JPS6079528A - 磁気記録媒体 - Google Patents
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- JPS6079528A JPS6079528A JP18662183A JP18662183A JPS6079528A JP S6079528 A JPS6079528 A JP S6079528A JP 18662183 A JP18662183 A JP 18662183A JP 18662183 A JP18662183 A JP 18662183A JP S6079528 A JPS6079528 A JP S6079528A
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Landscapes
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
■ 発明の背景
技術分野
本発明は、磁気記録媒体、特にいわゆる斜め蒸着法によ
る連続薄膜型の磁性層を有する磁気−記録媒体に関する
。 。
る連続薄膜型の磁性層を有する磁気−記録媒体に関する
。 。
先行技術とその問題点
ビデオ用、オーディオ用等の磁気記録媒体として、テー
プ化して巻回したときのコンパクト性から、連続薄膜型
の磁性層を有するものの開発が活発に行われている。
プ化して巻回したときのコンパクト性から、連続薄膜型
の磁性層を有するものの開発が活発に行われている。
このような連続薄膜型の媒体の磁性層としては、特性上
、基体法線に対し所定の傾斜角にて蒸着を行う、いわゆ
る斜め蒸着法によって形成したC01Co−’Ni、C
o−0、Co−Ni−0系等の蒸着膜が最も好適である
。
、基体法線に対し所定の傾斜角にて蒸着を行う、いわゆ
る斜め蒸着法によって形成したC01Co−’Ni、C
o−0、Co−Ni−0系等の蒸着膜が最も好適である
。
しかし、このような磁性層は、走行摩擦が大きく、膜強
度が低く、ヘッドタッチも悪く、特に走行耐久性が低く
、くりかえし走行によって出力が低下してしまう。
度が低く、ヘッドタッチも悪く、特に走行耐久性が低く
、くりかえし走行によって出力が低下してしまう。
また、ビデオ用の媒体では、スチルと称される静止画像
モードでの耐久時間が小さい。
モードでの耐久時間が小さい。
さらに、いわゆるドロップアウトも多い。
このような実状から、従来、斜め蒸着膜磁性層のトップ
コート膜が種々提案されている。
コート膜が種々提案されている。
例えば、直鎖の飽和脂肪酸−いしそのエステルの蒸着膜
や塗布膜(特開昭53−88704号公報、同55−E
13533号公報等)等であ・る。
や塗布膜(特開昭53−88704号公報、同55−E
13533号公報等)等であ・る。
しかし、従来のトップコート膜はいずれも、上記走行耐
久性、スチル特性、ドロップアウト等の点で、未だ不十
分な結果しかえられていな□ い。
久性、スチル特性、ドロップアウト等の点で、未だ不十
分な結果しかえられていな□ い。
■ 発明の目的
本発明は、このような実状に鑑みなされたものであって
、その主たる目的は、走行摩擦が小れ、走行耐久性、ス
チル耐久−一高く1、ドロップアウトの発生の少ない、
新規なトップコート膜を有する連続薄膜型の磁性層をも
つ磁気記録媒体を提供することにある。
、その主たる目的は、走行摩擦が小れ、走行耐久性、ス
チル耐久−一高く1、ドロップアウトの発生の少ない、
新規なトップコート膜を有する連続薄膜型の磁性層をも
つ磁気記録媒体を提供することにある。
このような目的は、下記の本発明によって達成される。
すなわち本発明は、
基体上に連続薄膜型の磁性層を有し、この磁性層上に、
下記式で示される化合物からなる膜を有すること”を特
徴とする磁気記録媒体である。
下記式で示される化合物からなる膜を有すること”を特
徴とする磁気記録媒体である。
式 R2
R1−N−R3
(上記式において。
R1は、炭素原子数10〜22のアルキル基であり、′
R2は、アルキル基であり、
R3は、水素またはアルキル基である。)なお、本発明
者らは上記式において、R1=R2=Hのモノ直鎖飽和
アルキルアミンをトップコート膜に用いる旨を、この出
願の先願として提案しているが、本発明は、この先の提
案と同等の効果を有するものである。
者らは上記式において、R1=R2=Hのモノ直鎖飽和
アルキルアミンをトップコート膜に用いる旨を、この出
願の先願として提案しているが、本発明は、この先の提
案と同等の効果を有するものである。
