JPS61100000A - 情報記憶装置 - Google Patents

情報記憶装置

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JPS61100000A
JPS61100000A JP59218707A JP21870784A JPS61100000A JP S61100000 A JPS61100000 A JP S61100000A JP 59218707 A JP59218707 A JP 59218707A JP 21870784 A JP21870784 A JP 21870784A JP S61100000 A JPS61100000 A JP S61100000A
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Japan
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power supply
supply terminal
terminal
write
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Yoshinori Okajima
義憲 岡島
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Fujitsu Ltd
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Priority to DE8585307561T priority patent/DE3585201D1/de
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  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はたとえばバイポーラトランジスタによる大容量
ランダムアクセスメモリ(RAM)の冗長回路において
不良アドレスを記憶するのに用いられる情報記憶装置に
関する。
従来の技術および発明が解決しようとする問題点 通常大容HMOsRAMには冗長構成が採用されておυ
、これによシ、不良メモリセルが発生した場合、該不良
メモリを含む行もしくは列の選択時には予備行もしくは
列を選択するようにして不良メモリセルを救済し、歩留
シな向上させている。最近、このような冗長構成はパイ
ポーラトランジスタRAMにも適用しようとする動きが
おる。
第2図には最近提案されたバイポーラトランジスタスタ
ティックRAJilIが示されている。第2図において
、1は64にスタティックセル、2は冗長アレイである
。なお、冗長アレイは2以上の行もしくは列アレイでも
よいが、ここでは、説明を簡単にするために1行アレイ
とする。メモリセルアレイ1の1行は、アドレス記憶回
路3、ワードデコーダ4、ワードドライバ5によって選
択される。
つ=l、外部からのローアドレス信号AQ  、A1・
・・・、A7がローアドレスパ、ファ3によりて内部ロ
ーアドレス信号All  # At  e・・・、A7
およびこれらの反転信号AO#Al  e・・・、A7
に変換され、これらの信号AOe At  s ”’ 
# At  t AOp A1+・・・、A7を受信し
てワードデコーダ4は256(1のワードドライバ5の
うち1つすなわちワード練乳◎1wL11.・・・1w
L2ssの1つを駆動させる。メモリセルアレイ1の1
列も同様の列選択手段(図示せず)によりて選択される
メモリセルアレイ1のすべてセルが正常であれば何ら問
題はなく、第1図の回路は通常の装置として作用するが
、第1図のメモリセルアレイ1に不良セルが発見された
場合には、この不良セルを含ム行のローアドレス(以下
、不良ローアドレスとする)がアドレス記憶回路6(で
書込まれろ。ローアドレス信号A。9人! 、・−#A
、はアドレス比較回路7によって常にアドレス記憶回路
6に書込まれた不良ローアドレス信号AOH+ AIH
+・・・、A7Rと比較されている。この結果、ローア
ドレス信号A、、Al 、・・・tAy と不良ローア
ドレス信号A、oRI ASB + ”” r A7B
とが一致したときには、アドレス比較回路7はドライバ
8を駆動させて冗長アレイ2を選択し、逆に、ワードド
ライバ5をディセーブルにしてメモリセルアレイ1の選
択を行わないようにしている。
