JPS61100358A - 研摩パツド - Google Patents
研摩パツドInfo
- Publication number
- JPS61100358A JPS61100358A JP59221357A JP22135784A JPS61100358A JP S61100358 A JPS61100358 A JP S61100358A JP 59221357 A JP59221357 A JP 59221357A JP 22135784 A JP22135784 A JP 22135784A JP S61100358 A JPS61100358 A JP S61100358A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- pad
- abrasive
- polishing pad
- polished
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は研摩ノットに関し、特に光学素子を高精度に研
摩するのに好適な研摩パッドに関する。
摩するのに好適な研摩パッドに関する。
従来、光学素子たとえばレンズ、プリズムまたは反射鏡
等の表面精度を極めて高い精度に仕上げるために、一旦
ある程度の精度に研摩された表面を小径の研摩ノ臂ッド
によシ部分的に修正研摩することが行なわれる。
等の表面精度を極めて高い精度に仕上げるために、一旦
ある程度の精度に研摩された表面を小径の研摩ノ臂ッド
によシ部分的に修正研摩することが行なわれる。
第6図は、この様な修正研摩の具体例を説明するための
概略斜視図である。図において・、12は被研摩材であ
る光学ガラス平行平面板であり、該被研摩材12は円形
である。被研摩材12はその下面が支持体14に接着さ
れて固定支持されている。支持体14は軸Xのまわり【
回転可能であり、被研摩材12は該軸Xに関し回転対称
となる様に支持体14に固定されている。被研摩材12
の上面は前加工によシ予め鏡面研摩されている。但し、
この前加工によって、図示される輪帯Yの部分が凸にな
っているとする。
概略斜視図である。図において・、12は被研摩材であ
る光学ガラス平行平面板であり、該被研摩材12は円形
である。被研摩材12はその下面が支持体14に接着さ
れて固定支持されている。支持体14は軸Xのまわり【
回転可能であり、被研摩材12は該軸Xに関し回転対称
となる様に支持体14に固定されている。被研摩材12
の上面は前加工によシ予め鏡面研摩されている。但し、
この前加工によって、図示される輪帯Yの部分が凸にな
っているとする。
修正研摩においては被研摩材12の大きさに比べて、小
さい研摩パッド16が用いられる。研摩・9ツド16は
支持体18に接着されて固定支持されており、該支持体
18の上面中央部に形成された凹部には棒体20の一端
が突当てられている。
さい研摩パッド16が用いられる。研摩・9ツド16は
支持体18に接着されて固定支持されており、該支持体
18の上面中央部に形成された凹部には棒体20の一端
が突当てられている。
該棒体20は被研摩材12の径方向に適宜の幅で揺動可
能である。22は研摩液供給手段である。
能である。22は研摩液供給手段である。
研摩液供給手段22から被研摩材12の上面上へと研摩
液を供給しながら支持体14t−矢印入方向に回転させ
、同時に支持体18に、矢印B方向に揺動させることに
よって修正研摩が行なわれる。
液を供給しながら支持体14t−矢印入方向に回転させ
、同時に支持体18に、矢印B方向に揺動させることに
よって修正研摩が行なわれる。
しかしながら、従来の修正研摩においては研摩パッド1
6が全面にわたって均一の圧力にて被研摩材12に接触
しながら研摩加工を行なうため、被研摩材12の上面に
おいて修正研摩を受けた部分と受けない部分とで段差を
生じ易いという問題があった。
6が全面にわたって均一の圧力にて被研摩材12に接触
しながら研摩加工を行なうため、被研摩材12の上面に
おいて修正研摩を受けた部分と受けない部分とで段差を
生じ易いという問題があった。
第7図(a)及び(b)は第6図における■−■断面に
相当する被研摩材12の断面図である。第7図(&)は
修正研摩前の状態を示し、第7図(b)は修正研摩後の
状態を示すものであシ、これから分る様に、修正研摩時
の研摩パッド16の揺動幅に応じた位置に光学的にみて
かな力大きな段差24が形成される。
相当する被研摩材12の断面図である。第7図(&)は
修正研摩前の状態を示し、第7図(b)は修正研摩後の
状態を示すものであシ、これから分る様に、修正研摩時
の研摩パッド16の揺動幅に応じた位置に光学的にみて
かな力大きな段差24が形成される。
このため、研摩ツク、ド16の揺動幅を固定したものと
せず、徐々に揺動幅を変えることで段差の発生を防止す
ることが提案されている。しかしながら、この様な揺動
幅の連続的変化のための機構はかなシ複雑であシ、研摩
