JPS6094906A - シリコーン被覆した顔料を含有する爪用エナメル - Google Patents
シリコーン被覆した顔料を含有する爪用エナメルInfo
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- JPS6094906A JPS6094906A JP59206468A JP20646884A JPS6094906A JP S6094906 A JPS6094906 A JP S6094906A JP 59206468 A JP59206468 A JP 59206468A JP 20646884 A JP20646884 A JP 20646884A JP S6094906 A JPS6094906 A JP S6094906A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は重用エナメルに関する。特に本発明は顔料その
他の懸濁物の沈降と泳動(マイグレーション)の実質的
にない重用エナメルに関する。
他の懸濁物の沈降と泳動(マイグレーション)の実質的
にない重用エナメルに関する。
通常の重用エナメル組成物は顔料を懸濁させるゲル剤と
してのモンモリロナイト粘土と真珠光沢性物質を含有し
ている。これらの系の効果を発揮させ完全且つ安定な懸
濁物を得るには2.0%以上のゲル剤の使用が必要とさ
れる。しかし重用エナメル組成物に多量のゲル剤を用い
るとその使用や組成物の流れ特性が劣化する。ゲル剤の
量を約0.5〜1.25%に減少させると、望ましい懸
14%性を維持するために他の添加剤を加えねばならな
い。また重用エナメル組成牧は顔料泳動即ち優先的分離
、フロキュレーション及びフローテーション(これらは
沈降即ちセットリングとは区別されている)を示す。泳
動は重用エナメルの性能には影響しないが、それに伴な
いつじ模様が生じ、商品価値が低下する。
してのモンモリロナイト粘土と真珠光沢性物質を含有し
ている。これらの系の効果を発揮させ完全且つ安定な懸
濁物を得るには2.0%以上のゲル剤の使用が必要とさ
れる。しかし重用エナメル組成物に多量のゲル剤を用い
るとその使用や組成物の流れ特性が劣化する。ゲル剤の
量を約0.5〜1.25%に減少させると、望ましい懸
14%性を維持するために他の添加剤を加えねばならな
い。また重用エナメル組成牧は顔料泳動即ち優先的分離
、フロキュレーション及びフローテーション(これらは
沈降即ちセットリングとは区別されている)を示す。泳
動は重用エナメルの性能には影響しないが、それに伴な
いつじ模様が生じ、商品価値が低下する。
米国特許第4.166.110号は爪からはがれ易いエ
ナメルフィルムとするために有機置換ポリシロキサンを
含有させた重用エナメルを開示している。しかしこの特
許は顔料の添加方法を開示していないし勿に45j料を
ポリシロキサンで被覆することは示唆していない。
ナメルフィルムとするために有機置換ポリシロキサンを
含有させた重用エナメルを開示している。しかしこの特
許は顔料の添加方法を開示していないし勿に45j料を
ポリシロキサンで被覆することは示唆していない。
B、 V、 Ashmea、d等の「The 5ili
cone Treatme−nt of Tifa、n
ia」J、 Oi 1Colj、 Chem、 As5
oc、 。
cone Treatme−nt of Tifa、n
ia」J、 Oi 1Colj、 Chem、 As5
oc、 。
54巻(1971)、403〜424頁には、二酸化チ
タンの表面への種々のシリコーンポリマーの吸着が議論
さね、シリコーン処理した顔料が、未処理顔料よりも通
常の塗料媒体によ(分散することを開示している。この
文献は重用エナメルに用いる溶媒系で被覆顔料がいかに
挙動するかを示唆していない。さらに、撹拌を中断する
と顔料が沈降及び/又は泳動を直ちに行なうことを配慮
した分散の重要性又は顔料を分散させるための撹拌時間
は全く示されていない。事実、ペインl造業者は沈降及
び泳動を起こさないことについての配慮をほとんど又は
全くしていないが、これは需要者がカンを開はペイント
を撹拌しそれを塗布するまで、ペイントが非透明性カン
に入れられていることにも理由がある。逆に、沈降及び
泳動を撹拌なしでさえ起こさ)八\ことが透明容器でそ
れを販売している重用エナメル製造業者には重大な関心
事となっているが、これは需要者が容器内のエナメルの
状態をみて購入することに理由がある。
タンの表面への種々のシリコーンポリマーの吸着が議論
さね、シリコーン処理した顔料が、未処理顔料よりも通
常の塗料媒体によ(分散することを開示している。この
文献は重用エナメルに用いる溶媒系で被覆顔料がいかに
挙動するかを示唆していない。さらに、撹拌を中断する
と顔料が沈降及び/又は泳動を直ちに行なうことを配慮
