JPS61133183A - 基板収納ケ−スの洗浄方法 - Google Patents

基板収納ケ−スの洗浄方法

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JPS61133183A
JPS61133183A JP59252864A JP25286484A JPS61133183A JP S61133183 A JPS61133183 A JP S61133183A JP 59252864 A JP59252864 A JP 59252864A JP 25286484 A JP25286484 A JP 25286484A JP S61133183 A JPS61133183 A JP S61133183A
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scrubbing
resin
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修 鈴木
谷田 和雄
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  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、例えばフォトマスク用ガラス基板、それにC
r等の遮光性薄膜により所望のパターンを形成したフォ
トマスク又はシリコンウェハなど、半導体装置の構成又
はその製造に用いる各種基板を運搬又は保存する際に使
用する収納ケースの洗浄方法に関するものであり、特に
、帯電防止剤を練り込んだ樹脂からなる基板収納ケース
の洗浄方法に関するものである。
〔従来の技術〕
先ず、この種の収納ケースに望まれる特性としては、何
よりも収納した基板を汚染から保護することであり、こ
れに関連して、少なくとも一部が透明で、ふたを取らな
くとも内在する基板が外から確認できることである。
そのため、この種の収納ケースは、通常、アクリル、ス
チロール、ポリプロピレン等の樹脂(y:電体)によっ
て形成されるが、このような樹脂からなる収納ケースを
用いて基板を収納すると、今度はその帯電性が問題点と
なる。すなわち、帯電によってほこりを吸着し、そのほ
こりが基板を汚染する恐れがあるのみならず、収納ケー
ス中の基板がフォトマスクなどの場合には、このケース
からフォトマスクへの放電によりパターンが破壊される
こともある。
そこで、このような帯電を防止するために、前記した樹
脂に予め帯電防止剤を練り込んだ材料を用い、これを成
型加工し収納ケースが使用されている。そして、従来は
、この収納ケースに基板を収納する前に、収納ケースの
内面(この内面とは、内部に収納する基板に直接対向す
る面を意味する。
)に対して超純水を噴射し、内面のほこりを除去してい
た。
〔発明が解決しようとする問題点〕
この帯電防止剤を練り込んだ樹脂で形成された収納ケー
スは、前記樹脂に内在する帯電防止剤が、前記ケース内
面に析出して吸湿層を形成ザることにより帯電防止効果
を発現するものであるが、ケース内面側に析出した帯電
防止剤が、基板表面を汚染するため、前記内面に析出し
た帯電防止剤を除去しなくてはならない。
しかしながら、従来の方法では、収納ケース内面に付着
したほこりは除去できても、内面に析出した帯電防止剤
には、表面に付着しているものもあるが、表面に食いこ
んでいるものがあるので、除去することが非常に困難で
あり、さらに、長時間を要して、かつ超純水の噴射圧力
を高めて析出した帯電防止剤を除去したとしても、この
除去時において内在する帯電防止剤が表面にその侵析出
し、基板をこの収納ケース中に保存すると、基板表面を
汚染するので、実質的に収納ケースを洗浄したことには
ならない欠点があった。
本発明は、前記の事情に鑑みてなされたもので、その目
的は、ケース内面に析出した帯電防止剤を除去し、かつ
所望する期間、内在する帯電防止剤がケース内面に析出
させないようにし、基板をケース内に保存しても、基板
が汚染されないようにすることである。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明の特徴は、アクリル系樹脂等の誘電体樹脂材料に
帯電防止剤を練り込んだものを用いた収納ケースを洗浄
する方法において、ケース内面に析出した帯電防止剤を
スクラブ洗浄によって除去するスクラブ工程と、ケース
内に前記樹脂の変形温度未満の水を貯蔵し、この水内に
前記スクラブ工程時において内在する帯電防止剤を抽出
する抽出工程を有する洗浄方法である。
なお、本発明においては、スクラブ工程と抽出工程の順
序は任意であり、スクラブ工程と抽出工程の前後に他の
洗浄工程を導入してもよいし、また、スクラブ工程と抽
出工程とを連続してもよいし、さらに、スクラブ工程と
抽出工程の前後において、それぞれ抽出工程、スクラブ
工程を導入してもよい。また、前記基板は、フォトマス
ク用ガラス基板、これに遮光性薄膜を被着したもの、ざ
らにこの遮光性薄膜上にレジストを塗布したもの、遮光
