JPS6062000A - 記憶回路 - Google Patents

記憶回路

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JPS6062000A
JPS6062000A JP59086055A JP8605584A JPS6062000A JP S6062000 A JPS6062000 A JP S6062000A JP 59086055 A JP59086055 A JP 59086055A JP 8605584 A JP8605584 A JP 8605584A JP S6062000 A JPS6062000 A JP S6062000A
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    • G11C29/78—Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring using programmable devices
    • G11C29/838—Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring using programmable devices with substitution of defective spares

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  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
  • Techniques For Improving Reliability Of Storages (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は半導体記憶装置特に製造歩留向上のため予備
セルを伴って製造される記憶装置に関する。
〔発明の背景〕
64キロビツト動的ランダムアクセス記憶装置(RAM
 )や16キロビツト静的R,AMのような大規模集積
(LSI)回路はその1集積回路(IC)または1チッ
プ当り10万個以上の能動装置を含むことがあるが、こ
のように多数の装置をその1個またはそれ以上に欠陥な
く1つのIC上に製造することは困難である。このよう
な大記憶配列が完全無欠陥のものしか許容されなければ
、1つのIC上に形成された大型記憶装置の製造歩留は
著しく低くなる。この歩留を上げるため、従来技術は1
つのチップ上に形成された記憶配列に欠陥セルを含む列
の代シに用い得る予備(スペア)セル列ヲ含ませること
を教えている。(「列」という用語は例示のために用い
たもので、代りに予備の行で欠陥行を置換し、または予
備の行と列で欠陥行列を置換することもできる。)この
置換によシ、そのすべての動作現場においては全く欠陥
セルのない記憶配列を製造することかできる。
予備セル列を含めて製造された公知の記憶装置のいくつ
か1は欠陥列を永久的に除いて代シに予備列で永久的に
置換するため選択的に吹き切られる溶融可能の結線のよ
うな手段を含むが、このような永久切断置換手段を用い
ると、欠陥列と置換した予備列に不良素子が含まれてお
れば、その不良予備列を切除して他の予備列で置換する
手段がないという問題がある。従って例えば集積回路に
多くの予備列が含まれていても、欠陥列に置換された最
初の予備列に欠陥があれば、そのチップ上の残シの予備
列から何の利益も用途も得られない。
従って有効歩留を上げるために多数の予備列を設ける利
点は限られている。
〔発明の概要〕
この問題はこの発明を実施しだ回路において予備行(お
よび/または列)で欠陥のある「標準」行(および/ま
たは列)を置換する手段を備え、その置換手段に所定の
優先順位によシ優先順位の高い予備行で優先順位の低い
欠陥行を置換する付加手段を含めることによ〕解決され
る。
〔詳細な説明〕
以下の説明においては、VDDボルトの電位またはその
近傍の信号を任意に論理「1」または「高」状態、接地
電位またはその近傍の信号を任意に論理「0」または「
低」状態と定義する。
第1図の回路は、(1)1行j列(i、jはそれぞれ行
と列の順番を示す整数)に配列された記憶セルMiJの
標準配列12と、(2)記憶セルSljの2つの予備(
スペア)行を含む予備配列14と、(3)出力が配列1
2の行導体Wiに結合されてこれを駆動する行復号器1
6と、(4)出力が配列12と予備配列14のビット線
BLjに接続された列復号器18と、(5)指定の(優
先)順序をもって予備行で不良標準行または低優先順位
の予備行を選択的に置換する予備行選択置換器20によ
り構成された集積回路(IC)メモリチップ10を含ん
でいる。
配列12は図示のように動的または静的の記憶セルをN
行Z列有し、セルの各行ごとに行導体Wi、各列ごとに
列導体BLjかあって、行導体はワード線1列導体はビ
ット線として働らく。図には各セル列に対し列導体が1
本しか示されていないが、各列導体は各セル列に対して
相補情報を伝えるため2本のビット線を含み得ることを
理解すべきである。このような形式の記憶配列は当業者
に公知であって、その一部は例えば米国特許第4156
940号、第4189782号C以上5トランジスタ静
的記憶セル使用)、第410’7556号(1トランジ
スタ動的記憶セル使用)、第3’714638 号(6
)ランジスタ静的記憶セル使用)に示されている。上記
特許その他に示された記憶配列の構造および動作は当業
者に公知であシ、また記憶配列の読取シおよび書込み動