装置が高価なものとなるという欠点がある。
せず、徐々に揺動幅を変えることで段差の発生を防止す
ることが提案されている。しかしながら、この様な揺動
幅の連続的変化のための機構はかなシ複雑であシ、研摩
装置が高価なものとなるという欠点がある。
本発明によれば、以上の如き従来技術の問題点を解決す
るため、被研摩材への圧接時において該被研摩材との接
触部分のうち内側部分が外周部分よりも弾性力が大きい
ことを特徴とする、研摩・ぐラドが提供される。
るため、被研摩材への圧接時において該被研摩材との接
触部分のうち内側部分が外周部分よりも弾性力が大きい
ことを特徴とする、研摩・ぐラドが提供される。
以下、図面を参照しながら本発明の研摩パッドの具体的
実施例を説明する。
実施例を説明する。
第1図(a)は本発明研摩・臂、ド及びその支持体の第
1の実施例を示す概略断i図である。
1の実施例を示す概略断i図である。
本実施例の研摩パッド16は均一な厚さをもつ )′
円板状の形状を有する。2はその対称軸である。
円板状の形状を有する。2はその対称軸である。
研摩パッド16はその上面に下面が平面の支持体18が
接着されている。本実施例研摩パッドは支持体18に固
定された状態にて剛体平面上に圧接せしめられると、第
1図(b)に示される様に圧縮され、この際各部分は対
称軸2からの距離にょシ異なる反発力を受ける。即ち、
本実施例研摩パッドは圧接時に第1図(c)に示される
様な弾性力分布を示す。
接着されている。本実施例研摩パッドは支持体18に固
定された状態にて剛体平面上に圧接せしめられると、第
1図(b)に示される様に圧縮され、この際各部分は対
称軸2からの距離にょシ異なる反発力を受ける。即ち、
本実施例研摩パッドは圧接時に第1図(c)に示される
様な弾性力分布を示す。
本実施例の研摩ツク、ドは、たとえば現在光学素子研摩
用に一般に広く用いられているポリウレタンパッドt−
製造する際に弾性に寄与する素材を適宜の分布にて混入
せしめた)、気孔率に寄与する素材を適宜の分布にて混
入せしめたりすることにより得られる。
用に一般に広く用いられているポリウレタンパッドt−
製造する際に弾性に寄与する素材を適宜の分布にて混入
せしめた)、気孔率に寄与する素材を適宜の分布にて混
入せしめたりすることにより得られる。
第2図(a)及び(b)は本実施例研摩パッドを用いて
修正研摩を行なった場合の被研摩材12の変化を示す断
面図である。第2図(、)は修正研摩前の状態を示し、
第2図(b)は修正研摩後の状態を示すものである。本
実施例研摩パッドによれば、ノ々ツドが研摩加工時にお
いて第1図(c)に示される様な弾性力分布を示すため
、段差を生ずることなく輪帯状凸部を平坦化する修正研
摩を良好に行なうことができる。
修正研摩を行なった場合の被研摩材12の変化を示す断
面図である。第2図(、)は修正研摩前の状態を示し、
第2図(b)は修正研摩後の状態を示すものである。本
実施例研摩パッドによれば、ノ々ツドが研摩加工時にお
いて第1図(c)に示される様な弾性力分布を示すため
、段差を生ずることなく輪帯状凸部を平坦化する修正研
摩を良好に行なうことができる。
第3図(a)は本発明研摩パッド及びその支持体の第2
の実施例を示す概略断面図である。
の実施例を示す概略断面図である。
本実施例研摩ツク、ドは同一の性質を有する厚さの異な
る材料を同心円状に配列してなる点のみ上記第1の実施
例のものと異なる。即ち、対称軸2からの距離の小さい
内側部分には厚さの厚い材料が配列され、外周部分はど
次第に厚さの薄い材料が配列されている。これによシ、
本実施例研摩パッドは支持体18に固定された状態にて
剛体平面上に圧接せしめられると、第3図(b)に示さ
れる様に圧縮され、この際各部分は第3図(c)に示さ
れる様な段階状の弾性力分布を示す。しかして、研摩は
極めて多数回行なわれるため、本実施例研摩1?ツドに
よっても上記第1の実施例とほぼ同様の研摩効果を得る
ことができる。
る材料を同心円状に配列してなる点のみ上記第1の実施
例のものと異なる。即ち、対称軸2からの距離の小さい
内側部分には厚さの厚い材料が配列され、外周部分はど
次第に厚さの薄い材料が配列されている。これによシ、
本実施例研摩パッドは支持体18に固定された状態にて
剛体平面上に圧接せしめられると、第3図(b)に示さ
れる様に圧縮され、この際各部分は第3図(c)に示さ
れる様な段階状の弾性力分布を示す。しかして、研摩は
極めて多数回行なわれるため、本実施例研摩1?ツドに
よっても上記第1の実施例とほぼ同様の研摩効果を得る
ことができる。
第4図(、)は本発明研摩・々、ド及びその支持体の第
3の実施例を示す概略断面図であシ、第4図傾は支持体
に固定された状態で剛体平面上に圧接せしめられた際に
おける研摩パッドの弾性力分布を示すグラフである。
3の実施例を示す概略断面図であシ、第4図傾は支持体
に固定された状態で剛体平面上に圧接せしめられた際に
おける研摩パッドの弾性力分布を示すグラフである。
