JPS606311B2 - 瓦の被覆法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はセメント系等の多孔質材料を基体とする瓦を、
特定の被覆組成物で被覆し、電子線照射によって硬化せ
しめることを特徴とする瓦の着色被覆法に関するもので
ある。

近年「焼物瓦に代ってセメント瓦、石綿スレート瓦の需
要が増大している。

現在これらセメント瓦、石綿スレート瓦には、溶剤を含
むアクリルラッカー、ポリウレタンエナメルの塗装によ
る着色化粧が行なわれている。しかしながら、アクリル
ラッカーは簡便に使用できる利点はあるが、三次元架橋
することなく塗藤が形成するので瓦に要求される高度の
耐薬品性、耐久性、耐擦傷性に難点があるとともに純薬
を施した焼物瓦の陶磁器感には遠く及ばない。またポリ
ウレタンエナメルは耐薬品性、耐久性には、そこそこの
性能をもっているが、架橋性が十分でないため耐擦傷性
、仕上りの陶磁気感にはやはり紬薬瓦に一歩ゆずるとこ
ろがある。これらの短所を解決するものとして「最近粉
体塗料の塗装が試みられている。

しかし、この場合、粉体塗料の本質から高温高虫着によ
り塗膜を形成させることが必要となって来る。ところで
周知のとおりセメント系素材を基体とする瓦は熱容量が
大きいために加熱に長時間要すると同時に、吸着水、結
晶水は素材の強度にとって重要な役割りをもっているの
で長時間高熱に晒すことは好ましくない。という相反す
ることが生じる。さらに「これらの塗料で塗装する場合
、生産上の面から見れば、塗装後、５０〜６０ｑｏの温
度条件で３〜２０分間強制乾燥し、室温で約１〜２独特
間タナ積みしたあと、積み重ねられることになるが、こ
のような乾燥条件では、十分な硬化に蓬せずト取り扱い
時ト積み重ね時に傷跡のつくことは避けられない。また
、通常の不飽和樹脂組成物を瓦に塗装し、電子線照射に
より硬化せしめた塗膜は、上記塗料に比べ架橋度が高い
ために．高度の耐薬品性「耐久性「耐擦傷性と陶磁器に
似た仕上り感が得られ〜 しかも熱を必要とせずに磁化
できるために瓦の被覆法として適しているものである。
しかし「セメント系多孔質材料を基材とする瓦に塗装す
る錫合ち塗布された塗料の一部は被塗物の深部に吸い込
まれる。

一方、電子線「例えば一般に使用される５０〜５００Ｋ
ｅＶ程度の加速エネルギーをもった低エネルギー電子線
では〜かかる彼塗物の深部や被塗物内の電子線遮蔽部ま
で電子線が到達することは困難である。したがって彼塗
物の深部に吸い込まれた部分は一部未硬化の状態で残る
ことになる。当然ながら「 このような未硬化部分があ
ると基材との付着性が十分でなく「耐薬品性、耐久性に
おいても欠陥部となり、電子線硬化塗膜のすぐれた特性
を十分に発揮することができない。

また電子線エネルギーが大きくなれば（５００ＫｅＶ以
上）当然電子線の透過深さは大きくなるが「 この場合
には遮蔽設備などがもぎう大となり、経済的に極めて不
利である。本発明者らは「上述のアクリルラッカー、ポ
リウレタンエナメルに見られる性能上ト仕上り感におけ
る短所および上述の電子線硬化における未硬化部の改善
について鋭意検討の結果、本発明の電子線硬化による着
色瓦の被覆法を完成するに到った。

すなわち、本発明はト多孔質素材を基体とする瓦に、分
子内に重合性不飽和二重結合とェポキシ基とを各々少な
くとも１個以上を含有する重合性不飽和樹脂を主成分と
する塗料基体にアミン系化合物を加えてなる被覆組成物
を塗装し〜 さらに必要ならば、その上に重合性不飽和
樹脂組成物を主成分とする上塗り塗料を塗装し、該塗膜
を「酸素濃度が２００収皿以下の雰囲気でし ５０〜５
０皿ｅＶの電子線エネルギーの照射により硬化せしめる
ことを特徴とする瓦の被覆法に関するものである。