従来、第1図のアドレス記憶回路6として適切な装置は
存在し得なかった。
問題を解決するための手段 本発明の目的は、第1図のアドレス記憶回路6に適する
新規な情報記憶装置を提供することにあ)、その手段は
、第1の電源端子、第2の電源端子第1の電源端子と第
1のノードとの間に順バイアス方向に接続された少なく
とも2段のダイオード、第10ノードと第2の電源端子
との間に接続された電流源または抵抗、および第1の電
源端子と第1のノードとの間に接続されたPROMセル
を具備し、PROMセルの書込みfまたは非書込み状態
に応じて第10ノードよシハイまたはローの電位を出力
するようにした情報記憶装置である。
また、他の手段によれば、PROMセルに1段のダイオ
ードを付加し、第1の電源端子と第1のノードとの間の
ダイオード段を3段以上にしてもよい。
さらに、他の手段は第4の電源端子、第2の電源端子、
書込み電源端子、第1の電源端子と第1のノードとの間
に順バイアス方向に接続された少なくとも3段のダイオ
ード、第10ノードと第2の電源端子との間に接続され
た第1の抵抗、第1のノードと第2のノードとの間に上
述の3段のダイオードと同一導通方向に接続された1段
のダイオード、第2のノードと第2のpRt源端子との
間に接続された第2の抵抗、第1の電源端子と書込み端
子との間〈逆バイアス方向に接続された1段のダイオー
ド、書込み端子と第20ノードとの間に接続された接合
破壊型PROMセル、第2のノードと第2の電源端子と
の間に接続された書込み用スイ、チング素子、および接
合破壊型PROMセルの破壊の有無に応じた第1.第2
0ノード電位差を検出してPROMセルのデータを読出
すPROMセル読出手段を具備する情報記憶装置である
他の手段によれば、第1のノード側と同様の3段のダイ
オードを第20ノードに付加すること罠より、第1.第
20ノード各電位を決定する回路を分離しても同様の動
作が可能である。また、第1の電源端子と書込み端子と
の間に接続されたダイオードを抵抗に置換え、且つ3段
のダイオードを1段減少させてもよい。
作用 上述の構成によれば、接合破壊型PROMセルが破壊さ
れていなければ、第10ノードの電位は第2のノードの
電位よシダイオード1段分だけ低くなる。他方、接合破
壊型PROMセルが破壊されていれば、第1のノードの
電位は第2のノードの電位よシダイオード1段分だけ高
くなる。このようなダイオードの1段分の振幅を有する
第1.第2のノードの電位差を検出することによfi 
PROMセルデータが読出されることになる。
実施例 第3図は第2図のアドレス記憶回路6の詳細なブロック
回路図である。第3図に示すように、各ローアドレス信
号A6  + AHg・・・A7に対応した情報記憶装
置6−0.6−1.・・・、6−7が設けられている。
つまシ、ローアドレス信号Ao 。
All・・・、Aγが印加され、書込み電圧として高い
電圧たとえば+5vが書込み端子Vに印加され且つ低い
電圧たとえば一5vが一方の端子VK印加されると、ロ
ーアドレス信号AOe Al  s・・・。
A7がそれぞれ情報記憶装置6−o、6−t、・・・。
6−7に書込まれ、不良アドレス信号AOB IAIB
+・・・FAIRとして読出し可能となる。
以下、本発明に係る情報記憶装置について説明する。
第1図は本発明に係る情報記憶装置の第1の実施例を示
す回路図である。第1図において、vCcはたとえばG
NDレベル、Vゆはたとえば一5V。
■は一5v以下その他のときにはvl、I、とされ、v
p  は書込み時にのみ+5vその他のときにはvcc
にされる。pcは接合破壊型PROMセルであって、書
込み後にはダイオード特性を有する。つまシ、会込み時
にはトランジスタであるセルのC0耐圧よシ大きい電圧
がそのエミッターコレクタ間に印加されてエミッターペ
ース間が短絡されるからである。
電源vcc、vnの間には基準電圧発生用としての3段
のダイオードDi  y D、e Daおよび抵抗R1
の直列回路が設けられている。つまシ、ノードNlの電
位が基準電圧であって、ダイオードDl l Da r
D3による −0.8X3冨−2,4v である。ただし、ダイオードの順方向電圧を0.8Vと
する。また、PROMセルPCの非破壊時のノードN2
の電位を決定するために、電源vcc1vn間には、3
段のダイオードDI  p 02  e Daに加えて
ダイオードD4および抵抗R2が設けられている。つま
