JPS6096491A - 光記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

■　発明の背景 技術分野 本発明は、光記録媒体、特にヒートモードの光記録媒体
に関する。 先行技術 光記録媒体は、媒体と書き込みないし読み出しヘッドが
非接触であるので、記録媒体が摩耗劣化しないという特
徴をもち、このため、種々の光記録媒体の開発研究が行
われている。 このような光記録媒体のうち、暗室による画像処理が不
要である等の点で、ヒートモード光記録媒体の開発が活
発になっている。 このヒートモードの光記録媒体は、記録光を熱として利
用する光記録媒体であり、その１例として、レーザー等
の記録光で媒体の一部を融解、除去等して、ピットと称
される小穴を形成して書き込みを行い、このピットによ
り情報を・記録し、このピットを読み出し光で検出して
読み出しを行うピット形成タイプのものがある。 このようなピット形成タイプの媒体、特にそのうち、装
置を小型化できる半導体レーザーを光源とするものにお
いては、これまで、Ｔｅを主体とする材料を記録層とす
るものが大半をしめている。 しかし、近年、Ｔｅ系材料が有害であること、そしてよ
り高感度化する必要があること、より製造コストを安価
にする必要があることから、Ｔｅ系にかえ、色素を主と
した有機材料系の記録層を用いる媒体についての提案や
報告が増加している。 例えば、Ｈｅ−Ｎｅレーザー用としては、スクワリリウ
ム色素〔特開昭５８−４８２２１号、ｖ。 Ｂ、Ｊｉｐｓｏｎ　ａｎｄ　Ｃ，Ｒ，Ｊｏｎｅｓ、Ｊ、
Ｖａｃ、　Ｓｃｉ、　Ｔｅｃｈ−ｎｏｌ、、　１８　（
１）　１０５　（１９８１）　）や、金属フタロシアニ
ン色素（特開昭５７−８２０９４号、同５７−８２０９
５号）などを用いるものがある。 また、金属フタロシアニン色素を半導体レーザー用とし
て使用した例（特開昭５８−８８７９５号）もある。 これらは、いずれも色素を蒸着により記録層薄膜とした
ものであり、媒体製造上、Ｔｅ系と大差はない。 しかし、色素蒸着膜のレーザーに対する反射率は一般に
小さく、反射光量のピットによる変化（減少）によって
読み出し信号をうる、現在行われている通常の方式では
、大きなＳ／Ｎ比をうることができない。 また、記録層を担持した透明基体を、記録層が対向する
ようにして一体化した、いわゆるエアーサンドイッチ構
造の媒体とし、基体をとおして書き込みおよび読み出し
を行うと、書き込み感度を下げずに記録層の保護ができ
、かつ記録密度も大きくなる点で有利であるが、このよ
うな記録再生方式も、色素蒸着膜では不可能である。 これは、通常の透明樹脂製基体では、屈折率がある程度
の値をもち（ポリメチルメタクリレートで１　、５）　
、また、表面反射率がある程度大きく（同　４％）、記
録層の基体をとおしての反射率が、例えばポリメチルメ
タクリレートでは６０％程度以下になるため、低い反射
率しか示さない記録層では検出できないからである。 色素蒸着膜からなる記録層の、読み出しのＳ／Ｎ比を向
上させるためには、通常、基体と記録層との間に、Ａ文
等の蒸着反射膜を介在させている。 この場合、蒸着反射膜は、反射率を上げてＳ／Ｎ比を向
上させるためのものであり、ピット形成により反射膜が
露出して反射率が増大したり、あるいは場合によっては
、反射膜を除去して反射率を減少させるものであるが、
当然のことながら、基体をとおしての記録再生はできな
い。 同様に、特開昭５５−１８１８９０号ニハ、ＩＲ−１３
２色素（コダック社製）とポリ酢酸ビニルとからなる記
録層、また特開昭５７づ４８４５号には、ｌ。 １′−ジエチル−２，２′−トリ力ルポシアニン　イオ
ダイドとニトロセルロースとからなる記録層、さらには
　Ｋ、Ｙ、Ｌａｗ、　ｅｔ　ａｌ、、　Ａｐｐｌ。 Ｐｈｙｓ、　Ｌｅｔｔ、３９　（９）　７１８　（１８
８１）には、３゜３′−ジエチル−１２−７セチルチア
テトラカルポシアニンとポリ酢酸ビニルとからなる記録
層など１色素と樹脂とからなる記録層を塗布法によって
設層した媒体が開示されている。 しかし、これらの場合にも、基体と記録層との間に反射
膜を必要としており、基体裏面側からの記録再生ができ
ない点で、色素蒸着膜の場合と同様の欠点をもつ。 このように、ノふ体をとおしての記録再生が可能であり
、Ｔｅ系材料°からなる記録層をもつ媒体との互換性を
有する、有機材料系の記録層をもつ媒体を実現するには
、有機材料自身が大きな反射率を示す必要がある。 しかし、従来、反射層を積層せずに、有機材料の単層に
て高い反射率を示す例はきわめて少ない。 わずかに、バナジルフタロシアニンの蒸着膜が高反射率
を示す旨が報告（Ｐ、Ｋｉｖｉｔｓ、ｅｔａｌ、、Ａｐ
ｐｌ、　Ｐｈｙｓ、　Ｐａｒｔ　Ａ　２６　（２）　１
０１　（１！３８１）、特開昭５５−１３７０３３号〕
されているが、おそらく昇華温度が高いためであろうと
思われるが、書き込み感度が低い。 また、チアゾール系やキノリン系等のシアニン色素やメ
ロシアニン色素を用いる旨が報告（山木他、第２７回　
応用物理学会予稿集　１ｐ−Ｐ−９（１９８０））され
ており、これにもとづく提案が特開昭５８−１１２７９
０号になされているが、これら色素は、特に塗膜として
設層するときに、溶剤に対する溶解度が小さく、また結
晶化しやすく、さらには読み出し光に対してきわめて不
安定でただちに脱色してしまい、実用に供しえない。 このような実状に鑑み、本発明者らは、先に、溶剤に対
する溶解度が高く、結晶化も少なく、かつ熱的に安定で
あって、塗膜の反射率が高いインドレニン系のシアニン
色素を単層膜として用いる旨を提案している（特願昭５
７−１３４３９７号、同　５７−１３４１７０号）。 また、インドレニン系、あるいはチアゾール系、キノリ
ン系、セレナゾール系等の他のシアニン色素においても
、長鎖アルキル基を分子中に導入して、溶解性の改善と
結晶化の防止がはかられることを提案している（特願昭
５７−１８２５８９号、同　５７−１７７７７６号等）
。 さらに、光安定性をまし、特に読み出し光による脱色（
再生劣化）を防止するために、シアニン色素にクエンチ
ャ−を添加する旨の提案を行ッテいる（特願昭５７−１
８８８３２号、同５７−１ｆｔ８０４８号等）。 ところで、このような塗布型の媒体の場合、反射層に積
層することなく、記録層を透明樹脂製基体の表面に直接
塗布により設層すると、塗布溶媒により基体がおかされ
、記録層の反射率が低下し、読み出しのＳ／Ｎ比が十分
高くとれないという欠点がある。　そして、このような
反射率の低下は、特に基体をとおして書き込みと読み出
しを行うようなとき、きわめて大きくなってしまう。 また、塗布時の溶媒の作用により、色素その他が基体樹
脂中に溶解拡散し、経時的に反射率が低下する不都合も
ある。 さらには１通常の樹脂製基体では、書き込み時、あるい
は消去時等の記録層の発熱により、基体表面が熱的に変
形し、反射率が低下してしまう、　そして、これは、や
はり基体をとおして書き込みと読み出しを行うようなと
き、基体−記録層界面での発熱が大きくなるため、きわ
めて重大な欠点となる。 さらには、このような媒体の書き込みおよび読み出しに
おいては、トラッキングの制御が必要である。 従来、トラッキングの制御を行うには、基体の記録層形
成面にトラッキング用の溝を設け、この溝の四部または
凸部上の記録層をトラック部とし、溝の段差による干渉
効果や記録層の膜厚の相違にもとずく光学特性の差、な
いしは反射、吸収率等の光学特性の差等を利用して、ト
ラックをはずれているかを検出することによっている。 このように基体表面にトラッキング用の溝を形成する場
合、塗布型の媒体では前記の溶媒の作用や熱的変形によ
り、トラッキング制御が困難となる。 また、このトラッキング用の溝は入／　８　ｎ（入は光
の波長、ｎは基体の屈折率）程度の深さとされるため、
製造がむずかしく、厳密な加工精度を要し、量産性が低
いという欠点がある。　すなわち、溝の形成は、通常、
基体用の樹脂製板材にスタンパ−を押圧して行うが、ス
タンパ−の摩耗等によって、コストが高くなり、歩留り
が低下したりする。 ＩＩ　発明の目的 本発明の目的は、書き込み時や消去時等の発熱による熱
的変形によるＳ／Ｎ比の低下が少なく、記録層塗布時の
溶媒によるＳ／Ｎ比の劣化が少なく、表面にトラッキン
グ用の溝を容易かつ生産性よく形成することができ、ト
ラッキング制御も容易な基体を有する光記録媒体を提供
することにある。 このような目的は、下記の本発明によって達成される。 すなわち本発明は、 活性輻射線により硬化可能な化合物またはその組成物を
活性輻射線によって硬化して成型してなる基体を有し、
この基体表面に１色素またはその組成物からなる記録層
を有することを特徴とする光記録媒体である。 ■　発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。 本発明において用いる基体は、活性輻射線により硬化可
能な化合物またはこの化合物を含む組成物を、活性輻射