本実節制研摩パッド16は対称軸2からの距離に応じて
内側部分は厚さが厚く外周部分は厚さが薄く形成されて
いる。即ち、本実施例研摩パッド16VL上記第2の研
摩ノ臂、ドの段階的形状を連続化したものに相当する。
内側部分は厚さが厚く外周部分は厚さが薄く形成されて
いる。即ち、本実施例研摩パッド16VL上記第2の研
摩ノ臂、ドの段階的形状を連続化したものに相当する。
第5図は本発明研摩ノ々ッド及びその支持体の第4の実
施例を示す概略断面図である。
施例を示す概略断面図である。
本実節制研摩パッド16はその下面部分のみが一定の厚
さを有する材料からなシ、上面部分(即ち支持体側部分
)は弾性力付与のための別の材料からなり、該弾性力付
与部分が対称軸2からの距離に応じて内側部分は厚さが
厚く外周部分は厚さが薄く形成されている。本実施例研
摩/4.ドは上記第3の実施例のものと実質上同様な特
性である。
さを有する材料からなシ、上面部分(即ち支持体側部分
)は弾性力付与のための別の材料からなり、該弾性力付
与部分が対称軸2からの距離に応じて内側部分は厚さが
厚く外周部分は厚さが薄く形成されている。本実施例研
摩/4.ドは上記第3の実施例のものと実質上同様な特
性である。
以上の実施例においては研摩ノ4ッドは平面研摩用のも
のとして示されているが、本発明研摩パッドには凸面ま
たは凹面研摩用のものも包含される。
のとして示されているが、本発明研摩パッドには凸面ま
たは凹面研摩用のものも包含される。
凹面または凸面研摩用の研摩z4ツドは該凸面または凹
面に圧接した際における弾性力分布を適宜設定すること
によシ同様に構成することができることは明らかであろ
う。
面に圧接した際における弾性力分布を適宜設定すること
によシ同様に構成することができることは明らかであろ
う。
以上の実施例においては修正研摩を例にとシ説明したが
、本発明研摩パッドはその他の通常の研摩にも利用でき
ることはもちろんである。
、本発明研摩パッドはその他の通常の研摩にも利用でき
ることはもちろんである。
また本発明研摩パッドは、上記実施例に記載の様な使用
方法において研摩時間を適宜設定することによシ、非球
面量の少ない軸対称非球面を創成研摩するのに利用する
こともできる。
方法において研摩時間を適宜設定することによシ、非球
面量の少ない軸対称非球面を創成研摩するのに利用する
こともできる。
以上の如き本発明研摩パッドによれば、複雑な機構を有
する研摩装置を用いることなしに、被研摩材に段差を生
ずることなく高精度な研摩を行なうことができる。
する研摩装置を用いることなしに、被研摩材に段差を生
ずることなく高精度な研摩を行なうことができる。
第1図(&)及び(b)、第3図(a)及び(b)、第
4図(a)、ならびに第5図は本発明研摩ノ臂、ドの断
面図であシ、第1図(C)、第3図(C)及び第4図(
b)は弾性力の □グラフである。第2図(a)及
び(b)、ならびに第7図(、)及び(b)は被研摩材
の断面図である。第6図は研摩方法を示す斜視図である
。 12:被研摩材、14:支持体、16:研摩Δラド、i
8:支持体。 代理人 弁理士 山 下 穣 子 弟1図 第2図 第3図 第4図 第5図 第6図 「シ 第7図
4図(a)、ならびに第5図は本発明研摩ノ臂、ドの断
面図であシ、第1図(C)、第3図(C)及び第4図(
b)は弾性力の □グラフである。第2図(a)及
び(b)、ならびに第7図(、)及び(b)は被研摩材
の断面図である。第6図は研摩方法を示す斜視図である
。 12:被研摩材、14:支持体、16:研摩Δラド、i
8:支持体。 代理人 弁理士 山 下 穣 子 弟1図 第2図 第3図 第4図 第5図 第6図 「シ 第7図
Claims (3)
- (1)被研摩材への圧接時において該被研摩材との接触
部分のうち内側部分が外周部分よりも弾性力が大きいこ
とを特徴とする、研摩パッド。 - (2)弾性力が内側部分から外周部分へと段階的に変化
している、特許請求の範囲第1項の研摩パッド。 - (3)弾性力が内側部分から外周部分へと連続的に変化
している、特許請求の範囲第1項の研摩パッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59221357A JPS61100358A (ja) | 1984-10-23 | 1984-10-23 | 研摩パツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59221357A JPS61100358A (ja) | 1984-10-23 | 1984-10-23 | 研摩パツド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61100358A true JPS61100358A (ja) | 1986-05-19 |
| JPS6351824B2 JPS6351824B2 (ja) | 1988-10-17 |
