JPS6066312A - 薄膜ヘッドの製造方法 - Google Patents
薄膜ヘッドの製造方法Info
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- JPS6066312A JPS6066312A JP17337483A JP17337483A JPS6066312A JP S6066312 A JPS6066312 A JP S6066312A JP 17337483 A JP17337483 A JP 17337483A JP 17337483 A JP17337483 A JP 17337483A JP S6066312 A JPS6066312 A JP S6066312A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、耐熱性感光有機物を用いることを特徴とする
薄ＰＭヘッドの製造方法に関する。
薄ＰＭヘッドの製造方法に関する。
従来、光にｊ摸ヘッドを作製する場合、基板全ＩＬｊに
磁性体を堆積させ、その上部にホトレジストをバターニ
ングしてパターン以外の不要部をエツチングすることに
より作製する方法と、あらかじめ不要部にホトレジスト
をバターニングしておいて、基板全曲にイ３ヱ性体を堆
積させ、不要部のレジストパターンと同時にレジスト上
の磁性体を除去することにより？Ｊる作製方法があるが
、前者のポトレジストパターン以外の不要１Ｘｆ（をエ
ツチング除去する方法は、エツチング液によりパターン
のエツジがどうしても損なわれてしまう。エツジが損な
われると薄膜磁性体の場合、磁壁の移動が太き（妨げら
れ、薄膜ヘッドの伽能にＪと；影響を及ばず。このため
この方法は薄１ｉ４４ヘッドｋ ’１１造する方法とし
ては好ましくない。また前者の間ｔｅｌ ’？ｉ： ｆ
」’（決する方法としては後者の方法があるが、この（
、シ合磁（ｉ１体を１．（Ｌ債する工程に於て、実１□
、１はパーマロイ４“、をスパッタ法で堆積させている
。この１１５スパッタ時には３００℃以上の熱をかけな
いと良好なイ識気’４５’ ｔ’１をイイした薄ＪＮは
得られない。しかし、この３００℃という温夏はレジス
トを大きく損ない、レジスト除去が不可能になってしま
う欠点がある。このためこの方法を用いる場合はＪＭの
磁気ｑ、Ｊ性を１と１化させても２００℃以下で行なわ
なりれはならない。本発明に於ては上記欠点を除去する
製造方法を提供するもので、感光性有様物（レジスト等
ンのかわりに、耐熱性感光有機物を用いることにより、
スパッタ時にも４００ ’Ｃ程度熱をかけても何ら［副
１．，１なく、スパック後も除去〃Ｉ容易にできるもの
である。
磁性体を堆積させ、その上部にホトレジストをバターニ
ングしてパターン以外の不要部をエツチングすることに
より作製する方法と、あらかじめ不要部にホトレジスト
をバターニングしておいて、基板全曲にイ３ヱ性体を堆
積させ、不要部のレジストパターンと同時にレジスト上
の磁性体を除去することにより？Ｊる作製方法があるが
、前者のポトレジストパターン以外の不要１Ｘｆ（をエ
ツチング除去する方法は、エツチング液によりパターン
のエツジがどうしても損なわれてしまう。エツジが損な
われると薄膜磁性体の場合、磁壁の移動が太き（妨げら
れ、薄膜ヘッドの伽能にＪと；影響を及ばず。このため
この方法は薄１ｉ４４ヘッドｋ ’１１造する方法とし
ては好ましくない。また前者の間ｔｅｌ ’？ｉ： ｆ
」’（決する方法としては後者の方法があるが、この（
、シ合磁（ｉ１体を１．（Ｌ債する工程に於て、実１□
、１はパーマロイ４“、をスパッタ法で堆積させている
。この１１５スパッタ時には３００℃以上の熱をかけな
いと良好なイ識気’４５’ ｔ’１をイイした薄ＪＮは
得られない。しかし、この３００℃という温夏はレジス
トを大きく損ない、レジスト除去が不可能になってしま
う欠点がある。このためこの方法を用いる場合はＪＭの
磁気ｑ、Ｊ性を１と１化させても２００℃以下で行なわ
なりれはならない。本発明に於ては上記欠点を除去する
製造方法を提供するもので、感光性有様物（レジスト等
ンのかわりに、耐熱性感光有機物を用いることにより、
スパッタ時にも４００ ’Ｃ程度熱をかけても何ら［副
１．，１なく、スパック後も除去〃Ｉ容易にできるもの