線によって硬化して成型してなるものである。 この場合、活性輻射線により硬化可能な化合物は、活性
輻射線により、例えばラジカル等を生じ、重合ないし架
橋する不飽和二重結合を有するような種々のものが可能
であり、その組成物としても公知の種々のものが可能で
ある。 このような場合、基体は、それ自体基板としての機械的
強度と、寸度安定性を必要とし、ｌＩＬｍ〜４ＩＩｍ、
一般に１００＃ＬＬ１〜３■程度の厚さに成型される。 このため、活性輻射線としては、電子線等であってもよ
いが、基体厚さの透過を可能とするため、紫外線を用い
ることが好ましい、　用１．％る紫外線の波長としては
、２００〜ｂ 度が好適である。 この場合、本発明において特に好適に用いることのでき
る紫外線により硬化可能な化合物（ポリマー、オリゴマ
ー、七ツマ−）としてｉ、下記のものがある。 １、千ツマ−ないしオリゴマー １．１　単官能性七ツマ− 例えば、アクリル酸、メタクリル酸、メチルアクリラー
ト、メチルメタクリラート、ブチルアクリラート、シク
ロヘキシルアクリラート、ジメチルアミノエチルメタク
リラート、ベンジルアクリラート、カルピトールアクリ
ラート、２−エチルへキシルアクリラート、２−エチル
へキシルメタクリラート、ラウリルメタクリラート、２
−ヒドロキシエチルアクリラート、２−ヒドロキシエチ
ルメタクリラート、２−ヒドロキシプロピルアクリラー
ト、２−ヒドロキシプロピルメタクリラート、グリシジ
ルメタクリラート、アクリルアミド、メタクリルアミド
、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−ジアセトンアク
リルアミド、Ｎ　、　Ｎ’　−メチレンビスアクリルア
ミド、スチレン、アクリロニトリル、ビニルアセタート
、Ｎ−ビニルピロリドンなど。 １．２　多官能性アクリル系モノマーないしオリゴマー 例工ば、エチレングリコールシアクリラード、ジエチレ
ングリコールジアクリラート、トリエチレングリコール
ジアクリラート、ポリエチレングリコールジアクリラー
ト、ポリエチレングリコールジメタクリラート、ボリプ
ロビレングリコールジアクリラート、ポリプロピレング
リコールジメタクリラート、ブチレングリコールシアク
リラード、ブチレングリコールジメタクリラード、ネオ
ペンチルグリコールシアクリラード、ネオペンチルグリ
コールジメタクリラード、１．４−ブタンジオールシア
クリラード、１．６−ヘキサンシオールジアクリラート
、１．６−ヘキサンシオールジメタクリラート５ペンタ
エリトリトールジアクリラート、ペンタエリトリトール
トリアクリラート、トリメチロールプロノくントリアク
リラート、トリメチロールプロパントリメタクリラート
など。 １．３　アリル系の多官崩性モノマー 例えば、ジアリルフタラード、ジアリルイソフタラ−１
・、ジアリルマレアート、ジアリルクロレンダート、ジ
アリルアジパート、ジアリルジグリコラート、トリアリ
ルシアヌラート、ジエチレングリコールビスアリルカル
ボナートなど。 １．４　開環重合系モノマー 例えば、グリシジルシンナマート、オキシカルコンのエ
ポキシ誘導体など。 １．５　ウレタン型アクリル酸エステル１．６　多価カ
ルボン酸の不飽和エステル１．７　不飽和アミド １．８　無機酸とのエステル金属塩 １．９　アセチレン性不飽和基をもつモノマー１．１０
グリシシン基をもつモノマー １．１１ジアゾニウム塩系 １、ｌ２ｏ−キノンアジド類 例えば、０−ナフトキノンジアジドのスルホン酸エステ
ルなど １．１３その他、ジヒドロキシカルコン、ジバニラルア
セトン、ジバニラルシクロペンタノンなど １．１４　感光基金もつビニル系モノマー１）シンナモ
イル系 例えば下記のもの ２）シンナミリデン系 例えば下記のもの ３）フリルアクリロイル系 例えば下記のもの ４）クマリン系 例えば下記のもの ５）ピロン系 例えば下記のもの ６）ぺ／ザルアセトフェノン系 例えば下記のもの ７）アントラセン系 ｆｌｉＪえば下記のもの ８）スチルベン系 ｔ−りえば下記のもの ９）α−フェニルマレイミド系 例えば下記のもの １０）アジド糸 例えば下記のもの ＯＨＩ　＝ＯＨＯＯＨ１０ＨｚＮｍ １１）不飽和系 例えば下記のもの ＯＨＭ　＝ＯＨ００００Ｈ！０Ｈ＝ＯＩ（１０Ｈ２＝Ｏ
ＨＯＯＩｂ　０ＨａＵ−００−ＯＨ＝ＯＨｚ１２）ベン
ゾフェノン系 例えば下記のもの ＯＨ２＝Ｏ（ＯＨｓ）ＯＯＵＯＨ２０Ｈ（ＯＨ）ＯＨｘ
Ｏ−００ＧＯＵＱ１３）ベンゾイン系 １！゛ｕえば下記のもの １４）　１　、３−ジオキソラン系 しＵえば下自己の−の １５）ジチオカルバマート系 し；１えは下記のもの ０Ｈ２＝ＯＩ（−８−Ｏ８−ＮＲ １６）アザジオキ・す°ビシクロ系 例えば下記のもの １７）スチルベン系 例えば下記のもの ２、ポリマーないしプレポリマー 既存のポリマー嶋こ、例えば、以下の感光基および／ま
たはモノマーで例示した各種感光基を化学結合したもの
。 ボリャーとしては、例えば、各種エポキシ樹脂、ポリウ
レタン、ポリアミド、ポリアクリル酸不飽和ポリエステ
ル、ポリビニルアルコール、シリコーン樹脂、マレイン
酸共重合体、セルロース誘導体、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体、レジナスポリオールアクリレ　−　ト　等
　、 感光基としては、上記の他、オレフィン、シンナモイル
、シンナミリデンアセチル、ベンザルアセトフェノン（
カルコン）、スチリルピリジン、α−フェニルマレイミ
ド、フェニルアジド、スルホニルアジド、カルボニルア
シド、ジアゾ、０−キノンジアジド（ジアゾオキシド）
、フリルアクリロイル、クマリン、ピロン、アントラセ
ン、ベンゾフェノン、ベンゾイン、スチルベン、ジチオ
カルバマート、ザンタート、１，２．３−チアジアゾー
ル、シクロプロペン、アザ−ジオキサビシクロ等がある
。 さらには、環化ゴム、ポリコン（ポリエーテルグリコー
ルとトリレンジイソシアネートとの反応によるポリウレ
タンの末端に、アリルイソシアネートまたはアリルアル
コールを反応結合せしめてアリル基を導入したもの等も
有用である。 このような紫外線により硬化可能なポリマー、オリゴマ
ー、七ツマー等の化合物には、感光性架橋剤を添加する
ことができる。 架橋剤の添加量は、紫外線により硬化可能な化合物ｃ７
）８０ｗｔ％以下、特ニＯ，１〜８０ｗｔ％程度とされ
る。 用いる架橋剤には特に制限はないが、下記のものが好適
である。 １、重クロム酸塩 例えば、ゼラチン、グルー、卵白、アラビアゴム、ポリ
ビニルアルコールなどの水溶性高分子化合物と東クロム
酸塩との混合物 ２、有機アジド化合物 例えば、４．４′−ジアジドスチルベン、４．４′　−
ジアジドカルコンなど ３、イオウ化合物 例えば、ペンタエリスリトールテトラキス（β−メルカ
プトプロピオネート）など４、光２量化化合物 例えば、ケイ酸など さらに、開始剤および増感剤を添加することもできる。 開始剤および増感剤の添加量は、紫外線により硬化可能
な化合物の０．００１−１０ｗｔ％程度とされる。 用いる開始剤および増感剤には特に制限はないが、下記
のものが好適である。 １、　ベンゾインエーテル系 例えば、インブチルベンゾインエーテル、イソプロピル
ベンゾインエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベン
ゾインメチルエーテルなど２、　α−アジロキシムエス
テル系 例工ｌｆ、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２
−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシムなど ３、　ペンジルケタール系 例えば、２．２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェ
ノン、ベンジル、ヒドロキシシクロへキシルフェニルケ
トンなど ４、　アセトフェノン誘導体系 例えば、ジェトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−
２０メチル−１・フェニルプロパンアセトｌ−オンなど ５、　ケトン−（ケトン−アミン系）県側エバ、ベンゾ
フェノン、クロロチオキサントン、２−クロロチオキサ
ントン、イソプロピルチオキサンＩ・ン、２−メチルチ
オキサントン、’！！　素ａ　換ベンゾフェノン、ハロ
ゲン！　換、　フルキル−アリールケトンなど ６、　ナフタレン、アントラセン、フェナントレン、ク
リセン等の炭化水素類 ７、　ニトロベンゼン、ｐ−ジニトロベンゼン、１，３
．５−）ジニトロベンゼン、ｐ−ニトロジフェニル、ｍ
−ニトロアニリン、２．４−ジニトロアニリンピクラミ
ド、２−クロロ−４−ニトロアニリン、２．６−シニト
ロー４−ニトロアニリンフェノール、ｐ−二トロフェノ
ール、２，４−ジニトロフェノール、２゜４．６−ドリ
ニトロフエノール等のアミン、ニトロ、フェノール性化
合物 ８、　ベンズアルデヒド、９−アントラアルデヒド、ア
セトフェノン、ベンゾフェノン、ジベンザルアセトン、
