JPS6112678Y2 - - Google Patents
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- JPS6112678Y2 JPS6112678Y2 JP1980139942U JP13994280U JPS6112678Y2 JP S6112678 Y2 JPS6112678 Y2 JP S6112678Y2 JP 1980139942 U JP1980139942 U JP 1980139942U JP 13994280 U JP13994280 U JP 13994280U JP S6112678 Y2 JPS6112678 Y2 JP S6112678Y2
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- external connection
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Description
【考案の詳細な説明】
この考案は複数個の外部接続用Al電極を有す
る半導体素子に於て、その外部接続用Al電極を
取扱い容易な外部リードとして引き出し得る半導
体装置の構造に関するものである。
る半導体素子に於て、その外部接続用Al電極を
取扱い容易な外部リードとして引き出し得る半導
体装置の構造に関するものである。
先ず、この種の従来装置の構造を第1図に示し
説明する。第1図は従来装置の断面図を示す。
説明する。第1図は従来装置の断面図を示す。
図に於て、1は複数個の外部接続用Al電極を
有する半導体素子、2はセラミツク基板、3はセ
ラミツク基板2に印刷焼成された厚膜電極、4は
半導体素子1に内蔵困難なコンデンサチツプ、5
は接続用ろう材、6は半導体素子1の外部接続用
Al電極を引き出すボンデイングワイヤ、7は外
部リード、8はヒートシンクを形成し取付台とな
るマウントプレート、9はセラミツク基板2とマ
ウントプレート8とを接着する接着剤、10は素
子を囲包するモールド部材である。尚、上記ボン
デイングワイヤ6、及び外部リード7のそれぞれ
の数は、半導体素子1の外部接続用Al電極の数
だけあるわけである。
有する半導体素子、2はセラミツク基板、3はセ
ラミツク基板2に印刷焼成された厚膜電極、4は
半導体素子1に内蔵困難なコンデンサチツプ、5
は接続用ろう材、6は半導体素子1の外部接続用
Al電極を引き出すボンデイングワイヤ、7は外
部リード、8はヒートシンクを形成し取付台とな
るマウントプレート、9はセラミツク基板2とマ
ウントプレート8とを接着する接着剤、10は素
子を囲包するモールド部材である。尚、上記ボン
デイングワイヤ6、及び外部リード7のそれぞれ
の数は、半導体素子1の外部接続用Al電極の数
だけあるわけである。
次に、この様に構成された従来装置の組立方法
について説明する。
について説明する。
まず、セラミツク基板2に印刷焼成された厚膜
電極3上に、半導体素子1及びコンデンサチツプ
4を乗せろう材5にて接続する。その後半導体素
子1の外部接続用Al電極をボンデインワイヤ6
により厚膜電極3上に夫々引き出す。そして外部
リード7をろう材5にて接続する。次に上記セラ
ミツク基板5を取付台となるマウントプレート8
上に接着剤9により接着する。そして最後にモー
ルド部材10により囲包するものである。
電極3上に、半導体素子1及びコンデンサチツプ
4を乗せろう材5にて接続する。その後半導体素
子1の外部接続用Al電極をボンデインワイヤ6
により厚膜電極3上に夫々引き出す。そして外部
リード7をろう材5にて接続する。次に上記セラ
ミツク基板5を取付台となるマウントプレート8
上に接着剤9により接着する。そして最後にモー
ルド部材10により囲包するものである。
以上の様な従来装置に於ては、半導体素子1、
コンデンサチツプ4及び外部リード7を保持する
為に、厚膜電極3を印刷焼成したセラミツク基板
2が用いられており、このセラミツク基板2が高
価となる。
