JPS6087433A - 磁気記録媒体 - Google Patents

磁気記録媒体

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JPS6087433A
JPS6087433A JP19672283A JP19672283A JPS6087433A JP S6087433 A JPS6087433 A JP S6087433A JP 19672283 A JP19672283 A JP 19672283A JP 19672283 A JP19672283 A JP 19672283A JP S6087433 A JPS6087433 A JP S6087433A
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高杉 康史
Osamu Kawamoto
修 河本
Hiroshi Sugihara
洋 杉原
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ■ 発明の背景 技術分野 本発明は、磁気記録媒体、特に連続薄膜型の磁性層を有
する磁気記録媒体のトップコート膜の改良に関する。
先行技術とその問題点 ビデオ用、オーディオ用等の磁気記録媒体として、テー
プ化して巻回したときのコンパクト性から、連続薄膜型
の磁性層を有するものの開発が活発に行われている。
このような連続薄膜型の媒体の磁性層としては、特性上
、基体法線に対し所定の傾斜角にて蒸着を行う、いわゆ
る斜め蒸着法によって形成したC01Co−Ni、Go
−0,Co−Ni−0系等の蒸着膜が最も好適である。
しかし、このような磁性層は、走行庁擦が大きく、膜強
度が低く、ヘッドタッチも悪く、特に、走行耐久性が低
く、くりかえし走行によって出力が低下してしまう。
また、ビデオ用の媒体では、スチルと称される静止画像
モードでの耐久時間が小さい。
さらに、いわゆるドロップアウトも多い。
このような実状から、従来、斜め蒸着膜磁性層のトップ
コート膜が種々提案されている。
例えば、直鎖の飽和脂肪酸ないしそのエステルの蒸着膜
や塗布膜(特開昭53−88704号公報、同55−9
3533号公報等)等である。
しかし、従来のトップコート膜はいずれも、上記走行耐
久性、スチル特性、ドロップアウト等の点で、未だ不十
分な結果しかえられていない。
II 発明の目的 本発明は、このような実状に鑑みなされたものであって
、その主たる目的は、走行摩擦が小さく、膜強度、潤滑
性、ヘッドタッチ性にすぐれ、走行耐久性、スチル耐久
性が高く、ドロップアウトの発生の少ない、新規なトッ
プコート膜を有する連続薄膜型の磁性層をもつ磁気記録
媒体を提供することにある。
このような目的は、下記の本発明によって達成される。
すなわち本発明は、 基体上に連続薄膜型や磁性層を、有し、この磁性層上に
、下記式で示される化合物からなる膜を有することを特
徴とする磁気記録媒体である。
式 (上記式において、 Rは、炭素原子数10〜22の置換または非置換のアル
キル基を表わすが、このアルキル基は飽和であっても、
内部に不飽和二重結合を有するものであってもよい。
また、YlおよびYlは、Wいに同一であっても異なっ
ていてもよく、それぞれ、水素原子、カチオンまたは置
換もしくは非置換のアルキル基もしくはアリール基を表
わすが、このアルキル基は、飽和であっても、内部に不
飽和二重結合を有するものであってもよく、さらに、Y
lおよびYlがともにカチオンであるときには、Ylと
Ylが一緒になって2仙Iのカチオンとなってもよい。
ただし、Y、およびYlが、それぞれ、水素原子または
カチオンであるときには、Rが非置換の直鎖の飽和アル
キル基となることはない。
また、Ylおよび/またはYlがアルキル基であるとき
には、RならびにYlおよび/またはYlが、すべて非
置換の直鎖の飽和アルキル基となることはない。) なお、本発明者らは、上記式において、Rが直鎖の飽和
アルキル基である化合物をトップコート膜に用いる旨を
、この出願の先願として提案している(特願昭57−2
34818号)が、上記式で示される化合物は、この先
の提案のものと同等の効果をもつものである。