した分散の重要性又は顔料を分散させるための撹拌時間
は全く示されていない。事実、ペインl造業者は沈降及
び泳動を起こさないことについての配慮をほとんど又は
全くしていないが、これは需要者がカンを開はペイント
を撹拌しそれを塗布するまで、ペイントが非透明性カン
に入れられていることにも理由がある。逆に、沈降及び
泳動を撹拌なしでさえ起こさ)八\ことが透明容器でそ
れを販売している重用エナメル製造業者には重大な関心
事となっているが、これは需要者が容器内のエナメルの
状態をみて購入することに理由がある。
本発明によれば、ポリ(オルカッシロキサン)で被覆さ
れた無機顔料を含有してなる顔料の沈降と泳動が実質的
にない顔料入りつめ用エナメルが提供される。本発明の
改良された重用エナメルは顔料をポリ(オルガノシロキ
サン)で被覆してからこれを重用エナメルの残余の成分
と混合することによって製造される。
れた無機顔料を含有してなる顔料の沈降と泳動が実質的
にない顔料入りつめ用エナメルが提供される。本発明の
改良された重用エナメルは顔料をポリ(オルガノシロキ
サン)で被覆してからこれを重用エナメルの残余の成分
と混合することによって製造される。
前記したように、本発明の重用エナメルは有機置換基を
有するポリシロキサンで被覆された顔料を含有する。
有するポリシロキサンで被覆された顔料を含有する。
ポリシロキサン彼覆は顔料を重用エナメルに調合すると
きに顔料に望ましい性質を付与する。被膜に対し特別の
定義を与えてこれを限定するつもりはないが、本発明に
おける用語「ポリシロキサン」は、100以下又はi、
ooo以下の(Phi−D)反復単位を有する重合釦を
包含し、各鎖の少な(とも1つのSiW子が酸素原子を
介して顔料表面又は被覆顔料表面に結合する。この鎖は
またお互に架橋結合しうる。この鎖中の各81.原子の
残余の官能サイトは水素、メチル、C2−CaQアルキ
ル又はアルケニル、及び/又はフェニル等で占められう
る。そして +S i (CHs ’) (CsHs ) O+、+
Si (C11s ) (B) O÷又は−(S 1(
Ii) (C6H5) O+等の単位と一般的に−8i
(CHs )3でキャップされた単位を有する。
きに顔料に望ましい性質を付与する。被膜に対し特別の
定義を与えてこれを限定するつもりはないが、本発明に
おける用語「ポリシロキサン」は、100以下又はi、
ooo以下の(Phi−D)反復単位を有する重合釦を
包含し、各鎖の少な(とも1つのSiW子が酸素原子を
介して顔料表面又は被覆顔料表面に結合する。この鎖は
またお互に架橋結合しうる。この鎖中の各81.原子の
残余の官能サイトは水素、メチル、C2−CaQアルキ
ル又はアルケニル、及び/又はフェニル等で占められう
る。そして +S i (CHs ’) (CsHs ) O+、+
Si (C11s ) (B) O÷又は−(S 1(
Ii) (C6H5) O+等の単位と一般的に−8i
(CHs )3でキャップされた単位を有する。
C1ark & Daniels社 (その著名な販売
会社はWh i −ttaicer 、 ctarit
& 1)aniet、s X1nc、 )が製造する
種々のポリ(オルガノシロキサン)被覆顔料を用いると
満足のい(色が得られうる。その製品名は商標rHy
d r o p h −obe8jである。又、たとえ
ば未被覆M相を(4)式A+ StL X 21’s
(ここでA、は炭素数30以下のアルキル又はアルケニ
ルであり、X、 、 X、及びXsは独立して、クロロ
、メトキシ又はエトキシである)のシラン、(至)(C
H3)35i()+Si (CHn )20 + n
Si (CHs )t 01h(ここでnは1〜100
又は1000以下、A2はC1〜CSOのアルキルであ
る)、又は(C) (CHs )s S i O+f;
i <CM、 )(BO+ p S i (CHm )
s (ここでpは1〜100又は1,000以下である
)とを反応させることによって被覆顔料をつくることも
できる。反応条件は、X7、X7、X8、A2又は(ハ
)が酸素を介して被覆顔料表面に結合するような条件が
それぞれに応じて選択される。この機構及び好適な反応
条件は化学者にとって容易に決定しうろことである。
会社はWh i −ttaicer 、 ctarit
& 1)aniet、s X1nc、 )が製造する
種々のポリ(オルガノシロキサン)被覆顔料を用いると
満足のい(色が得られうる。その製品名は商標rHy
d r o p h −obe8jである。又、たとえ
ば未被覆M相を(4)式A+ StL X 21’s
(ここでA、は炭素数30以下のアルキル又はアルケニ
ルであり、X、 、 X、及びXsは独立して、クロロ
、メトキシ又はエトキシである)のシラン、(至)(C
H3)35i()+Si (CHn )20 + n
Si (CHs )t 01h(ここでnは1〜100