ベンジル、ｐ、ｐ’　−ジアミノベンゾフェノン、ｐ、
ｐ’　−ジメチルアミノベンゾフェノン、ｐ、ｐ′　−
テトラメチルジアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン
）等のケトン系 ９、　ベンゾキノン、１．２−ナフトキノン、１．４−
ナフトキノン、アントラキノン、１゜２−ヘンシアント
ラキノン等のキノン系１０、　７ントロン、１．９−ベ
ンゾアントロン、６−フエこルー１．９−ベンゾアント
ロン、３−フェこルー１．９−ベンゾアントロン、２−
ケト−３−アザ−１，９−ベンゾアントロン、３−メチ
ル−１，３−ジアザ−１，９−ベンゾアントロン等のア
ントロン類 １１、　７ゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物 １２、メルカプタン類、ジスルフィド類などの有機イオ
ウ化合物 １３、各種ハロゲン化合物 この他、各科オリゴマーないしポリマー、シリコーンア
クリル系等の各種レベリング剤、光安定剤、１１（塑剤
、界面活性剤、帯電防止剤、各種反応触媒、各種顔料、
フィラー、熱重合禁止（抑制）剤、還元剤等を添加して
もよい。 このような活性輻射線、特に紫外線により硬化可能な化
合物ないしその組成物は、必要に応じ溶媒中に溶解され
、型に流しこまれ、活性輻射線を照射して硬化成型され
る。 この場合、用いる溶媒としては、 ケトン系（例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、シクロヘキサノン等）、芳香族系（例えばト
ルエン、キシレン等）、ハロゲン系（例えばジク、ロロ
エタン、トリクレン等）、アルコール系（例えばメタノ
ール、エタノール、プロパツール、メチルセロソルブ、
エチルセロソルブ等）、エステル系（例えば酢酸ブチル
、酢酸エチル、カルピトールアセテート、ブチルカルピ
トールアセテート等）、水素等が可能である。 そして、活性輻射線により硬化可能な化合物ないしその
組成物の濃度は、１００％以下、特に２０〜１００％程
度とされる。 硬化に用いる紫外線の波長は、主として２００〜４００
　ｎｍ程度とされる。　また光強度は、ランプ入力がｌ
　Ｗ／ｃｍ　−Ｉ　Ｋｗ／ｃｍ程度となるようにされる
。　さらに、硬化時間は、１ｐＬｓｅｃ〜１分程度とし
、このとき、硬化雰囲気は、空気中、不活性ガス中、真
空中等いずれであってもよい。 一方、用いる成型用の型としては、少なくとも一方から
紫外線照射が可能であればどのようなものであってもよ
い。 なお、硬化成型される基体の厚さは、特に。 １００　ｇｍ〜３＋＊ｍ程度とされる。　また、基体の
形状は１通常ディスク状等とされる。 なお、もし必要であれば、硬化前後に、加熱により溶媒
の除去を行う。 このような場合、基体は、その少なくとも−方の面にト
ラッキング用の溝を有し、書き込み読み出しないし消去
時に、トラッキングの制御を行えるようにすることが好
ましい。 従って、硬化成型用の型は、その表面にトラッキング用
の溝に対応する溝を有することが好ましい。 なお、トラッキング用の溝は、深さが０．０１〜３終■
、特に０．０５〜２ＩＬＩＩ、また、溝の［１］が０．
０５〜５０＃Ｌ１１で、溝間の間隔が０．６〜ｌ　００
　＃Ｌｔｍとなることが好ましい。 このような基体上には、記録層が積層される。 本発明の光記録媒体の記録層中には、色素が含有される
。 用いる色素には、特に制限はなく、シアニン系、フタロ
シアニン系、ナフタロシアニン系、スクワリリウム系、
コリンないしコロール系、アントラキノン系、アゾ系、
トリフェニルメタン系、ピリリウムないしチアピリリウ
ム塩系等の色素はいずれも使用可能である。 ただ、このような中で、本発明による効果が大□きいの
は、シアニン色素である。 シアニン色素のなかでは、下記式（１）で示されるもの
が好ましい。 式（Ｉ） Φ−Ｌ＝重　（Ｘ−）ｍ 上記式ＣＩ）において、Φおよび！は、芳香族環、例え
ばベンゼン環、ナフタレン環、フェナントレン環、キノ
キサリン環等が縮合してもよいインドール環、チアゾー
ル環、オキサゾール環、セレナゾール環、イミダゾール
環、ピリジン環等をあられす。 これらΦおよびψは、同一でも異なっていてもよいが、
通常は同一・のちのであり、これらの環には１種々の置
換基が結合していてもよい。 なお、Φは、環中の窒素原子が十電荷をもち、市は、環
中の窒素原子が中性のものである。 これらのΦおよび市の骨格環としては、下記式〔ΦＩ〕
〜〔Φ店〕で示されるものであることか＆ｆましい。 なお、下記においては、構造はΦの形で示される。 １ １ 〔Φ■〕 ＲＩ ！ １ ＲＩ １ １ １ 〔Φ蹟）　Ｒ１ １ このような各種環において、環中の窒素原子（イミダゾ
ール環では２個の窒素原子）に結合する基Ｒ＋　（Ｒ＋
　、Ｒ１′）は、置換または非置換のアルキル基または
アリール基である。 このような環中の、窒素原子に結合する基Ｒ１，ＲＩ　
′の炭素原子数には、特に制限はない、　また、この基
がさらに置換基を有するものである場合、置換基として
は、スルホン酸基、アルキルカルボニルオキシ基、アル
キルアミド基、アルキルスルホンアミド基、アルコキシ
カルボニル基、アルキルアミノ基、アルキルカルバモイ
ル基、アルキルスルファモイル基、水酸基、カルボキシ
基、ハロゲン原子等いずれであってもよい。 なお、後述のｍがＯである場合、Φ中の窒素原子に結合
する）Ｓ　Ｒ１は、置換アルキルまたはアリール基であ
り、かっ−電荷をもつ。 ざらに、Φおよび重の環が、縮合ないし非縮合のインド
ール環（式〔Φ工〕〜（ΦＩＶ））テある場合、その３
位には、２つの置換基Ｒ２。 Ｒ３が結合することが好ましい、　この場合、３位に結
合する２つの置換基Ｒ２，Ｒ３としては、アルキル基ま
たはアリール基であることが好ましい、　そして、これ
らのうちでは、炭素原子数１または２、特にｌの非置換
アルキル基であることが好ましい。 一方、Φおよび！で表わされる環中の所定の位置には、
さらに他の、置換基Ｒ４が結合していてもよい、　この
ような置換基としては、アルキルノふ、アリール基、複
素環残基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリーロキシ
基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルカルボ
ニル基、アリールカルボニル基、アルキルオキシカルボ
ニル基、アリーロキシ力ルポニルノ＾、アルキルカルボ
ニルオキシ基、アリールカルボニルオキシノん、アルキ
ルアミド基、アリールアミド基、アルキルカルバモイル
基、アリールカルバモイル基、アルキルアミ７基、アリ
ールアミド基、カルボン酸基、アルキルスルホニル基、
アリールスルホニルノ＾、アルキルスルホンアミド基、
アリールスルホンアミド基、アルキルスルファモイル基
、アリールスルファモイル基、シアノ基、ニトロ基等１
種々ｑ置換基であってよい。 そして、これらの置換基の数（ｐ、ｑ、ｒ。 ｓ、ｔ）は、通常、０または１〜４程度とされる・　な
お、ｐ、ｑ、ｒ、Ｓ、ｔが２以上であるとき、複数のＲ
４は互いに異なるものであってよい。 なお、これらのうちでは、式〔ΦＩ〕〜〔Φ■〕の縮合
ないし非縮合のインドール環を有するものが好ましい、
　これらは、塗膜性、安定性にすぐれ、きわめて高い反
射率を示し、読み出しのＣ／Ｎ比がきわめて高くなるか
らである。 他方、Ｌは、モノ、ジ、トリまたはテトラカルボシアニ
ン色素を形成するための連結基を表わすが、特に式（Ｌ
ｌ）〜〔Ｌ■〕のいずれかであることが好ましい。 式（ＬＩ） ＣＨ＝　Ｃ）ｌ−ＣＨ＝　ＣＨ−Ｃ＝　ＣＨ−Ｃ）Ｉ＝
　Ｃ）Ｉ−ＣＨ式（Ｌｌｌ）　ｃｏ＝ｃＨ−ｃｏ＝ｃ−
ｃＨ＝ｃＨ−ｃ’。 式（Ｌｍ） 式（ＬＶ） ■ こｑに、Ｙは、水素原子または１価の基を表わす、　こ
の場合、１価の基としては、メチル基等の低級アルキル
基、メトキシ基等の低級アセトキシ基、（、ジメチルア
ミノ基、ジフェニルアミノ基、メチルフェニルアミノ基
、モルホリノ基、イミダゾリジン基、エトキシカルボニ
ルピペラジン基などのジ置換アミノ基、アセトキシ基等
のフルキルカルボニルオキシ基、メチルチオ基等のアル
キルチオ基、シアノ基、ニトロ基、Ｂｒ、ＣＭ等のハロ
ゲン原子などであることが好ましい。 また、Ｒ８およびＲ９は、それぞれ水素原子またはメチ
ル基等の低級アルキル基を表わす。 そして、見は、Ｏまたはｌである。 なお、これら式（ＬＩ）〜〔Ｌ■〕の中では、トリカル
ボシアニン連結基、特に式〔Ｌｌｌ）、（ＬＩＩＩ）、
（ＬＩＶ）、（ＬＶ）が好ましい。 さらに、Ｘ−は陰イオンであり、その好ましい例として
は、Ｉ　−、Ｂ　ｒ　−’、Ｃｌ　０４−、Ｂ　Ｆ４−
＋ＣＨ３べΣ５ｏ３−、ｃ文÷５ｏ３−等を挙げること
ができる。 なお１ｍはＯまたはｌであるが、ｍがＯであるときには
、通常、ΦのＲ１が一電荷をもち、分子内塩となる。 次に、本発明のシアニン色素の具体例を挙げるが、本発
