JPS6079528A - 磁気記録媒体 - Google Patents

磁気記録媒体

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JPS6079528A
JPS6079528A JP18662183A JP18662183A JPS6079528A JP S6079528 A JPS6079528 A JP S6079528A JP 18662183 A JP18662183 A JP 18662183A JP 18662183 A JP18662183 A JP 18662183A JP S6079528 A JPS6079528 A JP S6079528A
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JP
Japan
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recording medium
magnetic recording
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magnetic layer
magnetic
Prior art date
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Pending
Application number
JP18662183A
Other languages
English (en)
Inventor
Osamu Kawamoto
修 河本
Yasushi Takasugi
高杉 康史
Hiroshi Sugihara
洋 杉原
Masaharu Nishimatsu
西松 正治
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TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ■ 発明の背景 技術分野 本発明は、磁気記録媒体、特にいわゆる斜め蒸着法によ
る連続薄膜型の磁性層を有する磁気−記録媒体に関する
。 。
先行技術とその問題点 ビデオ用、オーディオ用等の磁気記録媒体として、テー
プ化して巻回したときのコンパクト性から、連続薄膜型
の磁性層を有するものの開発が活発に行われている。
このような連続薄膜型の媒体の磁性層としては、特性上
、基体法線に対し所定の傾斜角にて蒸着を行う、いわゆ
る斜め蒸着法によって形成したC01Co−’Ni、C
o−0、Co−Ni−0系等の蒸着膜が最も好適である
しかし、このような磁性層は、走行摩擦が大きく、膜強
度が低く、ヘッドタッチも悪く、特に走行耐久性が低く
、くりかえし走行によって出力が低下してしまう。
また、ビデオ用の媒体では、スチルと称される静止画像
モードでの耐久時間が小さい。
さらに、いわゆるドロップアウトも多い。
このような実状から、従来、斜め蒸着膜磁性層のトップ
コート膜が種々提案されている。
例えば、直鎖の飽和脂肪酸−いしそのエステルの蒸着膜
や塗布膜(特開昭53−88704号公報、同55−E
13533号公報等)等であ・る。
しかし、従来のトップコート膜はいずれも、上記走行耐
久性、スチル特性、ドロップアウト等の点で、未だ不十
分な結果しかえられていな□ い。
■ 発明の目的 本発明は、このような実状に鑑みなされたものであって
、その主たる目的は、走行摩擦が小れ、走行耐久性、ス
チル耐久−一高く1、ドロップアウトの発生の少ない、
新規なトップコート膜を有する連続薄膜型の磁性層をも
つ磁気記録媒体を提供することにある。
このような目的は、下記の本発明によって達成される。
すなわち本発明は、 基体上に連続薄膜型の磁性層を有し、この磁性層上に、
下記式で示される化合物からなる膜を有すること”を特
徴とする磁気記録媒体である。
式 R2 R1−N−R3 (上記式において。
R1は、炭素原子数10〜22のアルキル基であり、′ R2は、アルキル基であり、 R3は、水素またはアルキル基である。)なお、本発明
者らは上記式において、R1=R2=Hのモノ直鎖飽和
アルキルアミンをトップコート膜に用いる旨を、この出
願の先願として提案しているが、本発明は、この先の提
案と同等の効果を有するものである。
■ 発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。
本発明の磁気記録媒体は、基体上に磁性層を有する。
磁性層は、連続薄膜型の種々のものであってよく、通常
、コバルト、ニッケルあるいはこれらを主成分とする。
この場合、本発明においては、Coを必須成分とし、C
o 、Co+Ni 、Co+O,またはCo+Ni+O
からなることが好ましい。
すなわち、Co単独からなってもよく、C。
とNiとからなってもよい。
Co+N iである場合、Co / N iの重量比は
、1.5以上であることが好ましい。
さらに、CoまたはCo+Niに加え、0が含まれてい
てもよい、 0が含まれたときには、電磁変換特性や走
行耐久性の点で、より好このような場合、O/Co(N
iが含まれない場合)あるいはO/(Co+Ni)の原
子比は、0.45以下、特に0.15〜0.4−1?あ
ることが好ましい。
一方、磁性層中には、 Co、Go+Ni。
Co+OあるいはCo+Ni+Oに加え、Crが含有さ
