JPS61131215A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 この発明は薄膜磁気ヘッドにかかり、特に下磁極を形成
する磁性膜層廻りの改善に関する。

（発明の技術的背景とその問題点） 薄膜磁気ヘッドでは、第５図に示すように、基板ａ上に
、下磁極す、ギャップ層Ｃ１下絶縁層ｄ。

コイルｅ、上絶縁層ｆ、上磁極ｑを順番に積重ねて構成
することが行われ、これにて、下絶縁ｌｉｄと上絶縁層
ｆとで挟んだコイルｅを、下磁極すと上磁極ｑとの間に
配している。なお、第６図はその薄膜磁気ヘッドの平面
を示す。

ところで、こうした薄膜磁気ヘッドの構造は、記録再生
効率の向上が難しい他、フォトリソグラフィによるコイ
ルｅの形成精度が低いといった問題がある。

すなわち、記録再生効率を向上させるためには第７図に
示すように、コイルｅを挟む上・下磁極す１ｇ間の間隔
ρを離して、上・下磁極す１ｇ間から漏れる漏洩磁束を
減少させる必要があるが、先に述べた磁気ヘッドの構造
では上下の磁極す。

ｑの間隔を離すと、上１ｉｆｌ極Ｑの段差部り、１の長
さが長くなって磁気抵抗が増し、ヘッド効率を不用意に
低下させてしまう事情がある。

一方、後者に述べたコイルｅの形成は、第８図に示すよ
うにレジストｊにマスクｋを密着させ、マスクｋに形成
されたコイルパターンｍを通して光をレジストｊへ露光
することで形成するが、不離１ａｉ　ｇの厚み分、他の
部分と段差ができるために、マスクにとレジストｊとが
密着する部分では適切な露光を行なうことができるもの
の、マスク１（とレジストＪとの間に隙間が生じる段差
部ｐではマスクｋを通過する光が回折して回り込み、ど
うしても不必要な部分まで露光してしまうことが指摘さ
れ、これがフォトリソグラフィの精度の低下となって、
微細なパターンをもつコイルｅの形成の障害どなってい
る。

〔発明の目的〕

この発明は上記事情に着目してなされたもので、その目
的とするところは、磁気抵抗を増やすことなく記録・再
生の効率を向上させることができるとともに、微細なコ
イルの形成を容易に実現することができる薄膜磁気ヘッ
ドを提供することにある。

〔発明のＭ要部 すなわち、この発明は下磁極を、コイルが重なり合う部
分に凹部を形成してなる平坦部から構成し、上記凹部内
に上面が平坦部に対し同一水平面になるよう下絶縁層を
配することにより、段差部の長さを長くすることなく上
・下磁極の間隔を離すことができるようにするとともに
、段差のない平面上でコイルを形成することができるよ
うにしようとするものである。

〔発明の実施例〕

以下、この発明を第１図ないし第３図に示ず第１の実施
例にもとづいて説明する。第１図は薄膜磁気ヘッドを示
し、１は基板、２はその基板１上に設けた絶縁層、３は
下磁極、４は下絶縁層、５はギャップ層、６はコイル、
７は上絶縁層、８は上磁極である。そして、基板１の絶
縁層２上に、下磁極３．下絶縁層４．ギャップ層５．コ
イル６゜上絶縁層７．上磁極８が順番に積重ねて設けら
れ、上・下磁極３，８間に、下絶縁層４と上絶縁層７と
で挟んだコイル６を配するようにしている。

また、この発明の要部となる下磁極３は、コイル６が重
なる合う部分に四部９を形成した平坦部１０から構成さ
れていて、この下磁極３の凹部９１内に、上面が平坦部
１０と同一水平面となるよう上記下絶縁層４を配してい
る。具体的には、第２図（ａ）〜（ｆ）で示すヘッド製
造方法を使って凹部９の形成ないし下絶縁層４を配する
ようにしている。

すなわち、ここで、薄膜磁気ヘッドの製造方法について
説明すれば、まず、基板１上にＡＪ２２０ａ、５ｉｏ２
などをスパッタや蒸着で形成、又はレジスト膜や有機高
分子膜をスピンコードで形成して、絶縁層２を基板１上
に構成する。