シ、この場合、ノードN!の電位は、ダイオードD1 
 e Da  e Da  e D4による−0.8X
4=−3,2V である。さらに、PROMセルPCの破壊時のノードN
2の電位を決定するために、電源vcc、vn間には、
ダイオードDsが設けられている。っまシ、この場合、
PROMセルPCは1段のダイオードとして作用するの
で、ノードN2の電位は、ダイオードの2段分 一〇、8X2=−1.6V である。このように、第1図の回路においては、PRO
Mセルpcの非書込み時には、 ノードN1 ニー2.4V ノードN2  :   3.2V となって、カレントスイッチを構成するトランジスタに
h  、Qsのうち、トランジスタ。2がオンとなシ、
他方、トランジスタQ3がオフとなシ、この結果、ノー
ドN3の電位はハイレベル(VCC)となるので、出力
トランジスタQ4のペース電位の上昇に伴ない、不良ア
ドレス信号AiBの電位はハイレベルとなる。他方、P
ROMセルPCの書込み時には、 ノードNl ニー2.4V ノードN、ニー1.6V となって、カレントスイッチを構成するトランジスタQ
z  、Qsのうち、トランジスタQ3がオンとなシ、
他方、トランジスタQ意がオフとな9、この結果、ノー
ドN3の電位はローレベルとなるので、出力トランジス
タQ4のペース電位の低下に伴ない、不良アドレス信号
AiRの電位はローレベルとなる。
次に、第1図の書込み動作について説明する。
書込み動作を行うために、書込み電圧V−奥部から+5
vに上昇させられ、また、一方の電圧vnも一5vに保
持される。このとき、アドレス信号A、がハイレベルで
あれば、トランジスタQ!はオンとなる。この結果、P
ROMセルPCには、耐圧C0たとえば7V以上の電圧
(この場合、itぼ10v)が印加され、図示のごとく
、大きな書込み電流工、が流れてエミッターペース間が
短絡されることになる。
第4図は本発明に係る情報記憶装置の第2の実施例を示
す回路図である。第4図においては、ノードNlの電位
を決定する回路とPROMセルPCの非破壊時のノード
N2の電位を決定するための回路とを分離するために、
3段のダイオードD1′。
D 2’ + D 3’が付加されている。しかし、纂
4図の回路動作は第1図の回路動作と同様である。
このように、第1図および第4図の回路においては、ノ
ードN1の基準電位に対してノードN。
の電位は、PROMセルPCの書込み(破壊)の有無に
応じてダイオード1段分に相当する電位だけ上昇もしく
は下降する。そして、このようなダイオード1段分に相
当する論理振幅が次段のトランジスタQ2  tQs 
 eQ4によりて読出されている。
第5図は本発明に係る情報記憶装置の第3の実施例を示
す回路図である。第5図においては、第1図のダイオー
ドD3を削除し、ダイオードD。
の代シに抵抗R3を挿入したものである。なお、この抵
抗R3の値は比較的小さく設定されているものとする。
従って、基準電圧としてのノードN1の電位は、ダイオ
ードD! 、D!による一〇、8X2=−1.6V でl、PROMセルPCの非破壊時のノードN2の電位
は、ダイオードDl  、D2  + D4による−”
0.8X3=−2,4V で1)、PROMセルPCの破壊時のノードN2の電位
は、セルPCのダイオード1段分 −O,S V である。ただし、抵抗R3による電圧降下を無視する。
このようにして、PROMセルPCの非書込み −。
時には、 ノードN1 ニー1,6V ノードN 2  ニー2.4 V となって、第1図の回路と同様に、不良アドレス信号A
iRの電位はハイレベルとなシ、他方、PROMセルp
cの書込み時には。
ノードN*ニー1.6V ノードNs  :   0.8V となって、第1図の回路と同様に、不良アドレス信号A
IRの電位はローレペ・ルとなる。
なお、第5図の回路の書込み動作は第1図の回路の書込
み動作と同一である。
第6図は本発明に係る情報記憶装置の第4の実施例を示
す回路図である。第6図においては、ノードN1の電位
を決定する回路とPROMセルPCの非破壊時のノード
N2の電位を決定するための回路とを分離するために、
3段のダイオードD1′。
D2′が付加されている。しかし、第6図の回路動作は
第5図の回路動作と同様である。
このように、第5図および第6図の回路においても、ノ
ードN1の基準電位に対してノードN2の電位は、PR
OMセルpcの書込み(破壊)の有無に応じてダイオー