■ 発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。
本発明の磁気記録媒体は、基体上に磁性層を有する。
磁性層は、連続薄膜型の種々のものであってよく、通常
、コバルト、ニッケルあるいはこれらを主成分とする。
この場合、本発明においては、Coを必須成分とし、C
o、Go+Ni 、Co+O,またはCo+Ni+Oか
らなることが好ましい。
すなわち、CO単独からなってもよく、C0とNiとか
らなってもよい。
Co+Niである場合、Co / N iの重量比は、
1.5以上であることが好ましい。
さらに、COまたはCo+Niに加え、0が含まれてい
てもよい、 0が含まれたときには、電磁変換特性や走
行耐久性の点で、より好ましい結果をうる。
このような場合、O/Co(Niが含まれない場合)あ
るいは0/(Co+Nt)の原子比は、0945以下、
特に0.15〜0.4であることが好ましい。
一方、磁性層中には、Co、Co+Ni。
CO+0あるいはc o + N t + o ニ加え
、Crが含有されると、より一層好ましい結果を得る。
これは、電磁変換特性が向上し、−出力およびS/N比
が向上し、さらに膜強度が向上するからである。
このような場合、Cr / Co (N iが含まれな
い場合)あるいはCr/(Co+Ni)の重量比は、0
.001−0.1であることが好ましい。
この場合、Cr / CoあるいはCr/(C。
+N i)の重量比は、0.005〜0.05であると
、より一層好ましい結果を得る。
なお、このような磁性層中には、さらに、他の微量成分
、特に遷移金属元素、例えば、F e 、 M n 、
 V 、 Z r 、 N b 、 T a 、 M 
o 。
W 、 T i 、 Cu 、 Z n等が含まれてい
てもよい。
このような磁性層は、基体主面の法線に対して傾斜した
柱状結晶構造の粒子の集合体であることが好ましい。 
これにより、電磁変換特性が向上する。
このような場合、柱状結晶構造の粒子は、基体の主面の
法線に対して、20〜60°の範囲で傾斜していること
が好ましい。
また、各柱状結晶粒子は、通常、磁性層の厚さ方向全域
に亘る長さをもち、その短径は一般に、50〜500人
程度とされる。
そして、COと必要に応じ添加されるNi。
Cr等は、この柱状結晶自体を構成するものであり、0
が添加されたとき、0は通常、各柱状結晶粒子の表面に
、主として酸化物の形で存在している。
このような磁性層は、通常、0.05〜0゜571mの
厚さに形成される。
この場合、磁性層は、基体上に直接設けられていてもよ
く、あるいは基体上に下地層を介して設けられていても
よい。
また、磁性層は通常、単一の層として形成されるが、場
合によっては中間層を介して、複数の層を積層して形成
されていてもよい。
このような磁性層は、通常、斜め蒸着法によって形成さ
れる。
用いる斜め蒸着法としては、公知の斜め蒸着法を用いれ
ばよく、基体法線に対する入射角の最小値は、30’以
上とすることが好ましい。
なお、蒸着条件および後処理法等は、公知の条件および
方法に従えばよい。 この場合、有効な後処理法として
は、磁性層中へのO導入のための公知の各種処理法等が
ある。
このような磁性層上には、上記式にて示されるリン酸エ
ステルからなる股が形成される。
上記式において、Rは、炭素原子数lO〜22のアルキ
ル基である。
Rの炭素原子数が10未満となると、臨界的に走行摩擦
が大きくなってしまい、しかも走行耐久性、スチル耐久
性が臨界的に減少し、ドロップアウトも臨界的に増大し
てしまう。
また、Hの炭素原子数が22をこえると、臨界的にドロ
ップアウトが増大してしまう。
このような炭素原子数のRは、飽和体であっても、内部
に不飽和二重結合をもつものであってもよい。
不飽和二重結合をもつ場合、二重結合の数については特
に制限はないが、特に1〜4であることが好ましい。
また1M!和体あるいは不飽和体である場合とも、Rは
鎖状であるが、場合によっては、5員ないし6員の環(
通常、飽和環)状部を、鎖状部中ないし鎖状部端部に有
していてもよい。
そして、これらは直鎖であっても、また分岐を有するも
のであってもよい。
分岐を有する場合、分岐は、Hの結合手と逆側の端部側
