JPS6064304A - 無偏光ビ−ムスプリッタ− - Google Patents
無偏光ビ−ムスプリッタ−Info
- Publication number
- JPS6064304A JPS6064304A JP58172813A JP17281383A JPS6064304A JP S6064304 A JPS6064304 A JP S6064304A JP 58172813 A JP58172813 A JP 58172813A JP 17281383 A JP17281383 A JP 17281383A JP S6064304 A JPS6064304 A JP S6064304A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- beam splitter
- silicon monoxide
- polarizing
- refractive index
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/10—Beam splitting or combining systems
- G02B27/14—Beam splitting or combining systems operating by reflection only
- G02B27/144—Beam splitting or combining systems operating by reflection only using partially transparent surfaces without spectral selectivity
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/10—Beam splitting or combining systems
- G02B27/14—Beam splitting or combining systems operating by reflection only
- G02B27/142—Coating structures, e.g. thin films multilayers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
用いられる無偏光ビームスゾリッターに関するものであ
り、透過光、反射光に対するＰ偏光、Ｓ偏光が何れも均
等かこれに近いことを目的とするものである。
り、透過光、反射光に対するＰ偏光、Ｓ偏光が何れも均
等かこれに近いことを目的とするものである。
従来無偏光のビームスプリッタ−としては、多層薄膜の
構成によるものが多かったがこの多層薄膜によるものは
構成が複雑で、加工工程が多く精度上にも困難性があり
且つ再現性等で問題があつ九、又他のビームスプリッタ
−として透明基材例えば平面鏡 、ａリズム等に金属薄
膜又は金属薄膜と半透明膜とを重ねて作られ九半透明鏡
でも比較的偏光特性は改良されるが、無偏光ビームスグ
リツタ−としての目的である 透過Ｐ偏光（Ｔｐ）＝透過Ｓ偏光（Ｔｇ）及び反射Ｐ偏
光（Ｒｐ）＝反射Ｓ偏光（Ｒｓ）には未だ満足するに十
分ではない。
構成によるものが多かったがこの多層薄膜によるものは
構成が複雑で、加工工程が多く精度上にも困難性があり
且つ再現性等で問題があつ九、又他のビームスプリッタ
−として透明基材例えば平面鏡 、ａリズム等に金属薄
膜又は金属薄膜と半透明膜とを重ねて作られ九半透明鏡
でも比較的偏光特性は改良されるが、無偏光ビームスグ
リツタ−としての目的である 透過Ｐ偏光（Ｔｐ）＝透過Ｓ偏光（Ｔｇ）及び反射Ｐ偏
光（Ｒｐ）＝反射Ｓ偏光（Ｒｓ）には未だ満足するに十
分ではない。
本発明は上記金属膜と半透明膜との組合わせによる無偏
光ビームスグリツタ−の改良に係わシ、透明基材に対し
金属膜の７層と半透明膜の一層の計３層より成るもので
ある。
光ビームスグリツタ−の改良に係わシ、透明基材に対し
金属膜の７層と半透明膜の一層の計３層より成るもので
ある。
次に図面に示した本発明の実施例について詳細に説明す
る。
る。
実施例はサーが信号（トラッキング、フォーカス）検出
用の光学系を示したもので、一個の直角プリズム１．２
を用いたビームスジリッターＡにおいて、直角プリズム
１０反射面に半透明膜３、次に銀薄膜４更に半透明膜５
を、無偏光とするだめに半透明膜３．５の膜厚と、屈折
率を適当な値とするためにコントロールする必要がある
。これは上記半透明膜１．３は例えば二酸化チタン（Ｔ
ＩＯ＊）或は一酸化シリコン（８１０） 等の蒸着条件
によって容易にコントロールすることができる。
用の光学系を示したもので、一個の直角プリズム１．２
を用いたビームスジリッターＡにおいて、直角プリズム
１０反射面に半透明膜３、次に銀薄膜４更に半透明膜５
を、無偏光とするだめに半透明膜３．５の膜厚と、屈折
率を適当な値とするためにコントロールする必要がある
。これは上記半透明膜１．３は例えば二酸化チタン（Ｔ
ＩＯ＊）或は一酸化シリコン（８１０） 等の蒸着条件
によって容易にコントロールすることができる。
しかして可視域には（ＴｉＯｌ）を特に近赤外域では（
Ｓｉｎ）が勝れているが、（ｓｈｏ） は蒸着スピード
等によって屈折率が変化するため１３〜２．０位の範囲
で屈折率を任童に制御することができる。
Ｓｉｎ）が勝れているが、（ｓｈｏ） は蒸着スピード
等によって屈折率が変化するため１３〜２．０位の範囲
で屈折率を任童に制御することができる。
本発明においては、透過率と反射率との分割比はだいた
い銀薄膜４の膜厚でコントロールし、Ｔｐ＝Ｔｓ及びＲ
ｐ＝Ｒｓにするのは半透明膜３．５の膜厚と屈折率でコ
ントロールするものである。
い銀薄膜４の膜厚でコントロールし、Ｔｐ＝Ｔｓ及びＲ
ｐ＝Ｒｓにするのは半透明膜３．５の膜厚と屈折率でコ
ントロールするものである。
しかして本発明ビームスプリッタ−のほぼ均一な割合の
反射率と、透過率では半導体レーザーの波長域７ＡＯ−
ｇＡ；Ｏｍまでかなシ良好な特性が得られた。（第一図
