JPS61104320A - 磁気記憶体 - Google Patents
磁気記憶体Info
- Publication number
- JPS61104320A JPS61104320A JP22173284A JP22173284A JPS61104320A JP S61104320 A JPS61104320 A JP S61104320A JP 22173284 A JP22173284 A JP 22173284A JP 22173284 A JP22173284 A JP 22173284A JP S61104320 A JPS61104320 A JP S61104320A
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- JP
- Japan
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- magnetic
- head
- disk
- lubricating
- magnetic storage
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は磁気的記憶装置（磁気ディスク装置または磁気
ドラム装置など）に用いられる磁気記憶体およびその製
造方法に関する。
ドラム装置など）に用いられる磁気記憶体およびその製
造方法に関する。
（従来技術とその問題点）
一般Ｉこ記録再生磁気ヘッド（以下ヘッドと呼ぶ）と磁
気記憶体とを構成部とする磁気記憶装置の記録再生方法
には次のような方法がある。すなわち操作開始時にヘッ
ドと磁気記憶体面とを接触状態でセットした後、磁気記
憶体ｌζ所要の回転を与えることによりヘッドと磁気記
憶体面との間に空気要分の空間を作り、この状態で記録
再生をする方法である（コンタクト・スタート・ストッ
プ方式。
気記憶体とを構成部とする磁気記憶装置の記録再生方法
には次のような方法がある。すなわち操作開始時にヘッ
ドと磁気記憶体面とを接触状態でセットした後、磁気記
憶体ｌζ所要の回転を与えることによりヘッドと磁気記
憶体面との間に空気要分の空間を作り、この状態で記録
再生をする方法である（コンタクト・スタート・ストッ
プ方式。
以下Ｃ８Ｓ方式と呼ぶ）。この方法では操作終了時に磁
気記憶体の回転が止まり、この時ヘッドと磁気記憶体面
は操作開始時と同様に接触摩擦状態にある。
気記憶体の回転が止まり、この時ヘッドと磁気記憶体面
は操作開始時と同様に接触摩擦状態にある。
これらの接触摩擦状態におけるヘッドと磁気記憶体の間
に生じる摩擦力は、ヘッドおよび磁気記憶体を摩耗させ
ついにはヘッドおよび磁性媒体に傷を生じせしめること
がある。また前記接触摩擦状態においてヘッドのわずか
な姿勢の変化がヘッドにかかる荷重を不均一にさせヘッ
ドおよび磁気記憶体表面に傷を作ることもある。
に生じる摩擦力は、ヘッドおよび磁気記憶体を摩耗させ
ついにはヘッドおよび磁性媒体に傷を生じせしめること
がある。また前記接触摩擦状態においてヘッドのわずか
な姿勢の変化がヘッドにかかる荷重を不均一にさせヘッ
ドおよび磁気記憶体表面に傷を作ることもある。
この傷の発生を防ぐために従来から特開昭５２−４９８
０５に示される様な以下に示す側鎖パーフロロアルキル
ポリエーテル又は、直鎖パーフロロアルキルホリエーテ
ルを例とする種々の潤滑剤が提案されてきたが、いずれ
もＣ８ｓにより除々（こ潤滑層が除去され多数回のＣ８
Ｓの繰り返しにおいて磁気記憶体の傷の発生を防ぐこと
ができなかった。
０５に示される様な以下に示す側鎖パーフロロアルキル
ポリエーテル又は、直鎖パーフロロアルキルホリエーテ
ルを例とする種々の潤滑剤が提案されてきたが、いずれ
もＣ８ｓにより除々（こ潤滑層が除去され多数回のＣ８
Ｓの繰り返しにおいて磁気記憶体の傷の発生を防ぐこと
ができなかった。
また除去された潤滑剤が接触摺動面に厚く局在しヘッド
と磁気記憶体の接触により吸着を生じて離れにくくなる
という欠点もあった。
と磁気記憶体の接触により吸着を生じて離れにくくなる
という欠点もあった。
Ｆ、Ｃｏ÷ＣＦ ｔ −ＣＦ ２−０←÷ＣＦ、−０＋
ＣＦ。
ＣＦ。
ｍ ｎ
直鎖パーフロロア
ルキルポリエーテ