明はこれらのみに限定されるものではない。 仁素漫　免＝覆　１Ｌ−Ｊ工　Ｕ ＤＩ　、（ΦＩ）　ＣＨ３ＣＨ３ Ｄ２　（ＯＩ）　ＣＨ３ＣＨ３ Ｄ３　（ＯＩ）　Ｃ２Ｈ４０ＨＣＨ３ Ｄ４　（ΦＩ）　（ＣＨ２）３　ＳＯ３−ＣＨ３’　（
ＣＨ２）３　ＳＯ３−Ｎａ” Ｄ５　（ΦＩＩ）　ＣＨ３、ＣＨ３ Ｄ６　（Φｍ）　（ＣＨ２）３　ＳＯ３−ＣＨ３’　（
ＣＨ２）３５０３−　Ｎａ÷ Ｄ　７　（ΦＩＩＩ）　ＣＨ２ＣＨ２０ＨＣＨ３Ｄ８　
（Ｏｍ）　（ＣＨ２）２０ＣＯＣＨ３ＣＨ３Ｄ　９　（
Ｏｍ）　（ＣＨ２）２０ＣＯＣＨ３ＣＨ３Ｄ１０　〔Φ
ｍ）　ＣＨ３ＣＨ３ ＤＩｌ　（ＯｒＩ［）　ＣＨ３ＣＨ３ Ｄ１２　（ＯＩ）　Ｃ，８Ｈ３□　Ｃ１（３Ｄ１３　（
Ｏｒ）　Ｃ４Ｈ９ＣＨ３ Ｄ１４　〔Φ■〕　Ｃ３Ｈ１６ｏｃｏｃＨ５ｃＨ３Ｄ１
５　（ＯＩ）　Ｃ７）１１．ＣＭ、、ＯＨＣＨ３、ＬＬ
Ｌ　Ｙ−又　−Ｘ− −（Ｌｌｌ）　Ｈ■ −（Ｌｌｌ）　ＨＣＪｌｊ０４ −　（、Ｌｍ）　Ｈ１，Ｂｒ −（Ｌｌｌ）　Ｈ− −（ＬＩＩ）　ＨＣｌＯ４ −（Ｌｌｌ）　Ｈ− 一　（ＬＩＩ）　ＨＣｌＯ４ −（Ｌｌｌ）　ＨＢｒ （Ｌｍ）　−Ｎ　（Ｃｓ　Ｈｓ　）２　１　ＣｌＯ４’
　（Ｌ　Ｉｆ　）　ＨＣｆＬ　Ｏ４ （Ｌｍ）　−Ｎ（Ｃ６Ｈ５）２　１　ｃＪ１０４−　（
ＬＩＩ）　Ｈ■ −（ＬＩＩ）　Ｈ（、ＱＯ４ （Ｌｍ）　−Ｎ　（Ｃａ　Ｈｓ　）　２　１　ＣＫＬＯ
４−（ＬＩＴ）、ＨＩ 仁り均　免−ｊ　且上ヨ」Ｌ−′　且り、−１１Ｋ±Ｄ
ＩＧ　（ΦＩＩ）　Ｃ３ＨＩ７　ＣＨ３−ＤＩ７　（Φ
ｍ）　Ｃ８Ｈ，７ＣＨ３−Ｄ１９　（ΦＩＩＩ）　ＣＨ
ＣＯＯＣ２Ｈ５ＣＨ３−７１４ Ｄ２０　〔Φｍ）　Ｃ４Ｈ８Ｃ１（３−Ｄ２１　（Φｍ
〕　Ｃｌ８Ｈ３□　ＣＨ３−Ｄ２２　〔ΦＩＩＩ）　Ｃ
６Ｈ８ＣＨ３−Ｄ２３　〔ΦＩ）　Ｃ１７Ｈ３４ＣＯＯ
ＣＨ３ＣＨ３−Ｄ２４　〔Φ工〕　Ｃ３Ｈ１６０ＣＯＣ
Ｈ３ＣＨ３−Ｄ２５　（ΦＩ）　Ｃ８Ｈ，７Ｃ２Ｈ５−
Ｄ２６　〔ΦＩ）　Ｃ７Ｈ１５Ｃ２Ｈ５−Ｄ２７　〔Φ
ＩＩ：Ｊ　Ｃ，７Ｈ３４ＣＯＯＣＨ３ＣＨ３−Ｄ２８　
（Ｏｌｌ）　Ｃ８Ｈ，６ＣＨ，、ＯＣＯＣＨ３ＣＨ３Ｄ
２８　〔Φｎ　）　ｃ　１７　Ｈ３ｓ　ＣＨ３−Ｌ　Ｙ
−又　−じ（− （Ｌ　ＩＩ　）　ＨＣ文０４ （Ｌ　ＩＩ　）　Ｈ− （ＬＩＩ）　’ＨＢＦ４ （Ｌｍ）　−Ｎ（ＣａＨ５）２　１　Ｃｆ）−Ｏ４（Ｌ
　ＩＩ　）　ＨＣ交０４ （Ｌ　ＩＩ　）　ＨＣ文０４ （Ｌ　ＩＩ　）　Ｈ１ （Ｌｍ）　−Ｎ（Ｃ６Ｈ５）２　１　Ｉ（Ｌ　ＩＴ　）
　ＨＩ （Ｌ　ＩＩ　）　ＨＩ （Ｌ　ＩＩ　）　ＨＣ文Ｏ４ 匹玉蔦　免−ｙ　規り工１上　１Ｌ−１１Ｄ３０　〔Φ
ＩＩ　）　ＣＨＣＯＯＣＨ３Ｃ２Ｈｓ　１４ ０３１　（Φｌ１ｌ）　Ｃ７Ｈ，、ＣＨ２０ＨＣＨ３Ｄ
３２　（Φ［１１）　Ｃ７Ｈ，４ＣＨ，、，０ＣＯＣ，
、Ｈｓ　ＣＨ３Ｄ３３　〔ΦＩＩＩ）　Ｃ，□Ｈ３４Ｃ
００Ｃ２Ｈ５ＣＨ３Ｄ３４　〔Φｍ　）　Ｃ１７Ｈ３５
ＣＨ３Ｄ３５　〔Φｍ　）　Ｃ７Ｈ＋ｓ　Ｃ２Ｈ５Ｄ３
６　〔ΦＩＴ）　ＣＨ３ＣＨ３ Ｄ３７　〔ΦｒＶ）　ＣＨ３ＣＨ３ Ｄ３８　〔ΦＩＶ）　Ｃ４Ｈｇ　ＣＨ３Ｄ３１１　（Ｏ
ＩＶ）　（ＣＨ２）２　０ＣＯＣＨ３ＣＨ３Ｄ４０　（
’ＤＶ）　Ｃ２Ｈ５４ Ｄ４１　〔ΦＶ）　ＣＨ３−４ Ｄ４２　（ＯＶＩ）　Ｃ，２Ｈ５− Ｄ４３　〔ΦＶｌ）　Ｃ２Ｈｓ　５ Ｄ４４　〔ΦＶｌ）　Ｃ２Ｈ５−５ Ｄ４５　〔ΦＶｌ）　Ｃ２１（５−５ ＬＬ　Ｌ　Ｙ　Ｉ　Ｘ− −（Ｌｌｌ）　、　ＨＣ見０４ −　（Ｌｌｌ）　Ｈ０文０４ −　（Ｌｌｌ）　’　ＨＩ （Ｌｍ）　−Ｎ　（Ｃ６Ｈｓ）２　１　Ｉ−（ＬＩＶ）
　ＨＩ　Ｉ −（Ｌｌｌ）　ＨＩ −（Ｌｌｌ）　ＨＩ −（ＬＴＩ）　ＨＣ交０４ −　（Ｌｌｌ）　Ｈ０文０４ −　（ＬＩＩ）　Ｈｌ −ＣＨ３（Ｌｌｌ）　Ｈｌ −ＣＨ３（ＬＩＴ）　ＨＩ −（Ｌｉｔ）　ＨＢｒ −Ｃ１（Ｌｍ）　−Ｎ（Ｃ１ｌＨ５）２　１　Ｂｒ−Ｏ
ＣＨ３（Ｌ　ＩＩ　）　ＨＣ）Ｉ２Ｏ３）！、５Ｏ３−
ＱＣ）ｉ３　（ＬＩＥ）　ＨＢｒ 色素ｊ　免よｙ　且上ヨ」ｂ−尺Ｕ　尺±Ｄ４６　〔Φ
Ｖｌ）　Ｃ２Ｈ５−− Ｄ４７　〔Φ■〕　Ｃ２Ｈ３ Ｄ４８　〔Φ■〕　Ｃ２Ｈ３ Ｄ４８　〔Φ■〕　Ｃ２Ｈ３ Ｄ５０　〔Φ■〕　Ｃ２Ｈ３ Ｄ５１　（ΦＶｌ）　Ｃ，、Ｈ５ Ｄ５２　〔Φ■〕　Ｃ２Ｈ３ Ｄ５３　〔Φ■）　（ＣＨ）　ＯＣＯＣＨ３−−３ Ｄ５４　〔ΦＶｌ）　ＣＨ２ＣＨ２０Ｈ−５−ＣＩＤ５
５　〔Φ■〕　Ｃ２Ｈ３ Ｄ５６　〔Φ［Ｘ）　Ｃ，、Ｈｓ　−−Ｄ５７　〔ΦＩ
Ｘ）　Ｃ２１（５−−−Ｄ５８　（ΦＤＣ）　Ｃ２Ｈ５
−− Ｄ５９（ＯＸ）　Ｃ２Ｈ５−− Ｄ８０　（ＯＸＩ）　ｃＨ２Ｃ１（２０）（−−Ｌ　Ｙ
　又　−Ｘ− （Ｌ■ｊ　ｌ　Ｂ　ｒ （ＬＩＩ）　ＨＢｒ （ＬＩ）　ＨＢｒ （Ｌｌｌ）　ＣＨ３Ｂｒ （ＬＶ）　ＨＩ　Ｂ　ｒ （ＬＶ）　ＨＩ　Ｂ　ｒ （ＬＶＩ）　ｌ　Ｂ　ｒ （ＬＩＩ［）　−Ｎ　（Ｃａ　Ｈｓ　）　２　’　Ｉ　
ＣＨ３Ｃ６）１．ＳＯ２〔ＬＩＩ）ＨＣＨ３Ｃ６Ｈ４Ｓ
０３ （Ｌｌｌ）　ＨＢｒ （ＬＩＩ）　ＨＢｒ （Ｌｍ）　０ＣＲ３１Ｉ （Ｌ　ＩＩ　）　ＨＩ （Ｌｌｌ）　ＨＢｒ 裏　口　Ｊ工　し−ｔ・”Ｌ Ｄ６１　〔Φ刈）　Ｃ，、Ｈ５− ＤＢＰ　〔Φ創　（ＣＨ２）　３０ＣＯＣＨ３−−Ｄ６
３　〔Φに〕　Ｃ２Ｈ５− Ｄθ４　〔ΦＸｌｌ１）　ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２５Ｏ３Ｈ
−−Ｄ６５　〔Φに〕　Ｃ２Ｈ５− Ｄ６６　〔Φｍ〕　Ｃ２Ｈ５−− ０６？　（Φ双）　Ｃ２Ｈ５− Ｄ６８〔ΦＶｌ）　Ｃ８Ｈ１７−４−ＣＨ２ＣＨ２（Φ
■）　Ｃｌ８Ｈ３□　−− Ｄ７０　〔ΦＶｌ）　Ｃ８Ｈ１７−− Ｄ７１　（ＯＶ口　Ｃ８Ｈ，□　５−ＣＩＤ７２　（Φ
Ｖｌ）　Ｃ，８Ｈ３７５−Ｃ文−０ＣＨ Ｄ−７３（’１！’ＶＩ）　Ｃｏ　ＨＩ３　（６−ＯＣ
ＨＤ７４　（Φ更）　Ｃ３Ｈ１□　−５−ＯＣＨＤ７５
　〔ΦＶ［）　Ｃ８Ｈ，−５−Ｃ１Ｌ　土　１工 （Ｌ　ＩＩ　）　ＨＩ （Ｌｌｌ）−Ｎ○ＣＯＯＣ２Ｈ５°１０・１（Ｌ　Ｉｌ
　）　Ｈ１ （Ｌｍ）　−Ｎ（Ｃ６Ｈ５）２　Ｌ　Ｃ愛０４（ＬＩ［
１）　−Ｎ（Ｃ８Ｈ５）２　１　Ｉ（Ｌｌｌ）　ＨＢｒ （Ｌｌｌ）　ＨＢｒ （ＬＩＩ）　Ｈ１ （ＬＩ［Ｉ）　−Ｎ（Ｃ８Ｈ５）２　１　Ｂｒ（ＬＳＩ
）　Ｈ、０文０４ （Ｌｍ）　−Ｎ　（Ｃ８ＨＦＩ　）　２　１　Ｃ９，０
４（ＬＩＩ）　Ｈ１ ＋　（ＬＩＩ）　Ｈｒ ミ　（ＬｒＶ）　−１Ｉ （Ｌｍ）　−Ｎ（ＣｓＨｓ）２　１　Ｂｒす傷　乞ｙ　
ｈ−Ｌ　ＲＬ工紅　紅 Ｄ７６〔Φ■〕Ｃｌ８Ｈ３７−５−Ｃ交Ｄ７？　〔ΦＶ
Ｉ）　Ｃ８Ｈ１７− Ｄ７８　〔Φ■）　Ｃ３Ｈ１？　− Ｄ７８〔Φ”）　Ｃｌ８Ｈ３□　−５−ｃｐＤ８０（Φ
ｎ）　Ｃ，８Ｈ３７−５−（，５Ｄ８１　〔ΦＶｌ）　
Ｃ８Ｈｌ？　’　−０１１２（Φｖ１）　Ｃ８Ｈ，７−
、−Ｄ８３　〔ΦＶｌ）　Ｃ８Ｈ，マ　− Ｄ８４　〔Φ■）　Ｃ３Ｈ１□　− Ｄ８５　〔Φ■）　Ｃ１１ｌＨ３？　−Ｄ８８　（Φ■
）　Ｃｌ５Ｈ２７− ｐ８７　〔Φ■）　Ｃ１３Ｈ２□　− Ｄ８Ｂ　［Φ■］　Ｃ８Ｈ１７− Ｄ８９　〔Φ■）　Ｃ３Ｈ１？　− Ｄ８０　〔Φ■）　Ｃ１１１Ｈ３□　−−Ｌ　」二　窯
　」し くＬｍ）　−Ｎ　（Ｃ８Ｈ５）２　１　Ｂｒ（Ｌ　ＩＩ
　） （ＬＩＩ）　Ｈ，Ｉ 〔ＬＩＩ）ＨＣＨ３ＣＣＨ４Ｓ０３ （Ｌｌｌ）　１（Ｃ文Ｃ６）１４Ｓ０３（ＬＶ）　ＨＩ
　Ｉ （ＬＶＩ）　ＨＩ　Ｂ　ｒ 〔Ｌ■〕　− （Ｌｍ）　−Ｎ（Ｃ８Ｈ５）２　１　Ｂｒ（Ｌ　ＩＩ　
）　ＨＣ）１３Ｃ６）１４Ｓｏ３（Ｌｌｌ）　ＨＢｒ （ＬＩＴ）　ＨＢｒ 護〕−ＮＱＣＯＯＣ２Ｈ５”文０４ （Ｌｍ）　ＯＣＨ３’　Ｉ　Ｉ （Ｌ　Ｉｔ　）　Ｈｃ）Ｉ３ｃ６ｕ４ｓｏ３色χ漫　免
よ”ｌ’　ｌ工　Ｕユ　Ｋ１０９１　（Φ■〕　Ｃ３Ｈ
１□ Ｄ８２　〔Φ■〕Ｃｌ８Ｈ３７ Ｄ９３　（Φ尺〕　Ｃ３Ｈ１゜ Ｄ８４　〔Φ刈）　Ｃ３Ｈ１□ Ｄ８２　〔Φ刈）　Ｃ８Ｈ，□ Ｄ９６　〔Φ刈）　Ｃ１３Ｈ２，、−５−ＣＩＤ８７　
〔Φ刈〕　Ｃ３Ｈ１７ Ｄ９８　〔Φ刈〕Ｃｌ８Ｈ３７ Ｄ８８　〔Φ店〕　Ｃ３Ｈ１７ Ｄ１００〔Φ双〕　Ｃ３Ｈ１７ ＤＩＯＩ　（Φｖ）　Ｃ８Ｉ■１７ Ｄ１０２　ＣΦ■〕　Ｃ３Ｈ１７ Ｄ１０３　（Φに〕　Ｃ８Ｈ１７ ０１０４（Φｒ）　ＣＨＣＨ０ＣＯＣＨＣＨ３−２２３ Ｄ１０５　（ΦＩ）　ＣＨ２ＣＨ，、ＯＨＣＨ３−ＤＩ
Ｏｆｉ　（９ｍ）　ＣＨ３ＣＨ３−Ｌ　−■−又　−盈
一 （Ｌ　ＩＩ　）　ＨＣ）１３Ｃ６）１４ＳＯ３（Ｌｍ）
　−Ｎ　（Ｃａ　Ｈｓ　）　２　１　Ｃ）Ｉ３Ｃ６Ｈ４
Ｓｏ３（ＬＴＩ）　ＨＢｒ （Ｌｌｌ）　Ｈ、Ｉ 〔ＬＩＩ′〕−ＮＯＣＯＯＣ２Ｈｓ　”文０４（Ｌ　Ｉ
ｆ　）　ＨＩ （Ｌｍ）　−Ｎ（ＣｓＨｂ）２　１　Ｂｒ（Ｌｍ）　−
Ｎ（Ｃ８Ｈ５）２　１　、　Ｂｒ（Ｌｌｌ）　ＨＢｒ （Ｌｌｌ）　ＨＢｒ （ＬＩＩ）　ＨＢｒ （ＬＩＩ）　ＨＢｒ （Ｌｌｌ）　Ｈ’　−Ｂｒ （Ｌｌｌ）　ＨＣ３ＬＯａ （Ｌｌｌ）　ＨＢｒ （ＬＶＩ）　Ｂｒ　ｌ　Ｃ３Ｌ（）＋ Ｌ人迷　免よ覆　１上−ＪＬＬ”　Ｌｍ工１エ　−ＤＩ
０７　（ΦＩ）　Ｃ２Ｈｓ　ＣＨ３５−Ｃ１Ｄ１０８　
（ΦＩ）　Ｃ２Ｈ５ＣＨ３５−ｃ：Ｄ１０９　（ΦＩ）
　Ｃ２Ｈｓ　ＣＨ３５−ＣＤ＋１０　（ΦＩ）　Ｃ２Ｈ
５ＣＨ３５−ＣＤＩｌｌ　（ΦＩ）　Ｃ２８５ＣＨ３５
−ＣＤ１１２　（ΦＩ）　Ｃ２Ｈｓ　ＣＨ３５−ＣＤ＋
