JPS6351824B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6351824B2 JPS6351824B2 JP59221357A JP22135784A JPS6351824B2 JP S6351824 B2 JPS6351824 B2 JP S6351824B2 JP 59221357 A JP59221357 A JP 59221357A JP 22135784 A JP22135784 A JP 22135784A JP S6351824 B2 JPS6351824 B2 JP S6351824B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing pad
- polishing
- polished
- elastic force
- force distribution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は研摩パツドに関し、特に光学素子を高
精度に研摩するのに好適な研摩パツドに関する。
精度に研摩するのに好適な研摩パツドに関する。
従来、光学素子たとえばレンズ、プリズムまた
は反射鏡等の表面精度を極めて高い精度に仕上げ
るために、一旦ある程度の精度に研摩された表面
を小径の研摩パツドにより部分的に修正研摩する
ことが行なわれる。
は反射鏡等の表面精度を極めて高い精度に仕上げ
るために、一旦ある程度の精度に研摩された表面
を小径の研摩パツドにより部分的に修正研摩する
ことが行なわれる。
第３図は、この様な修正研摩の具体例を説明す
るための概略斜視図である。図において、１２は
被研摩材である光学ガラス平行平面板であり、該
被研摩材１２は円形である。被研摩材１２はその
下面が支持体１４に接着されて固定支持されてい
る。支持体１４は軸Ｘのまわりに回転可能であ
り、被研摩材１２は該軸Ｘに関し回転対称となる
様に支持体１４に固定されている。被研摩材１２
の上面は前加工により予め鏡面研摩されている。
但し、この前加工によつて、図示される輪帯Ｙの
部分が凸になつているとする。
るための概略斜視図である。図において、１２は
被研摩材である光学ガラス平行平面板であり、該
被研摩材１２は円形である。被研摩材１２はその
下面が支持体１４に接着されて固定支持されてい
る。支持体１４は軸Ｘのまわりに回転可能であ
り、被研摩材１２は該軸Ｘに関し回転対称となる
様に支持体１４に固定されている。被研摩材１２
の上面は前加工により予め鏡面研摩されている。
但し、この前加工によつて、図示される輪帯Ｙの
部分が凸になつているとする。
修正研摩においては被研摩材１２の大きさに比
べて、小さい研摩パツド１６が用いられる。研摩
パツド１６は支持体１８に接着されて固定支持さ
れており、該支持体１８の上面中央部に形成され
た凹部には棒体２０の一端が突当てられている。
該棒体２０は被研摩材１２の径方向に適宜の幅で
揺動可能である。２２は研摩液供給手段である。
べて、小さい研摩パツド１６が用いられる。研摩
パツド１６は支持体１８に接着されて固定支持さ
れており、該支持体１８の上面中央部に形成され
た凹部には棒体２０の一端が突当てられている。
該棒体２０は被研摩材１２の径方向に適宜の幅で
揺動可能である。２２は研摩液供給手段である。
研摩液供給手段２２から被研摩材１２の上面上
へと研摩液を供給しながら支持体１４を矢印Ａ方
向に回転させ、同時に支持体１８を矢印Ｂ方向に
揺動させることによつて修正研摩が行なわれる。
へと研摩液を供給しながら支持体１４を矢印Ａ方
向に回転させ、同時に支持体１８を矢印Ｂ方向に
揺動させることによつて修正研摩が行なわれる。
しかしながら、従来の修正研摩においては研摩
パツド１６が全面にわたつて均一の圧力にて被研
摩材１２に接触しながら研摩加工を行なうため、
被研摩材１２の上面において修正研摩を受けた部
分と受けない部分とで段差を生じ易いという問題
があつた。
パツド１６が全面にわたつて均一の圧力にて被研
摩材１２に接触しながら研摩加工を行なうため、
被研摩材１２の上面において修正研摩を受けた部
分と受けない部分とで段差を生じ易いという問題
があつた。
第４図ａ及びｂは第３図における−断面に
相当する被研摩材１２の断面図である。第４図ａ
は修正研摩前の状態を示し、第４図ｂは修正研摩
後の状態を示すものであり、これから分る様に、
修正研摩時の研摩パツド１６の揺動幅に応じた位
置に光学的にみてかなり大きな段差２４が形成さ
れる。
相当する被研摩材１２の断面図である。第４図ａ
は修正研摩前の状態を示し、第４図ｂは修正研摩
後の状態を示すものであり、これから分る様に、
修正研摩時の研摩パツド１６の揺動幅に応じた位
置に光学的にみてかなり大きな段差２４が形成さ
れる。
このため、研摩パツド１６の揺動幅を固定した
ものとせず、徐々に揺動幅を変えることで段差の
発生を防止することが提案されている。しかしな
がら、この様な揺動幅の連続的変化のための機構
はかなり複雑であり、研摩装置が高価なものとな
るという欠点がある。
ものとせず、徐々に揺動幅を変えることで段差の
発生を防止することが提案されている。しかしな
がら、この様な揺動幅の連続的変化のための機構
はかなり複雑であり、研摩装置が高価なものとな