コンデンサチツプ4及び外部リード7を保持する
為に、厚膜電極3を印刷焼成したセラミツク基板
2が用いられており、このセラミツク基板2が高
価となる。
また、半導体素子1の外部接続用Al電極を外
部リード7に引き出す為に、ボンデイングワイヤ
6とセラミツク基板2に印刷焼成された厚膜電極
3とを介している為、接続箇所が多くなりそれだ
け信頼性も低いものとなつていた。
部リード7に引き出す為に、ボンデイングワイヤ
6とセラミツク基板2に印刷焼成された厚膜電極
3とを介している為、接続箇所が多くなりそれだ
け信頼性も低いものとなつていた。
さらにセラミツク基板2が、マウントプレート
8に接着剤9により接着されており、半導体素子
1からマウントプレート8までの熱抵抗が大きく
なる。それを補う為に大きなマウントプレート8
が必要となる。又、半導体素子1の外部接続用
Al電極をボンデイングワイヤ6で一旦厚膜電極
3上に引き出す為に及び外部リード7を接続する
為の接続パツドが必要となる為に、実装効率が悪
く、セラミツク基板2が大きくなり装置全体とし
て大きなものとなる等の欠点があつた。
8に接着剤9により接着されており、半導体素子
1からマウントプレート8までの熱抵抗が大きく
なる。それを補う為に大きなマウントプレート8
が必要となる。又、半導体素子1の外部接続用
Al電極をボンデイングワイヤ6で一旦厚膜電極
3上に引き出す為に及び外部リード7を接続する
為の接続パツドが必要となる為に、実装効率が悪
く、セラミツク基板2が大きくなり装置全体とし
て大きなものとなる等の欠点があつた。
この考案は、上記従来装置のもつ種々の欠点を
除去するためになされたもので、すぐれた半導体
装置の構造を提供するものである。
除去するためになされたもので、すぐれた半導体
装置の構造を提供するものである。
以下、第2図、第3図、第4図、第5図、第6
図に示すこの考案の一実施例について説明する。
図に示すこの考案の一実施例について説明する。
第2図はこの考案の一実施例を示す半導体装置
の断面図、第3図は上記実施例に於ける外部リー
ドの引出し方向がシングルインラインの場合の構
成部品の展開斜視図、第4図は上記実施例に於け
るボンデイング前の半導体素子部の拡大断面図、
第5図は上記実施例に於けるボンデイング後の半
導体素子部の拡大断面図、第6図は、上記実施例
の組立后の斜視図を示し、4個の外部接続用Al
電極を有する半導体素子の場合について例示す
る。
の断面図、第3図は上記実施例に於ける外部リー
ドの引出し方向がシングルインラインの場合の構
成部品の展開斜視図、第4図は上記実施例に於け
るボンデイング前の半導体素子部の拡大断面図、
第5図は上記実施例に於けるボンデイング後の半
導体素子部の拡大断面図、第6図は、上記実施例
の組立后の斜視図を示し、4個の外部接続用Al
電極を有する半導体素子の場合について例示す
る。
図に於て、1aは半導体素子1の外部接続用
Al電極。11は耐熱性、両面接着性及び柔軟性
を有する絶縁シートで、11aは半導体素子1が
通る様に絶縁シート11にあけられた窓穴。17
は数10μm〜数100μmの厚みのAl箔17aを素
材として上記半導体素子1の外部接続用Al電極
1aへの接続端部17c以外がメツキ法等により
Cu金属化17bされ同一Al箔17aでフレーム
状に保持されてなるAl箔リードフレーム。8a
はマウントプレートに設けられた取付穴で、8b
は半導体素子1を収納する凹部、8cは該凹部8
b内に設けられた半導体素子1の位置決め用凹
部、Aはボンデイング用のツール。Bはボンデイ
ング後の半導体素子1のエツジ部とAl箔リード
との間〓。である。
Al電極。11は耐熱性、両面接着性及び柔軟性
を有する絶縁シートで、11aは半導体素子1が
通る様に絶縁シート11にあけられた窓穴。17
は数10μm〜数100μmの厚みのAl箔17aを素
材として上記半導体素子1の外部接続用Al電極
1aへの接続端部17c以外がメツキ法等により
Cu金属化17bされ同一Al箔17aでフレーム