れると、より一層好ましい結果を得る。
これは、電磁変換特性が向上し、出力およびS/N比が
向上し、さらに膜強度が向上するからである。
このような場合、Cr/Co(Niが含まれない場合)
あるいはCr/(Co+N1)(7)重量比は、0.0
01〜0.1であることが好ましい。
この場合、Cr / CoあるいはCr/(C。
+N1)c7)重量比は、o 、005〜o 、05で
あると、より一層好ましい結果を得る。
なお、このような磁性層中には、さらに他の微量成分、
特に遷移金属元素、例えば、Fe、Mn、V、Zr、N
b、Ta、Mo。
w、Tt 、Cu、Zn等が含まれていてちょこのよう
な磁性層は、通常、基体主面の法線に対して傾斜した柱
状結晶構造の粒子の集合体であることが好ましい。 こ
れにより、電磁変換特性が向上する。
このような場合、柱状結晶構造の粒子は、基体の主面の
法線に対して、20〜60°の範囲で傾斜していること
が好ましい。
また、各柱状結晶粒子は1通常、輯磁性層の厚さ方向全
域に亘る長さをもち、その短径は、50〜500λ程度
とされる。
そして、Coと必要に応じ添加されるNi。
Cr等は、この柱状結晶自体を構成するものであり、0
が添加されたとき、Oは通常、各柱状結晶粒子の表面に
、主として酸化物の形で存在している。
このような磁性層は、通常、0.05〜0゜5弘鵬の厚
さに形成される。
この場合、磁性層は、基体上に直接設けられていてもよ
く、あるいは基体上に下地層を介して設けられていても
よい。
また、磁性層は通常、単一の層として形成されるが、場
合によっては中間層を介して、複数の層を積層して形成
されていてもよい。
このような磁性層は、通常、斜め蒸着法によって形成さ
れる。
用いる斜め蒸着法としては、公知の斜め蒸着法を用いれ
ばよく、基体法線に対する入射角の最小値は、30°以
上とすることが好ましい。
なお、蒸着条件および後処理法等は、公知の条件および
方法に従えばよい、 この場合、有効な後処理法として
は、磁性層中への0導入のための公知の各種処理法等が
ある。
このような磁性層上には、上記式に示されるジないしト
リアルキルアミンからなる膜が形成上記式において、R
1は、炭素原子数lθ〜22の直鎖の飽和アルキル基で
ある。
R1の炭素原子数が10未満となると、臨界的に走行摩
擦が大きくなってしまい、しかも走行耐久性、スチル耐
久性が臨界的に減少し、ドロップアウトも臨界的に増大
してしまう。
また、R1の炭素原子数が22をこえると、臨界的にド
ロップアウトが増大する。
このような条件の下で、R1およびR2(ジアルキルア
ミン)、ならびにR1p R2およびR3(トリアルキ
ルアミン)の炭素原子数の総和は44以下、すなわち1
1(ジアルキルアミン)または12(トリアルキルアミ
ン)〜44であることが好ましい。
総和が11または12未満となると、走行摩擦、ドロッ
プアウトが増大し、走行耐久性、スチル耐久性が低下し
、44をこえると、ドロップアウトが増大する。
このような場合、ジアルキルアミン(R3=H)におい
ては、R1およびR2の炭素原子数また、トリアルキル
アミン(R3=アルキル)においては、R1とR2の炭
−原子数の総和が11〜40、特に19〜34であり、
R1とR2とR3の炭素原子数゛の総和□が11〜44
、特に20〜44であることが好ましい。
なお、これら各アルキル基は、ヒドロキシ基、アルキル
基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アル
コキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、アシ
ル基、アシルアミノ基、カルバモイル基、アルキルスル
ホニルアミノ基、スルファモイル基、スルホニル基など
で置換されていてもよいが、通常は非置換のものである
ま□た、各アルキル基は、分岐のものであってもよいが
、直鎖のものが好適である。
これら各化合物は、公知の方法に従い合成して用いても
よく、また市販のものを用いてもよい」 また、化合物の2種以上S−して用し)てもよい。
次に、上記式で示されるジないしドリアフレキルアミン
の具体例を挙げる。
1上 LL LL (1) CIOH21CtoH21H CHH C2)C12H251225 (3) CHC1,H,,8H 42B CM H (4)C18”33 18 33 (5)C18H3□ Cl8H37H ゛(6)C2oH4、C2oH4、H CHH。
(7) Cl8H331429 (8) Cl8H33C3H1、H CH (9) C16H33C14H28511CHC12H
25 (10)C12H251225 (11) C16H33C2H5C2H3(12) C
16H33C3H7C3H7どのようなジないしトリア
ルキルアミンからなるトップコート膜は、単分子層以上
、0.3終m以下、より好ましくは0.005〜0.I
IL鵬の厚さとされる。
そして、このようなトップコート膜は、蒸着ない・しス
パッタリングによって形成することが好ま:しい。
蒸:着ないしスパッタリングによら1ず、塗布等による
ときには、膜厚をうずくして、しかも均一な□厚さで設
層するドとがむずかし□い。
なお、蒸着ないしスパッタリング□の際の条件は、公知
の条件に従えばよい、′ 用いる基体には特に制限はないが□、特に可とう性の基
体、特にポリエステル、ポリイミド。
ポリプロピレン等の樹脂製のもので□あること一一好ま
しい。