１３　（ΦＩ）　Ｃ２Ｈ５ＣＨ３５−ＣＤＩ＋４　（Φ
Ｉ）　Ｃ２１（５ＣＨ３５−Ｃ０１１５（ΦＩ）　ＣＨ
３ＣＨ３５−ＣＤＩＩ８　（ΦＩ）　ＣＨ３ＣＨ３５−
ＣＤ１１７　（ΦＩ）　ｎ−Ｃ４Ｈｇ　ＣＨ３５−ＣＤ
１１８　（ΦＩ）　ｎ−Ｃ，Ｈ２ＣＣＨ３５−ＣＤ１１
９　（ΦＩ）、（ＣＨ２）　４５０３−　ＣＨ３５−Ｃ
（ＣＨ２）４　５０３　Ｈ ０１２０（ΦＩ）　Ｃ２Ｈｓ　ＣＨ３５−ＣＬＬ　Ｌ　
Ｙ−叉　−Ｘ− １Ｈ５ｓＯ２（ＬＶＩ）　Ｂｒ　ｌ　ＩＩＨ５ｓＯ２（
Ｌｍ）　Ｃ１Ｉ　ＣＱＯａｉＨ５ｓＯ２（Ｌｍ）’　Ｃ
ｆＬ　Ｉ　Ｉｓ　Ｈｓ　Ｓ０２　（Ｌｍ）　０文　１　
（：）１３Ｃ６Ｈ４Ｓｏ３ｉ　Ｈ５Ｃ０２（Ｌ　ＶＴ）
　０文　Ｉ　ＢＦ４３　Ｈｓ　５０２　（ＬＶＩ）　０
文　ＩＣす０４ＢＨｂＳＯ２（ＬＶＩ）　Ｃ１ｌ・　ｌ
８Ｈ５３０２（ＬＶＩ）　０文　Ｉ　Ｃ）Ｉ３Ｃ６Ｈ，
５Ｏ３８Ｈｓ　５０２　（Ｌ■〕　０文　１０文０４ａ
　Ｈｓ　５０２　（Ｌ■）　Ｃ交　１　１ａ　Ｈｓ　Ｓ
０２　（ＬＶＩ）　０文　１０文０４ａ　８５　ＳＯ２
（ＬＶＩ）　０文　ＩＣ交０４８Ｈ５ＳＯ２（ＬＶＴ）
　Ｃ１ｌ　− ａ　８５　５０２　（ＬＶＩ）　Ｎ−−Ｃ−ＩＣ−ＣＮ
　１　−色人世　免工’ＰＬＬ工１上′　七Ｌ」ｂ０１
２２　ＣΦＩ）　Ｃ２ＨＦ、　ＣＨ３０１２３（ΦＩ）
　Ｃ２Ｈ５ｃ）（３ Ｄ１２４〔ΦＩ）　Ｃ２Ｈ５ＣＨ３ ０１２３（ΦＩ〕　Ｃ２１（５ＣＨ３ ０１２８’（ΦＩ）　Ｃ２）（５０Ｈ３Ｄ１２７　（Φ
Ｉ）　Ｃ２）（ＲＣＨ３０１２８（ΦＩ）　Ｃ２）（５
ＣＨ３ ０１２３（Φ皆）　ＣＨ２＝ＣＨＣ）１２　−Ｄ１３１
　（Φ跪）　ＣＩ（２＝ＣＨＣ）（２−ＤＩ３２　（Φ
瑠）　ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２−０１３３（Φ蹟）　ＣＨ２
＝ＣＨＣＨ２−０１３４（Φ席）　ＣＨ２＝ＣＨＣｊ（
２−Ｄ１３５　（Φ潤）　（ＣＨ２０ＣＩ（３−（ＣＨ
２）３Ｎ（ＣＨ３）２　− 一旦土　１−　１−　文　−Ｘ− ５−Ｃａ　Ｈ２ＣＯ（Ｌｍ）　０文　ｌｌ５−Ｃ８Ｈ５
ＣＯ（Ｌｍ）　Ｂｒ　ｌ　Ｈ５−Ｃｏ　Ｈｓ　Ｃｏ　（
Ｌｍ）　０文　Ｉ　Ｃｌ０ｔ＋５−Ｃａ　Ｈ５ＣＯ（Ｌ
ｍ）　Ｃ１Ｉ　ＣＨ３Ｃ６）１４Ｓｏ３５−Ｃ６Ｈ５Ｃ
Ｏ（ＬＶＩ）　（、Ｑ　Ｉ　Ｃ文０４５−Ｃａ　）（５
Ｃｏ　（Ｌ”１ｌＩ）　０文　１　ｒ５−Ｃａ　Ｈ５Ｃ
ｏ　（ＬＶＩ）　０文　Ｉ　Ｃ）１３Ｃ６Ｈ４Ｓｏ３５
−鴫：６Ｈ５Ｃｏ−ΦＩ　（Ｌｍ）　ＨＣＨ３Ｃ６）１
，５ｏ３−　（ＬＶＩ）　ＨｃＨ３ｃθｔｔ、５ｏ３５
−０文　〔Ｌｍ）　ＨＣ）Ｉ２Ｏ３）１，５０３５−Ｃ
ｓ　Ｈ５Ｓ０２　（ＬＶＩ）　ＨＣ）１３Ｃ６Ｈ，５ｎ
３５−Ｃａ　Ｈ５Ｃｏ　（ＬＶＩ）　ＨＣｌ０ａ（５−
ＮＯ２ＣＬ■）　１（Ｃ）Ｉ３Ｃ，Ｈ４５ｏ３６−Ｃ文 、５−Ｃａ　ＩＦ、　５０２　（Ｌ［）　ＨＣｊｌＯａ
’６−Ｎ０２ Ｌｌｈ　免−ｙ　且ニーー１工”　ｕ Ｄ１３６　（ΦＸＩ）　ＣａＩ２　− ＤＩ３７　（Φ席）　Ｃ２Ｈ４０Ｃ，）（３−ＤＩ３８
　（Φ周）　ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２−０１３９（Φ壓）　
Ｃ２Ｈ４０ＣＨ３−Ｄ＋４０　（Φ劇）　Ｃ２Ｈ４０Ｃ
Ｈ３−Ｄ１４１　（Φ藻）　ＣＨ２ＣＨＣＨ２−Ｄ１４
２　（ΦＩ）　’　ＣＨ３（’Ｈ３Ｄ１４３　（ΦＩ）
　ＣＨ３ＣＨ３ ０１４４（ΦＩ）　Ｃ２Ｈ４０ＣＯＣＨ３ＣＨ３０１２
３（ΦＶｌ）　’（ΦＶＴ−Ｃ２Ｈ５−〔Φ勲〕　ΦＭ
ｌｌｌ　Ｃ２Ｈ４Ｃ０ＣＨ５Ｄ１４８　（Φ■〕　ΦＶ
ｒ−Ｃ２Ｈ５−（Ｏ創’０ＸＩＩＩ−（ＣＨ２）４ＳＯ
３−一且土　Ｌ　Ｙ−且　−Ｘ− ５Ｃａ　Ｈ５Ｓ　Ｏ２（Ｌ　Ｖ［）　１（Ｃｌｌ３Ｃｅ
Ｈ４ＳＯ３５−ＮＯ２（ＬＶＩＩ［）　ＨＣＨ３Ｃ６Ｈ
，５ｏ３５　ＮＯ２、（ＬＶＩＩ）　ＨＣｕ０４５−Ｃ
ｓ　Ｈｓ　ＳＯ２（Ｌｍ）　ＨＣ１１３Ｇ８１１４Ｓｏ
３５　Ｃ’６　Ｈｓ　５０２　〔ＬＶＩｌ）　ＨＣ，＋
１０４Ｎ０２　（ＬＶＩＩ）　ＨＣす０４ ＣＨ３Ｃｏ　（ＬＩＴ）　ＨＣ１０４ ＣＨ３ＣＯ（Ｌｌｌ）　ＨＴ ＣＨ３ＣＯ（ＬＴＩ）　ＨＴ （５−ＮＯ２−ΦＶｌ　（Ｌｍ）ＨＨ ５−Ｃ６Ｈ５ＣＯ−Φ蹟 （ｓ−Ｎｏｚ　ｏｖｒ　（ＬＶＩ［）　Ｈ−５−Ｃｏ　
Ｈ２ＳＯ４−ＯＸ９１ このような色素は、大有機化学（朝食書店）含窒素複素
環化合物Ｉ４３２ページ等の成書に記載された方法に準
じて容易に合成することができる。 すなわち、まず対応するΦ′−ＣＨ３（Φ′は前記Φに
対応する環を表わす。）を、過剰のＲ，Ｉ　（Ｒ，はア
ルキル基またはアリール基）とともに加熱して、Ｒ１を
Φ′中の窒素原子に導入してΦ−ＣＨ５Ｉ−を得る。　
次いで、これを不飽和ジアルデヒドまたは不飽和ヒドロ
キシアルデヒドとアルカリ触媒を用いて脱水縮合すれば
よい。 さらに、このような色素は、通常、単量体の形で記録層
中に含有させられるが、必要に応じ、重合体の形で含有
させられてもよい。 この場合、重合体は１色素の２分子以上を有するもので
あって、これら色素の縮合物であってもよい。 例えば、−０）１、−ＣＯＯＨ、−３０３Ｈ等の官能基
の１種以上を、１個または２個以上有する上記色素の単
独ないし共縮合物、 あるいはこれらと、ジアルコール、ジカルボン酸ないし
その塩化物、ジアミン、ジないしトリイソシアナート、
ジェポキシ化合物、酸無水物、ジヒドラジド、ジイミノ
カルボナート等の共縮合成分や他の色素との共縮合物が
ある。 あるいは、上記の官能基を有する色素を、単独で、ある
いはスペーサー成分や他の色素とともに、金属系架橋剤
で架橋したものであってもよい。 この場合、金属系架橋剤としては、 チタン、ジルコン、アルミニウム等のアルコキシド、 チタン、ジルコン、アルミニウム等のキレート（例えば
、β−ジケトン、ケトエステル、ヒドロキシカルボン酸
ないしそのエステル、ケトアルコール、アミノアルコー
ル、二／−ル性活性水素化合物等を配位子とするもの）
。 チタン、ジルコン、アルミニウム等のアシレートなどが
ある。 さらには、−ＯＨ基、−０ＣＯＲ基　および−ＣＯＯＲ
ＪｉＣ（ここに、Ｒは、置換ないし非置換のアルキル基
ないしアリール基である）のうちの少なくとも１つを有
する色素の１種または２種以」−１あるいはこれと他の
スペーサー成分ないし他の色素とをエステル交換反応に
よって、−ＣＯＯ−基によって結合したものも使用可能
である。 この場合、エステル交換反応は、チタン、ジルコン、ア
ルミニウム等のアルコキシドを触媒とすることが、好ま
しい。 加えて、上記の色素は、樹脂と結合したものであっても
よい。 このような場合には、所定の基を有する樹脂を用い、上
記の重合体の場合に準じ、樹脂の側鎖に、縮合反応やエ
ステル交換反応によったり、架橋によったりして、必要
、に応じスペーサー成分等を介し、色素を連結する。 この他、４４ν願昭５８−１８１Ｈ７号、同５８−１８
１３８８号、同５８−１８３４５５号および同５Ｂ−１
８３４５６号に提案した色素も、同等に使用可能である
。 さらには、記録層中には、樹脂が含まれていてもよい。 用いる樹脂としては、自己酸化性、解重合性ないし熱可
塑性樹脂が好適である。 これらのうち、特に好適に用いることができる熱可塑性
樹脂には、以下のようなものがある。 ｉ）ポリオレフィン ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ４−メチルペンテ
ン−１など。 ｉｉ）ポリオレフィン共重合体 例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−ア
クリル酸エステル共重合体、エチレン−アクリル厳共重
合体、エチレンープロピレン共重合体、エチレン−ブテ
ン−１共重合体、エチレン−無水マレイン酸共重合体、
エチレンプロピレンターポリマー（ＥＰＴ）など。 この場合、コモノマーの重合比は任意のものとすること
ができる。 １ｉｉ）塩化ビニル共重合体 例えば、酢酸ビニルー塩化ビニル共重合体、塩化ビニル
−Ｉｌｌ化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−無水マレ
イン酸共重合体、アクリル酸エステルないしメタアクリ
ル酸エステルと塩化ビニルとの共重合体、アクリロニト
リル−１ｉ！化ビニル共東合体、塩化ビニルエーテル共
重合体、エチレンないしプロピレン−塩化ビニル共重合
体、エチレン−酢酸ビニル共重合体に１エエ化ビニルを
グラフト重合したものなど。 この場合、共重合比は任意のものとすることができる。 ｉマ）塩化ビニリデン共重合体 塩化ビニリデン−１１１化ビニル共重合体、塩化ビニリ
デン−１工↓化ビニル−７クリロニトリル共重合体、塩
化ビニリデン−ブタジェン−ハロゲン化ビニル共用合体
など。 この場合、共重合比は、任意のものとすることができる
。 マ）ポリスチレン マ１）スチレン共重合体 例えば、スチレン−アクリロニトリル共重合体（Ａｓ樹
脂）、スチレン−アクリロニトリル−ブタジェン共重合
体（ＡＢＳＩｔ脂）、スチレン−無水マレイン酸共重合
体（ＳＭＡ樹脂）、スチレン−アクリル酸エステルーア