ル
（発明の目的）
本発明の目的は潤滑特性に優れかつ、ヘッドとディスク
間の吸着を起こさない潤滑層を有する磁気記憶体を提供
することにある。
間の吸着を起こさない潤滑層を有する磁気記憶体を提供
することにある。
（発明の構成）
すなわち本発明の磁気記憶体は鏡面を有する下地体の上
に磁性媒体が被覆され、該媒体上に直接または保護膜を
介してパーフロロアルキルリン化合物を含む潤滑剤から
なる潤滑層が被覆されてなる構造を有することを特−徴
としている。
に磁性媒体が被覆され、該媒体上に直接または保護膜を
介してパーフロロアルキルリン化合物を含む潤滑剤から
なる潤滑層が被覆されてなる構造を有することを特−徴
としている。
（構成の詳細な説明）
次に図面を参照して本発明の詳細な説明する。
第１図は本発明の磁気記憶体の部分断面図で、下地体１
はアルミ合金又は、陽極酸化アルマイト、Ｎ１−ｐメッ
キ膜、ｃｒＪ’ｅＮｉ、ＭＯまたはＷ等を被覆のアルミ
合金、又はポリエステル、ポリイミドポリアミドイミド
などのプラスチック、又はＣｒ。
はアルミ合金又は、陽極酸化アルマイト、Ｎ１−ｐメッ
キ膜、ｃｒＪ’ｅＮｉ、ＭＯまたはＷ等を被覆のアルミ
合金、又はポリエステル、ポリイミドポリアミドイミド
などのプラスチック、又はＣｒ。
ＦｅＮｉ、ＭＯ，Ｗなどの金属、又はガラス板である。
次にこの下地体ｌの上に磁性媒体２としてＦｅ、０４ｒ
−Ｆｅ、０．、などの鉄酸化物又はＣｏ−Ｎｉ 、 Ｃ
ｏ−Ｎ１−Ｐ 、 Ｃｏ −ｈｌｌｎ −Ｐ 、 Ｃｏ
−Ｎｉ −Ｍｎ −Ｐ 、 Ｃｏ −Ｒｅ 、 （’ｏ
７Ｍｎ−Ｒｅ−Ｐ＋Ｃ０−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｖ、Ｃｏ−Ｐｔ
、Ｃ０−Ｎｉ−Ｐｔ、Ｃｏ−Ｐｔ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｐｔ−
Ｖ、Ｃｏ−Ｒｈ、Ｃｏ−Ｎ１−Ｍｏ又はＣｏ−８ｍなど
の金属又は合金を被覆する。
−Ｆｅ、０．、などの鉄酸化物又はＣｏ−Ｎｉ 、 Ｃ
ｏ−Ｎ１−Ｐ 、 Ｃｏ −ｈｌｌｎ −Ｐ 、 Ｃｏ
−Ｎｉ −Ｍｎ −Ｐ 、 Ｃｏ −Ｒｅ 、 （’ｏ
７Ｍｎ−Ｒｅ−Ｐ＋Ｃ０−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｖ、Ｃｏ−Ｐｔ
、Ｃ０−Ｎｉ−Ｐｔ、Ｃｏ−Ｐｔ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｐｔ−
Ｖ、Ｃｏ−Ｒｈ、Ｃｏ−Ｎ１−Ｍｏ又はＣｏ−８ｍなど
の金属又は合金を被覆する。
さらに該磁性媒体２の上にパーフロロアルキルリン化合
物を含む潤滑剤からなる潤滑層が被覆されている。ここ
で用いるパーフロロアルキルリン化合物は次の様な構造
を有する。
物を含む潤滑剤からなる潤滑層が被覆されている。ここ
で用いるパーフロロアルキルリン化合物は次の様な構造
を有する。
Ｒ［＼ 几ｆ＼
几ｆ’−Ｐ ・・・ ■ Ｒ（’ −ＰＯ・・・
■Ｒｆ／Ｒｆ“／ ここでＲｆ、Ｒｆ’、Ｒｆ’はＣｎ Ｆ ｔｌ、＋ｓ
（ＣＨｔ ）ｍ又（記ｎＦ！ｎ＋□÷Ｒｆ”−Ｊ樟又は
パーフロロフェニル基などのふっ素化炭化水素である。
■Ｒｆ／Ｒｆ“／ ここでＲｆ、Ｒｆ’、Ｒｆ’はＣｎ Ｆ ｔｌ、＋ｓ
（ＣＨｔ ）ｍ又（記ｎＦ！ｎ＋□÷Ｒｆ”−Ｊ樟又は
パーフロロフェニル基などのふっ素化炭化水素である。
またｎ、ｐは１以上の整数、ｍは０又は１以上の整数で
ある。またＪは結合分子であり一〇−１−などである。
ある。またＪは結合分子であり一〇−１−などである。
またＲｆ＃は側鎖にＣｎＦｚｎ−ｓ−の様なパーフロロ
アルキル基を有するか又は直鎖のパーフロロアルキル基
である。
アルキル基を有するか又は直鎖のパーフロロアルキル基
である。
また本発明で用いる潤滑剤の１例としてはパーフロロア
ルキルポリエーテル、官能基を有するパーフロロアルキ
ルポリエーテル、ポリテトラフロロエチレン、ポリテト
ラフロロエチレンテロマーパーフロロカルボン酸、パー
フロロアルコール、パーフロロカルボン酸エステル、パ
ーフロロアルコールの脂肪酸エステル、パーフロ°ロア
ルキルアルコキシシラン、フロロシリコーン、パーフロ