作も公知である力)ら、詳述する必要はなく。
行導体Wiに付勢信号を印加すると、その行のセルMi
j全部が呼出され(アドレス指定され)るから、ある列
導体BLj上の情報(「高」または「低」)をその行と
列に当るセルMijに書込むことができ、また呼出され
た(アドレス指定された)セルの情報をそのセルに対す
る列導体BLjに読取ることができる。
予備記憶配列141i2つの予備セル行SPI、SF3
を含むが、その各行は標準配列12と同数の列を有し、
また好ましくは各予備セルS1jは配列12のセルMi
Jと同様である。各予備行はワード線として作用する対
応行導体SW1、SW2によシ呼出される。
配列12のワード線Wiはr個のアドレスA1〜Arが
印加されるワード復号器16によシ選択的に付勢される
。復号器16I″ir個のアドレス入力に応じて独特の
N個(N=2)までの出力を生成し得る多数の公知復号
器の任意の1つでよい。復号器16にはN個のナンドゲ
ー) NGI〜NGNが用いられ、r個のアドレス入力
とその補数を組合せて独特のN個の出力を生成する。ま
た正規素子除勢(NED )線161がナンドゲー) 
NGI〜NGNのそれぞれの一方の入力に接続され、予
備行か付勢されたときそのナントゲートおよび復号器1
6を除勢するように々つている。配列12の行導体にそ
れぞれ生成するN個の独特の出力は反転緩衝器IRI〜
IR,Nを介して対応する行導体(ワード線)Wiに接
続されている。
列復号器18もまた1組の人力信号(図示せず)に応動
する多数の公知復号器の任意の1つでよい。
復号器18の出力Ojは配列12.14の各ビット線B
Ljに接続されているが、配列12.14の各素子列に
ついて1つの出力Ojと1本のビット線BLjが対応す
る。復号器18Iri書込みサイクル中にプログラミン
グしてビット線の選ばれた1つまたはそれ以上に高レベ
ル(V])Dボルトまたは論理1)を、残シのビット線
に低レベル(vDDボルトまたは論理0)を印加するよ
うにすることができる。復号器18もまた読取クサイク
ル中にプログラミングして、呼出された記憶セルからビ
ット線上に読取られた高レベルまたは低レベルを感知す
るようにすることができる。
予備行選択器20ケ比較回路21、予備行優先順位は復
号器22および標準素子除勢回路24を含む。
比較器21け2つの出力WOI、 WO2(すなわち各
予備行に1つずつ)とアドレス人力A1〜Arを有する
プログラミング可能の復号器で、予め選択された組合せ
のアドレス人力に応じて出力WOl、−・WO2に「選
択」出力を生ずるようにプログラミングし得る第4図に
示す形式のヒユーズセルラ含み、予備行で欠陥行を置換
するため欠陥行のアドレスに対応するその出力に付勢信
号状態(例えばWOIまたはWO2が低レベル状態)を
生成し得るようにプログラミングすることができる。例
えば、配列12の試験中にある標準行が不良(すなわち
1個以上の欠陥素子を含む)と判ったとき、比較器21
がその利用し得る出力の一方(例えばWOl)を不良行
がアドレス指定されると常にそのアドレスに対応して低
レベル状態にするようにプログラミングする。これは入
力A1〜Arに不良行を表わすアドレスが印・加される
と同時に「ヒユーズ」と示された線路の選ばれた1つ(
ZAP線として後述)に特定の電圧を印加することによ
シ達せられる。すると不良行かアドレス指定されると必
ずこれがプログラミングされた出力(例えばWOI)に
対応する予備行(例えばSPI )で置換される。また
その置換した予備行(例えばSPI )が不良と判ると
、比較器21は再びプログラミングされて利用し得る他
方の出力(例えばWO2)を不良行のアドレスに対応し
て低レベルにするようになっている。
比較器21の2つの出力WOI、WO2は復号器22の
2つの入力に印加され、復号器22の2つの出力B、D
は反転緩衝器Bl、 B2を介して各予備行導体SWI
、SW2に結合されている。復号器22のインバータI
22 F1人力がWOlに、出力が2人カナンドゲー 
) G22の一方の人力に接続され、G22の他方の入
力はWO2に、出力Bけ緩衝器Blを介して導体SW1
に接続されている。出力WOQldまたインバータI2
3、I24および緩衝器B2を介して導体8W2に接続
されている。
復号器22け、予備行SPIよjD SF3の方が優先
順位が高くなって次のようにSF3でSPIを置換し得
るように動作する。
a) WOI、WO2が高レベル(選択されていない)
のときは2出力B、Dが高レベル(除勢)で、2つの予
備行は選択されない(SWI = SW2 =低)。
b) WOIが低レベル(選択されている)で、 WC
>2か高レベル(選択されていない)のときFiBは低
レベルに、Dは高レベルにな〕、従ってSWIが高レベ
ルになってSPIを付勢するが、8TA’2ta低レベ
ルのままで、SF3は除勢される。
C) WO2が低レベルのときはWOlの高低に関係な
く復号器22の出力Bが除勢さハ、(すなわち高レベル
になシ、)出力りが付勢される。このようにWO2が低
レベルのときは常にSW2が高レベルになってSWIが
低レベルになる。すなわち、WO2が付勢されると必ず
予備行SP2が選ばれ、5PLH選ばれない。
従って、復号器22は予め定められた優先順位に従って
その付勢人力に応動するように符号化されていて、WO
1,WO2の双方が付勢されたときけ高順位のWO2に
対応する予備行を選択し、低順位のWOlに対応する予
備行は選択しない。従って復号器22は比較器21から
2つの命令WOI、WO2が同時に発せられたときにど