である。
以下、本発明について実施例及び図で説明する実施例１
チタバリ基板上１にアルミを１μｍの厚みでスパッタし
、フォトエツチング加工により５μｍ １ｉｉｉ＋１の
下Ｊｉ部のコイル２を作製した。次に絶縁膜３として二
酸化ケイ累企１μｍの厚みでスパッタを行ナイ、更に二
酸化ケイ素の上部に感光性ポリイミド樹脂をスピンナー
により塗布し、必要な磁性体パターン以外のスペースに
ポリイミド４が残る様に感光し形成した。形成したポリ
イミドのパターンを乾燥機に入れ、１５０’ＣＸ３０分
、２０’０℃×６０分、３００”ｃＸ３０分、熱処理を
行なった。このポリイミドパターンの形成された基板全
面に、スパッタでスーパーマロイ５を５００ＯＡ堆積さ
せ、スパッタ後、ヒドラジン系の液Ｖこ浸し、スーパー
マロイが上ｂｉｓに付着したポリイミドのパターンを溶
解した。この時のスーパーマロイの動板温度は４００℃
であったがポリイミドは何ら問題なく除去できた。更に
また上部に絶オノ′、膜６として二酸化ケイ素を１μｍ
の厚みでスパッタし、スパック後、絶縁膜３，６を同１
１９にエツチングし、下ＩＷ部ココイルコンタクト部を
露出させた。次（Ｃ下層部コイルと同様の方法により上
１？’ｉ ＋ｊｌＳコイル７を形成し、上層部、下層部
のコイル企液続した。
、フォトエツチング加工により５μｍ １ｉｉｉ＋１の
下Ｊｉ部のコイル２を作製した。次に絶縁膜３として二
酸化ケイ累企１μｍの厚みでスパッタを行ナイ、更に二
酸化ケイ素の上部に感光性ポリイミド樹脂をスピンナー
により塗布し、必要な磁性体パターン以外のスペースに
ポリイミド４が残る様に感光し形成した。形成したポリ
イミドのパターンを乾燥機に入れ、１５０’ＣＸ３０分
、２０’０℃×６０分、３００”ｃＸ３０分、熱処理を
行なった。このポリイミドパターンの形成された基板全
面に、スパッタでスーパーマロイ５を５００ＯＡ堆積さ
せ、スパッタ後、ヒドラジン系の液Ｖこ浸し、スーパー
マロイが上ｂｉｓに付着したポリイミドのパターンを溶
解した。この時のスーパーマロイの動板温度は４００℃
であったがポリイミドは何ら問題なく除去できた。更に
また上部に絶オノ′、膜６として二酸化ケイ素を１μｍ
の厚みでスパッタし、スパック後、絶縁膜３，６を同１
１９にエツチングし、下ＩＷ部ココイルコンタクト部を
露出させた。次（Ｃ下層部コイルと同様の方法により上
１？’ｉ ＋ｊｌＳコイル７を形成し、上層部、下層部
のコイル企液続した。
この基板上に保Ｍμ膜として二酸化ケイメ（８を２μｍ
の厚みでスパッタを行ない、研Ｉホ加工後、γ−シ膜磁
気ヘッドとしてのＨ′１２価をした。このできたヘッド
は従来の例えば前者の方法により得られたヘッドに比べ
、出力でも０．１ ｍ Ｖ 〜０．２ ｍＶ上１ｉｉＪ
ッていた。
の厚みでスパッタを行ない、研Ｉホ加工後、γ−シ膜磁
気ヘッドとしてのＨ′１２価をした。このできたヘッド
は従来の例えば前者の方法により得られたヘッドに比べ
、出力でも０．１ ｍ Ｖ 〜０．２ ｍＶ上１ｉｉＪ
ッていた。
実施例２
実施例１と同様の方法で作製した。この時の下層、上層
部のコイルの栃料はＡｔに４％Ｏｕをドープしたものを
用いた、また絶Ａ’Ｊ Ｉｊ／％には酸化アルミニウム
、に性体にはパーマロイを用いたがこれも従来のｕ遣方
法に比べ磁気特性の良好なヘッドが得られた。
部のコイルの栃料はＡｔに４％Ｏｕをドープしたものを
用いた、また絶Ａ’Ｊ Ｉｊ／％には酸化アルミニウム
、に性体にはパーマロイを用いたがこれも従来のｕ遣方
法に比べ磁気特性の良好なヘッドが得られた。
以上、実力温例に示す如き本発明゛０製造方法は、磁性
体のパターン形成の際、悪影υを与えンよいため、スパ
ッタ１１なに付着した詩の瓶の磁気特性を劣化させるこ
となく、高性能の薄膜ヘッドを製造できるものである。
体のパターン形成の際、悪影υを与えンよいため、スパ
ッタ１１なに付着した詩の瓶の磁気特性を劣化させるこ
となく、高性能の薄膜ヘッドを製造できるものである。
また、実施例にはコイル材料として、Ａｔ、Ａｌ−０ｕ
ｌ、か記載してないが他にＡｕ、Ｏｕ、ＡＡ−ｓｉ、も
可能であり、更に磁性体においても、センダスト、スー
パーセンタストも同様である。更にまた、耐熱性感光有
機物についても、ポリイミド系だけでなく、耐熱性があ