■ 発明の具体的構成
以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。
本発明の磁気記録媒体は、基体上に磁性層を有する。
磁性層は、連続薄膜型の種々のものであってよく、通常
、コバルト、ニッケルあるいはこれらを主成分とする。
、コバルト、ニッケルあるいはこれらを主成分とする。
この場合、本発明においては、Coを必須成分とし、C
o 、Co+Ni 、Co+O,またはCo+Ni+O
からなることが好ましい。
o 、Co+Ni 、Co+O,またはCo+Ni+O
からなることが好ましい。
すなわち、Co単独からなってもよく、C。
とNiとからなってもよい。
Co+N iである場合、Co / N iの重量比は
、1.5以上であることが好ましい。
、1.5以上であることが好ましい。
さらに、CoまたはCo+Niに加え、0が含まれてい
てもよい、 0が含まれたときには、電磁変換特性や走
行耐久性の点で、より好このような場合、O/Co(N
iが含まれない場合)あるいはO/(Co+Ni)の原
子比は、0.45以下、特に0.15〜0.4−1?あ
ることが好ましい。
てもよい、 0が含まれたときには、電磁変換特性や走
行耐久性の点で、より好このような場合、O/Co(N
iが含まれない場合)あるいはO/(Co+Ni)の原
子比は、0.45以下、特に0.15〜0.4−1?あ
ることが好ましい。
一方、磁性層中には、 Co、Go+Ni。
Co+OあるいはCo+Ni+Oに加え、Crが含有さ
れると、より一層好ましい結果を得る。
れると、より一層好ましい結果を得る。
これは、電磁変換特性が向上し、出力およびS/N比が
向上し、さらに膜強度が向上するからである。
向上し、さらに膜強度が向上するからである。
このような場合、Cr/Co(Niが含まれない場合)
あるいはCr/(Co+N1)(7)重量比は、0.0
01〜0.1であることが好ましい。
あるいはCr/(Co+N1)(7)重量比は、0.0
01〜0.1であることが好ましい。
この場合、Cr / CoあるいはCr/(C。
+N1)c7)重量比は、o 、005〜o 、05で
あると、より一層好ましい結果を得る。
あると、より一層好ましい結果を得る。
なお、このような磁性層中には、さらに他の微量成分、
特に遷移金属元素、例えば、Fe、Mn、V、Zr、N
b、Ta、Mo。
特に遷移金属元素、例えば、Fe、Mn、V、Zr、N
b、Ta、Mo。
w、Tt 、Cu、Zn等が含まれていてちょこのよう
な磁性層は、通常、基体主面の法線に対して傾斜した柱
状結晶構造の粒子の集合体であることが好ましい。 こ
れにより、電磁変換特性が向上する。
な磁性層は、通常、基体主面の法線に対して傾斜した柱
状結晶構造の粒子の集合体であることが好ましい。 こ
れにより、電磁変換特性が向上する。
このような場合、柱状結晶構造の粒子は、基体の主面の
法線に対して、20〜60°の範囲で傾斜していること
が好ましい。
法線に対して、20〜60°の範囲で傾斜していること
が好ましい。
また、各柱状結晶粒子は1通常、輯磁性層の厚さ方向全
域に亘る長さをもち、その短径は、50〜500λ程度
とされる。
域に亘る長さをもち、その短径は、50〜500λ程度
とされる。
そして、Coと必要に応じ添加されるNi。
Cr等は、この柱状結晶自体を構成するものであり、0
が添加されたとき、Oは通常、各柱状結晶粒子の表面に
、主として酸化物の形で存在している。
が添加されたとき、Oは通常、各柱状結晶粒子の表面に
、主として酸化物の形で存在している。
このような磁性層は、通常、0.05〜0゜5弘鵬の厚
さに形成される。
さに形成される。
この場合、磁性層は、基体上に直接設けられていてもよ
く、あるいは基体上に下地層を介して設けられていても
よい。
く、あるいは基体上に下地層を介して設けられていても
よい。
また、磁性層は通常、単一の層として形成されるが、場
合によっては中間層を介して、複数の層を積層して形成
されていてもよい。
合によっては中間層を介して、複数の層を積層して形成
されていてもよい。
このような磁性層は、通常、斜め蒸着法によって形成さ
れる。
れる。
用いる斜め蒸着法としては、公知の斜め蒸着法を用いれ
ばよく、基体法線に対する入射角の最小値は、30°以
上とすることが好ましい。
ばよく、基体法線に対する入射角の最小値は、30°以
上とすることが好ましい。
なお、蒸着条件および後処理法等は、公知の条件および
方法に従えばよい、 この場合、有効な後処理法として
