JPS6069829A - 薄膜磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
薄膜磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS6069829A JPS6069829A JP17547883A JP17547883A JPS6069829A JP S6069829 A JPS6069829 A JP S6069829A JP 17547883 A JP17547883 A JP 17547883A JP 17547883 A JP17547883 A JP 17547883A JP S6069829 A JPS6069829 A JP S6069829A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- protective layer
- film
- magnetic
- thin film
- recording medium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は芯膜磁気記録媒体の製造方法に関するものであ
り、特に、耐久性と序綜特性がすぐれかつスペーシング
ロスの小さい苺膜磁気記録婬体の製造方法に門するもの
である。
り、特に、耐久性と序綜特性がすぐれかつスペーシング
ロスの小さい苺膜磁気記録婬体の製造方法に門するもの
である。
磁伝記録繰体は、記録の高密度化の要求に伴って、その
金爲磁性層が斜め蒸着法などによって益益ｙＬ７ 膨化
される順向にある。
金爲磁性層が斜め蒸着法などによって益益ｙＬ７ 膨化
される順向にある。
しかるに、従来の薄膜磁気記録先体においては、金し′
ｉ磁性帰の薄鹿化により耐久性が低下するという欠点を
有する。この問題を解決するために、金Ｄ５薄膜磁性帰
に保わ層を設けることが検討されている。しかし、この
場合に、保護層を例えばグ、バッタ膜などの硬質膜で形
成すると磁包ヘッドをｆ′Ｊつけるという問題が生じる
。また、高分子物刊などを用いて比較的柔軟な保ＰＩ
Ｆを設けると、／Ｔｌ’Ｎ係数が上昇するという問題が
生じる。また、前記いずれの保護層においても、その厚
みによってはスペーシングロスが増大することにより「
１生出力が低下するという欠点がある。
ｉ磁性帰の薄鹿化により耐久性が低下するという欠点を
有する。この問題を解決するために、金Ｄ５薄膜磁性帰
に保わ層を設けることが検討されている。しかし、この
場合に、保護層を例えばグ、バッタ膜などの硬質膜で形
成すると磁包ヘッドをｆ′Ｊつけるという問題が生じる
。また、高分子物刊などを用いて比較的柔軟な保ＰＩ
Ｆを設けると、／Ｔｌ’Ｎ係数が上昇するという問題が
生じる。また、前記いずれの保護層においても、その厚
みによってはスペーシングロスが増大することにより「
１生出力が低下するという欠点がある。
前記の問題点に鑑み、本発明者は鋭意何９°しの結果、
耐久性にすぐれ、摩擦係数が小さくスペーシングロスの
小さい薄膜磁気記録先体を貴′！造号−ることができた
。即ち、本発明は、 非磁性支持体上に形成された金ＦＳ１’ａ性薄ｙｔｙ
ｊ：に保簡層を形成した後、前記保Ｆｌｉ層上に研摩処
理を施こすことを特徴とする薄膜磁気記録媒体の升°！
造方法を提供するものである。
耐久性にすぐれ、摩擦係数が小さくスペーシングロスの
小さい薄膜磁気記録先体を貴′！造号−ることができた
。即ち、本発明は、 非磁性支持体上に形成された金ＦＳ１’ａ性薄ｙｔｙ
ｊ：に保簡層を形成した後、前記保Ｆｌｉ層上に研摩処
理を施こすことを特徴とする薄膜磁気記録媒体の升°！
造方法を提供するものである。
本発明における保護層の形成には 、Ｂ、ｔＨ−硬化型
又は電子綜硬化型高分子結合剤、プラズマ重合高分子物
質、加水分解型カップリング剤（７ランカツプリング剤
、チタンカップリング剤など）ポリエチレンなどの熱可
（′、ス性嵩高分子結合剤どを用いることができる。
又は電子綜硬化型高分子結合剤、プラズマ重合高分子物
質、加水分解型カップリング剤（７ランカツプリング剤
、チタンカップリング剤など）ポリエチレンなどの熱可
（′、ス性嵩高分子結合剤どを用いることができる。
金己磁性薄月了上に保芸層を形成した後、必要に応じて
、例えば１０〜２０００気圧の高圧室内において静水圧
