JPS61134352A - 2‐(1‐ヒドロキシカルボアルコキシメチル)‐アクリルニトリル及び‐アクリルエステル及びその製法 - Google Patents
2‐(1‐ヒドロキシカルボアルコキシメチル)‐アクリルニトリル及び‐アクリルエステル及びその製法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C255/00—Carboxylic acid nitriles
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
米国特許3745669号明細書によれば、一般式
%式%
(式中Yは特に−〇N又は−〇−OR’を意味し、y及
び!はアルキル基又はアリール基を意味する)で表わさ
れる2−(1−ヒドロキシアルキル)−アクリルニトリ
ル及ヒ2−(1−とドロキシアルキル)−アクリルエス
テルの製造が知られている。式Iの化合物は、弐CH2
=CH−Yのアクリルニトリル又はアクリルエステルを
、式R’CHO(これらの式中Y及びyは式■の場合と
同じ意味を有する)のアルデヒドと、触媒としての三級
アミンの存在下に0〜200℃の温度において反応させ
ることにより製造される。
び!はアルキル基又はアリール基を意味する)で表わさ
れる2−(1−ヒドロキシアルキル)−アクリルニトリ
ル及ヒ2−(1−とドロキシアルキル)−アクリルエス
テルの製造が知られている。式Iの化合物は、弐CH2
=CH−Yのアクリルニトリル又はアクリルエステルを
、式R’CHO(これらの式中Y及びyは式■の場合と
同じ意味を有する)のアルデヒドと、触媒としての三級
アミンの存在下に0〜200℃の温度において反応させ
ることにより製造される。
本発明の課題は、二重結合のほかに他の機能性基を分子
中に含有する化合物を開発することであった。この新規
化合物の製造方法を提供することも課題であった。、
゛ 本発明はこの課題を解決するもので、一般式%式% (式中RはC8〜C111−アルキル基、Xは−CN又
は−C−OR’、R’は01〜C111−アルキル基、
R” 及ヒR’ バーCHI 又バーC2H,、v バ
ーH、−CH8、〜5、pは1〜80、YはC1、Br
、 304 、PO4、CH30803、C2H6
0803、CH3COO又はHCooを意味する)で表
わされる化合物である。
中に含有する化合物を開発することであった。この新規
化合物の製造方法を提供することも課題であった。、
゛ 本発明はこの課題を解決するもので、一般式%式% (式中RはC8〜C111−アルキル基、Xは−CN又
は−C−OR’、R’は01〜C111−アルキル基、
R” 及ヒR’ バーCHI 又バーC2H,、v バ
ーH、−CH8、〜5、pは1〜80、YはC1、Br
、 304 、PO4、CH30803、C2H6
0803、CH3COO又はHCooを意味する)で表
わされる化合物である。
式Iの化合物は、一般式
1(I)
CH,=C−X
(式中Xは前記の意味を有する)で表わされる化合物を
、一般式 RO−Co −CHO(1) (式中Rは前記の意味を有する)で表わされるグリオキ
シル酸エステルと、触媒としての三級アミンの存在下に
反応させることにより製造される。
、一般式 RO−Co −CHO(1) (式中Rは前記の意味を有する)で表わされるグリオキ
シル酸エステルと、触媒としての三級アミンの存在下に
反応させることにより製造される。
式■の化合物としては、アクリルニトリル及びアクリル
エステルが用いられる。弐璽における置換基Xは下記の
意味を有しうる。−〇N又R% 又は−(C2H40) R、RはC1〜eta−アルキ
ル基、R2及びR3は−CH,又は−C,H,、Ft’
= H、−CHs、〜5、pは1〜80、Yoは01
″、Br”、so、”−1PO,s CH,0803、
C,H,0803、CH,Coo 又はHCOO−0 at””’cts−アルキルアクリレートの例は下記の
ものである。メチルアクリレート、エチルアクリレート
、n−プロピルアクリレート、イソブチルアクリレート
、n−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、
三級ブチルアクリレート、n−オクチルアクリレート、
インオクチルアクリレート、2−エチルへキシルアクリ
レート、シクロペンチルアクリレート、シクロヘキシル
アクリレート、ラウリルアクリレート、ハルミチルアク
リレート及びステアリルアクリレート。そのほか弐璽は
、下記のアクリレートをも包含する。ヒドロキシエチル
アクリレート、しドロキシグロビルアクリレート及びヒ
ドロキシブチルアクリレート(C8−及びC4−グリコ
ールから導かれるこれらの各ヒドロキシアルキルアクリ
