JPS61120212A - ＸＹθテ−ブル装置 - Google Patents

ＸＹθテ−ブル装置

Info

Publication number
JPS61120212A
JPS61120212A JP59241938A JP24193884A JPS61120212A JP S61120212 A JPS61120212 A JP S61120212A JP 59241938 A JP59241938 A JP 59241938A JP 24193884 A JP24193884 A JP 24193884A JP S61120212 A JPS61120212 A JP S61120212A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
xyθ
substrate
mask
moving plate
plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP59241938A
Other languages
English (en)
Inventor
Masaru Kamimura
上村　優
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP59241938A priority Critical patent/JPS61120212A/ja
Publication of JPS61120212A publication Critical patent/JPS61120212A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
    • B23Q1/00—Members which are comprised in the general build-up of a form of machine, particularly relatively large fixed members
    • B23Q1/25—Movable or adjustable work or tool supports
    • B23Q1/44—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms
    • B23Q1/48—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms with sliding pairs and rotating pairs
    • B23Q1/4852—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms with sliding pairs and rotating pairs a single sliding pair followed perpendicularly by a single rotating pair
    • B23Q1/4866—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms with sliding pairs and rotating pairs a single sliding pair followed perpendicularly by a single rotating pair followed perpendicularly by a single sliding pair
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
    • B23Q1/00—Members which are comprised in the general build-up of a form of machine, particularly relatively large fixed members
    • B23Q1/25—Movable or adjustable work or tool supports
    • B23Q1/26—Movable or adjustable work or tool supports characterised by constructional features relating to the co-operation of relatively movable members; Means for preventing relative movement of such members
    • B23Q1/38—Movable or adjustable work or tool supports characterised by constructional features relating to the co-operation of relatively movable members; Means for preventing relative movement of such members using fluid bearings or fluid cushion supports

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Control Of Position Or Direction (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明のＸＹθテーブル装置はフォトリソグラフィーで
のマスクとサブストレートのアライメントや、表示装置
の上基板と下基板の貼合せに於るアライメント等に用い
られる。
〈従来〉 従来ｉ骸当する技術はなかった。
〈発明が解決しようとする問題点〉 本発明はＸＹθテーブルを２層で構成し、ＸＹ０テーブ
ルの構造体としての基板上へＸＹθ移動板のＸＸθ方向
への自由度のある支持方法を提供することを目的とする
。
く問題点を解決する為の手段〉 本発明のＸＹθテーブルは、ＩＹθテーブルの構造が、
基板となる板と、ＸＹθ移動となる板との２層で構成さ
れ、ＸＹθ移動となる板が基板となる板上に、エア浮上
磁気浮上方法により支持されている事を特徴とする。
く構成〉 第１図は本発明の構成を示す。基板１は機構のベースと
なる構造体である。ＸＹθ移動板２はサブストレートを
保持し、サブストレートの位置決めの目的であらかじめ
指示されたＸＹθ方向の変位量に基づく移動を行５．こ
の時、基板１との支持は、エア浮上によりＸＹθ方向に
自由な状態である。モータ（１）ａｌｌ、モータ（２）
４．モータ（８）６はそれぞれＸＹθの変位量に基づ（
、ＸＹθ移動板２の変位後の位置を決めるべく変位を行
う。それぞれ基板ＩＩこ取付けられる。エアシリンダー
（１）６゜エアシリンダ（２）７．エアシリンダー（８
）　８はモータ（１）８．モータ（２）４．モータ（８
）５．に対向した位置にあり、それぞれのモーターが位
置決めの変位を行った後ＸＹθ移動板２をモーター側に
押しつける。
それぞれ基板１に固定して取付けられる。
〈実施例〉 第８図、第４図は本発明の実施例１こおける。
フォトリソグラフィーでのマスクとサブストレートのア
ライメントとコンタクト方法を示す。
第８図は、アライメント時の状態で、ＸＹθ移動板１は
、基板２からエア浮上で支持され、かつマスクＩにコン
タクトしない中間位置にある。
この状態でマスクとサブストレートの位置をアライメン
トする。この後、第４図の示す通り、圧空源の圧力を上
げ、基板２とマスク園をコンタクトさせる。
なお以上の実施例ζこおいて、エア浮上のかわりに、磁
気浮上等の他の浮上方法を用いても同様の効果が得られ
る。
く効果〉 以上述べたように本発明によれば、２層構造によりＸＹ
θテーブルが構成される。これにより、薄型、低価格が
達成される。またＸＹθ移動板が基板からエアー浮上で
支持されている事により、均一荷重支持となり、ＸＸａ
板の自重によるたわみ変形がない為、高平担性が実現さ
れる。ｉた同様の理由で大面積ＸＹθ移動板の自重によ
る影響を排除され、高精度位置決めを有する装置の大型
化が可能となる。ま九実肩側で示す様ｌこ、アライメン
ト状態とコンタクト状態をエアー源の圧力調整だけで実
現できる事ζこよる。大巾な構造の簡略化がはかれる。
さらに、コンタクト状態のマスクとＸＹθ移動板のスキ
間は、マスク、Ｘτθ移動板の取付の平行度によらず、
エア一層が緩衝層となり常にマスク面にＸＹθ移動面が
ならっていく為、最良のコンタクト条件がえられる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明のＸＹθテーブル装置の構造を示す平面
図であり、第２図は正面図である。 第８図及び第４図はそれぞれ本発明の実施例におけるマ
スクとサブストレートのアライメント状態を示す断面図
である。 ２・・、ＩＹθ移動板 以　　　上

