を含有するスラグ中へ導入する事は、西ドイ
ツ国特許出願公開第2706175号明細書から公知で
ある。
.5〜28重量%および酸化ケイ素45〜70重量%の
ほかに、少なくとも処理すべきケイ素量に対して銅0.
29重量%を含有するスラグ中へ導入する事は、西ドイ
ツ国特許出願公開第2706175号明細書から公知で
ある。
この方法によって、塊状ケイ素の粉砕の際に生じるケイ
素微細ダストを回収する事ができた。
素微細ダストを回収する事ができた。
不利に、このような方法で得られたケイ素は半導体分野
における原料としては使用する事ができなかったが、そ
の理由はこの使用目的ではケイ素中の百分の数)J?−
セントの銅さえも不利でちるからでちる。
における原料としては使用する事ができなかったが、そ
の理由はこの使用目的ではケイ素中の百分の数)J?−
セントの銅さえも不利でちるからでちる。
発明が解決しようとする問題点
本発明の課題は、西ドイツ国特許出願公開第27061
75号明細書による利点の保持において前述の欠点金避
ける。ケイ素およびフェロシリコンを処理する方法を見
出す事でちった。
75号明細書による利点の保持において前述の欠点金避
ける。ケイ素およびフェロシリコンを処理する方法を見
出す事でちった。
殊に本発明の課題は、微細なケイ素またはフェロシリコ
ンもスラブ表面下にたまる。銅添加物を有しないつなが
りのちる液相として得ることができ、それにもかかわら
ず静かで乱流なしに進行する溶融工程を保証するスラグ
組成を見出す事であった。
ンもスラブ表面下にたまる。銅添加物を有しないつなが
りのちる液相として得ることができ、それにもかかわら
ず静かで乱流なしに進行する溶融工程を保証するスラグ
組成を見出す事であった。
問題点を解決しようとする手段
ととるで1次に記載された組成のスラグかに20の含#
(分析的)を有する場合、銅の混入を断念しうる事が見
出された。
(分析的)を有する場合、銅の混入を断念しうる事が見
出された。
本発明の対象は、ケイ素またはフェロシリコンを、電気
抵抗加熱により液状にされたかないしは融液状態に保た
れたスラグで処理する方法に関し、これはケイ素または
フェロシリコンを次の分析組成を有するスラグと接触さ
せる事を特徴とする: に202〜13重量% Na2O0〜12重1s K20 +N a 20 2〜13重量)t%8102
45〜72重量% At2030〜30.i量係 S i02+ &t20. 60〜78重州係OaO(
1−30重J1% M、0 0〜30重量% CaO+M、0 15〜30重量% CQF+20〜10重量係 M、F20〜1020〜 10重量%+MfF2 0〜10 重量%OaO+M、
O+0aF2+MyF2 15〜30Tci1%ならび
に原料からの不純物。
抵抗加熱により液状にされたかないしは融液状態に保た
れたスラグで処理する方法に関し、これはケイ素または
フェロシリコンを次の分析組成を有するスラグと接触さ
せる事を特徴とする: に202〜13重量% Na2O0〜12重1s K20 +N a 20 2〜13重量)t%8102
45〜72重量% At2030〜30.i量係 S i02+ &t20. 60〜78重州係OaO(
1−30重J1% M、0 0〜30重量% CaO+M、0 15〜30重量% CQF+20〜10重量係 M、F20〜1020〜 10重量%+MfF2 0〜10 重量%OaO+M、
O+0aF2+MyF2 15〜30Tci1%ならび
に原料からの不純物。
原料からの不純物の分量は、大体において0.1〜14
5重景係の重量内にある。全ての重量係数値は、各々の
特別なスラグ組成において1o。
5重景係の重量内にある。全ての重量係数値は、各々の
特別なスラグ組成において1o。
重量褒となる。
ケイ素97チよシ多くを有する微細なケイ素を溶解する
ためには次のスラグ組成が有利でちる: に20 4〜10重量係 Na2Oo〜2重t% に20+Na2O4〜10重量係 5i0262〜72重量% Nt2032〜10重量係 SiO2+At203 64〜78重量%0a02〜2
5重量係 M、0 2〜25重量% CaO十M、O16〜27重量% OaB’2 0〜5重量係 M、l1120〜5重量% ()aF2 +MyF2 0〜5重量%OaO+M、O
+0aF2+M、F2 16〜27重量%ならびに原料
からの不純物。
ためには次のスラグ組成が有利でちる: に20 4〜10重量係 Na2Oo〜2重t% に20+Na2O4〜10重量係 5i0262〜72重量% Nt2032〜10重量係 SiO2+At203 64〜78重量%0a02〜2
5重量係 M、0 2〜25重量% CaO十M、O16〜27重量% OaB’2 0〜5重量係 M、l1120〜5重量% ()aF2 +MyF2 0〜5重量%OaO+M、O
+0aF2+M、F2 16〜27重量%ならびに原料
からの不純物。