ド1段分に相当する電位だけ上昇もしくは下降する。そ
して、このようなダイオード1段分に相当する論理振幅
が次段のトランジスタQ2  tQs  eQ< によ
って読出される。
第1図、第4図、第5図、もしくは第6図の回路の出力
AiRは第2図のアドレス比較回路7に供給される。ア
ドレス比較回路7は、その詳細を第7図に示すように、
8個の排他的論理オア回路EOR6+ EOJ + ”
’ @ EOR7+およびノア回路NORよシ構成され
ている。つまり、アドレス信号A0゜A11・・・、A
7と不良アドレス信号A。n * Ala e・・・。
A7Rとが完全に一致すると、排他的論理オア回路EO
R6+ EORl 、 −、EOR7の各出力So 、
S、。
・・・、S7がローレベルとなシ、この結果、ノア回路
NORの出力5outがハイレベルとなシ、ドライバ8
が駆動され、同時にワードドライバ5がディセーブルに
される。他方、アドレス信号AO+AI+・・・、A7
と不良アドレス信号AORe AIB +・・・。
A7Rとが1ビツトでも不一致であれば、排他的論理オ
ア回路EOR,、EOR,、−、FOR?の出力so 
eS1+・・・、STの少なくとも1つがハイレベルと
なシ、この結果オア回路NORの出力5outがローレ
ベルとなシ、ドライバ8がディセーブルにされ、同時に
ワードドライバ5がイネーブルにされる。
なお、第1図、第4図におけるダイオードDl〜D3の
段数を4以上にもなし得るが、第4図においては、ダイ
オードD1〜D3の段数を増加させたときKはダイオー
ドD1′〜D3′の段数も増加させる必要がある。同様
に、第5図、第6図におけるダイオードDI+I)2の
段数を3以上にもなし得るが、第6図においては、ダイ
オードDleD2の段数を増加させたときにはダイオー
ドpl/。
D2′の段数も増加させる必要がある。
発明の詳細 な説明したように本発明に係る情報記憶装置によれば、
書込まれた情報に応じた論理振幅をダイオードの段数に
よって規定してあシ、このような装置はバイポーラトラ
ンジスタによるRAMの冗長回路における不良アドレス
を記憶するためのアドレス記憶回路の構成に役立つもの
である口
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る情報記憶装置の第1の実施例を示
す回路図、第2図は最近提案された冗長構成付のバイポ
ーラトランジスタによるRAM(D全体構成図、第3図
は第2図のアドレス記憶回路6の詳細なブロック回路図
、第4図、第5図、第6図は、それぞれ、本発明に係る
第2.第3.第4の実施例を示す回路図、第7図は嬉2
図のアドレス比較回路7の詳細な回路図である。 6・・・アドレス記憶回路、Ai・・・アドレス信号、
AiR・・・不良アドレス信号、vcc・・・Mlの電
源(端子)、■・・・第2の電源(端子)、■、・・・
書込み電源(端子)、Dl 〜D4 a DI’ −D
3’ t DB’ ”’ダイオード、R1・・・第1の
抵抗、R8・・・第2の抵抗、PC・・・PROMセル
、Ql・・・書込み用スイッチング素子、Q2〜Q4・
・・読出し手段。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、第1の電源端子(V_C_C)、第2の電源端子(
    V_E_E)、前記第1の電源端子と第1のノード(N
    _1)との間に順バイアス方向に接続された少なくとも
    2段のダイオード(D_1、D_2)、前記第1のノー
    ドと前記第2の電源端子との間に接続された電流源また
    は抵抗、および前記第1の電源端子と前記第1のノード
    との間に接続されたPROMセル(PC)を具備し、該
    PROMセルの書込みまたは非書込み状態に応じて第1
    のノードよりハイまたはローの電位を出力するようにし
    た情報記憶装置。 2、第1の電源端子(V_C_C)、第2の電源端子(
    V_E_E)、前記第1の電源端子と第1のノード(N
    _1)との間に順バイアス方向に接続された少なくとも
    3段のダイオード(D_1〜D_3)、前記第1のノー
    ドと前記第2の電源端子との間に接続された電流源また
    は抵抗、および前記第1の電源端子と第1のノードとの
    間に直列接続された順バイアス方向のダイオード(D_
    4)およびPROMセル(PC)を具備し、該PROM
    セルの書込みまたは非書込み状態に応じて第1のノード
    よりハイレベルまたはローレベルの電位を出力するよう
    にした情報記憶装置。 3、第1の電源端子(V_C_C)、第2の電源端子(
    V_n)、書込み電源端子(V_p)、前記第1の電源
    端子と第1のノード(N_1)との間に順にバイアス方
    向に接続された少なくとも3段のダイオード(D_1〜
    D_3)、該第1のノードと前記第2の電源端子との間
    に接続された第1の抵抗(R1)、前記第1のノードと
    第2のノード(N_2)との間に前記少なくとも3段の
    ダイオードと同一導通方向に接続された1段のダイオー
    ド(D_4)、該第2のノードと前記第2の電源端子と
    の間に接続された第2の抵抗(R_2)、前記第1の電
    源端子と前記書込み端子との間に逆バイアス方向に接続
    された1段のダイオード(D_5)、該書込み端子と前
    記第2のノードとの間に接続された接合破壊型PROM
    セル(PC)、前記第2のノードと前記第2の電源端子
    との間に接続された書込み用スイッチング素子(Q_1
    )、および前記接合破壊型PROMセルの破壊の有無に
    応じた前記第1、第2のノード電位差を検出して該PR
    OMセルのデータを読出すPROMセル読出手段(Q_
    2−Q_4)を具備する情報記憶装置。 4、第1の電源端子(V_C_C)、第2の電源端子(
    V_n)、書込み電源端子(V_p)、前記第1の電源
    端子と第1のノード(N_1)との間に順バイアス方向
    に接続された少なくとも3段ダイオード(D_1〜D_
    3)、該第1のノードと前記第2の電源端子との間に接
    続された第1の抵抗(R_1)、前記第1の電源端子と
    第2のノードとの間に順バイアス方向に接続された少な
    くとも4段のダイオード(D_1′〜D_3′、D_4
    )、該第2のノードと前記第2の電源端子との間に接続
    された第2の抵抗(R_2)、前記第1の電源端子と前
    記書込み端子との間に逆バイアス方向に接続された1段
    のダイオード(D_5)、該書込み端子と前記第2のノ
    ードとの間に接続された接合破壊型PROMセル(PC
    )前記第2のノードと前記第2の電源端子との間に接続
    された書込み用スイッチング素子(Q_1)、および前
    記接合破壊型PROMセルの破壊の有無に応じた前記第
    1、第2のノード電位差を検出して該PROMセルのデ
    ータを読出すPROMセル脱出手段(Q_2−Q_4)
    を具備する情報記憶装置。 5、第1の電源端子(V_C_C)、第2の電源端子(
    V_n)、書込み電源端子(V_p)、前記第1の電源
    端子と第1のノード(N_1)との間に順バイアス方向
    に接続された少なくとも2段のダイオード(D_1、D
    _2)、該第1のノードと前記第2の電源端子との間に
    接続された第1の抵抗(R_1)、前記第1のノードと
    第2のノード(N_2)との間に前記少なくとも2段の
    ダイオードと同一導通方向に接続された1段のダイオー
    ド(D_4)、該第2のノードと前記第2の電源端子と
    の間に接続された第2の抵抗(R_2)、前記第1の電
    源端子と前記書込み端子との間に接続された第3の抵抗
    (R_3)、該書込み端子と前記第2のノードとの間に
    接続された接合破壊型PROMセル(PC)、前記第2
    のノードと前記第2の電源端子との間に接続された書込
    み用スイッチング素子(Q_1)、および前記接合破壊
    型PROMセルの破壊の有無に応じた前記第1、第2の
    ノード電位差を検出して該PROMセルのデータを読出
    すPROMセル読出手段(Q_2−Q_4)を具備する
    情報記憶装置。 6、第1の電源端子(V_C_C)、第2の電源端子(
    V_n)、書込み電源端子(V_p)、前記第1の電源
    端子と第1のノード(N_1)との間に順バイアス方向
    に接続された少なくとも2段のダイオード(D_1、D
    _2)、該第1のノードと前記第2の電源端子との間に
    接続された第1の抵抗(R_1)、前記第1の電源端子
    と第2のノードとの間に順バイアス方向に接続された少
    なくとも3段のダイオード(D_1′、D_2′、D_
