JPS606357B2 - モノハイドロジエンオルガノポリシロキサンの製造方法 - Google Patents
モノハイドロジエンオルガノポリシロキサンの製造方法Info
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- JPS606357B2 JPS606357B2 JP11032178A JP11032178A JPS606357B2 JP S606357 B2 JPS606357 B2 JP S606357B2 JP 11032178 A JP11032178 A JP 11032178A JP 11032178 A JP11032178 A JP 11032178A JP S606357 B2 JPS606357 B2 JP S606357B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、けし、素原子に直結した水素原子を有するモ
ノハイドロジェンオルガノポリシロキサンの製造方法に
関するものである。
ノハイドロジェンオルガノポリシロキサンの製造方法に
関するものである。
従来、モノ／・ィドロジェンオルガノポリシロキサンの
製造方法としては、たとえばその分子中にメチルハイド
ロジェンシロキサン単位を有するポリシロキサンとへキ
サメチルジシロキサンとを、酸触媒の存在下に平衡化反
応させる方法が公知とされているが、これには目的物の
収率が１０〜２５％と低く、また多量の副生物が生じる
ため精製が困難であるなどの工業上好ましくない種々の
不利があった。
製造方法としては、たとえばその分子中にメチルハイド
ロジェンシロキサン単位を有するポリシロキサンとへキ
サメチルジシロキサンとを、酸触媒の存在下に平衡化反
応させる方法が公知とされているが、これには目的物の
収率が１０〜２５％と低く、また多量の副生物が生じる
ため精製が困難であるなどの工業上好ましくない種々の
不利があった。
また、この種のシロキサンの製造方法としては、水素原
子を有するクロロシランとシラノール類とを、脱塩酸反
応させる方法（米国特許第３４６２３８６号明細書参照
）が知られているが、この方法には反応速度が小さく、
したがって目的物を得るのに長時間を要し、また生成す
る塩酸の作用によりシラノールの縮合反応が起るため収
率がきわめて低いという欠点があった。
子を有するクロロシランとシラノール類とを、脱塩酸反
応させる方法（米国特許第３４６２３８６号明細書参照
）が知られているが、この方法には反応速度が小さく、
したがって目的物を得るのに長時間を要し、また生成す
る塩酸の作用によりシラノールの縮合反応が起るため収
率がきわめて低いという欠点があった。
一方、水素原子を有するクロロシランとシラ／−ル類と
を反応させる方法において、目的物を高収率で得るため
に、脱塩酸剤を使用する方法が試みられているが、この
方法には大量の反応溶媒の使用が余儀なくされ、ポット
ィールドが極端に低くなるという問題があった。
を反応させる方法において、目的物を高収率で得るため
に、脱塩酸剤を使用する方法が試みられているが、この
方法には大量の反応溶媒の使用が余儀なくされ、ポット
ィールドが極端に低くなるという問題があった。
本発明は上記したような従来の問題点を解決したモノハ
イドロジエンオルガノポリシロキサンの製造方法を提供
しようとするものであって、これは一般式 ＨＳｉＲさげ（ＯＲ２＞ｒ…‐（１） （式中、ＲＩは置換または非置換の一価炭化水素基、Ｒ
２は炭素原子数１〜４のアルキル基を表わし、ｎは１、
２または３である）で示されるオルガノアルコキシシラ
ンと一般式 Ｒ奪ｉＯＨ……（ロ） （式中、Ｒ３は置換または非置換の一価炭化水素基を表
わす）で示されるトリオルガノシラノールとを、触媒量
の、すず、亜鉛、カリウムのカルボン酸塩、炭酸塩また
はハ。
イドロジエンオルガノポリシロキサンの製造方法を提供
しようとするものであって、これは一般式 ＨＳｉＲさげ（ＯＲ２＞ｒ…‐（１） （式中、ＲＩは置換または非置換の一価炭化水素基、Ｒ
２は炭素原子数１〜４のアルキル基を表わし、ｎは１、
２または３である）で示されるオルガノアルコキシシラ
ンと一般式 Ｒ奪ｉＯＨ……（ロ） （式中、Ｒ３は置換または非置換の一価炭化水素基を表
わす）で示されるトリオルガノシラノールとを、触媒量
の、すず、亜鉛、カリウムのカルボン酸塩、炭酸塩また
はハ。
ゲン化物の存在下に反応させることを特徴とするもので