るという欠点がある。
本発明によれば、以上の如き従来技術の問題点
を解決するものとして、 被研摩材に圧接して研摩する研摩パツドにおい
て、該研摩パツドはそれ自体が弾性体からなり、
該研摩パツドの弾性力分布は中央部から周辺部に
かけて次第に減少するものとされており、該弾性
力分布が弾性体に含まれる多数の気孔の分布に基
づき形成されていることを特徴とする、研摩パツ
ド、及び 被研摩材に圧接して研摩する研摩パツドにおい
て、該研摩パツドはそれ自体が弾性体からなり、
該研摩パツドの弾性力分布は中央部から周辺部に
かけて次第に減少するものとされており、該弾性
力分布が弾性体の弾性に寄与する素材の混入率の
分布に基づき形成されていることを特徴とする、
研摩パツド、 が提供される。
を解決するものとして、 被研摩材に圧接して研摩する研摩パツドにおい
て、該研摩パツドはそれ自体が弾性体からなり、
該研摩パツドの弾性力分布は中央部から周辺部に
かけて次第に減少するものとされており、該弾性
力分布が弾性体に含まれる多数の気孔の分布に基
づき形成されていることを特徴とする、研摩パツ
ド、及び 被研摩材に圧接して研摩する研摩パツドにおい
て、該研摩パツドはそれ自体が弾性体からなり、
該研摩パツドの弾性力分布は中央部から周辺部に
かけて次第に減少するものとされており、該弾性
力分布が弾性体の弾性に寄与する素材の混入率の
分布に基づき形成されていることを特徴とする、
研摩パツド、 が提供される。
以下、図面を参照しながら本発明の研摩パツド
の具体的実施例を説明する。
の具体的実施例を説明する。
第１図ａは本発明研摩パツド及びその支持体の
第１の実施例を示す概略断面図である。
第１の実施例を示す概略断面図である。
本実施例の研摩パツド１６は均一な厚さをもつ
円板状の形状を有する。Ｚはその対称軸である。
研摩パツド１６はその上面に下面が平面の支持体
１８が接着されている。本実施例研摩パツドは支
持体１８に固定された状態にて剛体平面上に圧接
せしめられると、第１図ｂに示される様に圧縮さ
れ、この際各部分は対称軸Ｚからの距離により異
なる反発力を受ける。即ち、本実施例研摩パツド
は圧接時に第１図ｃに示される様な弾性力分布を
示す。
円板状の形状を有する。Ｚはその対称軸である。
研摩パツド１６はその上面に下面が平面の支持体
１８が接着されている。本実施例研摩パツドは支
持体１８に固定された状態にて剛体平面上に圧接
せしめられると、第１図ｂに示される様に圧縮さ
れ、この際各部分は対称軸Ｚからの距離により異
なる反発力を受ける。即ち、本実施例研摩パツド
は圧接時に第１図ｃに示される様な弾性力分布を
示す。
本実施例の研摩パツドは、たとえば現在光学素
子研摩用に一般に広く用いられているポリウレタ
ンパツドを製造する際に弾性に寄与する素材を適
宜の分布にて混入せしめたり、気孔率に寄与する
素材を適宜の分布にて混入せしめたりすることに
より得られる。
子研摩用に一般に広く用いられているポリウレタ
ンパツドを製造する際に弾性に寄与する素材を適
宜の分布にて混入せしめたり、気孔率に寄与する
素材を適宜の分布にて混入せしめたりすることに
より得られる。
第２図ａ及びｂは本実施例研摩パツドを用いて
修正研摩を行なつた場合の被研摩材１２の変化を
示す断面図である。第２図ａは修正研摩前の状態
を示し、第２図ｂは修正研摩後の状態を示すもの
である。本実施例研摩パツドによれば、パツドが
研摩加工時において第１図ｃに示される様な弾性
力分布を示すため、段差を生ずることなく輪帯状
凸部を平坦化する修正研摩を良好に行なうことが
できる。
修正研摩を行なつた場合の被研摩材１２の変化を
示す断面図である。第２図ａは修正研摩前の状態
を示し、第２図ｂは修正研摩後の状態を示すもの
である。本実施例研摩パツドによれば、パツドが
研摩加工時において第１図ｃに示される様な弾性
力分布を示すため、段差を生ずることなく輪帯状
凸部を平坦化する修正研摩を良好に行なうことが
できる。
以上の実施例においては研摩パツドは平面研摩
用のものとして示されているが、本発明研摩パツ
ドには凸面または凹面研摩用のものも包含され
る。凹面または凸面研摩用の研摩パツドは該凸面
または凹面に圧接した際における弾性力分布を適
宜設定することにより同様に構成することができ
ることは明らかであろう。
用のものとして示されているが、本発明研摩パツ
ドには凸面または凹面研摩用のものも包含され
る。凹面または凸面研摩用の研摩パツドは該凸面
または凹面に圧接した際における弾性力分布を適
宜設定することにより同様に構成することができ
ることは明らかであろう。
以上の実施例においては修正研摩を例にとり説
明したが、本発明研摩パツドはその他の通常の研
摩にも利用できることはもちろんである。
明したが、本発明研摩パツドはその他の通常の研
摩にも利用できることはもちろんである。
また本発明研摩パツドは、上記実施例に記載の
様な使用方法において研摩時間を適宜設定するこ
とにより、非球面量の少ない軸対称非球面を創成
研摩するのに利用することもできる。
様な使用方法において研摩時間を適宜設定するこ
とにより、非球面量の少ない軸対称非球面を創成
研摩するのに利用することもできる。
以上の如き本発明研摩パツドによれば、複雑な
機構を有する研摩装置を用いることなしに、被研