    4)、該第2のノードと前記第2の電源端子との間に接
    続された第2の抵抗(R_2)、前記第1の電源端子と
    前記書込み端子との間に接続された第3の抵抗(R_3
    )、該書込み端子と前記第2のノードとの間に接続され
    た接合破壊型PROM(PC)、前記第2のノードと前
    記第2の電源端子との間に接続された書込み用スイッチ
    ング素子(Q_1)、および前記接合破壊型PROMセ
    ルの破壊の有無に応じた前記第1、第2のノード電位差
    を検出して該PROMセルのデータを読出すPROMセ
    ル読出手段(Q_2−Q_4)を具備する情報記憶装置
JP59218707A 1984-10-19 1984-10-19 情報記憶装置 Granted JPS61100000A (ja)

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US06/788,458 US4745582A (en) 1984-10-19 1985-10-17 Bipolar-transistor type random access memory device having redundancy configuration
US06/788,567 US4744060A (en) 1984-10-19 1985-10-17 Bipolar-transistor type random access memory having redundancy configuration
US06/788,587 US4796233A (en) 1984-10-19 1985-10-17 Bipolar-transistor type semiconductor memory device having redundancy configuration
KR1019850007704A KR900008658B1 (ko) 1984-10-19 1985-10-18 용장서 구조를 갖춘 반도체 메모리 장치
DE8585307560T DE3585015D1 (de) 1984-10-19 1985-10-18 Bipolarer transistor-direktzugriffsspeicher mit redundanzkonfiguration.
KR1019850007703A KR900008659B1 (ko) 1984-10-19 1985-10-18 용장성 구조를 갖춘 바이폴러 트랜지스터형 랜덤 액세스 메모리
EP85307561A EP0178949B1 (en) 1984-10-19 1985-10-18 Bipolar-transistor type semiconductor memory device having a redundancy configuration
DE8585307561T DE3585201D1 (de) 1984-10-19 1985-10-18 Bipolares transistorhalbleiterspeichergeraet mit einer redundanzkonfiguration.
EP85307560A EP0178948B1 (en) 1984-10-19 1985-10-18 Bipolar-transistor random access memory having a redundancy configuration
EP85307562A EP0178950B1 (en) 1984-10-19 1985-10-18 Bipolar-transistor type random access memory device having a redundancy configuration
DE8585307562T DE3585016D1 (de) 1984-10-19 1985-10-18 Bipolares transistor-direktzugriffsspeichergeraet mit einer redundanzkonfiguration.
KR1019850007732A KR900007997B1 (ko) 1984-10-19 1985-10-19 여분회로를 갖는 바이폴라 트랜지스터형 랜돔 억세스 메모리 장치

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