に存在し、特に末端に、例えばジメチル、ジエチル、ジ
プロピル等が結合した直鎖アルキルであることが好まし
い。
このようなRは、非置換体であっても、また置換体であ
ってもよい。
置換体である場合、置換基の数には特に制限はない。
特に好適な置換基としては、塩素、臭素。
フッ素等のハロゲン、アルコキシ基、アリーロキシ基(
フェノキシ基等)、アルキルカルボニル基、アリールカ
ルボニル基、アルキルカルボらルオキシ基、アリールカ
ルボニルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリーロ
キシカルボニル基、アシルアミノ基、カルバモイル基、
スルホンアミド基、スルファモイル基など、あるいはこ
れらの1種以上が連結したものなどがある。
そして、このような置換体では、置換基のアルキル部な
いし場合によってはアリール部の炭素原子数を含めた総
炭素原子数が、上記の範囲でなければならない。
他方、YlおよびY2は、互いに同一であっても異なる
ものであってもよく、それぞれ、水素原子、カチオンま
たは置換もしくは非置換のアルキル基もしくはアリール
基を表わす。
YlおよびY2が、水素原子またはカチオンであるとき
には、リン酸モノエステルとなる。
この場合、カチオンは、通常1価のカチオンであるが、
Y】およびY2がともにカチオンであるときには、Yl
とY2が一緒になって2価の1つのカチオンとなっても
よい。
この場合、1価のカチオンとしては、 L:” 、Na” 、に+のアルカリ金属イオン、 N )(4” + オニウムイオンがある。
オニウムイオンとしては、 それぞれ、例えばシアノ基、アルキル基、アリール基、
アルコキシ基、アリーロキシ基、アルコキシカルボニル
基、アリーロキシカルボニル基、アシル基、アシルアミ
ノ基、カル/曳モイル基、アルキルスルホニルアミノ基
、スルファモイル基、スルホニル基などで置換されるこ
とのある メチル基、エチル基、n−ブチル基、i−アミル基、n
−ドデシル、n−オクタデシル基等の各種アルキル基、 または、フェニル基、トリル基、ナフチル基等のアリー
ル基を有する 1級〜4級のアンモニウムイオン、1級〜4級のホスホ
ニウムイオンまたζ±1級〜3級のスルホニウムイオン
がある。
また、ピリジン、イミダゾール、ピロール、?−ピロリ
ン、ピロリジン、ピペリジン、ピラゾール、ピラゾリン
、イミダゾール等の、5または6員環を有する N−水素、N−アルキルまたはN、N−ジアルキルの環
状の2級〜4級アンモニウムイオンであってもよい。
一方、2価のカチオンとしては、 Mg”、Ca4+、Sn4+、Ba’+等の他、ビスア
ンモニウムイオン、ビスホスホニウムイオンであっても
よい。
また、B−(N”R”3)2で表わされる2価のアンモ
ニウムカチオンであってもよい。
この場合、Bは、炭化水素残基、特にメチレン、エチレ
ン等のアルキレンを表わし、R′は、置換または非置換
の水素、アルキル基またはアリール基を表わす。
なお、1価のカチオン2つからなる場合、2つのカチオ
ンは、同一でも異なっていてもよい。
さらに、上記式で示される化合物は、水素やカチオンを
有するリン醸モノエステルの他、ジエステルまたはトリ
エステルであってもよい。
ジないしトリエステルであるときには、Ylおよび/ま
たはY2は、置換または非置換のアルキル基またはアリ
ール基である。
ジないしトリエステルであるとき、R,Ylおよび/ま
たはY2の総炭素原子数は44以下であることが好まし
い。 44をこえるとドロップアウトが多くなるからで
ある。 なお、Ylおよび/またはY2がカチオンであ
るとき、カチオン中の炭素原子数は算入しない。
Ylおよび/またはY2のアルキル基としては、飽和で
あっても不飽和であってもよく、また直鎖であっても分
岐を含むものてあってもよく、さらに環状部を有してい
てもよい。
また、アリール基としてはフェニル基が好ましい。
そして、これらは、非置換体であっても、前記Rと同様
の基、さらにはアルキル基やアリール基等で置換されて
いてもよい。
なお、本発明においては、YlおよびY2が水素原子ま
たはカチオンであるモノエステルであるときには、Rが
非置換の直鎖の飽和アルキル基であることはない。
また、Ylおよび/またはY2がアルキル基であるリン
