JPS6081817A - アルミニウム電解コンデンサ用陽極箔の製造方法 - Google Patents
アルミニウム電解コンデンサ用陽極箔の製造方法Info
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- JPS6081817A JPS6081817A JP58191163A JP19116383A JPS6081817A JP S6081817 A JPS6081817 A JP S6081817A JP 58191163 A JP58191163 A JP 58191163A JP 19116383 A JP19116383 A JP 19116383A JP S6081817 A JPS6081817 A JP S6081817A
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- aluminum
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- aluminum electrolytic
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はアルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方
法に関するものである。
法に関するものである。
従来例の構成とその問題点
従来、この種のアルミニウム電解コンデンサは、塩素イ
オンを含む電解液中で電解エツチングを行ない、実効表
面積を拡大したアルミニウム箔と絶縁紙とを巻回し、駆
動用電解液を含浸して構成している。
オンを含む電解液中で電解エツチングを行ない、実効表
面積を拡大したアルミニウム箔と絶縁紙とを巻回し、駆
動用電解液を含浸して構成している。
電解エツチングによる電極箔の表面積拡大作用は多数の
要因、例えばエツチング電流波形、電流密度、エツチン
グ液の種類、濃度、温度、そして添加剤の種類および濃
度、さらにエツチング前処理、中間処理、後処理、アル
ミニウム生箔の種類等により影響を受けることが知られ
ている。
要因、例えばエツチング電流波形、電流密度、エツチン
グ液の種類、濃度、温度、そして添加剤の種類および濃
度、さらにエツチング前処理、中間処理、後処理、アル
ミニウム生箔の種類等により影響を受けることが知られ
ている。
その中で電流波形に関する検討も従来から行なわれてお
り、通常直流、交流、パルス電流が工業３ ページ 的に使用されている。
り、通常直流、交流、パルス電流が工業３ ページ 的に使用されている。
パルス電流波形を利用するエツチング法も種々検討され
ており、塩素イオンを含む電解液中でパルス電流波形を
用いる方法としては、英国特許１゜１６９．２３４、特
開昭５７−１３２３２２号公報等が知られている。
ており、塩素イオンを含む電解液中でパルス電流波形を
用いる方法としては、英国特許１゜１６９．２３４、特
開昭５７−１３２３２２号公報等が知られている。
また、塩素イオンと添加剤としてクロム酸イオンを含む
電解液中でパルス電流波形を用いてエツチングを行なう
方法としては、特公昭５５−３６２８０号公報が知られ
ている。
電解液中でパルス電流波形を用いてエツチングを行なう
方法としては、特公昭５５−３６２８０号公報が知られ
ている。
このようなりロム酸イオンを添加する方法では、エツチ
ング廃液が人体に有害である上、「水質汚濁に係る環境
基準」により廃液中の濃度が０．０６ｐｐｍ 以下と規
制され、還元−水酸化物沈殿法やイオン交換法による廃
液の無公害化処理に、多額の費用と時間がかかり、しか
も危険を伴う作業であり、コストアップになるという欠
点があった。
ング廃液が人体に有害である上、「水質汚濁に係る環境
基準」により廃液中の濃度が０．０６ｐｐｍ 以下と規
制され、還元−水酸化物沈殿法やイオン交換法による廃
液の無公害化処理に、多額の費用と時間がかかり、しか
も危険を伴う作業であり、コストアップになるという欠
点があった。
また、この方法では、酸化皮膜生成作用の強いクロム酸
イオンを使用しているため、最初に生じた腐食孔以外の
部分は皮膜で保護され、新たな腐食孔を作りにくく最初
に生じた腐食孔のみがアルミニウム箔内部に深く進行す
る。その結果、腐食孔の深さが１００μ〜１５０μにな
り厚み１６０μ以下のアルミニウム箔については、アル
ミニウム箔の耐折強度が弱くなり工業化に向かなかった
。
イオンを使用しているため、最初に生じた腐食孔以外の
部分は皮膜で保護され、新たな腐食孔を作りにくく最初
に生じた腐食孔のみがアルミニウム箔内部に深く進行す
る。その結果、腐食孔の深さが１００μ〜１５０μにな
り厚み１６０μ以下のアルミニウム箔については、アル
ミニウム箔の耐折強度が弱くなり工業化に向かなかった
。
さらに、塩素イオンを含む電解液中でパルス電流を用い
る方法は、断電時に、水とアルミニウムとの反応による
酸化皮膜が形成されるだけであり、エツチング終了後表
面に形成される酸化皮膜量が、○、ｏ５ｙｑ／ｃａ以下
と低いため、十分な波面倍率と耐折強度が得られないと
いう欠点があった。