ちらの予備行を選択すべきかを判定する。第1図の回路
ではたまたま予備行SP2を高順位に、予備行SPIを
低順位にしたが、この優先順位を反転し得ることは言う
までもない。
除勢回路24け2人力ナンドゲートG24を含み。
G24の2人力はWol、WO2に、出力はインバータ
I24の人力に接続され、I24の出力NEDはナンド
ゲー)NGI〜NGNの各一方の人力に接続されている
。Wol、WO2の一方または双方が選択されたとき(
すなわち低レベルのどき)1回路24の出力NEDは低
レベルになって全ナンドゲー) NGiを閉じる。従っ
て回路24は予備配列14の予備行のどれかが選択され
たとき必ず標準配列12の全行を除勢して選択されない
ようにする働らきをする。
次に記憶系の動作を説明する。
ICl0の製造後、標準記憶配列12は行列導体を選択
的に付勢することによシ試験されるが、今この試験が第
1行R,1から始まって第N行RNまで順次行われるも
のとする。この配列12の試験中にある行(例えば第3
行)の素子の1つが不良と判明すると、比較器21は第
1の予備行の選択を制御するWOIか第3行を選択する
アドレス(Al−Ar)に対し選択される(すなわち低
レベルになる)ようにプログラミングされる。Wolは
一旦第3行のアドレスに対して低レベルになるようにプ
ログラミングされると、以後この記憶系に第3列のアド
レスか印加されたときは常に(すなわち永久に)低レベ
ルになり、(WO2が高レベルのまま)Wolが低レベ
ルになると必ず復号器22が第1の予備行を選択して第
3行を置換させる。WO2が高レベルのままWOlが低
レベルになると、常にI22の出力が高レベルになって
G22の2人力か高レベルになるため、その出力Bか低
レベルになって緩衝器B1の出力が高レベルになる。従
って行導体SWIに付勢(高)信号が印加され、これに
よって第1予備行の各素子が呼出され(選択され)る。
同時に、低レベルのWOlが324の出力を高レベルに
し、I24の出力NEDを低レベルにする。低レベルの
NEDはナントゲートNGI〜NGNを除勢して配列1
2の全行の選択を防ぐ働らきをする。このように一旦比
較器21がプログラミングされると1回路系は不良の第
3行が呼出されたとき必ずその代シに第1予備行を使用
し、標準配列を除勢する。
予備行(例えば5P1)が不良の標準行(例えば第3行
)に置換された後、その予備行を試験してその全セルが
機能するか否かを判定する。この第1予備行の試験中に
その素子の1つまたはそれ以上が不良と判明すると、S
F3がこのSPIに置換される。このSF3によるSP
lの置換はWOlが選ばれたのと同じ入力アドレスに対
してWO2が選ばれるように(すなわちWO2が低レベ
ルに々るように)比較器21をプログラミングすること
によシ達せられる。比較器21はプログラミングされた
状態を永久記憶する形式のものであるから、第1予備行
か不良で次に第2予備行か選択されると、WOI、:W
O2の双方が同じ入力アドレスに対して低レベルになる
が、WO1とWO2の双方が低レベルになる(すなわち
選択される)と、優先復号器22I″i高順位の人力(
例えばWO2)だけを付勢し、低順位の人力(例えばW
OI)に対応する低順位の予備行(例えばSPI )の
選択を除勢すなわち禁止する働らきをする。WO2か低
レベルになると、G22の出力Bが高レベルになり、S
WI信号が低レベルになるため、SPIは選択されず、
また同時にI24の出力りが低レベルになシ、B2の出
力が高レベルになるため。
第2予備行SP2か付勢される。従って、第2予備行が
選ばれた(すなわちWO2が低レベルの)ときは必ず低
順位の第1予備行が高順位の第2予備行で置換される。
このようにしてWOlとWO2の双方が同じ人力アドレ
スに対して「選択」されたときは、第1予備行の代〕に
第2予備が使用され、第1の予備行が除勢され−る。
配列12の第1の不良行をSPIで置換した後SPIの
全素子が「良品」であることが判明すると、配列12に
次の不良行が見付かるまでその試験が続けられる。第1
の予備行が完全であれば第2の予備行が配列12の他の
不良行に置換される。次の不良行(例えば第N性)が見
付かると、比較器がその行に対応するアドレスに対して
WO2f低レベルにするようにプログラミングされる。
WO2が低レベルになると、Wolの状態に関係なく8
2の出力が高レベルになってSF3を付勢すると同時に
、SPlと全ナンドゲー)NGI〜NGNを除勢する。
従って、出力WO2が選択されてSF3を付勢すると、
低順位の予備行(例えば5P1)が除勢される。このよ
うにして「優先順付け」復号器22は2つの予備行が同
時に付勢されるのを禁止し、これによって不良行と優良
性の間または優良付相互間の干渉を防止する。
第1図の回路では簡単のため予備行が2行しか示されて
いないが、第2図に示すように、この発明は3行以上の
予備行を含む記憶系にも容易に適合する。第2図は4行
の予備行を持つ記憶系に適する比較器21aと優先順位
復号器22aを含んでいる。比較器21aは各予備行に
付き1つずつ合計4つの出力WO1〜WO4を持ち、こ
の出力WOl〜WO4は各予備行に付き1つずつ合計4
つの出力を持つ復号器22aの4つの入力として作用す
る。復号器22aは第1予備行に最低順位を、第2予備
行に2番目に低い順位を、第3予備行に2番目に高い順
位を、第4予備行に最高順位をそれぞれ割当てるように
組織されている。との復号器22aの回路の動作は第1
図の回路22と同様であるから、これ以上詳述の必要は
ない。
配列12内に不良行がない場合は、比較器21aの出力