本発明における被覆組成物は、電子線の照射により重合
する不飽和基とアミン類と反応して硬化するェポキシ基
を同一分子内に各々１個以上もつェポキシ基含有不飽和
樹脂とアミン類とをビヒクル主成分とするもので〜電子
線が到達し難い瓦の深部に吸収された被覆組成物の硬化
不足を樹脂中のェポキシ基とアミン類との反応により補
足するのである。本発明で用いられる同一分子内にェポ
キシ基と電子線照射で硬化する重合性不飽和結合とを有
するヱポキシ基含有不飽和樹脂としては、たとえばアク
リル系樹脂．ェポキシ系樹脂があげられる。

すなわち「アクリル系樹脂としては、分子中にアクリロ
ィル基（またはメタアクリロィル基）を少なくとも２個
とェポキシ基を少なくとも１個を有するアクリル樹脂で
あればよい。例えば、グリシジルアクリレートとアクリ
ル酸（またはメタクリル酸）ヱステルとの共重合物のェ
ポキシ基の一部にメタクリル酸（またはアクリル酸）を
付加することにより得られるェポキシ基含有の不飽和ア
クルレ樹脂などがあげられる。ェポキシ系樹脂としては
「公知のェポキシ樹脂、例えばトビスフヱノールＡとェ
ピクロルヒドリンとの反応で得られるェポキシ化合物へ
フェノール性の水酸基とェピクロルヒドリンとの反応
で得られるェポキシ化合物「また脂肪族その他のジアル
コールやトリアルコールのグリシジルエーテルなどのェ
ポキシ化合物にジィヅシアナート類とヒドロキシ含有ア
クリレートとの１対１反応物を付加した不飽和ェポキシ
樹脂などがあげられる。

以上〜記載したェポキシ基含有不飽和樹脂は「単独また
は混合して用いてもよく、さらにビニルモノマーと併用
することも可能である。ビニルモノマ−としては、例え
ばアクリル酸およびそのモノェステル類、メタクリル酸
およびそのモノェステル類し芳香族ビニル単量体、酢酸
ビニル、ビニルエーテル、さらにエチレングリコール〜
ジエチレングリコール、トリエチレングリコール「テト
ラエチレングリコール「プロピレングリコール、ジプロ
ピレングリコール、トリプロピレングリコール、ブチレ
ングリコール、１０６−へキサンジオール、グリセリン
「トリメチロールヱタン、トリメチロールプロパン「ベ
ンタエリスリットなどの多価アルコールとアクリル酸お
よび（または）メタクリル酸とのジまたはトリェステル
化反応物、また、無水フタル酸、アジピン酸、コハク酸
、ヘキサヒドロ無水フタル酸などの多塩基酸とアクリル
酸ヒドロキシェチル、アクリル酸ヒドロキシプロピル、
メタクリル酸ヒドロキシェチル、メタクリル酸ヒドロキ
シプロピルなどとのジェステル化反応物などがある。