、これによれば反応溶媒を使用することなく、一般式
・ ＨＳｉＲき‐ｎ（ＯＳｉ滋）で・…（ｍ）（式中、Ｒ１
、Ｒ３およびｎは上述と同じ意味である）で示されるモ
ノハイドロジエンオルガノポリシロキサンを高純度、高
収率で得ることができ、したがってポットィールドがき
わめて高いという効果を有する。
、これによれば反応溶媒を使用することなく、一般式
・ ＨＳｉＲき‐ｎ（ＯＳｉ滋）で・…（ｍ）（式中、Ｒ１
、Ｒ３およびｎは上述と同じ意味である）で示されるモ
ノハイドロジエンオルガノポリシロキサンを高純度、高
収率で得ることができ、したがってポットィールドがき
わめて高いという効果を有する。
つぎに、本発明をさらに詳細に説明すると、まず本発明
において始発原料として使用されるオルガノァルコキシ
シランは上記した一般式（１）で示されるものであって
、該式中のＲＩで示される置換または非置換の一価炭化
水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、プ
チル基などのアルキル基、フェニル基などのアリール基
、ビニル基、アリル基などのアルケニル基、あるいはこ
れら一価炭素基の水素原子の一部もしくは全部がハロゲ
ン原子などで置換された基が例示され、またＲ２で示さ
れる炭素原子数１〜４のアルキル基としては、メチル基
、ヱチル基、プロピル基が例示される。
において始発原料として使用されるオルガノァルコキシ
シランは上記した一般式（１）で示されるものであって
、該式中のＲＩで示される置換または非置換の一価炭化
水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、プ
チル基などのアルキル基、フェニル基などのアリール基
、ビニル基、アリル基などのアルケニル基、あるいはこ
れら一価炭素基の水素原子の一部もしくは全部がハロゲ
ン原子などで置換された基が例示され、またＲ２で示さ
れる炭素原子数１〜４のアルキル基としては、メチル基
、ヱチル基、プロピル基が例示される。
このようなオルガノアルコキシシランとしては具体的に
は、ジメチルメトキシシラン、ジメチルエトキシシラン
、ジメチルイソプロポキシシラン、メチルジメトキシシ
ラン、メチルジヱトキシシラン、メチルジイソプロポキ
シシラン、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、
トリイソプロポキシシラン、フエニルジヱトキシシラン
、ジフェニルメトキシシランなどがあげられる。
は、ジメチルメトキシシラン、ジメチルエトキシシラン
、ジメチルイソプロポキシシラン、メチルジメトキシシ
ラン、メチルジヱトキシシラン、メチルジイソプロポキ
シシラン、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、
トリイソプロポキシシラン、フエニルジヱトキシシラン
、ジフェニルメトキシシランなどがあげられる。
また、本発明において、上記オルガノアルコキシシラン
と相まって始発原料として使用されるトリオルガノシラ
ノールは、上記した一般式（０）で示されるものであっ
て、式中のＲ３は置換または非置換の一価炭化水素基を
表わし、このＲ３としては、上述したＲ２と同様の基が
例示される。このようなトリオルガノシラノールとして
は、トリメチルシラノール、フエニルジメチルシラ／ー
ル、ジフエニルメチルシラノ−ル、トリフエニルシラノ
ールなどがあげられる。さらに「本発明に使用される触
媒は、すず、亜鉛「 カリウムのカルボン酸塩、炭酸塩
またはハロゲン化物から選ばれるものであり、これには
、ジ酢酸ジブチルすず、ジオクテン酸ジブチルすず、ト
リオクテン酸モノブチルすず、ジラウリン酸ジブチルす
ず、オクテン酸すず、ステアリン酸亜鉛、酢酸亜鉛、ア
セチルアセトン亜鉛、酢酸カリウム、炭酸亜鉛、炭酸カ
リウム、炭醸すず、塩化亜鉛などが例示される。
と相まって始発原料として使用されるトリオルガノシラ
ノールは、上記した一般式（０）で示されるものであっ
て、式中のＲ３は置換または非置換の一価炭化水素基を
表わし、このＲ３としては、上述したＲ２と同様の基が
例示される。このようなトリオルガノシラノールとして
は、トリメチルシラノール、フエニルジメチルシラ／ー
ル、ジフエニルメチルシラノ−ル、トリフエニルシラノ
ールなどがあげられる。さらに「本発明に使用される触
媒は、すず、亜鉛「 カリウムのカルボン酸塩、炭酸塩
またはハロゲン化物から選ばれるものであり、これには