をかけて、保護層を金ハ磁性薄膜内の間隙に強制的に埋
め込まぜてもよい。
、例えば１０〜２０００気圧の高圧室内において静水圧
をかけて、保護層を金ハ磁性薄膜内の間隙に強制的に埋
め込まぜてもよい。
本発明における金属磁性シフ膜を形成する蒸着物質さし
ては例えば、Ｆｅ、Ｃｏ％Ｎｉ などの金月あるいはＦ
ｃ −Ｃｏ 台金、Ｆｃ −Ｎｉ合金、Ｃｏ −Ｎｉ
−Ｆｃ −Ｂ 合金などの合金からなる強磁性体などが
列番できる。蒸テ１′７物質は、電熱怜）゛電子線など
を用いて加、’３ Ｌ、 蒸発させて非磁性支持体上に
蒸着される。勲”’＋’Ｊ物質は非磁性支持体に対して
好ましくは３０’ないし９０’の角度で斜め蒸着するの
が好ましい。前記非磁性体の素材としては、例えば、ポ
リエチレンテｔ／フタレートなどのポリエステル、ポリ
プロピレンなどのポリオレフィン、セルローストリアセ
テート、セルロースジアセテートなどのセルロース８つ
導体、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリイミド
などの高分子物質などが誉げられる。
ては例えば、Ｆｅ、Ｃｏ％Ｎｉ などの金月あるいはＦ
ｃ −Ｃｏ 台金、Ｆｃ −Ｎｉ合金、Ｃｏ −Ｎｉ
−Ｆｃ −Ｂ 合金などの合金からなる強磁性体などが
列番できる。蒸テ１′７物質は、電熱怜）゛電子線など
を用いて加、’３ Ｌ、 蒸発させて非磁性支持体上に
蒸着される。勲”’＋’Ｊ物質は非磁性支持体に対して
好ましくは３０’ないし９０’の角度で斜め蒸着するの
が好ましい。前記非磁性体の素材としては、例えば、ポ
リエチレンテｔ／フタレートなどのポリエステル、ポリ
プロピレンなどのポリオレフィン、セルローストリアセ
テート、セルロースジアセテートなどのセルロース８つ
導体、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリイミド
などの高分子物質などが誉げられる。
１本発明において保護層の研摩は通常の種々の方法で行
なうことができる。この、す）葎、金属（ｉ’：４ （
’ｔ４ ’（’７膜が現われる直前まで保ｎ層をイｑＦ
序するのがＩ・ｒすしい。研摩剤としては例えば平均粒
径０．３μｍのアルミナパウダーを使用することができ
る。
なうことができる。この、す）葎、金属（ｉ’：４ （
’ｔ４ ’（’７膜が現われる直前まで保ｎ層をイｑＦ
序するのがＩ・ｒすしい。研摩剤としては例えば平均粒
径０．３μｍのアルミナパウダーを使用することができ
る。
本発明の方法は両面記録型の薄月伎磁気記づ゛支７１．
を体の名二１１造にも応用することができる。非ｑｌ
（’ＩＨ支持体を溶液製膜及び溶融鎧戸のいずれの方法
で１”％ ；４’ｊ シても、この支持体の一方の面は
キ）ティングドラムやベルトなどに接触しているため、
この１〆Ｓ ＋ｆｆ＊：’支持体面にはイ）や凹凸が発
生し易く、高密１１１’Ｌ： 磁１σ汀１〕ｊｌｌＴＮ
楳休とした（！：き、その１モ而平滑性に前ｔＧＯ停Ｖ
）凹凸が反映するという問題点がある。この問題点も本
発明によって解消することができろ。また、この両面記
録媒体においては、非磁１生支持体の両面を予め例えば
前記と同様、平均粒径Ｏ９６μｍのアルミナパウダーで
研摩することによって、 ｐ、’ｘ 気記録媒体の表面
平滑性をさらに一層向−１−させると吉ができ、耐久性
、摩擦特性及びスペーシングロスにしコしてすぐれた結
果を得ることができる。
を体の名二１１造にも応用することができる。非ｑｌ
（’ＩＨ支持体を溶液製膜及び溶融鎧戸のいずれの方法
で１”％ ；４’ｊ シても、この支持体の一方の面は
キ）ティングドラムやベルトなどに接触しているため、
この１〆Ｓ ＋ｆｆ＊：’支持体面にはイ）や凹凸が発
生し易く、高密１１１’Ｌ： 磁１σ汀１〕ｊｌｌＴＮ
楳休とした（！：き、その１モ而平滑性に前ｔＧＯ停Ｖ
）凹凸が反映するという問題点がある。この問題点も本
発明によって解消することができろ。また、この両面記
録媒体においては、非磁１生支持体の両面を予め例えば
前記と同様、平均粒径Ｏ９６μｍのアルミナパウダーで
研摩することによって、 ｐ、’ｘ 気記録媒体の表面
平滑性をさらに一層向−１−させると吉ができ、耐久性
、摩擦特性及びスペーシングロスにしコしてすぐれた結
果を得ることができる。
本発明を以下の実施例について説明する。
実施例