参照） 更に又、前記した従来の多層膜等によるものでは、偏光
成分の入射角の依存性が大きい欠点があるが、本発明で
は入射角度が１００位変化させても偏光成分における変
化量は極めて小さい。
反射率と、透過率では半導体レーザーの波長域７ＡＯ−
ｇＡ；Ｏｍまでかなシ良好な特性が得られた。（第一図
参照） 更に又、前記した従来の多層膜等によるものでは、偏光
成分の入射角の依存性が大きい欠点があるが、本発明で
は入射角度が１００位変化させても偏光成分における変
化量は極めて小さい。
以上の如く実験の結果では本発明の優秀性が認められた
。
。
図は本発明無偏光ビームスシリツターの実施例を示した
第１図は正面図、第２図はグラフである。 符号、Ａはビームスシリツタ−１１，２は直角グリズム
、３．５は半透明膜、４は銀薄膜。 手続補正書 ５８．１０．２４ 昭和 年 月 日 １、事件の表示 昭和５８年特許願第１７２８１３号２
、発明の名称 無偏光ビームスプリンター３、補正をす
る者 事件との関係 出願人 ４、代理人 ５、？ｉ！ｉ正命令の日付 自 発 ので、」と補正します。
第１図は正面図、第２図はグラフである。 符号、Ａはビームスシリツタ−１１，２は直角グリズム
、３．５は半透明膜、４は銀薄膜。 手続補正書 ５８．１０．２４ 昭和 年 月 日 １、事件の表示 昭和５８年特許願第１７２８１３号２
、発明の名称 無偏光ビームスプリンター３、補正をす
る者 事件との関係 出願人 ４、代理人 ５、？ｉ！ｉ正命令の日付 自 発 ので、」と補正します。
Claims (1)
- 透明表板材上に、銀薄膜の両面に半透明膜をもって被覆
した３層構造膜を設けた無偏光ビームスジリッター。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58172813A JPS6064304A (ja) | 1983-09-19 | 1983-09-19 | 無偏光ビ−ムスプリッタ− |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58172813A JPS6064304A (ja) | 1983-09-19 | 1983-09-19 | 無偏光ビ−ムスプリッタ− |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6064304A true JPS6064304A (ja) | 1985-04-12 |
Family
ID=15948844
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58172813A Pending JPS6064304A (ja) | 1983-09-19 | 1983-09-19 | 無偏光ビ−ムスプリッタ− |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6064304A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2766281A1 (fr) * | 1996-06-11 | 1999-01-22 | Us Energy | Separateur de faisceau equilibre en polarisation |
| SG105589A1 (en) * | 2002-10-01 | 2004-08-27 | Asml Holding Nv | Cube and method of making same |
| WO2011048875A1 (ja) * | 2009-10-20 | 2011-04-28 | シグマ光機株式会社 | プレート型の広帯域無偏光ビームスプリッター |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3559090A (en) * | 1968-10-08 | 1971-01-26 | Bausch & Lomb | Polarization free beam divider |
| JPS5627106A (en) * | 1979-08-10 | 1981-03-16 | Canon Inc | Beam splitter |
-
1983
- 1983-09-19 JP JP58172813A patent/JPS6064304A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3559090A (en) * | 1968-10-08 | 1971-01-26 | Bausch & Lomb | Polarization free beam divider |
| JPS5627106A (en) * | 1979-08-10 | 1981-03-16 | Canon Inc | Beam splitter |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2766281A1 (fr) * | 1996-06-11 | 1999-01-22 | Us Energy | Separateur de faisceau equilibre en polarisation |
| SG105589A1 (en) * | 2002-10-01 | 2004-08-27 | Asml Holding Nv | Cube and method of making same |
| US6824654B2 (en) | 2002-10-01 | 2004-11-30 | Asml Holding N.V. | Method of making a cube |
| WO2011048875A1 (ja) * | 2009-10-20 | 2011-04-28 | シグマ光機株式会社 | プレート型の広帯域無偏光ビームスプリッター |
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