ロアルキルスルホン酸、パーフロロアルキルスルホン酸
アンモニウム、脂肪族アルキルアルコキシシラン、高級
脂肪酸、高級脂肪アルコール、高級脂肪酸エステル、高
級脂肪酸アミド脂肪アミン、不飽和高級脂肪酸、長鎖脂
肪族炭化水素、ポリアルキレングリコール、シリコーン
オイル、ポリオキシエチレン、ネオペンチルポリオール
エステル、ポリフェニルエーテルなどがある。
ルキルポリエーテル、官能基を有するパーフロロアルキ
ルポリエーテル、ポリテトラフロロエチレン、ポリテト
ラフロロエチレンテロマーパーフロロカルボン酸、パー
フロロアルコール、パーフロロカルボン酸エステル、パ
ーフロロアルコールの脂肪酸エステル、パーフロ°ロア
ルキルアルコキシシラン、フロロシリコーン、パーフロ
ロアルキルスルホン酸、パーフロロアルキルスルホン酸
アンモニウム、脂肪族アルキルアルコキシシラン、高級
脂肪酸、高級脂肪アルコール、高級脂肪酸エステル、高
級脂肪酸アミド脂肪アミン、不飽和高級脂肪酸、長鎖脂
肪族炭化水素、ポリアルキレングリコール、シリコーン
オイル、ポリオキシエチレン、ネオペンチルポリオール
エステル、ポリフェニルエーテルなどがある。
第２図は、本発明の別の磁気記憶体の部分断面図である
。第２図において、下地体１．および磁性媒体２．およ
び”潤滑層４は第１図と同じであるが磁性媒体２と前記
潤滑層４の間に保護膜３が被覆されている。該保護膜３
は５ｉ０２＋Ｓ’ｓＮ４＋ＳｉＣ又はケイ酸重合物など
のケイ素化合物またはＣＯＯ。
。第２図において、下地体１．および磁性媒体２．およ
び”潤滑層４は第１図と同じであるが磁性媒体２と前記
潤滑層４の間に保護膜３が被覆されている。該保護膜３
は５ｉ０２＋Ｓ’ｓＮ４＋ＳｉＣ又はケイ酸重合物など
のケイ素化合物またはＣＯＯ。
Ｃｏ、０４ｔＣｏ２０３．ａ−Ｆｅ２０ｓ ＋ＣｒｔＯ
ｓ ＋ＣｒＯ３、ＴｉＯ７，又はｚ【０２などの金属酸
化物またはＴｉＮ。
ｓ ＋ＣｒＯ３、ＴｉＯ７，又はｚ【０２などの金属酸
化物またはＴｉＮ。
ＺｒＮ、ＣｒＮ又はＴａＮなどの金属窒化物またはＴｉ
ＣＺｒＣ，ＣｒＣ又はＴａＣなどの金属炭化物またはＷ
Ｃｒ、Ｉｒ、ＮｉＰ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｍｎ、ＭＯ，Ｏ５ま
たはＴａ又はそれらの合金などの金属又は合金が用いら
れる。前記パーフロロアルキルリン化合物は前記磁性媒
体２又は保護膜３に強固に吸着しかつ前記潤滑剤との相
溶性が良いため前記潤滑剤に混合することｌこよりヘッ
ドとディスクの摺動による傷を防ぎ、かつ潤滑剤がヘッ
ドおよびディスクの摺動面へ集積することを防ぐことに
よりディスクとヘッドの吸着を防ぐことが出来る。
ＣＺｒＣ，ＣｒＣ又はＴａＣなどの金属炭化物またはＷ
Ｃｒ、Ｉｒ、ＮｉＰ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｍｎ、ＭＯ，Ｏ５ま
たはＴａ又はそれらの合金などの金属又は合金が用いら
れる。前記パーフロロアルキルリン化合物は前記磁性媒
体２又は保護膜３に強固に吸着しかつ前記潤滑剤との相
溶性が良いため前記潤滑剤に混合することｌこよりヘッ
ドとディスクの摺動による傷を防ぎ、かつ潤滑剤がヘッ
ドおよびディスクの摺動面へ集積することを防ぐことに
よりディスクとヘッドの吸着を防ぐことが出来る。
次に実施例により本発明の詳細な説明する。
実施例１
ニッケルー燐めっき膜が被覆され表面粗さ０．０２μｍ
に鏡面仕上げされた下地体ｌの上ｌこ磁性媒体２として
コバルト−ニッケルー燐合金を０．０５μｍの厚さにめ
っきした。次にこの磁性媒体２の上に保護膜３として特
開昭５２−２０８０４号公報に示された様なポリ珪酸（
珪酸重合物）を回転塗布法により被覆する。次にこの保
＠朕３の上に下記の構造のパーフロロアルキルリン化合
物と下記の構造の潤滑剤の混合物の０．１重量％ トＩ
Ｊクロルｈ ＩＪフロロエタン（以下フレオンと称する
ン溶液を回転塗布法ｄこより被覆して潤滑層を形成し磁
気ディスクを作った。
に鏡面仕上げされた下地体ｌの上ｌこ磁性媒体２として
コバルト−ニッケルー燐合金を０．０５μｍの厚さにめ
っきした。次にこの磁性媒体２の上に保護膜３として特
開昭５２−２０８０４号公報に示された様なポリ珪酸（