又は1000以下、A2はC1〜CSOのアルキルであ
る)、又は(C) (CHs )s S i O+f;
i <CM、 )(BO+ p S i (CHm )
s (ここでpは1〜100又は1,000以下である
)とを反応させることによって被覆顔料をつくることも
できる。反応条件は、X7、X7、X8、A2又は(ハ
)が酸素を介して被覆顔料表面に結合するような条件が
それぞれに応じて選択される。この機構及び好適な反応
条件は化学者にとって容易に決定しうろことである。
顔料としては化粧品として受け入れうるいかなる無機又
は有機顔料も用いうる。かかる顔料の例としては、酸化
鉄、チタン化雲母、a化鉄被覆雲母、二酸化チタン(た
とえばルチル、アナターゼ)、グンジョウ、酸化クロム
、水酸化クロム、マンガンバイオレット等がある。好ま
しい顔料は酸化鉄と二酸化チタンである。
は有機顔料も用いうる。かかる顔料の例としては、酸化
鉄、チタン化雲母、a化鉄被覆雲母、二酸化チタン(た
とえばルチル、アナターゼ)、グンジョウ、酸化クロム
、水酸化クロム、マンガンバイオレット等がある。好ま
しい顔料は酸化鉄と二酸化チタンである。
ポリ(オルガノシロキザン)被覆顔料は一般に重用エナ
メル製品の約10重1以下含有される。より好ましくは
約2重量%以下、更に好ましくは約1〜約2重 %含有
される。
メル製品の約10重1以下含有される。より好ましくは
約2重量%以下、更に好ましくは約1〜約2重 %含有
される。
上記した被覆顔料を含有する重用エナメルは、シリコー
ン被覆しない以外は同一の顔料を用いた同一エナメルに
比し沈降と泳動が大巾に減少する。
ン被覆しない以外は同一の顔料を用いた同一エナメルに
比し沈降と泳動が大巾に減少する。
被覆顔料表面に、本発明の重用エナメルは、ニトロセル
ロース、溶媒及び懸涌剤を含む他の周知のベースを含有
する。このベースはまた樹脂や可塑剤も含4うる。
ロース、溶媒及び懸涌剤を含む他の周知のベースを含有
する。このベースはまた樹脂や可塑剤も含4うる。
りr■脂は1fjJ久性、接走性、エナメルのPFきを
向上させるために加えられる。好ましい樹脂の例には、
トルエンスルホンアミドホルムアルデヒド4M()1臥
ポリエステルがある。可≦1″J剤はエナメル破膜の可
撓性向上に鳴動である。好ましい可塑剤の例にはジブチ
ル7タレート、ジオクチルフタレートがある。溶媒はベ
ースの他の成分を溶解しエナメルを爪上にkUMJさせ
、爪から蒸発することができるものである。
向上させるために加えられる。好ましい樹脂の例には、
トルエンスルホンアミドホルムアルデヒド4M()1臥
ポリエステルがある。可≦1″J剤はエナメル破膜の可
撓性向上に鳴動である。好ましい可塑剤の例にはジブチ
ル7タレート、ジオクチルフタレートがある。溶媒はベ
ースの他の成分を溶解しエナメルを爪上にkUMJさせ
、爪から蒸発することができるものである。
好ましい溶媒の例にはトルエン、インプロパツール、酢
酸ブチル、酢畝エチル及びそれらの混合物がある。懸濁
剤はベースに顔料が懸濁するのを助けるものであり、好
ましい例にはモンモリロナイト粘土がある。
酸ブチル、酢畝エチル及びそれらの混合物がある。懸濁
剤はベースに顔料が懸濁するのを助けるものであり、好
ましい例にはモンモリロナイト粘土がある。
本発明に有用ブfベースのより完全なリストは、Ba
l s a、η龜及びS(tg(Lrin著、[cos
metics 、5cience and’l’e c
lLnol ogy J 、第2編(1972)、’+
1’; 5 巻、第29糸、(= ニー ヨークWli
le119ters・cienctt社)のような化学
者に周知の株準源甲にみられる。
l s a、η龜及びS(tg(Lrin著、[cos
metics 、5cience and’l’e c
lLnol ogy J 、第2編(1972)、’+
1’; 5 巻、第29糸、(= ニー ヨークWli
le119ters・cienctt社)のような化学
者に周知の株準源甲にみられる。
被4A’Afi料は爪側エナメル製造業者が用いている
周知の混合技術、たとえにチッピングやローラー混合等
により、他の重用エナメル成分中に容易に分散させうる
。
周知の混合技術、たとえにチッピングやローラー混合等
により、他の重用エナメル成分中に容易に分散させうる
。
本発明の著効は次の比較例に示される。これらの例は例
示のためのものであり、本発明を限定すべきものではな
いO評価のu字は次の意味を有する: 5、最上−顔料の沈降又は激動が視覚上な(・。
示のためのものであり、本発明を限定すべきものではな
いO評価のu字は次の意味を有する: 5、最上−顔料の沈降又は激動が視覚上な(・。
4、良 −ごくわずかな沈降があるが泳動は認められな
い。
い。
3、平均−ある程度の沈降とごくわずかの泳動が認めら
れ2、劣 −沈降と泳動が直ちにあられれる(販売不能