酸ジアルキルエステルまたはリン酸トリアルキルエステ
ルであるときには、RとYlまたはY2.あるいはRと
Yl とY2力く、すべて非置換の直鎖のアルキル基で
あることはない。
これは、先m’(特願昭57−234816号等)との
重複範囲を除外するためである。
これら各化合物は、公知の方法に従い合成して用いても
よく、また市販のものを用いてもよい。
次に、上記式で示される化合物の具体例を挙げる。
V 工 。 工 工 工 工 工 ヘ エ 〜 ?J 寸 へ の V ヱ 工 。 工 平 工 ′:c 6 e、I 工 61、。
υ υ OQ 0 0 υ 工 。
0: 工 工 C)(J(J II II 11 工 国 工 0 0 0 − 一 へ C’) 寸 −ロ ト の ■2 ε 22 
!! β メ タ 2 :!: の へ −8−− 工 。 。 。
工 υ 工 匡 0: 工 工 工 (J(J Q up υ II II II II II II 工 工 0: エ エ エ 22 ?! ε 2 タ 夕 222 018 工 の の l、、 い ヘ リ 、 工 大 工 工 0 工 C)L)(J d c、IW vCJ ” ”’ ” E OU 伝 Q 国 伝 伝 −L 工 0: 工 。 。
−u5 1N の 、 工 大 工 工 0 平 C)(JCJ 。
(vl w” N ” ” ” 工 υ Q 伝 Q 工 転 転 ト ト エタ i 2 
β 22 メ ε タ ヌこれら上記式で示される化合
物は、公知の方法に従い合成して使用したり、あるいは
市販のものを用いればよい。 この場合、化合物は、複
数種併用して用いてもよい。
このようなリン酸エステルからなるトップコート膜は、
単分子層以上0.3μm以下、より好ましくは0.00
5〜0 、1 gmの厚さとされる。
そして、このようなトップコート膜は、蒸着ないしスパ
ッタリングによって形成することが好ましい。
蒸着ないしスパッタリングによらず、塗布等によるとき
には、膜厚をうすくして、しかも均一な厚さで設層する
ことがむずかしい。
なお、蒸着ないしスパッタリングの際の条件は、公知の
条件に従えばよい。
用いる基体には特に制限はないが、特に可とう性の基体
、特にポリエステル、ポリイミド。
ポリプロピレン等の樹脂製のものであることが好ましい
また、その厚さは、種々のものであってよいが、特に5
〜20 gtsであることが好ましい。
そして、その磁性層形成面の裏面の表面あらさ高さのR
MS値は、0.05JLm以上であることが好ましい。
これにより、電磁変換特性が向上する。
■ 発明の具体的作用効果 本発明の磁気記録媒体は、ビデオ用、オーディオ用等の
磁気記録媒体として有用である。
本発明によれば、炭素原子数io〜2zのアルキル基を
有するリン酸エステルからなるトップコート膜を用いる
ので、走行摩擦が臨界的に減少する。
また、その膜強度、潤滑性、へ・ンドタッチ性もきわめ
て高い。
このため、走行耐久性、スチル耐久性が臨界的に向上し
、ドロップアウトが臨界的に減少する。
そして、これらの効果は、アルキル基として直鎖のもの
を用いたときと同等である。
■ 発明の具体的実施例 以下に本発明の具体的実施例について詳細に説明する。
実施例 Co / N i (7)重量比4 / 1 (7) 
CON i合金、およびCo / N i / Cr 
c7)重量比75/2015cr+CoNiCr合金を
用い、10pm厚のポリエチレンテレフタレート(PE
T)フィルム上に、それぞれ、斜め蒸着法により、磁性
層を0.2JLm厚にて形成し、サンプルAOおよびB
Oを作製した。
斜め蒸着における入射角は45°とじ、蒸着雰囲気はP
 −2X I 0−2P a 、 P o 2= I 
Xr 10−2P aとした。
得られた磁性層は、ともに対応する合金の組成をもち、
ともに0/ (Co+N1)−0,2(原子比)であり
、基体主面法線に対し約4O°傾斜した、短径0 、 
OI ILmの厚さ方向全域に亘って成長した柱状結晶
粒子の集合体であった。
また、イオンミリングを行いながらオージェ分光分析を
行ったところ、COは表面近くで少なく、また0は化学
シフトしており、しかも表面近くに多いプロファイルを
もち、0が柱状粒子の表面に金属と結合した状態で存在
していることが確認された。