珪酸重合物）を回転塗布法により被覆する。次にこの保
＠朕３の上に下記の構造のパーフロロアルキルリン化合
物と下記の構造の潤滑剤の混合物の０．１重量％ トＩ
Ｊクロルｈ ＩＪフロロエタン（以下フレオンと称する
ン溶液を回転塗布法ｄこより被覆して潤滑層を形成し磁
気ディスクを作った。
パーフロロフェニルリン化合物
潤滑剤
ＦｓＣ−０＋ＣＦｔ ＣＦｔ Ｏ＋＋ＣＦｔ Ｏ＋ＣＦ
ｓｔｓ ｔｓ 実施例２ 実施例１と同様にして但し次の構造の様なパーフロロア
ルキルリン化合物と潤滑剤を用いて磁気ディスクを作っ
た。
ｓｔｓ ｔｓ 実施例２ 実施例１と同様にして但し次の構造の様なパーフロロア
ルキルリン化合物と潤滑剤を用いて磁気ディスクを作っ
た。
パーフロロフェニルリン化合物
潤滑剤
Ｈｓ ＣＯＯＣＣＦ ２０÷ＣＦ、ＣＦ２Ｏ÷−←ＣＦ
２Ｏす。
２Ｏす。
ＣＦｚＣＨｔＣＯＯＣＨｓ
実施例３
実施例１と同様にして但し保護膜３としてＮｉＰを５０
０＾めっきし、後２８０°Ｃで焼成して表面にＮｉＯを
形成させて磁気ディスクを作った。
０＾めっきし、後２８０°Ｃで焼成して表面にＮｉＯを
形成させて磁気ディスクを作った。
実施例４
実施例３と同様にして但し保護膜３としてＳ’０２を２
００Ａスパツタリングにより被覆して磁気ディスクを作
った。
００Ａスパツタリングにより被覆して磁気ディスクを作
った。
実施例５
実施例２と同様にして但し磁性媒体２としてＣ０Ｃｒ合
金をスパッタリング法により被覆し磁気ディスクを作っ
た。
金をスパッタリング法により被覆し磁気ディスクを作っ
た。
実施例６
実施例２と同様にして但し磁性媒体２としてｒ −Ｆｅ
、０．をスパッタリング法により被覆して磁気ディスク
を作った。
、０．をスパッタリング法により被覆して磁気ディスク
を作った。
実施例７
実施例１と同様ｌζして但し次の構造のパーフロロアル
キルリン化合物を用いて磁気ディスクを作った。
キルリン化合物を用いて磁気ディスクを作った。
比較例１
実施例１と同様にして但し保＠膜３の上に潤滑層４′と
して潤滑剤のみを塗布して磁気ディスクを作った。
して潤滑剤のみを塗布して磁気ディスクを作った。
比較例２
実施例１と同様にして但し保護膜３の上に潤滑層４とし
て潤滑剤のみを塗布して磁気ディスクを作った。
て潤滑剤のみを塗布して磁気ディスクを作った。
実施例１〜７及び比較例１．２で示した磁気ティスフを
用いて荷重１５ｆのＡｔｚｏｓ−Ｔｉｃａコアを有する
ヘッドスライダを用いて多数回のコンタクト・スタート
・ストップ（Ｃ８Ｓ）の繰り返し摩耗試験と、１０００
回Ｃ８Ｓ繰り返し後のヘッドとディスク間の吸着を摩擦
係数を測定することにより評価し次表の結果を得た。
用いて荷重１５ｆのＡｔｚｏｓ−Ｔｉｃａコアを有する
ヘッドスライダを用いて多数回のコンタクト・スタート
・ストップ（Ｃ８Ｓ）の繰り返し摩耗試験と、１０００
回Ｃ８Ｓ繰り返し後のヘッドとディスク間の吸着を摩擦
係数を測定することにより評価し次表の結果を得た。
表
上表の結果より実施例１〜７のパーフロロアルキルリン
化合物と潤滑剤の混合物からなる潤滑層を有する磁気デ
ィスクは比較例１および２のパーフロロアルキルリン化
合物を含まない潤滑層を有する磁気ディスクに比べ飛躍
的に機械的耐久性が向上しヘッドとディスゲの吸着か起
らないことが分る。
化合物と潤滑剤の混合物からなる潤滑層を有する磁気デ
ィスクは比較例１および２のパーフロロアルキルリン化
合物を含まない潤滑層を有する磁気ディスクに比べ飛躍
的に機械的耐久性が向上しヘッドとディスゲの吸着か起
らないことが分る。
（発明の効果）
以上の様に実施例１〜７で示したパーフロロフェニルリ
ン化合物を含む潤滑剤の混合物からなる潤滑層を有する
磁気ディスクは、優れた機械的耐久性とヘッドとディス
クの吸着防止効果を有し磁気ディスク装置の信頼性を飛
躍的に向上出来ることが分った。
ン化合物を含む潤滑剤の混合物からなる潤滑層を有する
磁気ディスクは、優れた機械的耐久性とヘッドとディス
クの吸着防止効果を有し磁気ディスク装置の信頼性を飛
躍的に向上出来ることが分った。
なお本発明の実施例では磁気ディスクについて述べたが
フロッピーディスク、磁気テープ、磁気カードにも本発