WO’l〜WO41dすべてのアドレス入力に対して高
レベルに保たれるが、この条件では全SWi信号か低レ
ベルに保たれるため、予備行は全く選択されない。不良
行か見付かると、比較器21aがその不良の標準行を置
換する働らきをする出力を生成するようにプログラミン
グされる。全予備行が完全な場合は、各予備行で配列1
2の各不良標準行を置換してそれぞれ異なるアドレスに
対して付勢されるようにするとLができる。予備行全部
が「良好」のときは、特定のアドレス入力に対応する任
意の1時点で、比較器21aの出力WOiの1つだけか
プログラミングされる。
全予備行が「良好」のときは、比較器21aのプログラ
ミングにより配列12の各不良行は各予備行に置換され
るため、不良行に対する予備行の置換順位は重要でない
。一般に配列12で不良が発見された最初の行に第1の
予備行が置換され、2番目に不良と判明した行に第2の
予備行が、3番目に不良と判明した行に第3の予備行が
、以下同様に置換される。
しかしある予備行が不良であれば、比較器21aが同じ
アドレスに応動して同時にその出力WOiの2つ以上を
付勢するようにプログラミングされ、次に復号器22a
が最高順位を割当てられた予備行だけを付勢するように
働らく。
次に比較器21aの生成する信号WOiに対する復号器
22aの応答を概説する。特定のWOi信号を低レベル
に設定(すなわち付勢)し、他のWOi信号を高レベル
に設定すると、その特定信号に対応するSWi出力が付
勢されて(すなわち高レベルになって)対応する予備行
を付勢する。さらに第1図の復号器22の場合のように
、付勢信号WOiが低順位のSW小出力すべて除勢する
。従って(WO3=WO4−高で)WO2が低レベルに
なると、WOlの値に関係なくG22aの出力か高レベ
ルになり、そのためWO2が選ばれるとB1の出力が低
くなって第1予備列を選択しない。同様に(W4=高で
)WO3が低レベルになると、WOI、WO2の値に無
関係にG2Qa、GQ3aの出力が高レベルにな、り、
Bl、B2の出力が低レベルになるため、WO3が選択
されたときは第3予備行が選択され、第1および第2予
備行は選択されない。最後にWO4か低レベルになると
、WOI、WO2、WO3の値に無関係にG22a、 
G23a、 G33aの各出力か高レベルにな勺、B1
、B2、B3の各出力が低レベルになる。従って第4予
備行が選ばれたときは他の予備行は選ばれない。この性
質のため低順位の不良予備行を高順位の予備行で置換す
ることができる。例えば第1予備行か不良とすると、こ
の場合は比較器21aが出力WO1を低レベルにする同
じ入力アドレスに対してWO2に低レベル出力を生ずる
ようにプログラミングされるが、Wol、WO2の双方
が低レベルのときは、WO2がWOIに対応する行導体
SWIを除勢したまま復号器22aを介して行導体SW
2を付勢する。同様に、第1および第2の予備行が不良
と判明すれば、比較器21aがWOI、WO2を低レベ
ルにしたのと同じ入力アドレスに対してWO3を低レベ
ルにするようにプログラミングされ、低レベルのWO3
によ、りWOI、WO2に対応する低順位の行導体SW
I、SW2が復号器22aを介して除勢され、行導体S
W3が付勢される。同様に、WO4が低レベルになると
、復号器22aがSW4を付勢し、他の低順位の出力を
すべて阻止する。このようにして高(優先)順位の任意
の予備行で低順位の予備行または不良の標単行を置換す
ることができる。
第3図は第1図の比較器21のようなこの発明を実施し
た記憶方式に適する比較器の各部を示す。
この比較器は出力線WOI、WO2のそれぞれに対し1
組ずつのヒユーズセルフ0を含み、その各組が各アドレ
スビット(入力)当シ1個ずつのヒユーズセルを含んで
いる。第3図の出力WO1、WO2I″i第1図の同じ
番号の出力に対応する。各予備行に付随する比較回路は
すべて同様であるから、出力WO1を生成する回路だけ
を詳述する。
r個のヒユーズセルフ01〜’70rKはr個のアドレ
スピッ)Al−Arがそれぞれ接続されている。以下詳
述するように、各ヒユーズセルは共通のZAP線(例え
ばZAPI)によシヒューズセル出力ZOiに「誤差」
表示を生成するようにプログラミングすることができる
。この設計では「誤差」表示がヒユーズセルの出力の低
レベル信号CすなわちZOi = 低)である。各ヒユ
ーズセルの出力ZO111−tドレンがXWI線に接続
され、ソースが接地された対応する復号トランジスタN
D1iのゲート電極に接続されている。トランジスタN
Dliは復号用ノアゲートとして働らく。
線路XWIと対応する比較器の出力WOIの間には反転
半ラツチ回路47が接続されている。回路49は入力を
線路XWIに、出力をWOIに接続されたインバータI
47を含んでbる。I47の出力はまだvDDと線路X
WIO間に導電路を接続されたトランジスたP4ワのゲ
ート電極に接続されている。Pd2はWOIが低レベル
になったときXWIを高レベルに固定する働らきをする
。線路XWIをvDDボルトに予荷重するためVDDと
XWlの間に予荷重トランジスタPCIの導電路か接続
されている。
次に比較器の動作を簡単に説明する。
各ヒユーズセルに(新しい)1組のアドレスピッ) A
l−Arが印加されると同時に、負の予荷重パルスPC
か予荷重トランジスタPCIのゲートに印加され、線路
XWIをV′DDボルトに荷電する。全ヒユーズセルの
出力ZOI〜ZOrか低レベルに々つて各アドレスビッ
トに対する誤差出力を表わすとき、全トランジスタND
liが遮断される。全トランジスタNDiが遮断される