摩材に段差を生ずることなく高精度な研摩を行な
うことができる。
機構を有する研摩装置を用いることなしに、被研
摩材に段差を生ずることなく高精度な研摩を行な
うことができる。
第１図ａ及びｂは本発明研摩パツドの断面図で
あり、第１図ｃは弾性力のグラフである。第２図
ａ及びｂ、ならびに第４図ａ及びｂは被研摩材の
断面図である。第３図は研摩方法を示す斜視図で
ある。 １２：被研摩材、１４：支持体、１６：研摩パ
ツド、１８：支持体。
あり、第１図ｃは弾性力のグラフである。第２図
ａ及びｂ、ならびに第４図ａ及びｂは被研摩材の
断面図である。第３図は研摩方法を示す斜視図で
ある。 １２：被研摩材、１４：支持体、１６：研摩パ
ツド、１８：支持体。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 被研摩材に圧接して研摩する研摩パツドにお
いて、該研摩パツドはそれ自体が弾性体からな
り、該研摩パツドの弾性力分布は中央部から周辺
部にかけて次第に減少するものとされており、該
弾性力分布が弾性体に含まれる多数の気孔の分布
に基づき形成されていることを特徴とする、研摩
パツド。 ２ 被研摩材に圧接して研摩する研摩パツドにお
いて、該研摩パツドはそれ自体が弾性体からな
り、該研摩パツドの弾性力分布は中央部から周辺
部にかけて次第に減少するものとされており、該
弾性力分布が弾性体の弾性に寄与する素材の混入
率の分布に基づき形成されていることを特徴とす
る、研摩パツド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59221357A JPS61100358A (ja) | 1984-10-23 | 1984-10-23 | 研摩パツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59221357A JPS61100358A (ja) | 1984-10-23 | 1984-10-23 | 研摩パツド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61100358A JPS61100358A (ja) | 1986-05-19 |
| JPS6351824B2 true JPS6351824B2 (ja) | 1988-10-17 |
Family
ID=16765525
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59221357A Granted JPS61100358A (ja) | 1984-10-23 | 1984-10-23 | 研摩パツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61100358A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0347383A (ja) * | 1989-07-13 | 1991-02-28 | Honda Lock Mfg Co Ltd | 自動車用ドアロック装置 |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61103768A (ja) * | 1984-10-25 | 1986-05-22 | Olympus Optical Co Ltd | 研摩・研削工具 |
| US6439979B1 (en) | 1992-02-12 | 2002-08-27 | Tokyo Electron Limited | Polishing apparatus and polishing method using the same |
| JP3708167B2 (ja) * | 1995-05-17 | 2005-10-19 | 株式会社荏原製作所 | 研磨布及び該研磨布を備えたポリッシング装置 |
| DE102004003131A1 (de) | 2004-01-15 | 2005-08-11 | Carl Zeiss | Vorrichtung und Verfahren zum Polieren einer optischen Fläche, optisches Bauelement, sowie Verfahren zum Herstellen eines Polierwerkzeugs |
| JP4933957B2 (ja) * | 2007-05-18 | 2012-05-16 | 住友ゴム工業株式会社 | スポンジたわし |
-
1984
- 1984-10-23 JP JP59221357A patent/JPS61100358A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0347383A (ja) * | 1989-07-13 | 1991-02-28 | Honda Lock Mfg Co Ltd | 自動車用ドアロック装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61100358A (ja) | 1986-05-19 |
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