JPS6110893A - 発熱体 - Google Patents

発熱体

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Publication number
JPS6110893A
JPS6110893A JP13011284A JP13011284A JPS6110893A JP S6110893 A JPS6110893 A JP S6110893A JP 13011284 A JP13011284 A JP 13011284A JP 13011284 A JP13011284 A JP 13011284A JP S6110893 A JPS6110893 A JP S6110893A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resistance value
resistor
thin film
oxide
heating element
Prior art date
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Pending
Application number
JP13011284A
Other languages
English (en)
Inventor
修 滝川
平木 英朗
斉藤 民雄
光雄 原田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Publication of JPS6110893A publication Critical patent/JPS6110893A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は発熱体に関する。
〔発明の技術的背景とその問題点〕
発熱体には、例えばガスセンナの半導体を駆動温度に維
持する加熱手段、セラミック温度センサのクリーニング
のための加熱手段、サーマルヘッドの発熱抵抗体等各種
の用途がある。
ここで一様に問題となるのは、抵抗値の温度特性、寿命
特性が優れていること、及び電源小型化のため低い電流
で所望の、発熱を得ることである、特性をまとめ乞と、
ある程度高いシート抵抗を有し、かつ高い温度下でも抵
抗値が変化しないことが要求されるのである。
本発明者等の研究C二よれば、Rub、系の薄膜抵抗体
が上述のような特性をみたすことが見出された。
ここで新たな問題が生じてきた。通常電極には、Auが
用いられるが基板との密着性を同上させるためCr を
介入するのが一般的である。このRub、系の薄膜抵抗
体にCr−Au(Crが抵抗体と接触〕電極を形成した
ものは、経時的に抵抗値が増大してしまうという状態が
おこったのである。これは、高温下におかれた時C「と
Ru Ot  系の薄膜抵抗体と反応、なおこすためと
考えられる。
このような抵抗値の変動は、所望の発熱it得ることか
困難となり、センサ、サーマルヘッド等の正常な動作が
行なわなくなるという問題点があった。
〔発明の目的〕
本発明は以上の点を考慮してなされたもので、酸化ルテ
ニウム系の薄膜抵抗体を用い、その抵抗値の温度依存性
を小さくシ、信頼性の高い発熱体を提供することを目的
とする。
〔発明の概要〕
本発明は、酸化ルテニウムを主成分とする酸化物発熱抵
抗体と、前記抵抗体に′心気的に接続されたPi、Ru
、Pd、Ir及びR肋)ら選ばれた少なくとも一種から
なる電極とを備えたことを特徴とする発熱体である。
すなわち、Pi、Ru、Pd、Ir及びRhを電極とし
て用いることにより抵抗体と反応をおこすことがないた
め、抵抗変化が低減され、信頼性が向上する。
電極の作製方法は、特に高解像度を要求されるサーマル
ヘッド等は蒸着あるいはスパッタリングにより作製し必
要によってその後所望のパターンにエツチングする方法
や有機金属化合物を所定の溶媒に溶かした溶液を塗付、
焼付する方法や、さらにそれを所定のパターンにエツチ
ングする方法、あるいはメタル粉末と例えばガラスフリ
ットをペースト状にした物質をいわゆるスクリーン印刷
、焼成という工程を経て作製する方法等が退嬰される。
電極の成分は、接着強度やエツチング液焼成条件等を考
慮し、必ずしも単一成分である必要はない。
本発明に係るRu O,系薄膜抵抗体は、 Ru5tの
他に多種添加成分を加えてもよい。
Rub、は、単独の場合に比べM (Ca、Sr、Ba
、Pb。
旧、Tlから選ばれた少なくとも一種)の酸化物と併用
することにより、耐湿性が増す。実質的にM/Ru=1
であれば、RuCa0B 、 Ru5r01. RuB
a01 。
RuPbO3、RuBIO,/、 、 RuTjOy/
、等ノ安定な構造となる。多少比率がズしても問題はな
いが、Mの酸化物がM / Ru  で0.6 より少
なくなると、析出するRuO仰影譬で耐湿性が劣化し、
M/Ruで2よす多くなると抵抗値が高くなり負の抵抗
温度系数を有するようになり、また4(M/Ru)以上
では絶縁体に近くなる。従ってM/Ruは、0.6〜2
の範囲が望ましい。
このような金属酸化物薄膜は、酸化物をターゲットとし
たスパッタリング法、メタルをターゲットとして後工程
で酸化する反応性スパッタリング法、蒸着法等の通常の
方法が用いられる。この薄膜は膜厚な変化させる事によ
り所望の抵抗値を得る早ができるが、あまり薄いと膜厚
のわずかな変化で抵抗値が大幅にかわり、所望の抵抗値
を得るのが困難であるため実用上はIQ nmJ?l上
であることが好ましい。また厚い場合は製造に時間がか
かりすぎ、抵抗値が低くなりすぎるため、1μmLJ、
下、好ましくは3oonm以下程度が良い。
〔発明の効果〕
本発明による電極を用いに発熱体は抵抗値の変化がほと
んどなく、従って信頼性の高い発熱体を得ることができ
る。
〔発明の実施例〕
本発明の実施例を以下に説明する。第11Jは本実施例
の断面図である。
抵抗値変化は巾1cmの帯状抵抗体により検討した。基
板(1)としてグレーズ処理したアルミナ基板を用い、
グレーズ層(2)表面にM −Ru −0系の抵抗体(
3)を作製した。抵抗体(3)はMRuO3をターゲッ
トとしRF’スパッタリングにより着膜した。スパッタ
時の基板温度は300℃、スパッタガスはAr−50%
0?  とし、圧力IQmTorrで作製した。薄膜の
厚さは5f) o mとした。通常薄膜は作製時(二内
部歪が残留し、抵抗値は高くなっているので600”C
空気中で1時間のアニールを施し安定化させた。その後
、蒸イ1にj、り各種の爾;極(4)(4′)を着膜λ
した。
′電極(4)(4′)間距離は1cmどした。抵抗値変
化の検討は、空気中600℃で所定時間放置した後室温
での抵抗値を測定しその変化を検討するという方法で行
なった。なお、600℃という/1lill史は例えば
サーマルヘッドにとっては加速寿命試験に相当する。
なんとなれば、通常サーマル−ラドの温度はほぼ400
℃であるからである。
第1表に各電極を用いた時の抵抗値変化を示す。
サンプルHは比較例でありBa1iu01上(二Cr1
(Inn、その上6二Au1μm着膜した二層構造をも
つ電極を用いたものである。その他のA〜Gのサンプル
の各種電極の厚さは500nmとしに。表から分るよう
に本発明による電極を用いた場合M−Rum O(M:
Ca 、 Sr 。
Baのうちの一つ)系抵抗体の抵抗値は加熱試験によっ
ても抵抗値は安定しており、従って高い信頼性を何する
発熱体を供給する事が可能である。
(以F余白) 第  1  表
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る発熱体の断面図。 3・・・薄膜抵抗体 4.4′・・・電極

