JPS6097765U - 真空蒸着用蒸発装置 - Google Patents

真空蒸着用蒸発装置

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JPS6097765U
JPS6097765U JP18793283U JP18793283U JPS6097765U JP S6097765 U JPS6097765 U JP S6097765U JP 18793283 U JP18793283 U JP 18793283U JP 18793283 U JP18793283 U JP 18793283U JP S6097765 U JPS6097765 U JP S6097765U
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JP
Japan
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evaporation source
evaporation
electron beam
electron
electron gun
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Pending
Application number
JP18793283U
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English (en)
Inventor
弘 高橋
Original Assignee
株式会社エイコーエンデニアリング
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は、真空蒸着用蒸発装置の従来例を示す説明図、
第２図は、この考案の一賞施例を示す縦　゛断説明図で
ある。 １１・・・蒸発源、１３・・・電子銃、１４・・・偏向
手段、１５・・・真空槽の排気系、１６・・・スリット
、１７・・・真空槽、２０・・・副真空槽、２１・・・
副真空槽の排気系、２２・・・電子レンズ、ＥＢ・・・
電子線。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 電子銃、蒸発源及び偏向手段からなり、真空蒸着のため
    電子銃から発射された電子線を偏向して蒸発源に照射さ
    せることにより、同蒸発源を加熱、蒸発させる蒸発装置
    において、電子銃を蒸発源の側方に配置すると共に、蒸
    発源を含む空間と、電子銃を含む空間とを仕切ることに
    よってその間を圧力遮断し、これら雨空間にそれぞれ独
    立した排気系を備え、その間の電子線の照射径路上に同
    電子線が通過するに充分な広さを持つスリットを開設す
    ると共に、同照射径路上に電子銃から発射された電子線
    を集束する電子レンズと、同電子線を蒸発源に集束照射
    させる偏向手段を配置し、電子銃側から発射された電子
    線を９０°偏向して蒸発源に照射するようにしたことを
    特徴とする真空蒸着用蒸発装置。
JP18793283U 1983-12-05 1983-12-05 真空蒸着用蒸発装置 Pending JPS6097765U (ja)

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS51135882A (en) * 1975-05-20 1976-11-25 Osaka Kouon Denki Kk Process for supplying continu ously evaporating substance

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS51135882A (en) * 1975-05-20 1976-11-25 Osaka Kouon Denki Kk Process for supplying continu ously evaporating substance

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