本発明によるスラグは1本発明による方法において使用
前に、その個々の成分の混合物としても、予め溶融され
た粉末としても存在していてよい。フェロシリコンとし
ては、殊[10〜25重量%の鉄含量全有するようなも
のが使用される。ケイ素は、殊に少なくとも97重量係
の純度を有する。
前に、その個々の成分の混合物としても、予め溶融され
た粉末としても存在していてよい。フェロシリコンとし
ては、殊[10〜25重量%の鉄含量全有するようなも
のが使用される。ケイ素は、殊に少なくとも97重量係
の純度を有する。
ケイ素または7エロシリコンの処理は、自体公知の方法
により行なわれる。たとえば、砕片状または微細なケイ
素またはケイ素鉄(50μmよシ小さい粒径を有するケ
イ素−またはフェロシリコンの微細ダス)k含めて)を
1本発明による融液状スラグ中へ導入する事ができる。
により行なわれる。たとえば、砕片状または微細なケイ
素またはケイ素鉄(50μmよシ小さい粒径を有するケ
イ素−またはフェロシリコンの微細ダス)k含めて)を
1本発明による融液状スラグ中へ導入する事ができる。
砕片状または微細なケイ素ないしはフェロシリコンはス
ラグ中へ搬入した後に融液状態へ変えられ、その場合融
液状ケイ素またはフェロシリコンから成る下層ヲ宿し、
その上にスラグ融液が浮遊している液体二相系が形成す
る。
ラグ中へ搬入した後に融液状態へ変えられ、その場合融
液状ケイ素またはフェロシリコンから成る下層ヲ宿し、
その上にスラグ融液が浮遊している液体二相系が形成す
る。
スラグ量対溶融すべきケイ素またはフエロシリコンの伊
の割合は、有利に0.7〜1.7 : 1重量部である
。
の割合は、有利に0.7〜1.7 : 1重量部である
。
本方法全実施するための装置として、特にスタンピング
された炭素ライニングおよび1つまたは若干の黒鉛電極
を有する電気抵抗炉全使用する。この場合、黒鉛電極は
スラグ中へ浸漬する。このようにして抵抗加熱されたス
ラグは。
された炭素ライニングおよび1つまたは若干の黒鉛電極
を有する電気抵抗炉全使用する。この場合、黒鉛電極は
スラグ中へ浸漬する。このようにして抵抗加熱されたス
ラグは。
ケイ素またはフェロシリコンの溶融温度より上に保たれ
る。典型的には、温度は1500〜1800℃、殊に1
600〜1700℃である。
る。典型的には、温度は1500〜1800℃、殊に1
600〜1700℃である。
発明の効果
驚いた皇に1本発明によるスラブは、銅添加物なしでも
ケイ素またはフェロシリコンに対して乳化作用を有しな
い。それにより、スラグ内に高いケイ素−またはケイ素
鉄含量が形成し。
ケイ素またはフェロシリコンに対して乳化作用を有しな
い。それにより、スラグ内に高いケイ素−またはケイ素
鉄含量が形成し。
抵抗加熱系において短絡の生成大入へか阻止される。
記載されたスラブ処理によシ、りとえば砕片状ケイ素全
ダストの少ない粒に粉砕する際に副産物として生じるケ
イ素微細ダストは砕片状物質として回収する事ができる
。さらに1本発明によるスラグ処理によシ、殊にケイ素
またはケイ素鉄中のそれ自体望ましくないカルシウムお
よびアルミニウムの含量に関するN製効果が得られる。
ダストの少ない粒に粉砕する際に副産物として生じるケ
イ素微細ダストは砕片状物質として回収する事ができる
。さらに1本発明によるスラグ処理によシ、殊にケイ素
またはケイ素鉄中のそれ自体望ましくないカルシウムお
よびアルミニウムの含量に関するN製効果が得られる。
さらに、7Cとえば還元炉から抽出物として生じるよう
な融液状のケイ素または7エロシリコンを本発明による
スラグで処理する事も本発明の範囲内でちる。この別法
を実施するために。
な融液状のケイ素または7エロシリコンを本発明による
スラグで処理する事も本発明の範囲内でちる。この別法
を実施するために。
たとえば融液状ケイ素または7工ロシリコン全還元炉か
ら上述しfCような炉中へ抽出する。この炉中には電気
抵抗加熱によシ溶融され、加温された本発明による組成
のスラグが存在する。
ら上述しfCような炉中へ抽出する。この炉中には電気
抵抗加熱によシ溶融され、加温された本発明による組成
のスラグが存在する。
液状ケイ素またはフェロシリコンは記載された炉中へ包
注入した後、スラグ層の下にたまシ。
注入した後、スラグ層の下にたまシ。
スラグとの反応により不純物アルミニウムおよびカルシ
ウムが除去される。引続き、ケイ素またはフェロシリコ
ン全予熱された鍋中へ抽出し。
ウムが除去される。引続き、ケイ素またはフェロシリコ
ン全予熱された鍋中へ抽出し。
ナマコまたは板に鋳込む。
他の別法は、融液状ケイ素またはフェロシリコン金還元
炉から予熱された鍋中へ抽出し、引続き本発明によるス
ラグで覆う事がら成る。この場合、スラグは融液状態に
変わり、液状ケイ素−またはフェロシリコン抽出物上に
つながりのある保護層を形成する。系を液状に保つため
