JPS607614B2 - シクロヘキサノンオキシムの製法 - Google Patents

シクロヘキサノンオキシムの製法

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JPS607614B2
JPS607614B2 JP51019041A JP1904176A JPS607614B2 JP S607614 B2 JPS607614 B2 JP S607614B2 JP 51019041 A JP51019041 A JP 51019041A JP 1904176 A JP1904176 A JP 1904176A JP S607614 B2 JPS607614 B2 JP S607614B2
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JP
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cyclohexanone
oxime
aqueous phase
reaction
ammonium
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JP51019041A
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ギユンター・ラツプ
フーゴー・フツクス
エルヴイン・トーマス
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D201/00Preparation, separation, purification or stabilisation of unsubstituted lactams
    • C07D201/02Preparation of lactams
    • C07D201/04Preparation of lactams from or via oximes by Beckmann rearrangement

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Other In-Based Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 シクロヘキサノンと硫酸ヒドロキシルアンモニウム水溶
液を、反応に際して遊離される硫酸を中和するためのア
ンモニアを同時に添加しながら反応、させることにより
、シクロヘキサノンオキシムを製造することは公3句で
ある。
この際ヒドロキシルァミン製造の様式に応じて、生成す
るシクロヘキサノンオキシム1部につき0.7〜2.万
邦の硫酸アンモニウムが創生物として生成する。硫酸ア
ンモニウムの生成を減少させるため、オキシム化を緩衝
系中で低い斑価において行なうか、あるいは生ずる硫酸
アンモニウムを熱により重硫酸アンモニウムに分解し、
そしてこれを触媒によるヒドロキシルアミン合成に際し
て硫酸の代わりに再使用することは、多数の特許出願明
細書に記載されている。オキシム化ののちに得られる酸
性の水溶液は、ヒドロキシルアミン合成のため循環して
用いられる。たとえばドイツ特許出願公告第12717
11号明細書によれば、シクロヘキサノンと硫酸ヒドロ
キシルアンモニゥム水溶液を第1段階で高められた温度
において、硫酸アンモニウム−硫酸水素アンモニウム緩
衝溶液の存在下に1.5〜3の舟価において反応させる
ことにより、シクロヘキサノンオキシムが製造される。
続いてオキシムを第2段階において、3以上の斑価で過
剰のヒドロキシルアミンと反応させる。ドイツ特許出願
公開第1493198号及び同第2046256号明細
書には、たとえばオキシム形成に際して緩衝系として作
用する弱酸の可溶性塩の存在におけるシクロヘキサノン
オキシムの製造が記載され、またドイツ特許出願公開第
2129658号明細書には、硫酸水素アンモニウム及
び燐酸水素アンモニウムの存在下に最低0.5のpH価
において、硫酸ヒドロキシルアソモニウムを用いて行な
われるオキシム製造が記載されている。
さらにドイツ特許出願公告第12722磯号明細書には
、緩衝された酸性系中の低いpH価において、オキシム
化において不活性な、水と混合しないか又は混合し難い
溶剤の存在下に、向流で行なわれるオキシムの製造が記
載されている。前記方法はすべて、シクロヘキサノンオ
キシム製造の副生物としての硫酸アンモニウムの生成を
避けるか又は減少させること、ならびにオキシム化に際
して生ずる酸性の水溶液をヒドロキシルアミン合成にお
いて再使用することを目的としている。
また前記方法においては一般に、中性塩たとえば硝酸ア
ンモニウムならびに緩衝系たとえば硫酸アンモニウム−
硫酸水素アンモニウム又は燐酸−燐酸二水素アンモニウ
ムの存在下に操作するか、あるいはさらに水と混合しな
いか又は混合し難い溶剤の存在下にオキシム化を行なう
。これは一方では比較的手数のかかる溶剤の再生、そし
て他方では無用の塩類の高い濃度を伴うことを意味し、
これはオキシム化と関係のあるNO水素化によるヒド。