は、磁性層中への0導入のための公知の各種処理法等が
ある。
方法に従えばよい、 この場合、有効な後処理法として
は、磁性層中への0導入のための公知の各種処理法等が
ある。
このような磁性層上には、上記式に示されるジないしト
リアルキルアミンからなる膜が形成上記式において、R
1は、炭素原子数lθ〜22の直鎖の飽和アルキル基で
ある。
リアルキルアミンからなる膜が形成上記式において、R
1は、炭素原子数lθ〜22の直鎖の飽和アルキル基で
ある。
R1の炭素原子数が10未満となると、臨界的に走行摩
擦が大きくなってしまい、しかも走行耐久性、スチル耐
久性が臨界的に減少し、ドロップアウトも臨界的に増大
してしまう。
擦が大きくなってしまい、しかも走行耐久性、スチル耐
久性が臨界的に減少し、ドロップアウトも臨界的に増大
してしまう。
また、R1の炭素原子数が22をこえると、臨界的にド
ロップアウトが増大する。
ロップアウトが増大する。
このような条件の下で、R1およびR2(ジアルキルア
ミン)、ならびにR1p R2およびR3(トリアルキ
ルアミン)の炭素原子数の総和は44以下、すなわち1
1(ジアルキルアミン)または12(トリアルキルアミ
ン)〜44であることが好ましい。
ミン)、ならびにR1p R2およびR3(トリアルキ
ルアミン)の炭素原子数の総和は44以下、すなわち1
1(ジアルキルアミン)または12(トリアルキルアミ
ン)〜44であることが好ましい。
総和が11または12未満となると、走行摩擦、ドロッ
プアウトが増大し、走行耐久性、スチル耐久性が低下し
、44をこえると、ドロップアウトが増大する。
プアウトが増大し、走行耐久性、スチル耐久性が低下し
、44をこえると、ドロップアウトが増大する。
このような場合、ジアルキルアミン(R3=H)におい
ては、R1およびR2の炭素原子数また、トリアルキル
アミン(R3=アルキル)においては、R1とR2の炭
−原子数の総和が11〜40、特に19〜34であり、
R1とR2とR3の炭素原子数゛の総和□が11〜44
、特に20〜44であることが好ましい。
ては、R1およびR2の炭素原子数また、トリアルキル
アミン(R3=アルキル)においては、R1とR2の炭
−原子数の総和が11〜40、特に19〜34であり、
R1とR2とR3の炭素原子数゛の総和□が11〜44
、特に20〜44であることが好ましい。
なお、これら各アルキル基は、ヒドロキシ基、アルキル
基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アル
コキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、アシ
ル基、アシルアミノ基、カルバモイル基、アルキルスル
ホニルアミノ基、スルファモイル基、スルホニル基など
で置換されていてもよいが、通常は非置換のものである
。
基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アル
コキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、アシ
ル基、アシルアミノ基、カルバモイル基、アルキルスル
ホニルアミノ基、スルファモイル基、スルホニル基など
で置換されていてもよいが、通常は非置換のものである
。
ま□た、各アルキル基は、分岐のものであってもよいが
、直鎖のものが好適である。
、直鎖のものが好適である。
これら各化合物は、公知の方法に従い合成して用いても
よく、また市販のものを用いてもよい」 また、化合物の2種以上S−して用し)てもよい。
よく、また市販のものを用いてもよい」 また、化合物の2種以上S−して用し)てもよい。
次に、上記式で示されるジないしドリアフレキルアミン
の具体例を挙げる。
の具体例を挙げる。
1上 LL LL
(1) CIOH21CtoH21H
CHH
C2)C12H251225
(3) CHC1,H,,8H
42B
CM H
(4)C18”33 18 33
(5)C18H3□ Cl8H37H
゛(6)C2oH4、C2oH4、H
CHH。
(7) Cl8H331429
(8) Cl8H33C3H1、H
CH
(9) C16H33C14H28511CHC12H
25 (10)C12H251225 (11) C16H33C2H5C2H3(12) C
16H33C3H7C3H7どのようなジないしトリア
ルキルアミンからなるトップコート膜は、単分子層以上
、0.3終m以下、より好ましくは0.005〜0.I
IL鵬の厚さとされる。