明が有効であることは明らかで坐る。
フロッピーディスク、磁気テープ、磁気カードにも本発
明が有効であることは明らかで坐る。
第１図及び第２図は本発明を示す部分断面図である。
１・・・下地体、２・・・磁性媒体、３・・・保ａ膜、
４・・・潤滑層である。 、ど− −１つ
４・・・潤滑層である。 、ど− −１つ
Claims (1)
- 下地体の上に磁性媒体が被覆され、さらに該媒体上に直
接または保護膜を介してパーフロロアルキルリン化合物
を含む潤滑剤が被覆されてなる構造を有することを特徴
とする磁気記憶体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59221732A JPH0610869B2 (ja) | 1984-10-22 | 1984-10-22 | 磁気記憶体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59221732A JPH0610869B2 (ja) | 1984-10-22 | 1984-10-22 | 磁気記憶体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61104320A true JPS61104320A (ja) | 1986-05-22 |
| JPH0610869B2 JPH0610869B2 (ja) | 1994-02-09 |
Family
ID=16771381
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59221732A Expired - Lifetime JPH0610869B2 (ja) | 1984-10-22 | 1984-10-22 | 磁気記憶体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0610869B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62246124A (ja) * | 1986-04-18 | 1987-10-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS62246122A (ja) * | 1986-04-18 | 1987-10-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57154648A (en) * | 1981-03-20 | 1982-09-24 | Hitachi Maxell Ltd | Magnetic recording medium |
| JPS60109028A (ja) * | 1983-11-17 | 1985-06-14 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体 |
-
1984
- 1984-10-22 JP JP59221732A patent/JPH0610869B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57154648A (en) * | 1981-03-20 | 1982-09-24 | Hitachi Maxell Ltd | Magnetic recording medium |
| JPS60109028A (ja) * | 1983-11-17 | 1985-06-14 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62246124A (ja) * | 1986-04-18 | 1987-10-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS62246122A (ja) * | 1986-04-18 | 1987-10-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0610869B2 (ja) | 1994-02-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |