JPS6073216U - 磁性膜作製装置 - Google Patents

磁性膜作製装置

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JPS6073216U
JPS6073216U JP16502183U JP16502183U JPS6073216U JP S6073216 U JPS6073216 U JP S6073216U JP 16502183 U JP16502183 U JP 16502183U JP 16502183 U JP16502183 U JP 16502183U JP S6073216 U JPS6073216 U JP S6073216U
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JP
Japan
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magnetic film
base material
evaporation source
slit
space
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JP16502183U
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JPH0322900Y2 (ja
Inventor
龍野　哲男
有川　節
弘 高橋
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Taiyo Yuden Co Ltd
Original Assignee
Taiyo Yuden Co Ltd
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Publication date
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  • Thin Magnetic Films (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は、この考案の実施例を示す磁性膜製作装置の説
明図、第２図は、第１図のＡ−Ａ線切断面図である。 １・・・被蒸着面を含む空間を形成する真空槽、３・・
・蒸発源を含む空間を形成する蒸発室、６・・・電子銃
、９・・・基材、１０・・・蒸発源、１１・・・スリッ
ト、１４．１５・・・給排気系、ａ・・・被蒸着面、Ｅ
Ｂ・・・電子線。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 １　酸素ガス雰囲気中で基材の上に磁性材料を真空蒸着
    して磁性膜を作製するようにした装置において、基材の
    被蒸着面を含む空間と蒸発源を含む空間を仕切り、蒸着
    に必要かつ最小限の広さを持つスリットをこれら雨空間
    の間に開設して、蒸発源を被蒸着面に臨ませ、蒸発源を
    含む空間側には、上記蒸発源に電子線を照射する電子銃
    を配置し、上記各空間をそれぞれ独立した給排気系によ
    り圧力制御するようにしたことを特徴とする磁性膜作製
    装置。 ２　長い基材の幅方向に沿って細長いスリットを開設し
    、電磁偏向等の手段によって、蒸発源に対し同スリット
    の長手方向に電子線を掃引照射して磁性材料を蒸発する
    ようにした実用新案登録請求の範囲第１項記載の磁性膜
    作製装置。
JP16502183U 1983-10-25 1983-10-25 磁性膜作製装置 Granted JPS6073216U (ja)

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JPS6073216U true JPS6073216U (ja) 1985-05-23
JPH0322900Y2 JPH0322900Y2 (ja) 1991-05-20

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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54116202A (en) * 1978-03-01 1979-09-10 Tdk Corp Production of magnetic recording media
JPS5812317U (ja) * 1981-07-14 1983-01-26 村田　信夫 自動開洋傘の安全装置
JPS58124467U (ja) * 1982-02-17 1983-08-24 日本真空技術株式会社 真空蒸着装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54116202A (en) * 1978-03-01 1979-09-10 Tdk Corp Production of magnetic recording media
JPS5812317U (ja) * 1981-07-14 1983-01-26 村田　信夫 自動開洋傘の安全装置
JPS58124467U (ja) * 1982-02-17 1983-08-24 日本真空技術株式会社 真空蒸着装置

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JPH0322900Y2 (ja) 1991-05-20

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