り、感光でき、溶解もしくは、剥Ｆできるものであれば
どの様なものでも可能である。
ｌ、か記載してないが他にＡｕ、Ｏｕ、ＡＡ−ｓｉ、も
可能であり、更に磁性体においても、センダスト、スー
パーセンタストも同様である。更にまた、耐熱性感光有
機物についても、ポリイミド系だけでなく、耐熱性があ
り、感光でき、溶解もしくは、剥Ｆできるものであれば
どの様なものでも可能である。
［起曲のｆ＋？を単な説明
第１図（α）〜Ｃｈ）は実施例１で作製した薄膜ヘッド
の製造工程の断゛面図である。
の製造工程の断゛面図である。
１・・・・・・基板
２・・・・・・下層部コイル
６・・・・・・絶縁膜
４・・・・・・耐熱性感光有機物
５・・・・・・磁性体
６・・・・・・絶縁膜
７・・・・・・上層部コイル
８・・・・・・保疲膜
以 」二
出願人 林式会社丘・；（訪精工舎
代理人 弁理士 最上 務
（ＯＬ）
（らン
（Ｃ）
ベー
（わ
（ｅン
１図
Claims (1)
- 基板上に下層コイル、第１絶縁Ｊ・：ｊ、磁性層、第２
絶縁層、上Ｊ・＋ｙコイル、保忌ｊル３を所定の形状に
胆次わ２ノ・１・ｊして得られる薄膜ヘッドに於て、前
記磁性Ｊ・１・ｊのパターン形成に耐ｆ（に？性感光有
機物を用いて、パターン形成を行なうことを特徴とする
薄膜ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17337483A JPS6066312A (ja) | 1983-09-20 | 1983-09-20 | 薄膜ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17337483A JPS6066312A (ja) | 1983-09-20 | 1983-09-20 | 薄膜ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6066312A true JPS6066312A (ja) | 1985-04-16 |
Family
ID=15959202
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17337483A Pending JPS6066312A (ja) | 1983-09-20 | 1983-09-20 | 薄膜ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6066312A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4972287A (en) * | 1987-07-01 | 1990-11-20 | Digital Equipment Corp. | Having a solenoidal energizing coil |
| US4985985A (en) * | 1987-07-01 | 1991-01-22 | Digital Equipment Corporation | Solenoidal thin film read/write head for computer mass storage device and method of making same |
-
1983
- 1983-09-20 JP JP17337483A patent/JPS6066312A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4972287A (en) * | 1987-07-01 | 1990-11-20 | Digital Equipment Corp. | Having a solenoidal energizing coil |
| US4985985A (en) * | 1987-07-01 | 1991-01-22 | Digital Equipment Corporation | Solenoidal thin film read/write head for computer mass storage device and method of making same |
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