に必要な温度は、スラグの抵抗加熱にょシ保持される。
炉から予熱された鍋中へ抽出し、引続き本発明によるス
ラグで覆う事がら成る。この場合、スラグは融液状態に
変わり、液状ケイ素−またはフェロシリコン抽出物上に
つながりのある保護層を形成する。系を液状に保つため
に必要な温度は、スラグの抵抗加熱にょシ保持される。
この処理方法では、同様に既に上述された精製効果が得
られる。
られる。
最後に挙げた実施態様では、有利に0.05〜o、3:
1重量部のスラグ量対本発明により処理されたケイ素
の景の0.05〜0.3 : 1の比が適用される。
1重量部のスラグ量対本発明により処理されたケイ素
の景の0.05〜0.3 : 1の比が適用される。
さらに1本発明によるスラブは西ドイツ国特許出願公開
第2706175号明細書にょシ公知のスラグに比べて
より高い可使期間の利点を有する。公知スラグは20回
まで反覆使用する事ができたが1本発明によるスラグを
用いると。
第2706175号明細書にょシ公知のスラグに比べて
より高い可使期間の利点を有する。公知スラグは20回
まで反覆使用する事ができたが1本発明によるスラグを
用いると。
35回の抽出まで実施する事ができる。さらに驚いた事
に、前述の公知の方法による使用された微細なケイ素平
均90重量%から1本発明による方法による平均93重
量%への収率増加が達成される。
に、前述の公知の方法による使用された微細なケイ素平
均90重量%から1本発明による方法による平均93重
量%への収率増加が達成される。
次に:本発明を実施例につき詳述する。
実施例
例1〜8
次表1に挙げられたスラグそれぞれ3.5t’i。
スタンピングされた炭素2イニングおよび黒鉛電極を有
する電気抵抗炉中で溶融した。その後。
する電気抵抗炉中で溶融した。その後。
ダスト状のケイ素2.71 f:融液中へ導入した。
スラグまたはケイ素が融液から噴出する事のない静かな
炉作業が観察された。5時間後、全ての固形成分が溶融
した。融液の温度は1650℃でちった。最後に、融合
したケイ素融液を抽出した。収率ならびに精製作用は次
表から認められる。
炉作業が観察された。5時間後、全ての固形成分が溶融
した。融液の温度は1650℃でちった。最後に、融合
したケイ素融液を抽出した。収率ならびに精製作用は次
表から認められる。
例9〜14
例1〜8による方法を1元素状ケイ素のかわりにフェロ
シリコンを使用して繰シ返し7C。
シリコンを使用して繰シ返し7C。
結果は次の表2から認められる。
第1頁の続き
@発明者 ルドルフ・リートレ ドイツ連邦共和国プル
@発明者 へルベルト・シュトラ ドイツ連邦共和国メ
ーウスベルガー トラーセ 10 0発 明 者 ヴイリイ・シュトレツ ドイツ連邦共和
国メーケル トラーセ 8 クハウセン・リンテンウェーク 29 リング−エート・ヘルツオークシュ リング−エート・ノイハウゼルシュ
@発明者 へルベルト・シュトラ ドイツ連邦共和国メ
ーウスベルガー トラーセ 10 0発 明 者 ヴイリイ・シュトレツ ドイツ連邦共和
国メーケル トラーセ 8 クハウセン・リンテンウェーク 29 リング−エート・ヘルツオークシュ リング−エート・ノイハウゼルシュ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、 ケイ素または7エロシリコンを、電気抵抗加熱に
よシ液状にされたかないしは融液状態に保たれたスラグ
で処理する方法において。 ケイ素または7エロシリコンを次の分析組成:に20
2〜13重量% Na2OQ〜2XM% に20 + Nl! 20 2〜13重量%5L024
5〜72重量% kt2°6 0〜30重量% SiO2+kt20360〜78]i量チOa0 0〜
30重i% M、0 0〜30重量% OaO+Mt0 15〜30 JJI量チCaF2 0
〜10重量% M、F、2 0〜10重量膚 0aF2 +M、F20〜10重量% OaO+M、O+0aF2+M、F2 15〜30重量
%ならびに原料からの不純物 を有するスラグと接触させる事を特徴とする。 ケイ素またはフェロシリコンをスラブで処理する方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19833331046 DE3331046A1 (de) | 1983-08-29 | 1983-08-29 | Verfahren zum behandeln von silicium und ferrosilicium mit schlacke |
| DE3331046.7 | 1983-08-29 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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