Ｃｏ を約０．１５μｍの厚みで蒸着して金ハ磁性戟７
厄（２）を形成した佼、８広（２）上に３Ｗ能インシア
ネ一ト化合物（コロネートＬ１日本ポリウレタン社製の
商品名）を約０．１５μｍ１１の厚さで塗布し、６０℃
で２４時間４Ｆ、Σ化させて保段層（３）を形成した。
厄（２）を形成した佼、８広（２）上に３Ｗ能インシア
ネ一ト化合物（コロネートＬ１日本ポリウレタン社製の
商品名）を約０．１５μｍ１１の厚さで塗布し、６０℃
で２４時間４Ｆ、Σ化させて保段層（３）を形成した。
こうして形成した磁（，１：ＦＦｔ表面を、第６図に概
略示す装置、叉て研ｒ；’；しブこ。即ぢ、平コニ〕粒
径０．５μｍのアルミナパウダーで処」ｊ１シたセラミ
ックロール（５）と階鉄コ、弓バックロール（４）と間
を、保護層（３）をロール（５）にＪＪｆ−・１！させ
るようにして支持体（１）を矢印入方向に走行させ、口
・−ル（４）及び（５）は図示の矢印の方向に回転ざぜ
て保欣層（３）を研ＬＩ″１７シて、ｆＪ４図に示ず磁
気記釘、ｋ″Ｊ体庖作ｔ゛ニジた。本奥施例の試料、本
実施例において保護層（３）を形成する前の試料及び保
護Ｊｉ−？ （３）を形成後であって研摩処理前の試料
について各種性能を測定し、次の結果を得た。
略示す装置、叉て研ｒ；’；しブこ。即ぢ、平コニ〕粒
径０．５μｍのアルミナパウダーで処」ｊ１シたセラミ
ックロール（５）と階鉄コ、弓バックロール（４）と間
を、保護層（３）をロール（５）にＪＪｆ−・１！させ
るようにして支持体（１）を矢印入方向に走行させ、口
・−ル（４）及び（５）は図示の矢印の方向に回転ざぜ
て保欣層（３）を研ＬＩ″１７シて、ｆＪ４図に示ず磁
気記釘、ｋ″Ｊ体庖作ｔ゛ニジた。本奥施例の試料、本
実施例において保護層（３）を形成する前の試料及び保
護Ｊｉ−？ （３）を形成後であって研摩処理前の試料
について各種性能を測定し、次の結果を得た。
保護層 保護層
試 料 形成前 形成後 本実ｌ・テ建（］出力（ｄＢ
）” ０ −５ 。
）” ０ −５ 。
初期動摩擦係数 ０．３５ ０，８５ ０．．５０＊１
ソニー家庭用ＶＴＲで３ ｒ１４．ＴＪ７．の信写の
出力レベルで測定した。
ソニー家庭用ＶＴＲで３ ｒ１４．ＴＪ７．の信写の
出力レベルで測定した。
＊２ 摩擦が大きくなり過ぎて２０回走行で評価不能さ
なった。
なった。
第１〜第６図は本発明の方法の一実施卯仔を示す図、第
４図は前記実施態様の方法で作製された薄膜記録媒体の
断面図である。 なお、図面に用いられた符号において、（１）・・・・
・・ 支持体 （２）・・・・・・−・金ｒ、磁性薄膜（３）・・・・
・・保ｒｔ層 （４χ５）・・・・・・ ロール である。 代理人 上屋 Ｗテ 常包芳巧 杉浦・俊丁１ 第１図 ！ 第２図 第４図
４図は前記実施態様の方法で作製された薄膜記録媒体の
断面図である。 なお、図面に用いられた符号において、（１）・・・・
・・ 支持体 （２）・・・・・・−・金ｒ、磁性薄膜（３）・・・・
・・保ｒｔ層 （４χ５）・・・・・・ ロール である。 代理人 上屋 Ｗテ 常包芳巧 杉浦・俊丁１ 第１図 ！ 第２図 第４図
Claims (1)
- 非磁性支持体上に形成された金属磁性薄膜上に保詣層を
形成した後、前記係ｙ７１７ｑ上に研摩処理を力布こす
ことを特（４にとする薄膜磁気記録先体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17547883A JPS6069829A (ja) | 1983-09-22 | 1983-09-22 | 薄膜磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17547883A JPS6069829A (ja) | 1983-09-22 | 1983-09-22 | 薄膜磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6069829A true JPS6069829A (ja) | 1985-04-20 |
Family
ID=15996745