さらにまた重合性不飽和結合およびィソシアナート基と
重付加する活性水素を有する水酸基、カルボキシル基、
アミノ基などを同一分子中にもつ単量体、（例えば、ア
リルアルコールｔ ２ーヒドロキシヱチルメタクリレー
ト「ケイ皮アルコール、クロトニルアルコールもヒドロ
キシジシクロベンタジヱン、ケィ皮酸、ィタコン酸ｔＮ
−メチロールアクリルアマイド、クロトン酸など）をポ
リイソシアナ−ト化合物（例えば、トリレンジィソシア
ナート３モルとトリメチロールブロパン１モルよりなる
トリイソシアナート、ヘキサメチレンジイソシアナート
３モルと水１モルからなるビュレツト結合をもつトリイ
ソシアナート、ヘキサメチレンジイソシアナート３モル
とトリメチロールプロパン１モルからなるトリイソシア
ナートもジフエニルメタン４・４′ージイソシアナート
、４１４′−メチレンビスシクロヘキシルジイソシアナ
ートｔ２・６ージイソシアナートメチルカプロエート〜
キシリレンジイソシアナート、１０５ーナフチレンジイ
ソシアナート）とＯＨ／ＮＣ○、ＣＯＯＨ／ＮＣＯトＮ
Ｈ２／ＮＣＯのモル比で１〜１．２の割合に混合して得
た遊離のィソシアネートを含まない反応生成物などがあ
げられる。ェポキシ基含有不飽和樹脂とビニルモノマー
との混合割合は任意でよく、塗装に適合する粘調度であ
ればよいが「好ましくは該樹脂２０〜８の重量％とビニ
ルモノマー８０〜２の重量％の範囲の混合がよい。

樹脂の割合が２の重量％より少なくなると低粘度の樹脂
ワニスとなり塗装すると流れ〜 タレを生じ塗装し‘こ
くい状態となり、また８の重量％より多くなると粘度が
高すぎて塗装作業性が低下するおそれがある。（以後、
この混合物を「樹脂ワニス」と略称する。）これらの樹
脂ワニスと硬化剤成分であるアミン化合物との混合割合
はェポキシ当量に対しアミン当量比０．８〜１が望まし
い。０．８以下では硬化が十分でなく「１以上では過剰
のアミン化合物が硬化物中に残存し好ましくない。

硬化剤としてのアミン化合物としては〜エチレンジアミ
ン「ジエチレントリアミン、ジエチルアミノフ。ロピル
アミン、ｍーフエニレンジアミン、トーマイド＃４２３
（富士化成製品）、トーマィド＃２１５−７雌（富士化
成製品）、フジキュァーＥ１６０３（富士化成製品）な
どがあげられる。これらのアミン化合物の配合は、貯蔵
安定の点からみて、塗装直前であることが望ましい。上
塗り塗料としては、通常の電子線照射で硬化する重合性
不飽和結合を有する不飽和当量約３００〜３５００の不
飽和樹脂（例えばアクリル系樹脂、シリコン系樹脂「
ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ェポキシ系樹脂
など）と上記ビニルモノマーを重量比で、重合性不飽和
結合を有する樹脂ノビニルモノマー＝２０〜８０ノ８０
〜２０の範囲の樹脂ワニスを主成分とする組成物であれ
ばよい。

上記の被覆組成物および、上塗り塗料には必要に応じて
体質顔料、着色顔料「骨材、染料、アルミニウム粉、パ
ールエッセンス、ガラスフレーク、雲母状酸化鉄、その
他の添加剤を混合分散することができる。

本発明に利用する瓦はセメント系多孔質材料を基材とす
るものであればよく、いわゆるセメント瓦、石綿スレー
ト瓦、珪酸カルシウム系瓦、石膏系瓦などが含まれる。

塗装手段としては、静電塗装、カーテンフローコーター
、ェアレススプレー塗装、ェアスプレー塗装など通常の
塗装機器が利用できる。本発明において、塗膜の硬化に
用いられる電子加速器としては、コッククロフト型、コ
ッククロフトワルトン型、バン・デ・グラーフ型、共振
変圧器型「変圧器型「絶縁コア変圧器型、リニアフィラ
メント型、ダィナミトロン型および高周波型などがあり
、これから放出される５０〜５０皿ｅＶ（特に好ましく
は「１５０〜３００ＫｅＶ）の加速エネルギーをもった
電子線を塗膜に照射する。