)。
れ2、劣 −沈降と泳動が直ちにあられれる(販売不能
)。
11最劣−沈降と泳動がきわめて顕著(販売不能)。
次表で顔料を「処理」と示したものは顔料がC1ark
Colors 社のポリ(メチル−7・イドロゲン)シ
ロキサンで被覆されていることを示す(製品番号945
4は被覆酸化鉄、9428は被覆二酸化チタン)。被覆
顔料の量は4つのすべての試料中顔料自体と等量を与え
るように選んだ。
Colors 社のポリ(メチル−7・イドロゲン)シ
ロキサンで被覆されていることを示す(製品番号945
4は被覆酸化鉄、9428は被覆二酸化チタン)。被覆
顔料の量は4つのすべての試料中顔料自体と等量を与え
るように選んだ。
すべての邦は重量係である。
例1
重用エナメル(rR<pg PtumJ )の4つの試
料を、表1に示す成分を均一に混合してつくった。製品
を2ケ月間室温又は120°F(約49℃)に留・直後
沈降と泳動を比較した。
料を、表1に示す成分を均一に混合してつくった。製品
を2ケ月間室温又は120°F(約49℃)に留・直後
沈降と泳動を比較した。
表1及び2の評価は、すべての無機顔料をオルガノポリ
シロキサンでW覆した重用エナメルは一部又はすべての
無機顔料を上記のように被覆しなかったエナメルに比し
顕著にすぐれていることを示している。
シロキサンでW覆した重用エナメルは一部又はすべての
無機顔料を上記のように被覆しなかったエナメルに比し
顕著にすぐれていることを示している。
特許出願人 レプロン インコーホレーテッド代、 理
人 弁理士 川 瀬 良 治世 弁理士 斉 屈 武
彦 手続補正書(方式) %式% 1、事件の表示 昭和59年特許願第206468号 2発明の名称 シリコーンl/IF 覆した顔料ケ含有する重用エナメ
ル3、補正ケする者 事件との関係 膓許出願人 名称 レブロン インコーホレーテッド5、補正の対象
、!1.−ソ′ (1)願書゛の特許出願人の桐・1および代理権欠証す
る書面(2)願書に添付の手ギき明細■ 6、補正の内容 (1)別紙のとおり。
人 弁理士 川 瀬 良 治世 弁理士 斉 屈 武
彦 手続補正書(方式) %式% 1、事件の表示 昭和59年特許願第206468号 2発明の名称 シリコーンl/IF 覆した顔料ケ含有する重用エナメ
ル3、補正ケする者 事件との関係 膓許出願人 名称 レブロン インコーホレーテッド5、補正の対象
、!1.−ソ′ (1)願書゛の特許出願人の桐・1および代理権欠証す
る書面(2)願書に添付の手ギき明細■ 6、補正の内容 (1)別紙のとおり。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、ポリ(オルガノシロキサン)からなる被膜を有する
無機顔料を含有してなる顔料の沈降と泳動が実質的にな
い重用エナメル。 2、該被覆無敗顔料を重用エナメルの約10重量−以下
含有する特許請求の範囲第1項記載の重用エナメル。 3、該被覆無機顔料を重用エナメルの約2重量係以下含
有する特許請求の範囲第1項記載の重用エナメル。 4、無機顔料を含有する重用エナメルの製法において、
無機顔料としてポリ(オルガノシロキサン)をMKMし
た無機顔料を用いそれにより無機顔料の沈降と泳動を実
質的に抑制してなる重用エナメルの製造法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US53860183A | 1983-10-03 | 1983-10-03 | |
| US538601 | 1983-10-03 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6094906A true JPS6094906A (ja) | 1985-05-28 |
| JPH0212444B2 JPH0212444B2 (ja) | 1990-03-20 |
Family
ID=24147596
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59206468A Granted JPS6094906A (ja) | 1983-10-03 | 1984-10-03 | シリコーン被覆した顔料を含有する爪用エナメル |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0136704B1 (ja) |
| JP (1) | JPS6094906A (ja) |
| AT (1) | ATE48529T1 (ja) |
| AU (1) | AU571582B2 (ja) |
| CA (1) | CA1248026A (ja) |
| DE (1) | DE3480688D1 (ja) |
| ES (1) | ES8506444A1 (ja) |