る方法は、断電時に、水とアルミニウムとの反応による
酸化皮膜が形成されるだけであり、エツチング終了後表
面に形成される酸化皮膜量が、○、ｏ５ｙｑ／ｃａ以下
と低いため、十分な波面倍率と耐折強度が得られないと
いう欠点があった。
発明の目的
本発明はこのような従来の欠点を除去するものであり、
パルス電流波形での電解エツチングの際の表面酸化皮膜
量を増加させることにより、高倍率、高耐折強度を有す
るアルミニウム電解コンデンサ用電極箔を得ることを目
的とするものである。
パルス電流波形での電解エツチングの際の表面酸化皮膜
量を増加させることにより、高倍率、高耐折強度を有す
るアルミニウム電解コンデンサ用電極箔を得ることを目
的とするものである。
発明の構成
この目的を達成するために本発明は、塩素イオンを含む
水溶液に酸化皮膜形成作用のある陰イ第５ ／゛−ジ ン、例えば硫酸イオン、蓚酸イオン、酒石酸イオン、ア
ジピン酸イオン、ホウ酸イオンのうちの少々くとも１種
を添加し、アルミニウム箔と対極との間に、アルミニウ
ム箔を陽極としてパルス電流を印加し、表面に酸化皮膜
を形成しながら、アルミニウム箔を電解エツチングした
アルミニウム箔を陽極としたものである。またエツチン
グ終了後のアルミニウム箔表面の酸化皮膜重量を０．３
ｑ／ｃａ〜０．６”ｆ ／ ｃｒ；Ｉ にすることによ
り高倍率・高耐折強度の電極箔を得るようにしたもので
ある。
水溶液に酸化皮膜形成作用のある陰イ第５ ／゛−ジ ン、例えば硫酸イオン、蓚酸イオン、酒石酸イオン、ア
ジピン酸イオン、ホウ酸イオンのうちの少々くとも１種
を添加し、アルミニウム箔と対極との間に、アルミニウ
ム箔を陽極としてパルス電流を印加し、表面に酸化皮膜
を形成しながら、アルミニウム箔を電解エツチングした
アルミニウム箔を陽極としたものである。またエツチン
グ終了後のアルミニウム箔表面の酸化皮膜重量を０．３
ｑ／ｃａ〜０．６”ｆ ／ ｃｒ；Ｉ にすることによ
り高倍率・高耐折強度の電極箔を得るようにしたもので
ある。
この構成によると、エツチングが進行して腐食孔が深く
進行し、細くな−）ても酸化皮膜で表面がおおわれてい
るため、腐食孔がくずれにくく、深い腐食孔が得られ、
表面積拡大に好影響をもたらすこととなる。
進行し、細くな−）ても酸化皮膜で表面がおおわれてい
るため、腐食孔がくずれにくく、深い腐食孔が得られ、
表面積拡大に好影響をもたらすこととなる。
皮膜量が増加し、０．６’ｌｌ／ｃａ１以上になると、
酸化皮膜がつきすぎ、表面の活性度が減少するため、腐
食ピットの発生点が減少し、表面積が減少する。
酸化皮膜がつきすぎ、表面の活性度が減少するため、腐
食ピットの発生点が減少し、表面積が減少する。
直流電流を用いるエツチング方法であると、表面の腐食
開始点に電流が集中し、その場所での溶解６ページ がエツチング終了時まで続くため、腐食孔が集中化する
。その結果大きな腐食孔が生じ、耐折強度が弱くなる。
開始点に電流が集中し、その場所での溶解６ページ がエツチング終了時まで続くため、腐食孔が集中化する
。その結果大きな腐食孔が生じ、耐折強度が弱くなる。
ところが、パルス電流を用いると、断電の次の通電時に
次々に新しい腐食開始点が作られるために腐食孔が分散
し、小さい腐食孔が多数生じるため強い耐折強度が得ら
れるのである。
次々に新しい腐食開始点が作られるために腐食孔が分散
し、小さい腐食孔が多数生じるため強い耐折強度が得ら
れるのである。
パルス電流は通電と断電との繰り返しであり、断電時に
は、電解液中の塩素イオンの攻撃を受けないので、断電
時にアルミニウム箔表面に均一に皮膜を形成することが
できるのである。
は、電解液中の塩素イオンの攻撃を受けないので、断電
時にアルミニウム箔表面に均一に皮膜を形成することが
できるのである。
実施例の説明
次に、具体的な実施例について説明する。
添加剤濃度と表面皮膜量との関係についての検討結果を
第１図に示す。
第１図に示す。
第１図から明らかなように、皮膜生成性の添加剤濃度が
増加するにつれて、表面皮膜量も増加することがわかる
。
増加するにつれて、表面皮膜量も増加することがわかる
。
また、表面酸化皮膜量と波面倍率、耐折強度との関係に
ついての検討結果を第２図および第３図に示す。
ついての検討結果を第２図および第３図に示す。
７ ・−−・
この第２図から明らかなように、皮膜量が増加するに従
って波面倍率・耐折強度共増加することがわかる。
って波面倍率・耐折強度共増加することがわかる。
また、皮膜量が増加しすぎると、波面倍率が減少するの
は皮膜がつきすぎるために、腐食ビットの発生点が減少
する理由によると考えられる。
は皮膜がつきすぎるために、腐食ビットの発生点が減少
する理由によると考えられる。
なお、波面倍率とは５０Ｖ化成時のエツチング後の静電
容量とエツチング前との静電容量の比である。
容量とエツチング前との静電容量の比である。
また、耐折強度とは幅１Ｃｒｎの試料が１００９の引張
り負荷の下でＯ，ｅＲＭＲ，９Ｑ０の曲げに何回耐え得
るかを示すものである。
り負荷の下でＯ，ｅＲＭＲ，９Ｑ０の曲げに何回耐え得
るかを示すものである。