また、その厚さは、種々のもので□あってよいが、特に
5〜201L■であることが1好ましい。
そして、その磁性層形成面の裏面□の表面あらさ高さの
RMS値は、0.05p自以上であることが好ましい。
これにより、電磁変換特性が向上する。
■ 発明の具体的作用効果 本発明の磁気記録媒体は、ビデオ用、オーディオ用等の
磁気記録媒体として有用である。
本発明によれば、炭素原子数10〜22のアルキル基を
有するジないしトリアルキルアミンからなるトップコー
ト膜を用いるので、走行摩擦が臨界的に減少する。
また、その膜強度、潤滑性、ヘッドタッチ性もきわめて
高い。
このため、走行耐久性、メチル耐久性が臨界的に向上し
、ドロップアウトが臨界的に減少する。
■ 発明の具体的実施例 以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。
実施例 Co/N iの重量比4/lのCoNi合金、およびC
o / N i / Cr 17)重量比が75/20
15のCoNiCr合金を用い、1107L厚のポリエ
チレンテレフタレート(PET)フィルム上に、それぞ
れ斜め蒸着法により、磁性層を0.2pm厚にて形成し
、サンプルA、およびB、を作製した。
斜め蒸着における入射角は45°とし、蒸着雰囲気は、
P =2XlO−2Pa、P =IAr 02 X 10−2P aとした。
得られた磁性層は、ともに対応する合金の組成をもち、
ともにO/ (Co+N1)=0.2(原子比)であり
、基体主面法線に対し、約400傾斜した、短径0 、
01 JLmの厚さ方向全域に亘って成長した柱状結晶
粒子の集合体であった。
また、イオンミリングを行いながらオージェ分光分析を
行ったところ、COは表面近くで少なく、また0は化学
シフトしており、しかも表面近くに多いプロファイルを
もち、0が柱状粒子の表面に金属と結合した状態で存在
している・ことが確認された。
次いで、上記AOおよびBOの磁性層上に、各種有機化
合物を蒸発源として、P A r=4 X 10−3 
P aの雰囲気にて、0 、 Ol us厚の表1に示
されるトップコート膜を形成して、サンプルA1〜Al
j およびB1〜BYを得た。
これら各サンプルにつき、以下の測定を行った。
l) 走行摩擦 サンプルの動摩擦係数pを、40℃、相対湿度80%で
、初期と50パス後に測定した。
2) 走行耐久性 各サンプルに対し、市販のVTR装置を用いて50バス
試験を行い、4 MHzの信号の減少量(dB)を測定
した。
3) スチル耐久性 市販のVTR装置で、スチルモードにて画像が消失する
に至る時間(分)を測定した。
4) ドロップアウト 1分間あたりの16dB以上の出力低下(個/分)を測
定した。
これらの結果を表1に示す。
表1に示される結果から、本発明による臨界的効果があ
きらかである。
出願人 ティーディーケイ株式会社 代理人 弁理士 石 井 陽 −

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1) 基体上に連続薄III型の磁性層を有し、 ゛
    この磁性層上に、下記式で示される化合物からなる膜を
    有することを特徴とする磁気記録媒体。 式 R2 R1−N−R3 (上記式において、 R1は、炭素原子数10〜22のアルキル基であり、 R2は、アルキル基であり、 R3は、水素またはアルキル基である。)(2) RI
    およびR2,またはR1,R2およびR3のアルキル基
    の炭素原子数の総和が、44以下である特許請求の範囲
    第1項に記載の磁気記録媒体。 (3) R1のアルキル基が、直鎖である特許請求の範
    囲第1項または第2項に記載の磁気記録媒体。 (4) 、R’2.またはR2およびR3が、直鎖のア
    ルキル基である特許請求の範囲第1項ないし第3項のい
    ずれかに記載の磁気記録媒体。 (5) 膜が、蒸着ないしスパッタリング膜である特許
    請求の範囲第1項ないし第4項のいずれかに記載の磁気
    記録媒体。 (6)l!Jの厚さが、0.3用m以下である特許請求
    の範囲第1項ないし第5項のいずれかに記載の磁気記録
    媒体。 (7) 磁性層が、Co、またはCOならびにNi 、
    Crおよび0のうちの1〜3種を含む特許請求の範囲第
    1項ない゛し第6項のいずれかに記載の磁気記録媒体。 (8) 磁性層が、Niを含み、Co / N iの重
    量比が1.5以上である特許請求の範囲第7項に記載の
    磁気記録媒体。 (9) 磁性層が、Crを含み、Cr/(C。 またはCo + N t、)の重量比が0.001〜0
    .1である特許請求の範囲第7項または第8項に記載の
    磁気記録媒体。 (lO) 磁性層が、0を含み、O/(CoまたはCo
    +Ni)の原子比が0.45以下である特許請求の範囲
    第7項ないし第9項のいずれかに記載の磁気記録媒体。 (11) 磁性層が、基体法線に対して傾斜した柱状結
    晶構造粒子の集合体である特許請求の範囲第1項ないし
    第1θ項のいずれかに記載の磁気記録媒体。 (12) 磁性層の厚さが、0.05〜0.57L+i
    である特許請求の範囲第1項ないし第11項のいずれか
    に記載の磁気記録媒体。
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