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17547883A Pending JPS6069829A (ja) | 1983-09-22 | 1983-09-22 | 薄膜磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6069829A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5251909A (en) * | 1975-10-24 | 1977-04-26 | Hitachi Ltd | Production of magnetic film |
| JPS5690428A (en) * | 1979-12-19 | 1981-07-22 | Fujitsu Ltd | Surface smoothing method of magnetic disc substrate |
-
1983
- 1983-09-22 JP JP17547883A patent/JPS6069829A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5251909A (en) * | 1975-10-24 | 1977-04-26 | Hitachi Ltd | Production of magnetic film |
| JPS5690428A (en) * | 1979-12-19 | 1981-07-22 | Fujitsu Ltd | Surface smoothing method of magnetic disc substrate |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS59142742A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0479045B2 (ja) | ||
| JPH036576B2 (ja) | ||
| JPH056738B2 (ja) | ||
| JPS5856231A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS61202324A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS5996539A (ja) | 磁気記録デイスク | |
| JPS61182624A (ja) | 垂直磁気記録体 | |
| JPS5948822A (ja) | 垂直磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| JPH0664730B2 (ja) | 磁気記録体 | |
| JPH0746417B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS61131224A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS6146892B2 (ja) | ||
| JP2583969B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造装置及び磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH0268712A (ja) | 薄膜型磁気記録媒体 | |
| JPH0827936B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH0467684B2 (ja) | ||
| JPH05250664A (ja) | 磁気ディスク用基板の製造方法 | |
| JPS5856229A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH1116144A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS6146893B2 (ja) | ||
| JPS60160016A (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
| JPS6177130A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS5868229A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH04167224A (ja) | 磁気記録媒体 |