、ジ酢酸ジブチルすず、ジオクテン酸ジブチルすず、ト
リオクテン酸モノブチルすず、ジラウリン酸ジブチルす
ず、オクテン酸すず、ステアリン酸亜鉛、酢酸亜鉛、ア
セチルアセトン亜鉛、酢酸カリウム、炭酸亜鉛、炭酸カ
リウム、炭醸すず、塩化亜鉛などが例示される。
本発明の方法は、上記した一般式（１）で示されるオル
ガノアルコキシシランと一般式（Ｄ）で示されるトリオ
ルガノシラノールとを、前記した触媒の存在下に下記反
応式に従って反応（脱アルコール反応）させ、ここで副
生するアルコールを系外に除去することにより、容易に
目的とするモノノ・ィドロジェンオルガノポリシロキサ
ンを得ることができる。
ガノアルコキシシランと一般式（Ｄ）で示されるトリオ
ルガノシラノールとを、前記した触媒の存在下に下記反
応式に従って反応（脱アルコール反応）させ、ここで副
生するアルコールを系外に除去することにより、容易に
目的とするモノノ・ィドロジェンオルガノポリシロキサ
ンを得ることができる。
ＨＳｉＲき−ｎ（ＯＲ２）ｎ十船室ＳｉＯＨ→ＨＳｉＲ
き−ｎ（ＯＳｉＲ３）ｎ十服のＨ上記オルガノアルコキ
シシランとトリオルガノシラノールとの使用割合は、（
１）式のアルコキシ基１個あたり（０）式のシラノール
を１モルとなるようにすることがよく、また触媒の使用
は始発原料に対して０．０００５〜５重量％、好ましく
は０．００５〜０．５重量％の範囲とすることが望まし
い。
き−ｎ（ＯＳｉＲ３）ｎ十服のＨ上記オルガノアルコキ
シシランとトリオルガノシラノールとの使用割合は、（
１）式のアルコキシ基１個あたり（０）式のシラノール
を１モルとなるようにすることがよく、また触媒の使用
は始発原料に対して０．０００５〜５重量％、好ましく
は０．００５〜０．５重量％の範囲とすることが望まし
い。
また、反応は広い温度範囲で進行するが（一１０〜２０
０ｑｏ）、好ましくは５０〜１２０ｑｏの温度範囲で反
応を行うことがよい。反応終了後においては、系内に若
干の未反応物が存在するが、このものはこれを塩酸水を
使用して加水分解することにより、完全に分解すること
ができ、これにより副生するアルコールは水洗により確
実に除去することができる。
０ｑｏ）、好ましくは５０〜１２０ｑｏの温度範囲で反
応を行うことがよい。反応終了後においては、系内に若
干の未反応物が存在するが、このものはこれを塩酸水を
使用して加水分解することにより、完全に分解すること
ができ、これにより副生するアルコールは水洗により確
実に除去することができる。
つぎに本発明の実施例を挙げる。
実施例 １
かくはん機、温度計および還流冷却器を備えた内容積５
００の‘のフラスコに、トリメチルシラノ−ル１８９．
４夕（２．１モル）、メチルジエトキシシラン１３４．
３夕（１．００モル）およびオクテン酸ジブチルすず０
．１６夕を仕込み、ェタ／ールの還流温度（８０℃）で
２時間反応させ、反応終了後５％塩酸１３０夕を加え室
温で１時間加水分解反応を行った。
００の‘のフラスコに、トリメチルシラノ−ル１８９．
４夕（２．１モル）、メチルジエトキシシラン１３４．
３夕（１．００モル）およびオクテン酸ジブチルすず０
．１６夕を仕込み、ェタ／ールの還流温度（８０℃）で
２時間反応させ、反応終了後５％塩酸１３０夕を加え室
温で１時間加水分解反応を行った。
ついで中性まで水洗し、蒸留を行ったところ、式で示さ
れるシロキサンが２１１タ得られた（収率９５＊％）。
比較例 １ ジオクテン酸ジブチルすずを全く使用しなかったほかは
、上記実施例１と全く同様に処理を行ったところ、上記
実施例１で得られたシロキサンと同じシロキサンが得ら
れたが、このものの収率は７％であった。
れるシロキサンが２１１タ得られた（収率９５＊％）。
比較例 １ ジオクテン酸ジブチルすずを全く使用しなかったほかは
、上記実施例１と全く同様に処理を行ったところ、上記
実施例１で得られたシロキサンと同じシロキサンが得ら
れたが、このものの収率は７％であった。
比較例 ２
メチルジェトキシシランの代りにジメチルジェトキシシ
ランを使用し、ジオクテン酸ジブチルすずの使用量を３
．２夕としたほか、上記実施例１と全く同様に２時間反
応を行ったが、生成物は全く得られなかった。
ランを使用し、ジオクテン酸ジブチルすずの使用量を３
．２夕としたほか、上記実施例１と全く同様に２時間反
応を行ったが、生成物は全く得られなかった。
実施例 ２
下記の表に示すような種類のオルガ／アルコキシシラン
、トリオルガノシラノールおよび触媒を使用して実施例