　゛クリルアミド共重合体、スチレン−ブタジェン共重
合体（ＳＢＲ）、スチレン−塩化ビニリデン共重合体、
スチレン−メチルメタアクリレート共重合体など。 この場合、共重合比は任意のものとすることができる。 マｉｉ）スチレン型重合体 例えば、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、２
，５−ジクロルスチレン、α。 β−ビニルナフタレン、α−ビニルピリジン、アセナフ
テン、ビニルアントラセンなど、あるいはこれらの共重
合体、例えば、α−メチルスチレンとメタクリル酸エス
テルとの共重合体。 マ１ｉｉ）　クマロン−インデン樹脂 クマロン−インデン−スチレンの共重合体。 ｉｘ）テルペン樹脂ないしピコライト 例えば、α−ピネンから得られるリモネンの重合体であ
るテルペン樹脂や、β−ピネンから得られるピコライト
。 Ｘ）アクリル樹脂 特に上記式で示される原子団を含むものが女子ましい。 へ 上記式において、Ｒ１０は、水素原子またはアルキル基
を表わし、Ｒ２０は、置換または非置換のアルキル基を
表わす、　この場合、上型合体、アクリロニトリル−塩
化ビニル共重合体、アクリロニトリル−スチレン共重合
体、アクリロニトリル−塩化ビニリデン共重合体、アク
リロニトリル−ビニルピリジン共重合体、アクリロニト
リル−メタクリル酸メチル共重合体、７クリロニトリル
一ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−アクリル酸
ブチル共重合体など。 この場合、共重合比は任意のものとすることができる。 ｚｉｉｉ）ダイ７セトンアクリルアミドポリマーアクリ
ロニトリルにア七トンを作用させたダイア七トンアクリ
ルアミドポリマー。 ｘｉマ）ポリ酢酸ビニル Ｘマ）酢酸ビニル共重合体 例えば、アクリル酸エステル、ビニルエーテル、エチレ
ン、塩化ビニル等との共重合体など。 共重合比は任意のものであってよい。 ！マｉ）ポリビニルエーテル 犯人において、Ｒ１０は、水素原子または炭素原子数１
〜４の低級アルキル基、特に水素原子またはメチル基で
あることが好ましい。 また、Ｒ２Ｌｌは、置換、非置換いずれのアルキル基で
あってもよいが、アルキル基の炭素原子数は１〜８であ
ることが好ましく、また、Ｒ２０が置換アルキル基であ
るときには、アルキル基を置換する置換基は、水酸基、
ハロゲン原子またはアミン基（特に、ジアルキルアミ７
基）であることが好ましい。 このような上記式で示される原子団は、他のくりかえし
原子団とともに、共重合体を形成して各種アクリル樹脂
を構成してもよいが、通常は、上記式で示される原子団
の１種または２種以上をくりかえし単位とする単独重合
体または共重合体を形成してアクリル樹脂を構成するこ
とになる。 ｘｉ）ポリアクリロニトリル ｘｉｉ）アクリロニトリル共重合体 例えば、アクリロニトリル−酢酸ビニル共例えば、ポリ
ビニルメチルエーテル、ポリビニルエチルエーテル、ポ
リビニルブチルエーテルなど。 ｘｖｉｉ）ポリアミド この場合、ポリアミドとしては、ナイロン６、ナイロン
６−６、ナイロン６−１０、ナイロン６−１２．ナイロ
ン９、ナイロンｌｌ、ナイロン１２、ナイロン１３等の
通常のホモナイロンの他、ナイロン６／６−６７６−１
０、ナイロン６／６−６／１２、ナイロン６／６−６／
１１等の重合体や、場合によっては変性ナイロンであっ
てもよい。 ｘｖｉｉｉ）ポリエステル 例えば、シュウ酸、コハク酸、マレイン酸、アジピン酸
、セバステン酸等の脂肪族二塩基酸、あるいはイソフタ
ル酸、テレフタル酸などの芳香族二塩基酸などの各種二
塩基酸と、エチレングリコール、テトラメチレングリコ
ール、ヘキサメチレングリコール等のグリコール類との
縮合物や、共縮合物が好適である。 そして、これらのうちでは、特に脂肪族二塩基酸とグリ
コール類との縮合物や、グリコール類と脂肪族二塩基酸
との共縮合物は、特に好適である。 さらに１例えば、無水フタル酸とグリセリンとの縮合物
であるグリプタル樹脂を、脂肪酸、天然樹脂等でエステ
ル化変性した変性グリプタル樹＋１１−１等も好適に使
用される。 Ｘ１Ｘ）　ポリビニルアセタール系樹脂ポリビニルアル
コールを、アセタール化して得られるポリビニルホルマ
ール、ポリビニルアセタール系樹脂はいずれも好適に使
用される。 この場合、ポリビニルアセタール系樹脂のアセタール化
度は任意のものとすることができる。 菫りポリウレタン樹脂 ウレタン結合をもつ熱可塑性ポリウレタン樹脂。 特に、グリコール類とジイソシアナート類との縮合によ
って得られるポリウレタン樹脂、とりわけ、アルキレン
グリコールとアルキレンジイソシアナートとの縮合によ
って得られるポリウレタン樹脂が好適である。 ｘｘｉ）ポリエーテル スチレンホルマリン樹脂、環状アセタールの開環重合物
、ポリエチレンオキサイドおよびグリコール、ポリプロ
ピレンオキサイドおよびグリコール、プロピレンオキサ
イド−エチレンオキサイド共重合体、ポリフェニレンオ
キサイドなど。 ｘｘ　ｉ　ｉ）セルロース誘導体 例えば、ニトロセルロース、アセチルセルロース、エチ
ルセルロース、アセチルブチルセルロース、ヒドロキシ
エチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メ
チルセルロース、エチルヒドロキシエ、チルセルロース
など、セルロースの各種エステル、エーテルないしこれ
らの混合体。 ＸＸ目１）ポリカーボネート 例えば、ポリジオキシジフェニルメタンカーボネート、
ジオキシジフェニルプロバンカーポネート等の各種ポリ
カーボネート。 ｘｘｉマ）アイオノマー メタクリル酩、アクリル酸などのＮａ。 Ｌｉ、Ｚｎ、Ｍｇｊｎなど。 Ｘ菫マ）ケトン樹脂 例えば、シクロヘキサノンやアセトフェノン等の環状ケ
トンとホルムアルデヒドとの縮合物。 Ｘ！マｉ）キシレン樹脂 例えば、ｍ−キシレンまたはメシチレンとホルマリンと
の縮合物、あるいはその変性体。 ｘｘｖｉｉ）石油樹脂 Ｃｂ系、ｃ　、ｑ系、ｃ５−０９共重合系、ジシクロペ
ンタジェン系、あるいは、これらの共重合体ないし変性
体など。 Ｘ！マ１１１）上記ｌ）〜ｘｘマｉｉ）の２種以上のブ
レンド体、またはその他の熱可塑性樹脂とのブレンド体
。 なお、自己酸化性、熱可塑性等の樹脂の分子量等は、種
々のものであってよい・ このような自己酸化性、熱可塑性の樹脂と。 前記の色素とは１通常、重量比でｌ対ｏ、１〜１００の
広範な量比にて設層される。 このよ５な記録層中には、クエ７チャーが含有される二
しか至）しい１ これにより、￥ｌみ出し光のくりかえし照射によるＳ／
Ｎ比の再生劣化が減少する。 また、明室保存による耐光性が向上する−。 クエ／チャーとしては１種々のものを用いることができ
るが、特に、男性劣化が減少すること、そして色素結合
業脂との相溶性が良好であることなどから、遷移金属キ
レート化合物であることが好ましい。　この場合、中心
金属としては、Ｎｉ　、　Ｃｏ　、　Ｃｕ　、　Ｍｎ　
、　Ｐｄ　。 Ｐｔ等が好ましく、特↓（、下記の化合物が好適である
。 １）　アセチルアセトナートキレート系Ｑｌ−ＩＮｉ口
Ｄ　アセチルアセトナートＱｌ−２Ｃｕ（１１）７セー
Ｆルｌセトｆ−トＱ１−３　Ｍｎ（ＩＩ）　アセチルア
セトナートＱｌ−４Ｃｏ（１）　アセチルアセトナート
２）下記式で示されるビスジチオ−α−ジケト／系 ココに、（Ｉｌｌ〜ＲＩ４＋は、置換ないし非置換のア
ルキル基または了リール基を表わし、ＭはＮｉ　、　Ｃ
ｏ　、　Ｃｕ　、　Ｐｄ　、　Ｐｔ等の遷移金属原子を
表わす。 この場合１Ｍは一電荷をもち、４級アンモニウムイオン
等のカチオン（Ｃａｔ）と塩を形成してもよい。 なお、以下の記載に３いて、ｐｈはフェニル基、φ４−
１１．４−フエニレ７基、φ′は１゜２−フェニレ７基
、ｂｅｎｚは環上にてとなりあう基が互いに結合して縮
合ベンゼン環を形成することを表わすものである。 ３）下記式で示されるビスフェニルジチオ−ぼ８）　α
５） ｔいし ここ忙　１（５１、疹番移−は、水素またはメチル基、
エチル基などのアルキル基、　Ｃｔなとのハロゲン原子
、あるいはジメチルアミノ基。 ジエチルアミノ基などのアミノ基を表わし。 Ｍハ、　Ｎｉ　、　Ｃｏ　、　Ｃｕ、Ｐｄ　、　Ｐｔ等
の遷移金属原子を表わす。 また、上記構造のＭは一電荷をもって、４級ア／モニウ
ムイオ／等のカチオｙ（Ｃａｔ）と塩を形成してもよく
、さらＫはＭの上下には、さらに他の配位子が結合して
いてもよい。 このようなものとしては、下記のものがある。 ：ｅ　Ｔ：　ＣＪ　（Ｊ　：Ｃ：　：ｅ　工　＝　工　
エズ ＝　工　Ｑ　−：　＝　工　＝＝＝ この他、特開昭５０−４５０２７号や特願昭５８−１６
３０８０号に記載したものなど。 ４）下記式で示されるジチオカルバミノ酸キレート系 ここに、＋ｔ（９１および一〇はアルキル基を表わす。 　また、ＭはＮｉ　、　Ｃｏ　、　Ｃｕ　、　Ｐｄ　、
　Ｐｔ等の遷移金属原子を表わす。 Ｒ１９１、ＲａＱ　Ｍ ４−ｓ− ０４Ｈ９Ｎ　ｉ ５）下記式で示される化合物 ここに、Ｍは、遷移金属原子を表わし。 表わし、Ｃａｔは、カチオンを表わす。 Ｍ　Ｑ　Ｃａｔ ―−−−■−響−■−■■一時喝−−曜−１工、１．．