キシルアミン合成において、NO変化率及びヒドロキシ
ルアミン収率に対し不利な影響を与える。また前記方法
においては用いられたアノンの完全な変化を達成するた
め、高いpH価における第2段階において多くは後のオ
キシム化を必要とする。本発明者らは、反応を溶剤なら
びに中性塩及び(又は)緩衝塩の不在において0.5以
下のpH価で平衡を生ずるまで行ない、反応に際して生
成するオキシムを水相から分離し、水相をシクロヘキサ
ノンを用いて抽出し、続いて水蒸気蒸留に付し、こうし
て得られる水相を、一酸化窒素の触媒的還元によりヒド
ロキシルアミンが製造される帯城に循環するとき、シク
ロヘキサノンと硫酸ヒドロキシルアンモニウムーアンモ
ニウム水溶液を、シクロヘキサノンオキシムの融点より
高い温度において向流法により反応させることによる、
シクロヘキサノンオキシムの製造において前記欠点を避
けうろことを見出した。
この際用いられたシクロヘキサノンに対し90%以上の
変化率において最高2%のシクロヘキサ/ン含量を有す
るシクロヘキサ/ンオキシムが得られ「 これはカプロ
ラクタムを得るための触媒的気相転位においてそのまま
用いることができる。得られる水相は、水素による一酸
化窒素の触媒還元法によるヒドロキシルアミン合成のた
め硫酸の代わりに同様に有利に、追加的な無用の塩類な
しで用いることができる。本方法の好ましい一実施態様
は次ぎのとおりである。
硫酸水素アンモニウム溶液中の貴金属触媒上で、水素を
用いて一酸化窒素を触媒還元する場合に得られる硫酸ヒ
ドロキシルァンモニウムーアンモニウム水溶液から出発
する。これを中性塩たとえば硝酸アンモニウム又は緩衝
塩たとえば硫酸アンモニウム−硫酸水素アンモニウムも
しくは燐酸−燐酸二水素アンモニウムの添加なしで、シ
クロヘキサノンと反応させる。反応は好ましくは向流で
、塔たとえば回転円板塔又は脈流充填塔の中で、又はカ
スケードとして連結された蝿杵式容器の中で行なわれる
。この際過剰のシクロヘキサ/ンを硫酸ヒドロキシルア
ンモニゥムーアンモニゥム溶液と反応させてもよく、あ
るいは過剰のヒドロキシルアミン溶液をシクロヘキサノ
ンと反応させてもよい。合計においてシクロヘキサノン
:ヒドロキシルアミンの量比は化学量論的でなければな
らない。反応温度は反応において生成するシクロヘキサ
ノンオキシムの融点よりも高い。反応において生ずる水
相のpHは0.5以下である。反応をたとえば塔中で行
なうと、生成したシクロヘキサノンオキシムから成り、
なお幾分の水及び未反応シクoヘキサノンを含有する有
機相が塔頂で分離される。塔の下端で得られる水相は硫
酸水素アンモニウム、少量のヒドロキシルアミンならび
に部分的に溶解したオキシム及びシクロヘキサノンから
成る。この水相を次ぎに反応に必要な新しいシクロヘキ
サノンを用いて抽出し、そして抽出後に分離した、シク
ロヘキサン及び抽出に際してこの相中に移ったオキシム
から成る有機相を、オキシム化帯城に供給する。
水相は溶解したシクロヘキサノンの除去及び回収のため
共鍵蒸留に付される。蟹出物から軽い相として分離する
シクロヘキサノンは、新しいシクロヘキサノンと一緒に
オキシム化に供給することができる。有機生成物たとえ
ばシクロヘキサノンオキシム及びシクロヘキサ/ンを除
去された水性の硫酸水素アンモニウム相は、直接に又は
たとえば有機成分の最後の傷跡を除去するための炭素処
理ののち、触媒によるヒドロキシルアミン合成において
硫酸の代わりもこ使用される。
この際再び硫酸ヒドロキシルアンモニウムーアンモニウ
ム溶液が得られ、これは再びオキシム化に用いられる。
オキシム化に際して生ずる硫酸水素アンモニウム水溶液
はもち論、生成時の状態において、また希釈もしくは濃
縮された形においても、ヒドロキシルアミン合成に供給
することができる。オキシム化反応に際して生ずるオキ
シム相は、次ぎに特に有利には後期オキシム化又は精製
を行なうことなくして、たとえば酸化棚素−酸化アルミ
ニウム触媒上の触媒気相反応によりカプロラクタムに転
位させることができる。しかしオキシムをより高い刊価
において後のオキシム化に付し、そして古典的方法によ
りカプロラクタムに転位させてもよい。
本発明方法はシクロヘキサノンオキシム製造のためのこ
れまでの公知方法に比して、有機溶剤の不在ならびに中
性塩及び(又は)緩衝塩の不在において0.5以下のp
H価で操作することにより優れている。
用いられたシクロヘキサノンに対する変化率は90%以
上である。従って手数のかかる溶剤の仕上げ処理は不必
要であり、そして触媒によるヒドロキシルアミン合成に
おいて有害な作用をする無用の塩類が循環されることが
ない。NO変化率及びヒドロキシルアミン収率は、普通
の硫酸中のNO水素化法に比して影響を受けない。生成
したオキシムは少量の未反応シクロヘキサノンの存在に
もかかわらず、気相中の触媒によるカプロラクタムへの
転位に直接用いることができる。
実施例 ラシッヒリングを充填した脈流ガラス塔の上端に、次ぎ
の組成の硫酸ヒドロキシルアンモニウムーアンモニゥム
溶液毎時12.235kgを供給する。
組成:日207.463kg、(NH30日−NH4)