加速エネルギーが５００ＫｅＶより大きくなっても塗膜
の硬化は可能であるが、設備的に高価格になり、しやへ
し、設備も膨大となって経済的に不利である。

また、電子線照射雰囲気における酸素濃度は２００の伽
以下（好ましくは１００の風以下）にする必要があり、
２００瓜血より高くなると塗膜の硬化性が低下するので
好ましくない。本発明において、被覆組成物の塗装、上
塗り塗料の塗装および電子線照射の組合せで、下記にあ
げる塗装工程をとることができる。

■ 被覆組成物の塗装〜電子線照射 ■ 被覆組成物の塗装〜上塗り塗料（着色またはクリヤ
ー）の塗装〜電子線照射■ 被覆組成物の塗装〜電子線
照射〜上塗り塗料（着色またはクリヤー）の塗装〜電子
線照射■ 被覆組成物の塗装〜（電子線照射してもよい
）〜被覆組成物の塗装〜電子線照射■ 被覆組成物の塗
装〜（電子線照射してもよい）〜上塗り塗料（着色）の
塗装〜（電子線照射してもよい）〜上塗り塗料（クリヤ
ー）の塗装〜電子線照射塗装膜厚は、合計で５０〜３０
０〆の範囲が好ましい。

本発明の方法によって被覆した着色瓦は、瓦の深部に吸
いこまれた被覆組成物も完全に架橋硬化しているので基
村との付着性がすぐれており、しかも塗膜部は電子線に
より強固に硬化しているので耐擦傷性、耐摩耗性、仕上
り感（陶磁器感、肉持感、光沢）耐水性、耐薬品性にお
いてすぐれており紬薬瓦に匹敵する性能、仕上り感をも
つものである。さらに「 この塗装Ｌ硬化工程は電子線
照射による硬化を主としているためＬ熱による基材の劣
化もなく〜硬化時間が秒単位と短時間でよく、ラインス
ピードを遠くすることができ大量生産に適している。

以下、実施例をあげて本発明をさらに詳述するがト当業
者においては勺本発明の要旨を逸脱しない範囲に広く変
換し得るものであり、これによって本発明は何等の制限
を受けるものではない。

なお、本実施例中の部および％は特に断らない限り重量
部および重量％である。ワニスの製造法 ワニス■の製造法 グリシジルアクリレ山ト共重合物（分子量１００００）
のェポキシ基の半分にメタクリル酸を付加したェポキシ
当量１０００も不飽和度１．０（重量１０００夕当りの
二重結合のモル数、以下同様）のェポキシ基含有不飽和
アクリル樹脂ワニス（７０％樹脂メチルメタクリレート
液）を得た。

この樹脂ワニス６０碇部‘こネオベンチルグリコ−ルジ
アクリレート２５礎郭、ヒドロキシエチルアクリレート
１００部、２ーェチルヘキシルアクリレート５礎郡を混
合溶解してワニス■を得た。

ワニス■の製造法 シェル化学■社製ェピコ−ト１００４にイソホロンジイ
ソシアネートと２−ヒドロキシエチルメタクリレートの
１対１（モル比）の反応物を付加して、不飽和度１．２
の不飽和ェポキシ樹脂を得た。

この樹脂５０戊部‘こブチルアクリレート３０＄部、ヒ
ドロキシエチルアクリレート１０の郡、１１５ーベンタ
ンジオールアクリレート１０碇都を添加混合溶解してワ
ニス■を得た。ワニス■の製造法 シェル化学■社製ェピコートｌｏｏｌにトリレンジイソ
シアネートとヒドロキシプロピルアクリレ−トと１対１
（モル比）の反応物を付加して不飽和度０．８の不飽和
ェポキシ樹脂を得た。

この樹脂５００部にメチルメタクリレート２０碇部、ヒ
ドロキシェチルメタクリレート２０正郭「 トリメチロ
ールプロパントリアクリレ−ト１００部を添加混合溶解
してワニス■を得た。ワニス■の製造法 メチルメタクリレート〜ブチルアクリレ−ト〜グリシジ
ルアクリレート共重合体（分子量９０００）にメタクリ
ル酸を付加して不飽和度１．１の不飽和アクリル樹脂ワ
ニス（７０％樹脂、メチルメタクリレート液）を得た。