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 　ＸＹθテーブルの構造が、基板となる板と、ＸＹθ移
    動する板との２層で構成されており、前記ＸＹθ移動す
    る板が前記基板となる板上に浮上され支持されている事
    を特徴としたＸＹθテーブル装置。
JP59241938A 1984-11-16 1984-11-16 ＸＹθテ−ブル装置 Pending JPS61120212A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59241938A JPS61120212A (ja) 1984-11-16 1984-11-16 ＸＹθテ−ブル装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59241938A JPS61120212A (ja) 1984-11-16 1984-11-16 ＸＹθテ−ブル装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS61120212A true JPS61120212A (ja) 1986-06-07

Family

ID=17081798

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59241938A Pending JPS61120212A (ja) 1984-11-16 1984-11-16 ＸＹθテ−ブル装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS61120212A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4107881A1 (de) * 1990-03-13 1991-09-19 Ntn Toyo Bearing Co Ltd Verstellbarer tisch
JP2007054953A (ja) * 2006-11-21 2007-03-08 Nsk Ltd 位置決め装置
JP2010514386A (ja) * 2005-12-13 2010-04-30 ケィティ、コーポレーション 銅ケーブル撤去用ジグ

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4107881A1 (de) * 1990-03-13 1991-09-19 Ntn Toyo Bearing Co Ltd Verstellbarer tisch
JP2010514386A (ja) * 2005-12-13 2010-04-30 ケィティ、コーポレーション 銅ケーブル撤去用ジグ
JP2007054953A (ja) * 2006-11-21 2007-03-08 Nsk Ltd 位置決め装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN204595427U (zh) 一种用于晶圆曝光的工件台
JPH03290918A (ja) Ｘ線マスク構造体
JP2007171015A (ja) 平面ステージ装置
JPS61102735A (ja) 基板変形チャック
TWI222671B (en) Apparatus for fabricating bonded substrate
JP4215899B2 (ja) 静圧直線案内装置
JPH09283392A (ja) 基板の重ね合わせ方法及び装置
JP4094859B2 (ja) レーザダイオード装置及びその実装装置
JPH03221336A (ja) 可動ステージ装置
JPS60217033A (ja) 微動ステ−ジ装置
JP2980078B2 (ja) 移動案内装置
JP3244022B2 (ja) ステージ装置
JP3863245B2 (ja) フラットパネルディスプレイの組立方法および組立装置
JPS6022245U (ja) Ｘｙステ−ジ
JPH03293716A (ja) マスク組立て方法
FR3151657B1 (fr) Procédé pour la fabrication d’un capteur de toucher et de force, notamment rétroéclairé
JPS61117297U (ja)
JPH03273869A (ja) 圧電アクチュエータ
JPS59194171U (ja) ト−ンア−ムの防振装置
JPS61131010A (ja) ＸＹθテ−ブル
JPH02281755A (ja) 固体撮像素子の製造装置
JPS5927589U (ja) 表示装置
JP2002093857A (ja) 実装装置
JP2002124750A (ja) プリント基板用自動マスクフィルム合わせ装置
WO2020124833A1 (zh) 。用于显示面板的接合装置以及显示面板的接合方法