25 (10)C12H251225 (11) C16H33C2H5C2H3(12) C
16H33C3H7C3H7どのようなジないしトリア
ルキルアミンからなるトップコート膜は、単分子層以上
、0.3終m以下、より好ましくは0.005〜0.I
IL鵬の厚さとされる。
そして、このようなトップコート膜は、蒸着ない・しス
パッタリングによって形成することが好ま:しい。
パッタリングによって形成することが好ま:しい。
蒸:着ないしスパッタリングによら1ず、塗布等による
ときには、膜厚をうずくして、しかも均一な□厚さで設
層するドとがむずかし□い。
ときには、膜厚をうずくして、しかも均一な□厚さで設
層するドとがむずかし□い。
なお、蒸着ないしスパッタリング□の際の条件は、公知
の条件に従えばよい、′ 用いる基体には特に制限はないが□、特に可とう性の基
体、特にポリエステル、ポリイミド。
の条件に従えばよい、′ 用いる基体には特に制限はないが□、特に可とう性の基
体、特にポリエステル、ポリイミド。
ポリプロピレン等の樹脂製のもので□あること一一好ま
しい。
しい。
また、その厚さは、種々のもので□あってよいが、特に
5〜201L■であることが1好ましい。
5〜201L■であることが1好ましい。
そして、その磁性層形成面の裏面□の表面あらさ高さの
RMS値は、0.05p自以上であることが好ましい。
RMS値は、0.05p自以上であることが好ましい。
これにより、電磁変換特性が向上する。
■ 発明の具体的作用効果
本発明の磁気記録媒体は、ビデオ用、オーディオ用等の
磁気記録媒体として有用である。
磁気記録媒体として有用である。
本発明によれば、炭素原子数10〜22のアルキル基を
有するジないしトリアルキルアミンからなるトップコー
ト膜を用いるので、走行摩擦が臨界的に減少する。
有するジないしトリアルキルアミンからなるトップコー
ト膜を用いるので、走行摩擦が臨界的に減少する。
また、その膜強度、潤滑性、ヘッドタッチ性もきわめて
高い。
高い。
このため、走行耐久性、メチル耐久性が臨界的に向上し
、ドロップアウトが臨界的に減少する。
、ドロップアウトが臨界的に減少する。
■ 発明の具体的実施例
以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。
細に説明する。
実施例
Co/N iの重量比4/lのCoNi合金、およびC
o / N i / Cr 17)重量比が75/20
15のCoNiCr合金を用い、1107L厚のポリエ
チレンテレフタレート(PET)フィルム上に、それぞ
れ斜め蒸着法により、磁性層を0.2pm厚にて形成し
、サンプルA、およびB、を作製した。
o / N i / Cr 17)重量比が75/20
15のCoNiCr合金を用い、1107L厚のポリエ
チレンテレフタレート(PET)フィルム上に、それぞ
れ斜め蒸着法により、磁性層を0.2pm厚にて形成し
、サンプルA、およびB、を作製した。
斜め蒸着における入射角は45°とし、蒸着雰囲気は、
P =2XlO−2Pa、P =IAr 02 X 10−2P aとした。
P =2XlO−2Pa、P =IAr 02 X 10−2P aとした。
得られた磁性層は、ともに対応する合金の組成をもち、
ともにO/ (Co+N1)=0.2(原子比)であり
、基体主面法線に対し、約400傾斜した、短径0 、
01 JLmの厚さ方向全域に亘って成長した柱状結晶
粒子の集合体であった。
ともにO/ (Co+N1)=0.2(原子比)であり
、基体主面法線に対し、約400傾斜した、短径0 、
01 JLmの厚さ方向全域に亘って成長した柱状結晶
粒子の集合体であった。
また、イオンミリングを行いながらオージェ分光分析を
行ったところ、COは表面近くで少なく、また0は化学
シフトしており、しかも表面近くに多いプロファイルを
もち、0が柱状粒子の表面に金属と結合した状態で存在
している・ことが確認された。
行ったところ、COは表面近くで少なく、また0は化学
シフトしており、しかも表面近くに多いプロファイルを
もち、0が柱状粒子の表面に金属と結合した状態で存在
している・ことが確認された。
次いで、上記AOおよびBOの磁性層上に、各種有機化
合物を蒸発源として、P A r=4 X 10−3
P aの雰囲気にて、0 、 Ol us厚の表1に示
されるトップコート膜を形成して、サンプルA1〜Al
j およびB1〜BYを得た。
合物を蒸発源として、P A r=4 X 10−3
P aの雰囲気にて、0 、 Ol us厚の表1に示