と、線路XWIけVDDボルトに荷電されたままで、W
OIを低レベルに保つ。
WOlが低レベルのため、PCパルスがvDDボルトに
戻シ、PCIを遮断した後もPd2は導通してXWIを
高レベルに固定する。
どれかのヒユーズセルの出力ZOiが高しベA17Cな
って対応するアドレスビットに対して誤差がないことを
示すと、トランジスタNDliの1つが導通して線路X
′w1を接地電位に引下げる。XWIが接地されると出
力’WOIが高レベルになる。従って入力アドレスの各
ビットがヒユーズセルフ0□〜70rにプログラミング
されたC不良行の)アドレスの各ビットに合ったとき、
出力WO1が低レベルになシ、その予備行が選ばれてヒ
ユーズセルにアドレスがプログラミングされた行と置換
される。
第4図は特定のアドレスビットに対する誤差表示を生成
するようにプログラミングすることのできる代表的ヒユ
ーズセルフ0の部分ブロック回路図である。このプログ
ラミングはアドレスビットAi土の信号とZAP線上の
信号を70のような各ヒユーズセルに印加することによ
シ行われる。このヒユーズセルは交差結合された2つの
レベル移動用インバータを含んでいる。一方のインバー
タはトランジスタP1、N1を含み、アドレスビットA
iによシ駆動され、他方のインバータはトランジスタP
2、N2ヲ含み、アドレス入力の補数Aiにより駆動さ
れる。PL、 P2のソース電極はZAP線路に接続さ
れた切換可能の電力線路31に接続され、N1、N2の
ソース電極は接地されている。P2のゲート電極はPl
、N1のドレンに接続され、Plのゲート電極はP2.
N2のドレンに接続されている。AIはN1のゲートと
インバータ■1の入力に印加され、AIヲ生ずるインバ
ータ11の出力はN2のゲート電極に接続されている。
P2. N2のドレンけまたトランジスタN3のゲート
電極に接続され、 N3のソースは接地され、ドレンは
一端が線路31に接続されたヒユーズF1の他端に接続
されている。
ZAP線路に印加された電圧v、Z、API″i通常低
レベルすなわち接地電位で、ヒユーズセルをプログラミ
ングすべきときはそのZAP線路電圧がlOボルトまた
はそれ以上に引上げられる。
半ラツチ回路35(2入力ナンドゲートG35とトラン
ジスタN35で構成”、vZAPが低レベルのときまた
は電力投入リセット発生器39が035の一方の入力に
接続された線路40に低レベル信号を印加するLき、Z
A、P線路を接地状態に維持する働らきをする。
ヒユーズセルが(上述のように)プログラミングされた
後、そのヒユーズセルの状態が予荷重回路41と半ラツ
チ回路42によシ感知される。予荷重回路41はVDD
とN3のドレンに接続された線路43との間にソース拳
ドレン間電路が接続されたトランジスタP41を含んで
いる。半ラツチ回路42ij入力がN3のドレンに接続
され、出力Oiを画定するその出力がトランジスタP4
2−のゲートに接続されたインバータI42を含んでい
る。P42のソース・ドレン間電路はVDDと線路43
の間に挿入され、Olか低レベルのとき線路43を高レ
ベルに保持する働らきをする。
アドレスビットAiとインバータI42の出力O1け、
出力ZOrが復号トランジスタNDiのゲート電極に印
加された2人力排他的ノアケート44の2人力に印加さ
れる。
ヒユーズセルに誤差条件をプログラミングするには、線
路Aiにアドレス信号(高レベルまたは低レベル)かあ
る間にZAP線路電圧を通常の接地電位(低レベル)か
らVZAP(例えば10ボルドー高レベル)に引上げる
。vZAPが高レベルのときは電力投入リセット発生器
39の出力も高レベルで、これによってクランプ回路3
5は除勢される(すなわちN35は遮断されてZAP線
路と接地点間の結合を除去する)。
ここでヒユーズセルの動作がvZAPか高レベルでアド
レス入力が高レベルか低レベルの状態に対して試験され
る。■ が高レベルでAIが高しベAP ルのときは、IIの出力Aiが低レベルのためN2とP
lが遮断され、N1が導通してP2を導通させる。
従って高レベルのVZAPがP2のソース・ドレン電路
を介してN3のゲートに印加され、N3を導通させてそ
のドレンを接地する。このためヒユーズの一端が接地さ
れる。一方で高レベルのVZAPが線路31に接続され
たヒユーズの他端に印加される。従ってZAP電圧の全
部がヒユーズに印加されるため。
ヒユーズが切れる。このようにvZAPが高レベルで誤
差状態を表示するとき、Aiが高レベルであればヒユー
ズF1が切れる。
VZAPが高レベルでAiが低レベルのときけ、汀が高
レベルとなってN1、P2が遮断され、N2、Plが導
通してN3、P2が確実に遮断される。N3が遮断され
ているためそのドレンに接続されたヒユーズFlの端子
も線路31に接続されたそのヒユーズF1の他端子も高
レベルのVZAPに尋しいかこれに近い。
従ってヒユーズF1の両端間の電位差はあっても小さい
ため、このヒユーズは切れない。ヒユーズセルがプログ
ラミングさハた後ZAP電圧が低電圧(接地)状態に戻
ってラッチ回路35によって低レベルに保たれる。
この記憶配列が回路内で動作するとき、その回路のアド
レス入力が状態を変えると必ず電力投入リセット発生器
39が低レベル(または負)のパルスを発生する。この
負パルスはラッチ回路35にょるZAP線路と線路31
の接地を確保すると同時に。
P41を導通させて線路43をvDDボルトに予備室す
る。ここでFlが切れているか否か、Aiが高レベルか
低レベルかの状態について回路応答が試験される。
Flが切れているとN3のドレンと線路31ハ直結され