状に保持されてなるAl箔リードフレーム。8a
はマウントプレートに設けられた取付穴で、8b
は半導体素子1を収納する凹部、8cは該凹部8
b内に設けられた半導体素子1の位置決め用凹
部、Aはボンデイング用のツール。Bはボンデイ
ング後の半導体素子1のエツジ部とAl箔リード
との間〓。である。
次に上記の様に構成されたこの考案の組立方法
の一実施例について説明する。
の一実施例について説明する。
まず、半導体素子1をマウントプレート8の半
導体素子収納凹部8bに設けられた半導体素子位
置決め用凹部8cに乗せ、その後、絶縁シート1
1をマウントプレート8上に貼り、その絶縁シー
ト11上にAl箔リードフレーム17を乗せる。
さらに、Al箔リードフレーム17上にコンデン
サチツプ4を乗せた状態で、熱板、又は炉等を使
用して、半導体素子1、コンデンサチツプ4のそ
れぞれをろう材5によりろう付する。それから
後、ボンデイング用のツールAにより半導体素子
1の外部接続用Al電極1aと、Al箔リードフレ
ーム17の接続端部17cとを夫々、超音波ボン
デイング方法によりボンデイングする。この場
合、第4図に示す様にボンデイング用ツールA
は、すべてのAl箔リードフレームの接続端部1
7cを同時にボンデイングする構造のものでも良
いし、又、各接続端部17cを別々にボンデイン
グする構造のものでも良い。そして最後にモール
ド部材10により囲包するものである。
導体素子収納凹部8bに設けられた半導体素子位
置決め用凹部8cに乗せ、その後、絶縁シート1
1をマウントプレート8上に貼り、その絶縁シー
ト11上にAl箔リードフレーム17を乗せる。
さらに、Al箔リードフレーム17上にコンデン
サチツプ4を乗せた状態で、熱板、又は炉等を使
用して、半導体素子1、コンデンサチツプ4のそ
れぞれをろう材5によりろう付する。それから
後、ボンデイング用のツールAにより半導体素子
1の外部接続用Al電極1aと、Al箔リードフレ
ーム17の接続端部17cとを夫々、超音波ボン
デイング方法によりボンデイングする。この場
合、第4図に示す様にボンデイング用ツールA
は、すべてのAl箔リードフレームの接続端部1
7cを同時にボンデイングする構造のものでも良
いし、又、各接続端部17cを別々にボンデイン
グする構造のものでも良い。そして最後にモール
ド部材10により囲包するものである。
この様に、この考案による半導体装置の場合に
は、高価なセラミツク基板の必要がなく、また半
導体素子1の外部接続用Al電極1aを外部に引
き出す為に、中継しているものがなく、Al箔リ
ードフレーム17のみにより直接引き出されるの
で、接続箇所が最少となり信頼性が向上する。さ
らに半導体素子1が直接マウントプレート8にろ
う付されている為に、半導体素子1からマウント
プレート8までの熱抵抗が非常に小さくなり、マ
ウントプレート8を小さくする事が出来る。その
上Al箔リードフレーム17がCu金属化17bさ
れているので、このAl箔リードフレーム17上
に、コンデンサチツプ4の様な他の素子を直接ろ
付する事が可能で、かつAl箔リードフレーム1
7が、そのまま外部リードとなり得るので、実装
効率が高く、装置全体としてより小さくする事が
出来る。さらにはAl箔リードフレーム17が柔
軟性のある外部リードとなるので、実装時及び装
置としての使用状態に於て、外部リードへのスト
レスに対し装置内部を保護する役目を果す。
は、高価なセラミツク基板の必要がなく、また半
導体素子1の外部接続用Al電極1aを外部に引
き出す為に、中継しているものがなく、Al箔リ
ードフレーム17のみにより直接引き出されるの
で、接続箇所が最少となり信頼性が向上する。さ
らに半導体素子1が直接マウントプレート8にろ
う付されている為に、半導体素子1からマウント
プレート8までの熱抵抗が非常に小さくなり、マ
ウントプレート8を小さくする事が出来る。その
上Al箔リードフレーム17がCu金属化17bさ
れているので、このAl箔リードフレーム17上
に、コンデンサチツプ4の様な他の素子を直接ろ