| ZA (1) | ZA847766B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61189211A (ja) * | 1985-02-16 | 1986-08-22 | Shiseido Co Ltd | メ−キヤツプ化粧料 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5206011A (en) * | 1989-02-16 | 1993-04-27 | Amalia Inc. | Quick-drying nail enamel compositions |
| CA2990162A1 (en) * | 2015-06-29 | 2017-01-05 | Elc Management Llc | Particles with cross-linked coatings for cosmetic applications |
| AU2016285447A1 (en) * | 2015-06-29 | 2018-01-25 | Elc Management Llc | Method for forming particles with cross-linked coatings for cosmetic applications |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3864294A (en) * | 1972-11-02 | 1975-02-04 | Chesebrough Ponds | Gelled coating compositions and method of making same |
| US4578266A (en) * | 1983-07-29 | 1986-03-25 | Revlon, Inc. | Silicone-based cosmetic products containing pigment |
-
1984
- 1984-10-03 AT AT84111810T patent/ATE48529T1/de not_active IP Right Cessation
- 1984-10-03 JP JP59206468A patent/JPS6094906A/ja active Granted
- 1984-10-03 ZA ZA847766A patent/ZA847766B/xx unknown
- 1984-10-03 DE DE8484111810T patent/DE3480688D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1984-10-03 CA CA000464698A patent/CA1248026A/en not_active Expired
- 1984-10-03 AU AU33806/84A patent/AU571582B2/en not_active Expired
- 1984-10-03 ES ES536777A patent/ES8506444A1/es not_active Expired
- 1984-10-03 EP EP84111810A patent/EP0136704B1/en not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61189211A (ja) * | 1985-02-16 | 1986-08-22 | Shiseido Co Ltd | メ−キヤツプ化粧料 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0136704A2 (en) | 1985-04-10 |
| ATE48529T1 (de) | 1989-12-15 |
| ZA847766B (en) | 1985-05-29 |
| EP0136704A3 (en) | 1986-03-26 |
| CA1248026A (en) | 1989-01-03 |
| EP0136704B1 (en) | 1989-12-13 |
| AU3380684A (en) | 1985-04-18 |
| ES536777A0 (es) | 1985-08-01 |
| DE3480688D1 (de) | 1990-01-18 |
| JPH0212444B2 (ja) | 1990-03-20 |
| ES8506444A1 (es) | 1985-08-01 |
| AU571582B2 (en) | 1988-04-21 |
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|---|---|---|---|
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