性薄膜をバターニングしたフォトマスク、あるいはシリ
コンその他の半導体ウェハ、このウェハにレジストを塗
布したもの、ざらにこれを露光したもの等半導体装置を
構成し、又はその製造に用いられるものを含む。
〔作 用〕
本発明は、収納ケース内面に析出している帯電防止剤(
表面に付着しているもの及び食い込んでいるもの。)に
対してスクラブ洗浄をすることにより、付着しているも
のは勿論、食い込んでいるものも除去し、さらに他のほ
こりも除去する。また、ケースを形成する樹脂の変形温
度以下の水をケース内に貯蔵することにより、この水に
よって、樹脂のポリマーの鎖の結合が緩み、その結果、
前記水によって、樹脂中の帯電防止剤が抽出される。
〔実施例1〕 帯電防止剤(例えば、エレクトロストリッパーEA(花
王石鹸■ 商品名))を練り込んだスチロール樹脂から
なり、蓋と基板を収納するケース本体とからなる、例え
ば、6インチ×6インチのフォトマスク用の収納ケース
を用意する。本例においては、ケース本体の洗浄方法に
ついて詳述し、蓋については、同様の方法によって洗浄
できるので、説明を省略する。
先ず、ケース本体の内面に向けて、超純水を噴射しなが
ら、スクラブ用布(例えば、材質がポリビニルホルマー
ルのカネボウベルクリン(鐘紡合成化学■ 商品名))
を用いて、ケース本体内面をこすり、内面に析出した帯
電防止剤及び他のほこりを除去する(スクラブ工程)。
次に、スクラブ工程後、ケース本体内面に向けて、超純
水を35(Ky/d)の圧力で噴射して噴射洗浄し、ケ
ース本体内面に付着しているものを完全に除去する。
次に、超純水を温めて約10℃(スチロール樹脂の  
 □変形温度は約85℃である。)にし、この温水をケ
ース本体内に満たし、約24時間放置し、スチロール樹
脂内の帯電防止剤を、前記温水内に抽出する(抽出工程
)。次に、前記温水を排水し、ケース本体内面に向けて
、超純水を35(Ng/cd)の圧力で噴射して噴射洗
浄し、前記漏水を完全に取り除く。ざらに、ケース本体
をクリーンルーム(クラス100)内にて自然乾燥する
従来の方法では、2日も経過すると収納された基板表面
には、帯電防止剤が付着していたが、本例によって洗浄
すると1力月経過しても帯電防止剤が、基板の表面に付
着していなかった。
また、本例によれば、ケース本体内面が非常に汚染され
ているときに効果がある。すなわち、スクラブ工程によ
ってケース本体内面を洗浄することによって、後工程の
抽出工程における温水のケース本体内面に接触する面積
が増大されるので、前記温水がケース本体内面に接触し
やすくなり、内在する帯電防止剤を効果的に抽出できる
〔実施例2〕 実施例1と同様の帯電防止剤を練り込ませたアクリル樹
脂からなるケース本体の洗浄方法について詳述する。
先ず、実施例1と同様に、噴射洗浄し、次に、超純水を
温めて約40℃(アクリル樹脂の変形温度は、約80℃
である。)とし、この温水をケース本体内に満たし、約
36時間放置し、内在する帯電防止剤を抽出する(抽出
工程)。次に、温水を排水し、実施例1と同様に噴射洗
浄し、次に、スクラブ用ブラシを用いて、超純水を噴射
させながらケース本体内面をスクラブする(スクラブ工
程)。
さらに、ケース本体内面を超純水によって噴射洗浄し、
そして、実施例1と同様にケース本体を乾燥する。
本例によれば、帯電防止剤の析出が少ないと思われると
きに特に効果があり、すなわち、先ず、抽出工程によっ
て帯電防止剤を抽出し、抽出によって表面に付着した帯
電防止剤及び抽出工程前から析出していた帯電防止剤に
対してはスクラブ工程で除去できる。
以上、前記実施例1.2に限らず、第1のスクラブ工程
→第2のスクラブ工程→抽出工程、第1のスクラブ工程
→抽出工程→第2のスクラブ工程等により収納ケースを
洗浄してもよい。また、スクラブ工程に使用される冶具
として、スクラブ用布、スクラブ用ブラシに限らず、カ
ップ型や円筒型のスクラブスポンジを用いてもよい。次
に、収納ケースの樹脂は、前記実施例1.2に限らず、
透明なmlll体樹脂であればよく、ポリプロピレン系
樹脂、透明塩化ビニール系樹脂や、アクリル系樹脂、ス
チロール系樹脂、ポリプロピレン系樹脂及び透明塩化ビ
ニール系樹脂のうち少なくとも二つ以上を混合した樹脂
であってもよい。次に、抽出工程に使用される水は、収
納ケースとして所望される清浄度に適合して、超純水、
純水、水を適宜決定すればよく、さらに、この水の温度
は、前記した樹脂の変形温度未満であればよいが、望ま
しくは、40℃以上がよく、その理由は、40℃未満で
あると、内在する帯電防止剤の抽出速度が、極端に遅く
なるからである。さらに、本発明は、前記樹脂に内在す
る物質が、帯電防止剤に限らず、前記樹脂と異なる物質
、例えば、パラフィン系等からなるケース成型時に使用
する滑剤等の除去にも適用できる。
〔発明の効果〕 以上のように、本発明によれば、収納ケース外面の帯電
防止剤を除去せずに、収納ケース内面のみを洗浄するの
で、収納ケースの帯電防止性を維持し、基板を汚染せず
、さらに、フォトマスク等の基板のときは、そのパター
ンを静電破壊しない効果がある。