１１．１１．１゜Ｑ５−Ｉ　Ｎｉ　Ｑ１２２Ｃ１，Ｈ，
３Ｎ”（ＣＨ３）。 Ｑ５　２　Ｎ＋　Ｑ１２２（Ｃ，１１９）４””Ｑ５−
３　Ｃｏ　Ｑ１２２（Ｃ，Ｒ９）４Ｎ”Ｑ５−４　Ｃｕ
　Ｑ１２２（Ｃ，Ｈ，）、Ｎ”Ｑ　５　５　Ｐ　ｄ　Ｑ
１２２（０，Ｈｓ　）　４”この他、特願昭５８　１２
５６５４号に記載したもの。 ６）下記式で示される化合物 ここ罠、 Ｍは１Ｍ移金金属原子表わし。 し。 ｆ！ｌｌｌおよび−は、それぞれ、ＣＮ　、　Ｃ０１ｍ
　、　Ｃ００ＦＬ（１４１、ｃｏＮａｌｌ！ｉ　、ａｌ
ｌＢ　マタハｓｏ、ｔｌを表わし。 １（１３〜−ηは、それぞれ、水素原子または置換もし
くは非置換のアルキル基もしくはアリール基を表わし。 Ｑ２は、５員または６員環を形成するのに必要な原子群
を表わし、 Ｃａｔは、カチオンを表わし、 ｎは１または２である。 この他、特願昭５８−１２７０７４号忙記載し九本の。 ７）下記式で示される化合物 ここに、Ｍは、遷移金属原子を表わし、Ｃａｔは、カチ
オンを表わし、 ｎは１または２である。 Ｍ　Ｃａ　ｔ Ｑ？−Ｉ　Ｎｉ　２（（ｎ−Ｃ，Ｒ９）３ＮＱ７−２　
Ｎｉ　２（ｎ−Ｃ□６Ｈ，、（ＣＨ，）３Ｎ〕この他、
特願昭５８−１２７０７５号に記載したもの。 ８）ビスフェニルチオール系 Ｑ８　１　Ｎｉ−ビス（オクチルフェニル）サルファイ
ド ９）下記式で示されるチオカテコールキレート系 ここに、Ｍは、Ｎｉ　、　Ｃｏ　、　Ｃｕ　、　Ｐｄ　
、　Ｐｔ等の遷移金属原子を表わす。 また１Ｍは一電荷をもち、カチオン（Ｃａｔ）と塩を形
成していてもよく、ベンゼン環は置換基を有していても
よい。 Ｍ　Ｃａｔ Ｑ９−Ｉ　Ｎｉ　Ｎ”（Ｃ’４Ｈ，）　。 １０）下記式で示される化合物 ここに、（（（１１は、１価の基を表わし。 ｔは、θ〜６であり、 Ｍは、遷移金属原子を表わし、 Ｃａｔは、カチオンを表わすＯ Ｍ　−五　Ｃａｔ ＱＩＯ−Ｉ　Ｎｉ　ＨＯＮ（ｎ−Ｃ，Ｈ，）。 Ｑ　１０−２　Ｎｉ　ＣＨ３１Ｎ（ｎ−Ｃ４Ｈ，）４こ
の他、特願昭５８−１４３５３１号に記載したもの。 ｔｔｌ”Ｉ　Ｎ あ １２１１ ここに、上記一般式（１）および（１）において。 ｐ、ＦＩ２ｏ、ＦＦ４および岬は、それぞれの水素原子
または１価の基を表わし。 ４４、ＦＩＳ、Ｒ１２１ｉおよび−は、水素原子または
１価の基を表わすが、Ｆ６１ａと−、ＦＰと−・−と−
は、互いに結合して６員環を形成してもよい。 また１Ｍは、遷移金属原子を表わす。 ２１２２ 駆１　工　工 偽１−　＝ も１エ　エ Ｐ５ この他、特願昭５８−１４５２９４号に記載したもの。 １２）下記式で示される化合物 ここに、Ｍは、　Ｐｔ　＊　ＮｔまたはＰｄを表わし、
ｘ、　、　ｘ、１．　ｘ８．　ｘ４は、それぞれ、０ま
たはＳを表わす。 Ｑ１２−Ｉ　Ｎｉ　Ｏ０００ Ｑ１２−２　Ｎｉ　Ｓ　Ｓ　Ｓ　Ｓ この他、特願昭５８−１４５２９５号に記載したもの。 １３）下記式で示される化合物 ここに、Ｗすは、置換もしくは非置換のアルキル基また
はアリール基であり、 ＲＣＩ　、　、ＧＬｌ　、−および一時は、水素原子ま
たは１価の基を表わすが、−と−、−と鹸）、−とＢ（
４は、互いに結合して６員環を形成してもよい。 また、Ｍは、遷移金属原子を表わす。 Ｑ１３−１　ｎＣ，Ｈ９ＨＨＨＨＮ１ Ｑ１３　２　ｃ６■５　ＨＨｃ２Ｈ５ＨＮ１Ｑ１３−３
　ｎＣ，Ｈ９ＨＨｂｅｎｚ　Ｎｉこの他、特願昭５８−
１５１９２８号に記載したもの。 １４）下記両式で示される化合物 ここに、鹸１）　、１（４２）　、Ｆ＄１および−は、
それぞれ、水素原子または１価の基を表わすが。 Ｒ（４１）とＲ（ロ）、　Ｒ（噂と−、−とＲ（４４）
は、互いに結合して６員環を形成してもよい。 また、

【＄１および［（＋４１は、水素原子または１価
の基を表わす。 さらに、Ｍは、遷移金属原子を表わす。 Ｑｌ４−１　＋１　ＨＨＨＨ−Ｎ１ Ｑ１４−２　１−Ｉ　Ｉ　Ｃ，Ｈ，ＯＣＯＨＨ−Ｎｉこ
の他、特願昭５８−１５１９２９号に記載したもの。 １５）下記式で示される化合物 ココニ、Ｒ（５１１、Ｈｊ２）　、（（（５３）　、＋
５４　、［＄呻、ＲＨ（＄ｉおよびＲ（−は、それぞれ
、水素原子または１価の基を表わすが、 α５υ、Ｒ（５：４　、　Ｒ（５：！ｌ　トｍｓ’ｌ　
、　Ｂｔ、ｑ　トｉ５４　、　Ｒ（ｓｄト、ｆｓ４　、
　Ｒ１５１トｔｔＨオヨヒＲ”ｉ　ｈ　ａ（’Ｉ＋ｉ、
　互ｙ、に結合して６員環を形成してもよい。 Ｒ（５′４は、水素原子または置換もしくは非置換のア
ルキル基もしくはアリール基を表わす。 Ｘはハロゲンを表わす。 〜！は、遷移金属原子を表わす。 １ σ　σ この他、特願昭５８−１５３３９２号に記載したもの。 １６）下記式で示されるサリチルアルデヒドオキシム系 ａ（６す 藺 ここに、−および静すは、アルキル基を表わし、Ｍは、
Ｎｉ　＊　Ｃｏ　、　Ｃｕ　、　Ｐｄ　、　ＰＬ等の遷
移金属原子を表わす。 Ｑｌ６−１　ｉ　−Ｃ３Ｈ，１−Ｃ５Ｈ７ＮｉＱ１６−
２　（ＣＨ・）ｌｌＣＨ３（ＣＨ，）０．ＣＨ，Ｎ１Ｑ
１６−３　（ＣＨ２）０、ＣＲ５（ＯＨ，）０．ＣＨ３
Ｃ。 Ｑｌ　６　４　（ＣＨ２）１１ＣＨ３（ＣＨａ）ｔ　ｌ
”Ｒ３ＣｕＱ１６−５　Ｃ６Ｈ，Ｃ６Ｈ，Ｎ１ Ｑ１６−６　Ｃ，Ｒ３Ｃ，Ｒ５Ｃ。 Ｑｌ６−７　Ｃ６Ｈ６Ｃ，Ｈ３−Ｃｕ Ｑ１６−８．　Ｎ）（Ｃ，Ｈ，ＮＨＣ６Ｈ，Ｎ１Ｑ１６
　９　０ＨＯＨＮｉ １７）下記式で示されるチオビスフエル−トキここに１
Ｍは前記と同じであり、一時　およびＲ（Ｅ４は、アル
キル基を表わす。　またＭは一電荷をもち、カチオン（
Ｃａｔ）と塩とを形成して（てもよい。 Ｑｌ　７−１　ｔ−Ｃ，ＨＬ、Ｎｉ　Ｎ”Ｈ３（Ｃ，Ｈ
，）Ｑｌ７−２　ｔ−Ｃ，ＨＬ、　Ｃｏ　Ｎ″Ｈ，３（
Ｃ，Ｈ，）Ｑｌ７−３　ｔ−Ｃ，Ｈ，、Ｎｉ　− １８）下記式で示される亜ホスホン酸キレート系ここ［
、Ｓｌは前記と同じであり、可７１）およびｊ（（７４
は、アルキル基、水酸基等の置換基を表わす。 ぽ１）　、　Ｒ（殉　Ｍ Ｑ１８−１１１１ゞ−５−ｔ　−Ｃ４）（９、６−ＯＨ
Ｎｉ１９）下記各式で示される化合物 ここに、Ｒ（８１）　、　ＲＭ　、−およびＲ（榊は。 水素原子または１価の基を表わすが。 Ｒ（８りと−、−一と−８３）、−と−は、互いに結合
して、６員環を形成してもよい。 α噌および−は、それぞれ、水素原子または置換もしく
は非置換のアルキル基もしくはアリール基を表わす。 −は、水素原子、水酸基または置換もしくは非置換のア
ルキル基もしくはアリール基を表わす。 げηは、置換または非置換のアルキル基またはアリール
基を表わす。 Ｚは、５員または６員の環を形成するのに必要な非金属
原子群を表わす。 Ｍは、遷移金属原子を表わす。 ａｎ　ｃｈ　Ｏ’１ ｃｙ（ｙ　σ この他、特願昭５８−１５３３９３号に記載したもの。 ２０）下記式で示される化合物 ＦＬ（ｇ４Ｒ（９１） ここに、ａ（９１）およびＩｔ（’Ｅｉ３は、それぞれ
、水素原子、置換または非置換のアルキル基、アリール
基、アシル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基Ｎ−アリー
ルカルバモイル基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ
−アリールスルファモイル基、アルコキシカルボニル基
またはアリーロキシカルボニル基を表わし、 Ｎ１は、遷移金属原子を表わす。 、、ｆ’＋ｔｌ　ａ＋’ｎ　Ｍ Ｑ２０−１　ｎＣ，Ｈ８Ｏ−１，Ｎ１ Ｑ２０−２　ＣＨ３Ｃｌ−１ρ−φ−ＮＨＣＯ歯この他
、゛特願昭５８−１５５３５９号に記載したもの。 この他、他のクエンチャ−としては、下記の工うなもの
がある。 １）ベンゾエート系 Ｑ２１−１　既存化学物質３−３０４０（チヌビ７−１
２０（’チパガイイー社製）〕 ２）ヒンダードアミン系 Ｑ２２−１　既存化学物質５−３７３２　（８ＡＮＯＬ
Ｌ８−７７０　（三共製薬社製）〕。 これら各クりンチヤ−は、色素１モルあたり０．０１〜
１２モル、特に０．１〜１−２モル程度含有される。 なお、クエンチャ−の極大吸収波長は、用いる色素の極
大吸収波長以上であることが好ましい。４ これにエフ、再生劣化はきわめて小さくなる。 の こも場合、両者の差は０か一３５０ｎｍ以下であふこと
が好オしい。 このような記録層を設層するには、一般に常法に従い塗
設すればよい。 そして、記録層の厚さは、通常、０．０３〜１０ルｍ程
度とされる。 なお、このような記録層には、この他、他の色素や、他
のポリマーないしオリゴマー、各種Ｏｆ塑剤、界面活性
剤、帯電防出剤、滑剤、難燃剤、安定剤、分散剤、酸化
防止剤、そして架橋剤等が含有されていてもよい。 このような記録層を設層するには、通常、基体上に所定
の溶媒を用いて塗布、乾燥すればよい。 この場合１通常は、前記一般式（Ｉ）で示される化合物
と、酸性材料と、クエンチャ−と、必要に応じ樹脂とを
所定の溶媒に溶解して塗布液とすればよく、このとき、
塗布液中にて、あるいは塗ＤＩ形成後に、反応呈色物が
生成する。 あるいは前記したように、予め反応呈色物を形成して、