レートは、すべての可能な異性体グリコール又はその混
合物とアクリル酸とのエステル化により製造し5る)、
ならびにジメチルアミノエチルアクリレート、ジエチル
アミンエチルアクリレート、ジメチルアミンプロピルア
クリレート、ジエチルアミノプロピルアクリレート、ジ
メチルアミノブチルアクリレート、ジエチルアミンブチ
ルアクリレート、ジメチルアミノネオペンチルアクリレ
ート、ジエチルアミノネオペンチルアクリレート、“な
らびに中和もしくは四級化されたジアルキルアミノアル
キルアクリレート。
エステルが用いられる。弐璽における置換基Xは下記の
意味を有しうる。−〇N又R% 又は−(C2H40) R、RはC1〜eta−アルキ
ル基、R2及びR3は−CH,又は−C,H,、Ft’
= H、−CHs、〜5、pは1〜80、Yoは01
″、Br”、so、”−1PO,s CH,0803、
C,H,0803、CH,Coo 又はHCOO−0 at””’cts−アルキルアクリレートの例は下記の
ものである。メチルアクリレート、エチルアクリレート
、n−プロピルアクリレート、イソブチルアクリレート
、n−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、
三級ブチルアクリレート、n−オクチルアクリレート、
インオクチルアクリレート、2−エチルへキシルアクリ
レート、シクロペンチルアクリレート、シクロヘキシル
アクリレート、ラウリルアクリレート、ハルミチルアク
リレート及びステアリルアクリレート。そのほか弐璽は
、下記のアクリレートをも包含する。ヒドロキシエチル
アクリレート、しドロキシグロビルアクリレート及びヒ
ドロキシブチルアクリレート(C8−及びC4−グリコ
ールから導かれるこれらの各ヒドロキシアルキルアクリ
レートは、すべての可能な異性体グリコール又はその混
合物とアクリル酸とのエステル化により製造し5る)、
ならびにジメチルアミノエチルアクリレート、ジエチル
アミンエチルアクリレート、ジメチルアミンプロピルア
クリレート、ジエチルアミノプロピルアクリレート、ジ
メチルアミノブチルアクリレート、ジエチルアミンブチ
ルアクリレート、ジメチルアミノネオペンチルアクリレ
ート、ジエチルアミノネオペンチルアクリレート、“な
らびに中和もしくは四級化されたジアルキルアミノアル
キルアクリレート。
四級化剤としては、例えば硫酸ジメチル、硫酸ジエチル
、塩化メチル、塩化エチル、臭化メチル、臭化エチル及
び塩化ベンジルが用いられる。ジメチルアミノアルキル
アクリレートの塩は、塩醸、臭化水素酸、硫酸、燐酸又
は飽和力・ルボン酸例えば蟻酸及び酢酸を用いて中和す
ることにより得られる。式■の化合物としては、1〜8
0個好ましくは6〜60個のエトキシ基を含有するアク
リル酸のポリエトキシアルキルエステル、例えばメトキ
シエチルアクリレート、エトキシエチルアクリレート及
びラウリルオキシトリオキシエチルアクリレートも用い
られる。
、塩化メチル、塩化エチル、臭化メチル、臭化エチル及
び塩化ベンジルが用いられる。ジメチルアミノアルキル
アクリレートの塩は、塩醸、臭化水素酸、硫酸、燐酸又
は飽和力・ルボン酸例えば蟻酸及び酢酸を用いて中和す
ることにより得られる。式■の化合物としては、1〜8
0個好ましくは6〜60個のエトキシ基を含有するアク
リル酸のポリエトキシアルキルエステル、例えばメトキ
シエチルアクリレート、エトキシエチルアクリレート及
びラウリルオキシトリオキシエチルアクリレートも用い
られる。
式■の化合物のうち、好ましくはアクリルニトリル、メ
チルアクリレート、エチルアクリレート、2−エチルへ
キシルアクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート及
びヒドロキシブチルアクリレートが用いられる。
チルアクリレート、エチルアクリレート、2−エチルへ
キシルアクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート及
びヒドロキシブチルアクリレートが用いられる。
代置の化合物は、0〜150℃好ましくは0〜70℃の
温度及び7〜13のpH価において、触媒としての三級
アミンの存在下K、式■のグリオキシル酸エステルと反
応させる。反応混合物のpH価は7〜1Sであってよく
、8〜10の範囲が好ましい。pH価は、触媒として作
用する三級アミンを添加することにより、そして場合に
より他の塩基例えば苛性ソーダ液、苛性カリ液、炭酸ソ
ーダ、炭酸カリ又は水酸化カルシウムをさらに添加する
ことにより調整される。
温度及び7〜13のpH価において、触媒としての三級
アミンの存在下K、式■のグリオキシル酸エステルと反
応させる。反応混合物のpH価は7〜1Sであってよく