付する事が可能で、かつAl箔リードフレーム1
7が、そのまま外部リードとなり得るので、実装
効率が高く、装置全体としてより小さくする事が
出来る。さらにはAl箔リードフレーム17が柔
軟性のある外部リードとなるので、実装時及び装
置としての使用状態に於て、外部リードへのスト
レスに対し装置内部を保護する役目を果す。
また、半導体素子1がマウントプレート8に設
けられて半導体素子収納凹部8bに収納されてお
り、Al箔リードフレーム17の接続端部17c
が突起していないので半導体素子1及び接続端部
17cを外力から保護する事が出来る。
けられて半導体素子収納凹部8bに収納されてお
り、Al箔リードフレーム17の接続端部17c
が突起していないので半導体素子1及び接続端部
17cを外力から保護する事が出来る。
その上、半導体素子1のエツジ部とAl箔リー
ドとの間〓Bは十分に得られ、エツジ部でシヨー
トする事はない等の種々のすぐれた効果がある。
ドとの間〓Bは十分に得られ、エツジ部でシヨー
トする事はない等の種々のすぐれた効果がある。
第7図はこの考案による他の実施例の断面図を
示し、図に於いて、モールド部材10で囲包する
代りに、プリコート材12で要所のみを覆うもの
である。効果については、前記この考案の一実施
例の場合と同等の効果があるものである。
示し、図に於いて、モールド部材10で囲包する
代りに、プリコート材12で要所のみを覆うもの
である。効果については、前記この考案の一実施
例の場合と同等の効果があるものである。
以上の様に、この考案によれば信頼性に於いて
すぐれた装置を得る事が出来、さらにはよりコン
パクトで安価な装置を得る事が出来るものであ
る。そして、この考案は放熱を要する大電力用半
導体素子、特に、該半導体素子に内蔵困難な素子
を含む装置の場合にその効果が大きいものであ
る。
すぐれた装置を得る事が出来、さらにはよりコン
パクトで安価な装置を得る事が出来るものであ
る。そして、この考案は放熱を要する大電力用半
導体素子、特に、該半導体素子に内蔵困難な素子
を含む装置の場合にその効果が大きいものであ
る。
尚、この考案の場合、必要に応じて半導体素子
1の外部接続用Al電極1aを数10μmに突起さ
せた場合も可能で同様の効果があるものである。
1の外部接続用Al電極1aを数10μmに突起さ
せた場合も可能で同様の効果があるものである。
第1図は従来の半導体装置の断面図、第2図は
この考案の一実施例を示す半導体装置の断面図、
第3図はその構成部品の展開斜視図、第4図はこ
の考案の実施例に於けるボンデイング前の半導体
素子部の拡大断面図、第5図はボンデイング後の
半導体素子部の拡大断面図、第6図はこの考案の
ものの組立后の斜視図、第7図はこの考案の他の
実施例を示す断面図を示す。 図中、1……半導体素子、2……セラミツク基
板、3……厚膜電極、4……コンデンサチツプ、
5……ろう材、6……ボンデイングワイヤ、7…
…外部リード、8……マウントプレート、9……
接着剤、10……モールド部材、1a……半導体
素子の外部接続用Al電極、11……絶縁シート
で11a……窓穴、17……Al箔リードフレー
ム、17a……その素材となるAl箔、17b…
…Cu金属化部、17c……半導体素子への接続
端部、8a……取付穴、8b……半導体素子収納
凹部、8c……半導体素子位置決め用凹部、A…
…ボンデイング用ツール、B……半導体素子のエ
ツジ部とAl箔リードとの間〓、12……プリコ
ート材を示す。尚、図中、同一符号は同一又は相
当部分を示す。
この考案の一実施例を示す半導体装置の断面図、
第3図はその構成部品の展開斜視図、第4図はこ
の考案の実施例に於けるボンデイング前の半導体
素子部の拡大断面図、第5図はボンデイング後の
半導体素子部の拡大断面図、第6図はこの考案の
ものの組立后の斜視図、第7図はこの考案の他の
実施例を示す断面図を示す。 図中、1……半導体素子、2……セラミツク基
板、3……厚膜電極、4……コンデンサチツプ、
5……ろう材、6……ボンデイングワイヤ、7…