この実験は、９９．９９％１００μＨ材を使用し、電解
液としてＭａｉｌ水溶液添加剤としてＮａ２ＳＯ４を使
用し、パルス電流を印加して行彦っだ。
液としてＭａｉｌ水溶液添加剤としてＮａ２ＳＯ４を使
用し、パルス電流を印加して行彦っだ。
発明の効果
以上のように本発明のアルミニウム電解コンデンサ用陽
極箔の製造方法は、パルス電流波形を用いて陽極酸化を
行なうことにより、従来の方法に比べて、高倍率、高耐
折強度の電極箔が得られ、これによりアルミニウム電解
コンデンサのコストダウンを図ることができるという効
果が得られる。
極箔の製造方法は、パルス電流波形を用いて陽極酸化を
行なうことにより、従来の方法に比べて、高倍率、高耐
折強度の電極箔が得られ、これによりアルミニウム電解
コンデンサのコストダウンを図ることができるという効
果が得られる。
Claims (3)
- （１）塩素イオンを含む水溶液に酸化皮膜形成作用のあ
る陰イオンを添加し、アルミニウム箔と対極との間にア
ルミニウム箔を陽極としてパルス電流を印加し、表面に
酸化皮膜を形成しながら、アルミニウム箔を電解エツチ
ングしたアルミニウム箔を陽極としたことを特徴とする
アルミニウム電解コンデンサ用陽極箔の製造方法。 - （２）アルミニウム箔表面の酸化皮膜重量が０．３１１
１／ｃｒＩｌ〜０．６ダ／ｃｒＡであることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載のアルミニウム電解コンデ
ンサ用陽極箔の製造方法。 - （３）酸化皮膜形成作用のある添加剤として、硫酸イオ
ン、蓚酸イオン、酒石酸イオン、アジピン酸イオン、ホ
ウ酸イオンのうちの少なくとも１種を用いることを特徴
とする特許請求の範囲第２ノ・−ジ゛ １項記載のアルミニウム電解コンデンサ用陽極箔の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58191163A JPS6081817A (ja) | 1983-10-13 | 1983-10-13 | アルミニウム電解コンデンサ用陽極箔の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58191163A JPS6081817A (ja) | 1983-10-13 | 1983-10-13 | アルミニウム電解コンデンサ用陽極箔の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6081817A true JPS6081817A (ja) | 1985-05-09 |
| JPS6352449B2 JPS6352449B2 (ja) | 1988-10-19 |
Family
ID=16269945
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58191163A Granted JPS6081817A (ja) | 1983-10-13 | 1983-10-13 | アルミニウム電解コンデンサ用陽極箔の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6081817A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102443973B1 (ko) * | 2017-12-11 | 2022-09-16 | (주)코미코 | 내부식성 및 절연특성이 우수한 양극산화된 알루미늄 또는 알루미늄 합금 부재의 제조방법 및 표면처리된 반도체 장치 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51142442A (en) * | 1975-06-04 | 1976-12-08 | Fujitsu Ltd | Method of producing porous anodic elements of aluminum |
| JPS58186030A (ja) * | 1982-04-24 | 1983-10-29 | Nhk Spring Co Ltd | 加熱冷却試験装置 |
-
1983
- 1983-10-13 JP JP58191163A patent/JPS6081817A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51142442A (en) * | 1975-06-04 | 1976-12-08 | Fujitsu Ltd | Method of producing porous anodic elements of aluminum |
| JPS58186030A (ja) * | 1982-04-24 | 1983-10-29 | Nhk Spring Co Ltd | 加熱冷却試験装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6352449B2 (ja) | 1988-10-19 |
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