、8〜10の範囲が好ましい。pH価は、触媒として作
用する三級アミンを添加することにより、そして場合に
より他の塩基例えば苛性ソーダ液、苛性カリ液、炭酸ソ
ーダ、炭酸カリ又は水酸化カルシウムをさらに添加する
ことにより調整される。
弐■のグリオキシル酸エステルにおいて、RはC,〜C
U−アルキル基を意味してよい。好適なグリオキシル酸
エステルの例は、グリオキシル酸メチルエステル、グリ
オキシル醗エチルエステル、クリオキシル酸−n−プロ
ピルエステル、グリオキシル酸イソプロピルエステル、
グリオキシル酸ブチルエステル、グリオキシル酸−2−
エチルへキシルエステル及びグリオキシル酸ステアリル
エステルである。
U−アルキル基を意味してよい。好適なグリオキシル酸
エステルの例は、グリオキシル酸メチルエステル、グリ
オキシル醗エチルエステル、クリオキシル酸−n−プロ
ピルエステル、グリオキシル酸イソプロピルエステル、
グリオキシル酸ブチルエステル、グリオキシル酸−2−
エチルへキシルエステル及びグリオキシル酸ステアリル
エステルである。
本反応は希釈剤の不在において、すなわち希釈剤なしで
、あるいは不活性溶剤中で実施することができる。不活
性溶剤としては、例えば下記のものが好適である。エー
テル例えばジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、ジメチルグリコールエーテル、ジエチルグリ
コールエーテル、メチルクリコール、エチルグリコール
及びポリグリコールエーテル、さらにアセトニトリル、
脂肪族及び芳香族の炭化水素例エバペンタン、ヘキサン
、シクロヘキサン、イソオクタン、n−オクタン、ドデ
カ/、ドルオール、キジロール及びテトラリン、塩素化
炭化水素例えばジクロルメタン、四塩化炭素、トリクロ
ルエタン及びテトラクロルエタン、メチルエチルケトン
、アセトン及び水。若干の場合には、単独溶剤よりも溶
剤混合物の使用が有利である。
、あるいは不活性溶剤中で実施することができる。不活
性溶剤としては、例えば下記のものが好適である。エー
テル例えばジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、ジメチルグリコールエーテル、ジエチルグリ
コールエーテル、メチルクリコール、エチルグリコール
及びポリグリコールエーテル、さらにアセトニトリル、
脂肪族及び芳香族の炭化水素例エバペンタン、ヘキサン
、シクロヘキサン、イソオクタン、n−オクタン、ドデ
カ/、ドルオール、キジロール及びテトラリン、塩素化
炭化水素例えばジクロルメタン、四塩化炭素、トリクロ
ルエタン及びテトラクロルエタン、メチルエチルケトン
、アセトン及び水。若干の場合には、単独溶剤よりも溶
剤混合物の使用が有利である。
本反応は、好ましくは均質な混合物中でそして不活性溶
剤の不在において行われる。それぞれ水にきわめてわず
かしか溶解しないアクリルエステル及びグリオキシル醗
エステルを用いる場合には、反応関与体及び水と混合し
うる反応関与体に対し不活性な溶剤の存在下に1反応を
行うことが推奨される。弐■及び夏の化合物からの混合
物100重量部に対し、1000重量部以下好ましくは
10〜200重量部の不活性溶剤が用いられる。
剤の不在において行われる。それぞれ水にきわめてわず
かしか溶解しないアクリルエステル及びグリオキシル醗
エステルを用いる場合には、反応関与体及び水と混合し
うる反応関与体に対し不活性な溶剤の存在下に1反応を
行うことが推奨される。弐■及び夏の化合物からの混合
物100重量部に対し、1000重量部以下好ましくは
10〜200重量部の不活性溶剤が用いられる。
本反応は三級アミンの存在下に行われる。開鎖状の脂肪
族アミンならびに環状三級アミンを用いることができる
。その例は下記のものである。トリメチルアミン、トリ
エチルアミン、トリーn−プロピルアミン、トリイソブ
チルアミン、トリブチルアミン、トリイソブチルアミン
、トリーn−ペンチルアミン、N−メfルジイソグロビ
ルアミン、N、N−ジエチルイノグロビルアミン、N、
N−ジメチルエチルアミ7、N、N−ジメチルイソグロ
ビルアミン、トリー2−二チルヘキシルアミン、トr−
メチルジエチルアミン、N、N−ジメチル−n−プロピ
ルアミン、N、N−ジメチル−n−ブチルアミン、N、
N−ジメチ翫Zツブチルアミン、N、N−ジメチル−(
2−エチルヘキシル)−アミン、N、N−ジイソプロピ
ル−(2−エチルヘキシル)−アミン、 N、N−ジ−
n−ブチル−(2−エチルヘキシル)−アミン、N−メ
チル−ジー(2−エチルヘキシル)−アミン、N7n−
ブチル−ジー(2−エチルヘキシル)−アミン、N−イ
ンプチルージ=(2−エチルヘキシル)−アミン、1.