されるトップコート膜を形成して、サンプルA1〜Al
j およびB1〜BYを得た。
これら各サンプルにつき、以下の測定を行った。
l) 走行摩擦
サンプルの動摩擦係数pを、40℃、相対湿度80%で
、初期と50パス後に測定した。
、初期と50パス後に測定した。
2) 走行耐久性
各サンプルに対し、市販のVTR装置を用いて50バス
試験を行い、4 MHzの信号の減少量(dB)を測定
した。
試験を行い、4 MHzの信号の減少量(dB)を測定
した。
3) スチル耐久性
市販のVTR装置で、スチルモードにて画像が消失する
に至る時間(分)を測定した。
に至る時間(分)を測定した。
4) ドロップアウト
1分間あたりの16dB以上の出力低下(個/分)を測
定した。
定した。
これらの結果を表1に示す。
表1に示される結果から、本発明による臨界的効果があ
きらかである。
きらかである。
出願人 ティーディーケイ株式会社
代理人 弁理士 石 井 陽 −
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1) 基体上に連続薄III型の磁性層を有し、 ゛
この磁性層上に、下記式で示される化合物からなる膜を
有することを特徴とする磁気記録媒体。 式 R2 R1−N−R3 (上記式において、 R1は、炭素原子数10〜22のアルキル基であり、 R2は、アルキル基であり、 R3は、水素またはアルキル基である。)(2) RI
およびR2,またはR1,R2およびR3のアルキル基
の炭素原子数の総和が、44以下である特許請求の範囲
第1項に記載の磁気記録媒体。 (3) R1のアルキル基が、直鎖である特許請求の範
囲第1項または第2項に記載の磁気記録媒体。 (4) 、R’2.またはR2およびR3が、直鎖のア
ルキル基である特許請求の範囲第1項ないし第3項のい
ずれかに記載の磁気記録媒体。 (5) 膜が、蒸着ないしスパッタリング膜である特許
請求の範囲第1項ないし第4項のいずれかに記載の磁気
記録媒体。 (6)l!Jの厚さが、0.3用m以下である特許請求
の範囲第1項ないし第5項のいずれかに記載の磁気記録
媒体。 (7) 磁性層が、Co、またはCOならびにNi 、
Crおよび0のうちの1〜3種を含む特許請求の範囲第
1項ない゛し第6項のいずれかに記載の磁気記録媒体。 (8) 磁性層が、Niを含み、Co / N iの重
量比が1.5以上である特許請求の範囲第7項に記載の
磁気記録媒体。 (9) 磁性層が、Crを含み、Cr/(C。 またはCo + N t、)の重量比が0.001〜0
.1である特許請求の範囲第7項または第8項に記載の
磁気記録媒体。 (lO) 磁性層が、0を含み、O/(CoまたはCo
+Ni)の原子比が0.45以下である特許請求の範囲
第7項ないし第9項のいずれかに記載の磁気記録媒体。 (11) 磁性層が、基体法線に対して傾斜した柱状結
晶構造粒子の集合体である特許請求の範囲第1項ないし
第1θ項のいずれかに記載の磁気記録媒体。 (12) 磁性層の厚さが、0.05〜0.57L+i
である特許請求の範囲第1項ないし第11項のいずれか
に記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18662183A JPS6079528A (ja) | 1983-10-05 | 1983-10-05 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18662183A JPS6079528A (ja) | 1983-10-05 | 1983-10-05 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6079528A true JPS6079528A (ja) | 1985-05-07 |
Family
ID=16191781
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18662183A Pending JPS6079528A (ja) | 1983-10-05 | 1983-10-05 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6079528A (ja) |
-
1983
- 1983-10-05 JP JP18662183A patent/JPS6079528A/ja active Pending
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