これを塗布液中に添加することもできる。 なお、ｑ　ｒｌｊに用いる溶媒としては、例えばメチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサ
ノン等のケトン系、酢酸ブチル、酢酸エチル、カルピト
ールアセテート、ブチルカルピトールアセテ−′ト等の
エステル系、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等の
エーテル系、ないしトルエン、キシレン等の芳香族系。 ジクロロエタン等のハロゲン化アルキル系、ア張力、熱
伝導度等を改善するために、基体上にプライマーをコー
ティングすることもできる。 プライマーとしては１例えば、チタン系、シラン系、ア
ルミ系のカップリング剤や、各種感光性樹脂等を用いる
ことができる。 また、記録層上には、必要に応じ、各種最上層保護層、
ハーフミラ一層などを設けることもできる。　ただし、
記録層は単層膜とし、反射層を記録層の１−または下に
積層しないこ−とが好ましい。 上記の記録層を有するものであってもよく、その両面に
記録層を有するものであってもよい。 また、基体の一面上に記録層を塗設したものを２つ用い
、それらを記録層が向かいあうようにして、所定の間隙
をもって対向させ、それを密閉したりして、ホコリやキ
ズがつかないようにすることもできる。 ■　発明の具体的作用 本発明の光記録媒体は、走行ないし回転下において、書
き込み光を記録層側ないし基体側からパルス状に照射す
る。 このとき記録層中の色素の発熱により、自己酸化性の樹
脂が分解するか、あるいは熱可塑性樹脂や、色素が融解
する等により、ピットが形成される。 このように形成されたピ・ントは、やはり媒体の走行な
いし回転下、記録層側ないし基体側から、読み出し光の
反射を検出することにより読み出される。 また、基体面にトラッキング用の溝を有する場合、トラ
ッキングの制御を行うには、通常。 記録または再生を行ないながら、反射光を２分割した一
対のセンサーに導入する。　このときビームスポットが
記録トラック部をはずれかけると、溝の存在により反射
光に位相差が生じ、干渉効果による一次光が一方に偏よ
るので、両センサーの信号の差を検出すれば、トラック
エラー信号が検出されることになる。　こ　の　トラッ
クエラー信号はフィードバック電子回路に導かれ、レン
ズアクチュエータを駆動することによって、常に記録ト
ラック部にビームスポットが位置するように制御される
。 このような場合、占き込みおよび読み出しは、基体側か
ら行っても、記録層側から行ってもよいが、ノ、（体を
通して行うことが好適である。 そして、−且記録層に形成したピットは、これを平坦化
して消去を行い、その後再書き込みを行うことができる
。　そして、このような消去−再書き込みは、繰り返し
何回も安定に行うことができる。 なお、書き込みないし読み出し光としては、半導体レー
ザー、Ｈｅ−Ｎｅ−レーザー、Ａｒ−レーザー、Ｈｅ−
Ｃｄ−レーザー等を用いることができる。 また、消去は、熱や溶媒によってもよいが、特に光（レ
ーザー光）を用いて、より好ましくは線消去ないしビッ
ト消去を行うことが好ましい。 ■　発明の具体的効果 本発明によれば、書き込み時や消去時等の、記録層の発
熱による基体の熱的変形が少なく、Ｓ／Ｎ比の劣化がき
わめて小さい。　こ　の場合、基体をとおして書き込み
ゃ消去を行う時にも、このＳ／Ｎ比の劣化はきわめて小
さい。 また、記録Ｈ！１塗設時の塗布溶媒によって、基体表面
がおかされることがないので、反射率の低下やＳ／Ｎ比
の低下がきわめて少ない、　また、Ｓ／Ｎ比の経時劣化
もきわめて少ない。 そして、基体表面のトラッキング用のトラ・ンキング用
の溝の形成が成型時に行えるので、溝サイズがきわめて
散布に制御でき、しかも製造が容易で３１１．産性にと
む。 しかも、溝を形成した時に、塗布溶媒や発熱によるトラ
ッキング溝の変形がなく、トラフキング制御を確実に行
うことができる。 Ｖｌ　発明の具体的実施例 以下、未発’５１の具体的実施例を示し、本発明をさら
に詳細に説明する。 実施例１ 下記の媒体Ｓ１〜Ｓ４を用意した。 Ｓｌ（比較） １．５ｍｍ厚、３０ｃＩＩｌφのポリメチルメタクリレ
−トノ＾体表面に、スタンパ−により、深さ０．０７ｐ
＋″・Ｉｌｌ　Ｏ・８μｍの溝をス、＜イラル状に形成
したもの。 ２ 下記組成物を、８０　Ｗ／ｃｔｍの高圧水銀ランプにて
１５秒間硬化させて成型した、５１と同一形状・寸法の
溝つきのもの。 〈組成物Ａ〉 プレポリマー　；ポリエチレングリコールと２．４−ト
リレンジインシアナートとから合成されたポリウレタン
に、２−ヒドロキシエチルメタクリラートを反応させた
ちの モノマー　；２，４−）リレンジインシアナートを２−
ヒドロキシエチルメタクリラートでウレタン化したもの
に、トリエタノールアミンを含有されたもの 開始剤：ジアルコキシアセトフェノン ３ 下記組成物を、１００誓／ｃｍの高圧水銀ランプにて１
０秒間硬化させて成型した、３１と同一形状・寸法の溝
つきのもの。 〈組成物Ｂ） プレポリマー　；分子１１０００のエポキシ樹脂と、ア
クリル酸と、メチルテトラヒドロフタル酸無水物とから
作られたエポキシアクリ　ラ　−ト モノマ−；ペンタエリトリトールテトラアクリラート 開始剤　；　２−　ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン次
いで、１゛記表１に示される色素り、樹脂Ｒ、クエンチ
ャ−Ｑとを用い、表１に示される割合にて所定の溶媒中
に溶解し、各基板上にチタンキレート化物の加水分解被
膜を形成し、さらにＯ，Ｏ’７ｐ、ｔｓの厚さに塗布設
層して、各種媒体をえた。 この場６　、ｋ　ｔにおいて、ＫＴは、へロン８０（本
州化学工業社製　ケトン樹脂）である。 さらに、用いた色素は、上記にて例示した陽、のちのを
用いた。 加えて、用いたクエンチャ−は、上記にて例示したもの
の陽、で示される。 そして、表１には、Ｒ／Ｄの重量比と、Ｑ／Ｄの重量比
とが併記される。 このようにして作製した各媒体につき、これを１８００
　ｒｐｎｒで回転させながら、　ｋｌＧ　ａＡｓ−Ｑａ
Ａｓ半導体レーザー記録光（８３０ｎ’ａ＋）をｌ＃Ｌ
ｍφに集光しく集光部出力　ｌＯｍＷ）　、所定周波数
で、パルス列状に照射した。 各媒体につき、書き込み光のパルスｌ】を変更して照射
し、消光比１．４が得られるパルスｌ】を測定し、その
逆数をとって、書き込み感度とした。　結果を表１に示
す。 この場合、消光比は、後述の読み出し光の媒体表面の反
射率のビラト部における減衰度である。 これとは別に、パルス巾を１ｏＯｎｓｅｃとして書き込
みを行った。 コノ後、ｌ　ｍＷｃ７）半導体レーザー（８３０ｎｍ）
読み出し光を１ＩＬｓｅｃ巾、３　Ｋ）Ｉｚのパルスと
して照射して、ディスク表面におけるピークー表１に示
される結果から、本発明の効果があきらかである。 実施例２ 実施例１の媒体　陶、２〜５を用い、実施例１と同様に
書き込みを行ったのち、ホットプレートを用い、媒体を
１５０℃、１５秒間加熱して消去を行ったところ、各媒
体ともくりかえし何回もの消去、再書き込みが良好にで
きることが確認された。 出願人　ティーディーケイ株式会社 代理人　弁理士　石　井　陽　− 第１頁の続き ■発明者　高橋　−夫　東京 式会

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. （１）　活性輻射線により硬化可能な化合物またはその
   組成物を活性輻射線によって硬化して成型してなる基体
   を有し、この基体表面に、色素またはその組成物からな
   る記録層を有することを特徴とする光記録媒体。
2. （２）　活性輻射線が、紫外線である特許請求の範囲第
   １項に記載の光記録媒体。
3. （３）　基体の記録層担持表面に、トラッキング用の溝
   が形成されている特許請求の範囲第１項または第２　ｑ
   ＋に記載の光記録媒体。
4. （４）　溝の深さが、０．０１〜３終ｌである特許請求
   の範囲第１項ないし第３項のいずれかに記載の光記録媒
   体。
5. （５）　記録層に反射層が積層されていない特許請求の
   範囲第１項ないし第４項のいずれかに記載の光記録媒体
   。
6. （６）　基体の記録層担持面逆側から、基体をとおして
   書き込みと読み出しを行うように構成してなる特許請求
   の範囲第１項ないし第５項のいずれかに記載の光記録媒
   体。
7. （７）　記録層の厚さが、Ｏ，，０１〜２ＪＬｍである
   特許請求の範囲第１項ないし第６項のいずれかに記載の
   光記録媒体。
8. （８）　色素の組成物が、樹脂を含む特許請求の範囲第
   １項ないし第７項のいずれかに記載の光記録媒体。
9. （９）　色素の組成物が、クエンチャ−を含む特許請求
   の範囲第１項ないし第８項のいずれかに記載の光記録媒
   体。 （ｌＯ）　記録層が塗布によって形成されている特許請
   求の範囲第１項ないし第９項のいずれかに記載の光記録
   媒体。