…外部リード、8……マウントプレート、9……
接着剤、10……モールド部材、1a……半導体
素子の外部接続用Al電極、11……絶縁シート
で11a……窓穴、17……Al箔リードフレー
ム、17a……その素材となるAl箔、17b…
…Cu金属化部、17c……半導体素子への接続
端部、8a……取付穴、8b……半導体素子収納
凹部、8c……半導体素子位置決め用凹部、A…
…ボンデイング用ツール、B……半導体素子のエ
ツジ部とAl箔リードとの間〓、12……プリコ
ート材を示す。尚、図中、同一符号は同一又は相
当部分を示す。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 複数個の外部接続用Al電極もしくは数10μ
mに突起させたAl電極を有する半導体素子、
この半導体素子を収納する凹部及び上記半導体
素子の位置決め用凹部を有し、ヒートシンクを
形成し、取付台となるマウントプレート、一端
が上記半導体素子のAl電極と夫々接続される
複数個のAl箔リードが同一Al箔でフレーム状
に保持されてなるAl箔リードフレーム、 上記マウントプレートに上記Al箔リードフ
レームを絶縁保持する絶縁シート、上記半導体
素子を囲包するモールド部材とで構成され、上
記Al箔リードフレームに於て、上記半導体素
子の外部接続用Al電極への接続端部以外の片
面(もしくは両面)がCu金属化されてなり、
Cu金属化されていない一端が半導体素子の外
部接続用Al電極と接続されてなる半導体装
置。 (2) Al箔リードフレームの厚みが数10μm〜数
100μmの厚みからなる実用新案登録請求の範
囲第1項記載の半導体装置。 (3) 絶縁シートが、耐熱性、両面接着性及び柔軟
性を有してなる実用新案登録請求の範囲第1項
および第2項のいずれかに記載の半導体装置。 (4) Cu金属化された上記Al箔リード上に、上記
半導体素子とは別の半導体素子、又は受動素子
をマウントしてなる実用新案登録請求の範囲第
1項、第2項および第3項のいずれかに記載の
半導体装置。 (5) 半導体素子の外部接続用Al電極がCu金属化
された上記Al箔リードにより引き出され、該
Al箔リードが同時に外部リードとしてなる実
用新案登録請求の範囲第1項、第2項、第3項
および第4項のいずれかに記載の半導体装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1980139942U JPS6112678Y2 (ja) | 1980-09-30 | 1980-09-30 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1980139942U JPS6112678Y2 (ja) | 1980-09-30 | 1980-09-30 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5764165U JPS5764165U (ja) | 1982-04-16 |
| JPS6112678Y2 true JPS6112678Y2 (ja) | 1986-04-19 |
Family
ID=29499873
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1980139942U Expired JPS6112678Y2 (ja) | 1980-09-30 | 1980-09-30 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6112678Y2 (ja) |
-
1980
- 1980-09-30 JP JP1980139942U patent/JPS6112678Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5764165U (ja) | 1982-04-16 |
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