ついで、第２図（ａ）に示すように下磁極３とコイル６
とが鎖交する部分に、フォトエツチングにより穴１２を
形成する。つぎに、スパッタや蒸着。

あるいはメッキなどの手段により絶縁層２上に磁性膜を
形成する他、その磁性膜をエツチングにより所定の形状
にして、第２図（ｂ）に示すような下磁極３を形成する
。これにより、下磁極３は第１図で示すように絶縁層２
に沿って凹形状となり、コイル６と重なる部分のみ凹部
９とし、他の部分を平坦部１０としだ１磁ｒｉ３を形成
することになる。そして、こうした下磁極３を形成した
基板１の絶縁層２上に、先の凹部９を穴埋めするよう全
５一 体に絶縁膜を形成し、その後、四部９を残して他の全て
の部分の絶縁膜をエツチングにより除去する。これによ
り、第２図（Ｃ）に示すように凹部９内に下絶縁層４を
形成することになる。このとき、下絶縁層４の上面は第
１図に示すように、凹凸なく下磁極３の平坦部１０と同
一水平面となる。

しかる後、こうした下磁極３が形成された基板１上の全
体に絶縁膜を形成する他、その絶縁膜のうちの下磁極３
のバックコア部３ａと対応する部分をエツチングにより
除去することで、第２図（ｄ）に示すようなギャップ層
５を形成することになる。

そして、こうした凹凸のない上面に、従来同様、フォト
リソグラフィによってコイル６を第２図（ｅｔ）に示す
ように形成する伯、コイル形成後、第２図（ｆ）で示す
ように上絶縁層７ならびに上磁極８を形成し、さらにリ
ード取り出しを形成することにより、薄膜磁気ヘッドの
全体が形成される。

しかして、こうして構成される薄膜磁気ヘッドは、下磁
極３に形成した四部９ならびにその凹部６一 ９内に充填した下絶縁層４によって、上磁極８の段差部
分８ａ、８ａの長さを長くすることなく、第７図に示す
ように上・下磁極３，８の間隔λを大ぎく取ることがで
きるようになる。

故に、上・下Ｆ１１極３，８の距１１１ｔ／！、を、磁
気抵抗の増大をきたすことなく離して漏洩磁束を効果的
に減少化することができ、記録・再生の効率を向上させ
ることができる。

しかも、凹部９の形成、ならびに上面を下磁極３の平坦
部１０と同一水平面とした下絶縁層４の充填によって、
段差のない平面上において、フォトリソグラフィを使っ
たコイル６の形成を行なうことができるから、従来のよ
うな不必要な部分まで露光するといった段差による支障
を改善することができ、この結果、フォトリソグラフィ
の精度を飛躍的に高めて、微細なパターンをもつコイル
６を形成することができるようになり、漏洩磁束の点と
合せて従来の問題点を解消することができる。

なお、上述した第１の実施例では下絶縁層４の上にギャ
ップ層５を形成した薄膜磁気ヘッドにこの発明を適用し
たが、第４図に示す第２の実施例のように、下磁極４の
上にギャップ層５を形成するようにした薄膜磁気ヘッド
にもこの発明を適用するようにしてもよい。

〔発明の効果〕

以上説明したようにこの発明によれば、上磁極の段差部
の長くすることなく上・下磁極の間隔を麟すことができ
るようになる他、段差の全くない平面でコイルを形成（
フォトリソグラフィによる形成）することができるよう
になる。

したがって、磁気抵抗を増やすことなく漏洩磁束を減少
化して記録・再生効率の向上を図ることができる他、フ
ォトリソグラフィの精度を高めて微細なパターンをもつ
コイルを容易に形成することができるといった効果を秦
する。

【図面の簡単な説明】

第１図ないし第３図はこの発明の第１の実施例を示し、
第１図は薄膜磁気ヘッドを示す断面図、第２図（ａ）〜
（ｆ）は下磁極の凹部の形成ならびにその凹部内に形成
される下絶縁層を、薄膜磁気ヘッドの製造の推移に沿っ
て示した平面図、第３図は薄膜磁気ヘッドの上・下磁極
間が離れた状態を拡大して示す断面図、第４図はこの発
明の第２の実施例の薄膜磁気ヘッドを示す断面図、第５
図ないし第８図は従来の薄膜磁気ヘッドを示し、第５図
は薄膜磁気ヘッドの断面図、第６図はその平面図、第７
図は上・下磁極間を詳しく示す断面図、第８図はフォト
リソグラフィによるコイル形成状態を示す断面図である
。 ３・・・下磁極、４・・・下絶縁層、６・・・コイル、
７・・・上絶縁層、９・・・凹部、１０・・・平坦部。 出願人代理人　弁理士　坪井　淳 第１図 第７図 第８図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 下磁極と上磁極との間に、下絶縁層と上絶縁層で挟んだ
   コイルを配して構成される薄膜磁気ヘッドにおいて、上
   記下磁極を、上記コイルが重なり合う部分に凹部を形成
   してなる平坦部から構成し、上記凹部内に上面が平坦部
   に対し同一水平面になるよう上記下絶縁層を配したこと
   を特徴とする薄膜磁気ヘッド。