次いで、上記AOおよびBOの磁性層上に、各種有機化
合物を蒸発源として、FA、=4X10−2 P aの
雰囲気にて、0 、01 pm厚の表1に示されるトッ
プコート膜を形成して、サンプルA1〜A5およびB1
−B2を得た。
なお1表1における本発明のサンプルのトップコート膜
組成は、前記した化合物の具体例の陽、で示される。
これら各サンプルにつき、以下の測定を行った。
1) 走行摩擦 サンプルの動摩擦係数pを、40°C1相対湿度80%
で、初期と50バス後に測定した。
2) 走行耐久性 各サンプルに対し、市販のVTR装置を用いて50パス
試験を行い、4 MHzの信号の減少量(dB)を測定
した。
3) スチル耐久性 市販のVTR装置で、スチルモードにて画像が消失する
に至る時間(分)を測定した。
4) ドロップアウト 1分間あたりの16dB以上の出力低下(個/分)を測
定した。
これらの結果を表1に示す。
表1に示される結果から、本発明による効果があきらか
である。
出願人 ティーディーケイ株式会社 代理人 弁理士 石 井 陽 −

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. (1) 基体上に連続薄膜型の磁性層を有し、この磁性
    層上に、下記式で示される化合物からなる膜を有するこ
    とを特徴とする磁気記録媒体。 (上記式において、 Rは、炭素原子数10〜22の置換または非置換のアル
    キル基を表わすが、こやアルキル基は飽和であっても、
    内部に不飽和二重結合を有するものであってもよい。 また、YlおよびY2は、互いに同一であっても異なっ
    ていてもよく、それぞれ、水素原子、カチオンまたは置
    換もしくは非置換のアルキル基もしくはアリール基を表
    わすが、このアルキル基は、飽和でおっても、内部に不
    飽和二重結合を有するものであってもよく、さらに、Y
    lおよびY2がともにカチオンであるときには、Ylと
    Y2が一緒になって2価のカチオンとなってもよい。 ただし、YlおよびY2が、それぞれ、水素原子または
    カチオンであるときには、Rが非置換の直鎖の飽和アル
    キル基となることはない。 また、Ylおよび/またはY2がアルキル基であるとき
    には、RならびにYlおよび/またはY2が、すべて非
    置換の直鎖の飽和アルキル基となることはない。)
  2. (2) 膜が、蒸着ないしスパッタリング膜である特許
    請求の範囲第1項に記載の磁気記録媒体。
  3. (3)Ilffiの厚さが、0 、3 JLm以下であ
    る特許請求の範囲第1項または第2Xf4に記載の磁気
    記録媒体。
  4. (4) 磁性層が、Co、またはCOならびにNi 、
    Crおよび0のうちの1〜3種を含む特許請求の範囲第
    1項ないし第3項のいずれかに記載の磁気記録媒体。
  5. (5) 磁性層が、Niを含み、Co / N iの重
    量比が1.5以上である特許請求の範囲第4項に記載の
    磁気記録媒体。
  6. (6) 磁性層が、Crを含み、Cr/(C。 またはCo +N i)の重量比が0.001〜0.1
    である特許請求の範囲第4項または第5項に記載の磁気
    記録媒体。
  7. (7) 磁性層が、0を含み、O/(CoまたはCo+
    Ni)の原子比が0.45以下である特許請求の範囲第
    4項ないし第6項のいずれかに記載の磁気記録媒体。
  8. (8) 磁性層が、基体法線に対して傾斜した柱状結晶
    構造粒子の集合体である特許請求の範囲第1項ないし第
    7項のいずれかに記載の磁気記録媒体。
  9. (9) 磁性層の厚さが、0.05〜0.51Lmであ
    る特許請求の範囲第1項ないし第8項のいずれかに記載
    の磁気記録媒体。
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JPS6080131A (ja) * 1983-10-07 1985-05-08 Tdk Corp 磁気記録媒体

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