ない。Aiが高レベルのときはA1が低レベルになって
N1が導通し、N2が遮断される。前述のように線路3
1は接地電位に保たれているため、N2が遮断されると
PLも遮断される。このためP2が導通してN3のゲー
ト電圧をその閾値電圧以下に引下げる。
N3のゲートか(上述のようにして)接地電位に近付く
と、N3は非導通状態に保たれる。従ってすでにVDD
ボルトに予備室されている線路43は高レベルのままで
ある。同様にAiが低レベルであれば、Aiか高レベル
となってN2が導通してN3を遮断する。
電力投入プリセットパルスによ!llV])Dボルトに
予荷電された線路43けVIT)Dボルトの予荷電を保
つ。
線路43の高レベルにI42で反転されてPd2のゲー
トに低電位を印加し、線路43をvDDに固定すると共
に出力01を低レベルにする。従ってFlが切れておれ
ば1人力AIの値に関係なく線路43は高レベルになり
、出力Orは低レベルになる。
逆にFlが切れ々ければ、そのFlが線路43とこのと
き接地されてhる端子31Lの間に低インピーダンス電
路を形成するため、線路43はAiO値に関係なくこの
ヒユーズを介して接地される。従ってインバータI42
の出力が高レベルになり%P42’ik遮断状態に保つ
。線路43は予荷電パルスがなくなっても接地電位また
はその近傍に保たれる。
従って表1に示すように、Aiの高低に関係なく、Fl
が切れるとOiが低レベルになシ、切れなければOIが
高レベルになる。従って出力Oiけそのヒユーズの状態
(すなわち切れているか否か)を表示する。出力O1と
入力AIは排他的ノアゲート44に印加され、そのゲー
トの出力ZOiが虚偽または誤差の状態の有無を示す。
このZOiは表1の2つの信号状態で低レベルになる(
誤差を示す)。
「誤差」才たrI′i「虚偽」は、前述の第4図の回路
の動作中に線路Aiに生じたビット信号の値が、その第
4図の回路と第3図の比較器がプログラミングされてい
るときAiに印加されたビット信号の値と同じであるこ
とを意味する。この条件では「誤差」状態が、(a)第
3図の比較器に印加されているアドレスのAiビットが
、(b)第3図の比較器(第4図のそのヒユーズ回路を
含む)がプログラミングされているとき存在したアドレ
スの対応ビット2同じすなわち一致することを表わす。
換言すれば、「誤差」表示はアドレスピッhAiが記憶
配列の不良行のアドレスの一部であることを示すO Flが切れていて(Oiか低レベルで)Aiが高しベの
ときは、そのアドレスビット状態に対して誤差表示が行
われ、またFlが切れていなくて(Oiが高レベルで)
A1が低レベルのときもそのアドレスビット状態に対し
て誤差表示が行われる。
(2ワ) Oiが低レベルでAiも低レベルのときは、 ZOiが
高レベルで虚偽状態であシ得ないことを表わし、同様に
、OLが高レベルでAiも高レベルのときもZOiか高
レベルで虚偽状態であシ得ないことを表わす。
表 1 次に各乙ドレス線Aiに対し表1に示された情報を第3
図の全アドレス線路A1〜Arのビット信号Aiについ
て考える。
後述の場合を除いて、任意の組(例えばZAP :LK
関連する組)のすべてのヒユーズセル(701〜70r
)の全出力(ZOI、Z02等)が低レベルのとキ(d
、(a)そのヒユーズセルの組にそのとき印加されてい
るアドレスがその記憶装置の不良行を表わすアドレス2
同じで(す々わち一致し)、(b)(28) そのヒユーズセルの組に関連する全出力トランジスタ(
ND11〜NDlr等)が遮断される。このためそのヒ
ユーズセルの組に関連する出力線(XWI等)が高レベ
ルを維持し、前述のように関連するワード線(WOI)
を低レベルにする。前述のように、WOIが低レベルと
いうことはそのとき印加されているアドレスが不良行を
表わすことを示している。
逆にヒユーズセル出力の1つまたはそれ以上が高レベル
のトキilt、(a)そのときその組のヒユーズセルに
印加されているアドレスが不良行を表わすアドレスのど
れにも一致せず、(b)その組のヒユーズセルに関連す
る出力トランジスタの1つまたはそれ以上が導通する。
そのため、その組のヒユーズセル(この例では70□〜
70r)に関連する出力線路(この例ではXWI )が
低レベルになる。この出力線路が低レベルになると(前
述のように)関連するワード線(この例ではWOl)が
高レベルを保って、そのときその組のヒユーズセルに印
加されているアドレスが前に判別された不良行の不良ア
ドレスのどれかを表わすものでないことを示す。
次に上述の例外について考える。上の説明から。
ヒユーズが切れず(01が低レベル)Aiが低レベルの
ときに生ずる虚偽条件(ZOiが低レベル)がZAP線
路が高レベルにプログラミングされていることが判って
いるときだけ真の誤差表示であることが判る。従ってZ
AP線路が高レベルにプログラミングされていない限、
9.Aiの低レベル(Flが切れていない)に対する誤
差表示は必ずしも有効でない。
第3図に戻って、ブロック83の回路がない場合、全ア
ドレス人力(An −Ar )が低レベルで全ヒユーズ
が切れてい々ければ、全ZO4出力が低゛レベルで、対
応するXWi線路を高レベルに保ち、対応するWO出力
ヲ低レベルにする。これによって全零アドレスに対応す
る標準行が良好であっても、全零アドレスに対応するそ
の標準行が予備行で置換される。
これは第3図のブロック83の回路を設けてZAP線路
が高レベルにプログラミングされているか否かを記録す
ることによシ避けられる。このブロック83の回路は第
4図で詳述した比較器セルフ0と同型のものでよいヒユ