Family
ID=16765525
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59221357A Granted JPS61100358A (ja) | 1984-10-23 | 1984-10-23 | 研摩パツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61100358A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61103768A (ja) * | 1984-10-25 | 1986-05-22 | Olympus Optical Co Ltd | 研摩・研削工具 |
| US5985090A (en) * | 1995-05-17 | 1999-11-16 | Ebara Corporation | Polishing cloth and polishing apparatus having such polishing cloth |
| US6439979B1 (en) | 1992-02-12 | 2002-08-27 | Tokyo Electron Limited | Polishing apparatus and polishing method using the same |
| JP2008284208A (ja) * | 2007-05-18 | 2008-11-27 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | スポンジたわし |
| US7503834B2 (en) | 2004-01-15 | 2009-03-17 | Carl Zeiss Vision Gmbh | Apparatus and a method of polishing an optical surface; an optical component; and a method of manufacturing a polishing tool |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0347383A (ja) * | 1989-07-13 | 1991-02-28 | Honda Lock Mfg Co Ltd | 自動車用ドアロック装置 |
-
1984
- 1984-10-23 JP JP59221357A patent/JPS61100358A/ja active Granted
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61103768A (ja) * | 1984-10-25 | 1986-05-22 | Olympus Optical Co Ltd | 研摩・研削工具 |
| US6439979B1 (en) | 1992-02-12 | 2002-08-27 | Tokyo Electron Limited | Polishing apparatus and polishing method using the same |
| US5985090A (en) * | 1995-05-17 | 1999-11-16 | Ebara Corporation | Polishing cloth and polishing apparatus having such polishing cloth |
| US7503834B2 (en) | 2004-01-15 | 2009-03-17 | Carl Zeiss Vision Gmbh | Apparatus and a method of polishing an optical surface; an optical component; and a method of manufacturing a polishing tool |
| EP1711311B2 (de) † | 2004-01-15 | 2011-07-20 | Carl Zeiss Vision GmbH | Vorrichtung und verfahren zum polieren einer optischen fläche sowie verfahren zum herstellen eines polierwerkzeugs |
| JP2008284208A (ja) * | 2007-05-18 | 2008-11-27 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | スポンジたわし |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6351824B2 (ja) | 1988-10-17 |
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