１とほぼ同様に処理を行ったところ、同表に示すような
種類のオルガノポリシロキサンが得られた。
、トリオルガノシラノールおよび触媒を使用して実施例
１とほぼ同様に処理を行ったところ、同表に示すような
種類のオルガノポリシロキサンが得られた。
表
比較例 ３
実施例１で使用したものと同じフラスコに、メチルジク
ロロシラン８．３２夕（０．０７２３モル）。
ロロシラン８．３２夕（０．０７２３モル）。
ジフエニルメチルシラノール３１．７夕（０．１４８モ
ル）およびジオクテン酸ジブチルすず０．０２夕を仕込
み、同様に反応を行わせ、ついで処理を行ったところ、
式で示されるシロキサンが１８．４タ得られた（収率５
３％）。
ル）およびジオクテン酸ジブチルすず０．０２夕を仕込
み、同様に反応を行わせ、ついで処理を行ったところ、
式で示されるシロキサンが１８．４タ得られた（収率５
３％）。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 ＨＳｉＲ＾１＿３＿−＿ｎ（ＯＲ＾２）＿ｎ（式中、Ｒ
＾１は置換または非置換の一価炭化水素基、Ｒ＾２は炭
素原子数１〜４のアルキル基を表わし、ｎは１、２また
は３である）で示されるオルガノアルコキシシランと
一般式 Ｒ＾３＿３ＳｉＯＨ （式中、Ｒ＾３は置換または非置換の一価炭化水素基を
表わす）で示されるトリオルガノシラノールとを、触媒
量の、すず、亜鉛、カリウムのカルボン酸塩、炭酸塩ま
たはハロゲン化物の存在下に反応させることを特徴とす
る、 一般式 ＨＳｉＲ＾１＿３＿−＿ｎ（ＯＳｉＲ＾３＿３）＿ｎ（
式中、Ｒ＾１、Ｒ＾３およびｎは上述と同じ意味である
）で示されるモノハイドロジエンオルガノボリシロキサ
ンの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11032178A JPS606357B2 (ja) | 1978-09-08 | 1978-09-08 | モノハイドロジエンオルガノポリシロキサンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11032178A JPS606357B2 (ja) | 1978-09-08 | 1978-09-08 | モノハイドロジエンオルガノポリシロキサンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5536268A JPS5536268A (en) | 1980-03-13 |
| JPS606357B2 true JPS606357B2 (ja) | 1985-02-18 |
Family
ID=14532752
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11032178A Expired JPS606357B2 (ja) | 1978-09-08 | 1978-09-08 | モノハイドロジエンオルガノポリシロキサンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS606357B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03197486A (ja) * | 1989-12-26 | 1991-08-28 | Shin Etsu Chem Co Ltd | アルコキシシリル基を有するオルガノシロキサンの製造方法 |
| US20060047134A1 (en) * | 2004-08-25 | 2006-03-02 | Frank Molock | Process for the production of (trimethylsilyloxy)silylalkylglycerol methacrylates |
| CN111440209A (zh) * | 2020-04-27 | 2020-07-24 | 浙江新安化工集团股份有限公司 | 1,1,1,3,5,5,5-七甲基三硅氧烷及制备方法 |
-
1978
- 1978-09-08 JP JP11032178A patent/JPS606357B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5536268A (en) | 1980-03-13 |
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