ーズセル84を含んでいる。セル84のアドレス人力/
I′1ZAP線路に接続され、その出力Z84はインバ
ータI84に印加されている。インバータI84の出力
X84は復号トランジスタNDiと並列に接続されたト
ランジスタNDa4のゲート電極に印加される。
以下に詳述するように、ZAP線路がプログラミングさ
れなかったら(すなわち全標準行が良好であることを示
す高電圧に上げられ々かったら)、XW線路を接地し、
WO比出力VDDボルトにするように記憶装置が動作す
ると必ずトランジスタND84が導通する。
ZAP l線路が高レベルにプログラミングされていな
ければ、記憶系の動作中は常にセル84のヒユーズは切
れず、084は高レベルFCある。しかも、ZAP l
線路にはアドレス人力線路が接続されているため、記憶
系の動作時は常にアドレス入力が低レベルである。従っ
てセル84の出力Z84は低レベル、X84は高レベル
になシ、XW線路を接地し、全WOi出力を高レベルに
保つ。比較器の全WOi出力が高レベルのときは予備行
が選択されないから、ブロック830回路は、「全零」
アドレスに対応するが不良でない標準行に予備行の置換
が行われるのを防ぐ。しかしZAP 1線路がプログラ
ミングされていると(すなわち高レベルになっていると
)、セル84のヒユーズが切れ、このヒユーズが切れる
と(セル84のアドレス入力は接地されている力)ら)
、記憶系の動作中Z84は常に高レベルに、X84は低
レベルになる。X84が低レベルのため、トランジスタ
ND 84が遮断され、XWI線路が高レベルに、WO
線路が低レベル(付勢状態)になる。従って「全零」ア
ドレスに対するWO1比較器出力はそのときの記憶系の
状態の精確々反映である。
第4図の回路では、電力投入リセット発生器39を用い
てヒユーズデータを固定し、Pd2を通る静的漏洩を防
止しているが、これは重要な電力節減性を持つ。
第1図および第2図の回路では、不良行に対する予備行
の置換について述べたが、「行」という用語は例として
用いただけで、代シにr列」を用いることもできること
を理解すべきである。またこの発明は不良の行および列
を予備の行および列で置換する方式にも同様に適用する
ことができる。
比較器21と復号器22を用いてこの発明を説明したが
、この発明の実施には種々の形式の比較器と復号器を使
用し得ることは明らかである。
またこの発明をランダムアクセス記憶装置(RAM)を
用いて説明したが、この発明にはリードオンリ記憶装置
(ROM )を用いることもできることは旨うまでもな
い。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明を実施したランダムアクセス記憶装置
(RAM )の部分ブロック回路図、第2図はこの発明
を実施した記憶方式に用いられる優先順位復号器の論理
回路図、第3図は第1図の回路に適する比較回路の部分
ブロック回路図、第4図は第1図の回路に適するヒユー
ズセルの回路図である。 10・・・半導体チップ、Mij%Si」・・・記憶セ
ル、旧。 RN・・・標準行、8Pl、SF3・・・予備行、20
・・・置換手段、22・・・符号化手段。 特許出願人 アールシーニー コーポレーション化 理
 人 清 水 哲 ほか2名

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)行列に配列された記憶セルを含み、その行のいく
    つかが標準の行とされ、他の2に等しいかそれよシ大き
    い整数X個の行が不良セルを含むとして識別された標準
    の行の代シに使用される予備の行として働らくようにな
    っておフ、さらに上記X個の予備の行の任意の1つで上
    記標準の行の任意の1つを選択的に置換する手段を含み
    、その選択的に置換する手段が予備の行を所定の優先順
    位で符号化し、優先順位の高い方の予備の行で優先順位
    の低い方の予備の行を選択的に置換する手段を含むこと
    を特徴とする半導体チップ上に形成された記憶回路。
JP59086055A 1983-08-31 1984-04-26 記憶回路 Granted JPS6062000A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
US06/528,035 US4639897A (en) 1983-08-31 1983-08-31 Priority encoded spare element decoder
US528035 1995-09-14

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6062000A true JPS6062000A (ja) 1985-04-09
JPS6255239B2 JPS6255239B2 (ja) 1987-11-18

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0262799A (ja) * 1988-08-29 1990-03-02 Nec Corp 半導体メモリ装置
JPH02116098A (ja) * 1988-10-24 1990-04-27 Nec Corp 冗長回路を有する半導体メモリ
JPH03104097A (ja) * 1989-09-18 1991-05-01 Fujitsu Ltd 半導体記憶装置