この樹脂ワニス６５碇轍こ１・３−ブチレングリコール
ジメタクリレート２０礎郭、ラウリルメタクリレート５
碇部、トリメチロールプロパントリメタクリレート５礎
紙 ヒドロキシプロピルアクリレート５碇部を添加混合
してワニス■を得た。ワニス■の製造法 スチレン〜ブチルアクリレート〜グリシジルアクリレー
ト共重合体（分子量７０００）にアクリル酸を付加して
不飽和アクルレ樹脂を得た。

（不飽和度ｉ．ふ８０％樹脂トルェン溶液）この樹脂ワ
ニス６５碇糊こ、１１６−へキサンジオールジアクリレ
ート２５０部ｔエチルヘキシルアクリレート１００部を
混合溶解してワニス■を得た。

ワニス■の製造法 無水フタル酸、無水コハク酸「 ネオベンチルグリコー
ル、ＩＱ６−へキサンジオールよりなる末水酸基のポリ
エステル（分子量１３００）にアクリル酸を付加した不
飽和度１．５の不飽和ポリェステレを製造した。

この樹脂６０礎部音こネオベンチルグリコールジメ夕ク
リレート２０碇都、エチレングリコールジアクリレート
５＄部、ヒド。

キシエチルメタクリレート５碇都、カービトールアクリ
レート１０の部を混合溶解してワニス■を得た。ワニス
■の製造法 ダウコーニング株式会社製シリコーン樹脂Ｚ−６１８８
に２ーヒドロキシェチルアクリレートを付加して不飽和
度３．０の不飽和シリコーン樹脂を得た。

この樹脂９０庇部１こヒドロキシェチルメタクリレート
５礎部、１・５−ペンタンジオールアクリレート５の部
を添加混合してワニス■を得た。

被覆組成物の製造 被覆組成物■の製造 ワニス■１００の織こカーボンブラック顔料２碇都、ト
リメチロールプロパントリアクリレート１００部を添加
し分散して黒エナメルを得た。

この黒エナメルのェポキシ当量に対しアミン当量が０．
８となるようにエチレンジアミンを添加混合して被覆組
成物■を得た。

被覆組成物■の製造 ワニス■１０００部にルチル酸二酸化チタン顔料３０碇
部、カーボンブラック顔料１の都、酢酸エチル５庇部、
メチルメタクリレート５碇都を添加、分散してグレーエ
ナメルを得た。

このグレーエナメルのェポキシ当量に対しアミン当量が
１．０となるようにトーマイド＃４２３（富士化成社製
品）を添加混合して被覆組成物■を得た。

被覆組成物■の製造 ワニス■１００の織こ酸化鉄系茶顔料２００部、炭酸カ
ルシウム１０の郡、カーボンブラック５部、１・６−へ
キサンジオールジメタクリレート１０碇都、２ーェチル
ヘキシルアクリレート５＄部を添加混合分散してブラウ
ンエナメルを得た。

このブラウンエナメルにェポキシ当量に対してアミン当
量が１．０となるようにトーマイド＃２１６一７皿（富
士化成社製）を添加混合して被覆組成物■を得た。

上塗り塗料■の製造 ワニス■１００の織こカーボンブラック顔料３庇都、ネ
オベンチルグリコールジメタクリレート５の部を添加、
分散して黒エナメルを得た。

黒エナメル１００碇部‘こシリコン添加剤５部、メチル
メタクリレート５碇都を添加して上塗り塗料■を得た。

上塗り塗料■の製造ワニス■１００礎部‘こカーボンブ
ラック顔料５部、フタロシアニンブルー顔料５部を添加
分散してダークブルーカラーエナメルを得た。

このエナメル１０００部にパールエッセンス顔料（マイ
カをコーティングしたもの）５碇都、２５％ポリメチル
メタクリレート液（２５％樹脂、メチルメタクリレート
液）５の部、微粉、シリカ５部、シリコン添加剤５部、
酢酸エチル５碇部を添加配合して、上塗り塗料■を得た
。

上塗り塗料■の製造 ワニス■１００庇部１こパ−ルェッセンス顔料３碇都、
２０％酢酸セルロース液（酢酸エチル溶液）４碇郡、２
ーェチルヘキシルアクリレート３峠部を添加混合して上
塗り塗料■を得た。

上塗り塗料■の製造 ワニス■１００礎都‘こシリコン添加剤５部、徴粉シリ
カ１碇都、トリメチロールプロバントリメタクリレート
３庇郡を添加して上塗り塗料■を得た。

上塗り塗料■の製造ワニス■１００碇部‘こアルミペー
スト（ノンリーフイングタイプ）５礎都、２０％酢酸セ
ルロース溶液３０部、徴粉シリカ１碇部、トルェン５碇
都を添加混合して上塗り塗料■を得た。

上塗り塗料■の製造 ワニス■１０００部に散粉シリカ１．５部、トリメチロ
ールプロパントリアクリレート３礎部を添加混合して上
塗り塗料■を得た。

上塗り塗料■の製造 ワニス■１００峠都１こ酸化鉄系黄顔料１００部、酸化
鉄系赤顔料１５碇都を添加分散してオレンジエナメルを
得たｏこのオレンジエナメル１００礎部‘こシリコン添
加剤１部、徴粉シリカ５部、メチルメタクリレート３０
部を添加混合して上塗り塗料■を得た。

上塗り塗料■の製造 ワニス■１００碇部１こフタロシアニングリーン顔料２
碇都、フタロシアニンプルー顔料１礎部を添加分散して
グリーンフルーェナメルを得た。

このエナメル１００庇部‘こパールエッセンス顔料６碇
郡、２５％ポリメチルメタクリレート液（酢酸エチル）
３碇部、徴粉シリカ１碇部、トルェン４碇部を添加混合
して上塗り塗料■を得た。上塗り塗料■の造 ワニス■１００碇部‘こフタロシアニンブルー顔料５部
を添加分散してカラークリヤーエナメルを得た。

このエナメル１００唯織こ微粉シリカ５部、トリメチロ
ールェタントリメタクリレート５戊部を添加して上塗り
塗料■を得た。

被覆組成物■の製造 被覆組成物■で得た黒エナメル１００礎部‘こワニス■
を１００礎部、パールエッセンス顔料７碇歌徴粉シリカ
１戊部、メチルメタクリレート１０＄郭を混合してメタ
リックエナメルを得た。

このエナメルのバィンダ−のェポキシ当量に対しアミン
当量が１．０となるようにジェチルアミノプロピルアミ
ンを添加配合して被覆組成物■を得た。実施例 １ セメント瓦の基材の上に被覆組成物■をＲＥＡ静電塗装
器（日本ランスバーグ社製）で塗装膜厚が約５０仏とな
るように静電塗装し、その上にウェットオンウェットで
上塗り塗料■をＲＥＡ静電塗装器で膜厚が約５０山とな
るように静電塗装した。

その後、不活性気体雰囲気中（酸素濃度５０の風）、電
子線エネルギー３００ＫｅＶ、電子線電流５０ｗＡで１
印心ａｄの電子線を照射して塗膜を硬化させ、塗装瓦を
得た。仕上り状態は良好であった。また、瓦用としての
塗膜性能も満足であった。実施例 ２ セメント瓦の基材の上に被覆組成物■をェアレススブレ
ーにより膜厚？ＯＡとなるように塗装し、その上に上塗
り塗料■をＲＥＡ静電塗装器により、膜厚５０一となる
ように静電塗装した。