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)酸化ルテニウムを主成分とする酸化物発熱抵抗体
    と、前記抵抗体に電気的に接続されたPt、Ru、Pd
    、Ir及びRhから選ばれた少なくとも一種からなる電
    極とを備えたことを特徴とする発熱体。
  2. (2)前記発熱抵抗体として、酸化ルテニウムを生成分
    とし、M(MはCa、Sr、Ba、Pb、Bi、Tlか
    ら選ばれた少なくとも一種)の酸化物をM/Ru(原子
    比)で0.6〜2含有する金属酸化物薄膜を用いたこと
    を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の発熱体。
JP13011284A 1984-06-26 1984-06-26 発熱体 Pending JPS6110893A (ja)

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JP13011284A JPS6110893A (ja) 1984-06-26 1984-06-26 発熱体

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JP13011284A JPS6110893A (ja) 1984-06-26 1984-06-26 発熱体

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JPS6110893A true JPS6110893A (ja) 1986-01-18

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ID=15026233

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000069219A1 (en) * 1999-05-07 2000-11-16 Ibiden Co., Ltd. Hot plate and method of producing the same
JP2020167106A (ja) * 2019-03-29 2020-10-08 日東電工株式会社 ヒータ

Cited By (3)

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WO2000069219A1 (en) * 1999-05-07 2000-11-16 Ibiden Co., Ltd. Hot plate and method of producing the same
US6967313B1 (en) 1999-05-07 2005-11-22 Ibiden Company, Ltd. Hot plate and method of producing the same
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