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4740925A (en) * 1985-10-15 1988-04-26 Texas Instruments Incorporated Extra row for testing programmability and speed of ROMS
JP2547633B2 (ja) * 1989-05-09 1996-10-23 三菱電機株式会社 半導体記憶装置
US5406565A (en) * 1989-06-07 1995-04-11 Mv Limited Memory array of integrated circuits capable of replacing faulty cells with a spare
US5276834A (en) * 1990-12-04 1994-01-04 Micron Technology, Inc. Spare memory arrangement
JPH0831279B2 (ja) * 1990-12-20 1996-03-27 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション 冗長システム
EP0505652B1 (en) * 1991-03-29 1996-03-13 International Business Machines Corporation Memory system with adaptable redundancy
JP2632753B2 (ja) * 1991-05-02 1997-07-23 三菱電機株式会社 読出専用半導体メモリ装置
KR930003164A (ko) * 1991-07-26 1993-02-24 김광호 반도체메모리 리던던시 장치
US5383193A (en) * 1992-09-25 1995-01-17 Atmel Corporation Method for testing non-volatile memories
GB9305801D0 (en) * 1993-03-19 1993-05-05 Deans Alexander R Semiconductor memory system
JPH0817197A (ja) * 1994-06-30 1996-01-19 Fujitsu Ltd 半導体記憶装置
TW360822B (en) * 1997-03-31 1999-06-11 Ibm Method of making a memory fault-tolerant using a variable size redundancy replacement configuration
US6055611A (en) * 1997-07-09 2000-04-25 Micron Technology, Inc. Method and apparatus for enabling redundant memory
US6205515B1 (en) * 1998-03-16 2001-03-20 Winbond Electronic Corporation Column redundancy circuitry with reduced time delay
JP2004220722A (ja) * 2003-01-16 2004-08-05 Renesas Technology Corp 半導体記憶装置
US7157036B2 (en) * 2003-06-17 2007-01-02 Molecular Imprints, Inc Method to reduce adhesion between a conformable region and a pattern of a mold
JP4973725B2 (ja) * 2007-03-16 2012-07-11 富士通セミコンダクター株式会社 データ転送システム
TW200921691A (en) * 2007-11-14 2009-05-16 Etron Technology Inc Method for controlling a dram
US8706793B1 (en) * 2009-04-02 2014-04-22 Xilinx, Inc. Multiplier circuits with optional shift function
US9002915B1 (en) 2009-04-02 2015-04-07 Xilinx, Inc. Circuits for shifting bussed data
US9411554B1 (en) 2009-04-02 2016-08-09 Xilinx, Inc. Signed multiplier circuit utilizing a uniform array of logic blocks

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0262799A (ja) * 1988-08-29 1990-03-02 Nec Corp 半導体メモリ装置
JPH02116098A (ja) * 1988-10-24 1990-04-27 Nec Corp 冗長回路を有する半導体メモリ
JPH03104097A (ja) * 1989-09-18 1991-05-01 Fujitsu Ltd 半導体記憶装置

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JPS6255239B2 (ja) 1987-11-18

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