S044.295kg、NはHS040.355k9及
び(N比)2S040.122k9下端から2.854
k9のシクロヘキサノン分を含有するシクロヘキサノン
及びシクロヘキサノンオキシムからの混合物毎時3.2
92k9を供給する。反応温度は90℃である。塔の上
部からは0.6%のアノン分及び4.6%の水分を含有
するシクロヘキサノンオキシム毎時3067k9を取り
出すことができる。得られたシクロヘキサノンオキシム
は触媒気相反応により直接カプロラクタムに転位させる
ことができる。脈流※の下部で得られる12.46k9
/時の水相は25q0において約0.3のpH価を有し
、組成は次ぎのとおりである。組成:水7.806k9
、シクロヘキサノン0.145k9、シク ロ ヘキ
サ ノ ン オ キ シ ム 0.637k9、N日日
S043.457k9、(NH4)夕040.122k
9及び(N瓜OH−N凡)S040.293k9。
溶解したシクロヘキサノンオキシムを除去するため、こ
の溶液を新しいシクロヘキサノン2.536k9ならび
に再供給されるシクロヘキサノン0.318k9を用い
て同流で抽出する。この際軽い相としてシクロヘキサノ
ンーシクロヘキサノンオキシム混合物3.292【9が
得られ、これは再びオキシム化において用いられる。水
相はなお少量のオキシムならびに溶解したシクロヘキサ
ノンを含有する。この水相から共凝蒸留によりシクロヘ
キサノン0.318k9を回収することができ、これは
新しいシクロヘキサノンと一緒に循環路に再供給される
。回収されたシクロヘキサノンは共沸蒸留によって得ら
れたシク。へキサノンならびに、蒸留条件下により低い
風価において、残存するシクロヘキサノンオキシムの再
分解に際して得られたシクロヘキサノンから成っている
。水性の留出物相はシクロヘキサノンを分離したのち塔
に再供給される。水相は一層よく精製するため、さらに
40ooにおける炭素処理に付することができる。
水相としては次ぎの組成のもの11.704kgが得ら
れる。組成:日207.774k9、NH4HS043
.255kg、(NH30日−NH4)S040.55
3kg、(NH4)2S040.122k9及び炭素舎
量約0.02%。この溶液を次ぎに白金触媒の存在下及
び激しい凝梓下に、水素及び一酸化窒素からの容量比2
:1の混合物を用いて処理する。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 反応を溶剤ならびに中性塩及び(又は)緩衝塩の不
    在において0.5以下のpH価で平衡を生ずるまで行な
    い、反応に際して生成するオキシムを水相から分離し、
    水相をシクロヘキサノンを用いて抽出し、続いて水蒸気
    蒸留に付し、こうして得られる水相を、一酸化窒素の触
    媒的還元によりヒドロキシルアミンが製造される帯域に
    循環することを特徴とする、シクロヘキサノンと硫酸ヒ
    ドロキシルアンモニウム−アンモニウム水溶液を、シク
    ロヘキサノンオキシムの融点より高い温度において向流
    法により反応させることによるシクロヘキサノンオキシ
    ムの製法。
JP51019041A 1975-02-26 1976-02-25 シクロヘキサノンオキシムの製法 Expired JPS607614B2 (ja)

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DE2508247A DE2508247C3 (de) 1975-02-26 1975-02-26 Verfahren zur Herstellung von Cyclohexanonoxim
DE2508247.7 1975-02-26

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JPS51115445A JPS51115445A (en) 1976-10-12
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DE (1) DE2508247C3 (ja)
FR (1) FR2302297A1 (ja)
GB (1) GB1528513A (ja)
IT (1) IT1055863B (ja)
NL (1) NL184952C (ja)

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NL184952C (nl) 1989-12-18
GB1528513A (en) 1978-10-11
US4031139A (en) 1977-06-21
FR2302297A1 (fr) 1976-09-24
JPS51115445A (en) 1976-10-12
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FR2302297B1 (ja) 1979-08-31
IT1055863B (it) 1982-01-11
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