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)基板収納ケースの内面に析出した前記ケースを形
    成する誘電体樹脂材料に内在する前記材料と異なる物質
    をスクラブ法によつて除去するスクラブ工程と、前記ケ
    ース内に、前記材料の変形温度未満の水を貯蔵し、前記
    材料に内在する前記物質を前記水内に抽出する抽出工程
    とを有することを特徴とする基板収納ケースの洗浄方法
  2. (2)特許請求の範囲第(1)項記載において、前記ケ
    ースの内面に析出した前記ケースを形成する前記材料に
    内在する前記物質をスクラブ法によつて除去するスクラ
    ブ工程を経た後、前記ケース内に、前記材料の変形温度
    未満の水を貯蔵し、前記材料に内在する前記物質を前記
    水内に抽出する抽出工程を経ることを特徴とする基板収
    納ケースの洗浄方法。
  3. (3)特許請求の範囲第(1)項記載において、前記ケ
    ース内に、前記材料の変形温度未満の水を貯蔵し、前記
    材料に内在する前記物質を前記水内に抽出する抽出工程
    を経た後、前記ケースの内面に析出した前記ケースを形
    成する前記材料に内在する前記物質をスクラブ法によつ
    て除去するスクラブ工程を経ることを特徴とする基板収
    納ケースの洗浄方法。
  4. (4)特許請求の範囲第(1)項記載において、前記ケ
    ースの内面に析出した前記ケースを形成する前記材料に
    内在する前記物質をスクラブ法によって除去するスクラ
    ブ工程を経た後、前記ケース内に、前記材料の変形温度
    未満の水を貯蔵し、前記材料に内在する前記物質を前記
    水内に抽出する抽出工程を経た後、再度、前記スクラブ
    工程を経ることを特徴とする基板収納ケースの洗浄方法
  5. (5)特許請求の範囲第(1)項乃至第(4)項記載に
    おいて、前記材料が、アクリル系樹脂、スチロール系樹
    脂、ポリプロピレン系樹脂及び透明塩化ビニール系樹脂
    のうち何れか一つの樹脂又は二つ以上を混合した樹脂で
    あることを特徴とする基板収納ケースの洗浄方法。
  6. (6)特許請求の範囲第(1)項乃至第(4)項記載に
    おいて、前記物質が帯電防止剤であることを特徴とする
    基板収納ケースの洗浄方法。
  7. (7)特許請求の範囲第(1)項乃至第(4)項記載に
    おいて、前記水の温度が、前記材料の変形温度未満で4
    0℃以上であることを特徴とする基板収納ケースの洗浄
    方法。
JP59252864A 1984-11-30 1984-11-30 基板収納ケ−スの洗浄方法 Granted JPS61133183A (ja)

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS598352U (ja) * 1982-07-09 1984-01-19 能美防災工業株式会社 石炭などの可燃物の貯蔵所の防火装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS598352U (ja) * 1982-07-09 1984-01-19 能美防災工業株式会社 石炭などの可燃物の貯蔵所の防火装置

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