この塗装物を不活性気体雰囲気中（酸素濃度３０功血）
、電子線エネルギー３０皿ｅＶ電子線電流５０のＡで鰍
Ｍｒａｄの電子線を照射して塗膜を硬化させ、塗装瓦を
得た。仕上り状態は良好であった。また、瓦用としての
塗膜性能も満足であった。実施例 ３ セメト瓦基材の上に被覆組成物■を中矢式静電塗装器で
膜厚４０山となるように塗装し、さらにその上に上塗り
塗料■を中矢式静電塗装器により膜厚３０仏となるよう
に塗装し、さらにその上に上塗り塗料■をベル型静電塗
装器により膜厚４０〆となるように塗装した。

この塗装物を不活性気体霧囲気中（酸素濃度３００胸）
、電子線エネルギー３０皿ｅＶ、電子線電流８０のＡで
ＩＳＭｒａｄの電子線を照射し、塗膜を硬化させ「塗装
瓦を得た。仕上り状態は良好であった。また、瓦用とし
ての塗膜・性能も満足であった。実施例 ４ セメント瓦基材の上に被覆組成物■をエアースプレーで
膜厚６０ムとなるようにＲＥＡ静電塗装器により静電塗
装し、その上に上塗り塗料■をエアースプレーにより膜
厚２５ムとなるように塗装し、さらにその上に上塗り塗
料■をベル型静電塗装器により膜厚５０ムとなるように
塗装した。

この塗装物を不活性気体雰囲気中（酸素濃度６０の脚）
、電子線エネルギー２５皿ｅＶ電子線電流７０のＡ、１
■Ｍｒａｄの電子線を照射して塗膜を硬化させ、塗装瓦
を得た。仕上り状態は良好であった。また、瓦用として
の塗膜性能も満足であった。実施例 ５ セメント瓦基材の上に被覆組成物■をエアースプレーに
より腰厚３０仏となるように塗装し、さらにその上に上
塗り塗料■をエアースプレーにより膜厚４０仏となるよ
うに塗装した。

この塗装物を不活性気体雰囲気中（酸素濃度７０功血）
、電子線エネルギー１５皿ｅＶ「電子線電流ｌｏｍＡで
１２Ｍｒａｄの電子線を照射し、塗膜を硬化させて塗装
瓦を得た。仕上り状態は良好であった。また、瓦用とし
ての塗膜性能も満足であった。実施例 ６ スレート瓦基材の上に被覆組成物■をェアレススプレー
で膜厚９０一となるように塗装し、さらにその上に上塗
り塗料■をＲＥＡ静電塗装器により膜厚５０〃となるよ
うに塗装し、さらにその上にウェットオンウェツトで上
塗り塗料■をベル型静電塗装器により濃厚８０ムとなる
ように塗装した。

この塗装物を不活性気体雰囲気中（酸素濃度５０瓜血）
、電子線エネルギー４５０ＫｅＶ、電子線電流２０肌Ａ
で皿けｒａｄの電子線を照射して塗膜を硬化させ、塗装
瓦を得た。仕上り状態は良好であった。また、瓦用とし
ての塗膜性能も満足であった。実施例 ７ セメント瓦基村の上に被覆組成物■を中矢式静電塗装器
により膜厚４０仏となるように塗装し、その上に被覆組
成物■をエアースプレーにより膜厚２０仏となるように
塗装し、さらにその上に上塗り塗料■をＲＥＡ静電塗装
器により、膜厚５０ｗとなるように塗装した。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 多孔質素材を基体とする瓦に、分子内に重合性不飽
   和二重結合とエポキシ基とを有する重合性不飽和樹脂を
   主成分とする塗料基体に、アミン系化合物を加えてなる
   被覆組成物を塗装し、必要ならばその上に重合性不飽和
   樹脂組成物を主成分とする上塗り塗料を塗装し、酸素濃
   度が２０００ｐｐｍ以下の雰囲気で、５０〜５００Ｋｅ
   Ｖの電子線エネルギーを照射して硬化せしめることを特
   徴とする瓦の被覆法。