4−ジアザビシクロ−(2,2,2)−オクタン、ピロ
コリン及びキノリジン。
族アミンならびに環状三級アミンを用いることができる
。その例は下記のものである。トリメチルアミン、トリ
エチルアミン、トリーn−プロピルアミン、トリイソブ
チルアミン、トリブチルアミン、トリイソブチルアミン
、トリーn−ペンチルアミン、N−メfルジイソグロビ
ルアミン、N、N−ジエチルイノグロビルアミン、N、
N−ジメチルエチルアミ7、N、N−ジメチルイソグロ
ビルアミン、トリー2−二チルヘキシルアミン、トr−
メチルジエチルアミン、N、N−ジメチル−n−プロピ
ルアミン、N、N−ジメチル−n−ブチルアミン、N、
N−ジメチ翫Zツブチルアミン、N、N−ジメチル−(
2−エチルヘキシル)−アミン、N、N−ジイソプロピ
ル−(2−エチルヘキシル)−アミン、 N、N−ジ−
n−ブチル−(2−エチルヘキシル)−アミン、N−メ
チル−ジー(2−エチルヘキシル)−アミン、N7n−
ブチル−ジー(2−エチルヘキシル)−アミン、N−イ
ンプチルージ=(2−エチルヘキシル)−アミン、1.
4−ジアザビシクロ−(2,2,2)−オクタン、ピロ
コリン及びキノリジン。
弐■及び璽の化合物からの混合物100重量部に対し、
0.1〜10重量部好ましくは3〜8重景部の三級アミ
ンが用いられる。反応は、好ましくは1,4−ジアザビ
シクロ−(2,2,2)−オクタン、ピロコリン及びキ
ノリジンの存在下に行われる。式■及びIの化合物は、
通常は互いに等モル比で反応させる。しかし工業的条件
によっては、一方又は他方の成分を過剰に用いることが
必要な場合もある。すなわち例えばグリオキシル醗エス
テル対式Iの化合物のモル比を、20:1〜1:z好ま
しくは5:1〜0.75:1の範囲内で変えることが可
能である。本反応は通常は大気圧において行われるが、
減圧又は加圧において反応を行うこともできる。加圧下
の操作は特に、100℃以上の温度において反応を行う
場合に必要である。
0.1〜10重量部好ましくは3〜8重景部の三級アミ
ンが用いられる。反応は、好ましくは1,4−ジアザビ
シクロ−(2,2,2)−オクタン、ピロコリン及びキ
ノリジンの存在下に行われる。式■及びIの化合物は、
通常は互いに等モル比で反応させる。しかし工業的条件
によっては、一方又は他方の成分を過剰に用いることが
必要な場合もある。すなわち例えばグリオキシル醗エス
テル対式Iの化合物のモル比を、20:1〜1:z好ま
しくは5:1〜0.75:1の範囲内で変えることが可
能である。本反応は通常は大気圧において行われるが、
減圧又は加圧において反応を行うこともできる。加圧下
の操作は特に、100℃以上の温度において反応を行う
場合に必要である。
本発明方法により製造される前記の式!の反応生成物す
なわち2−(1−ヒドロキシカルボ)ルコキシメチル)
−アクリルニトリル及び−アクリルエステルは、例えば
重合物の製造のため゛の°単量体として好適な価値の高
い中間生成物である。
なわち2−(1−ヒドロキシカルボ)ルコキシメチル)
−アクリルニトリル及び−アクリルエステルは、例えば
重合物の製造のため゛の°単量体として好適な価値の高
い中間生成物である。
実施例1
クリオキシル酸エチルエステル1o2N(1モル)、ア
クリル酸メチルエステル86p(1モル)及び1.4−
ジアザビシクロ−[2,2,2] −オクタン(以下D
ABCOと略記する)7.9(0,062モル)を、2
2容の三つロフラスコ中で窒素雰囲気中で50℃におい
て48時間強力に攪拌する。次いで揮発性成分を水流真
空中で除去し、残留物をジエチルエーテル250scd
で溶解し、生成した溶液を8%塩酸6011g及び水1
00dで順次洗浄する。次いで有機相を硫酸ナトリウム
上で乾燥し、エーテルを除去し、残留物を真空蒸留する
。2−(1−ヒドロキシカルボエトキシメチル)−メチ
ルアクリレート149g(理論値の79%)が、o、
4ミリバールで96〜100℃の沸点を有する無色液体
として得られる。
クリル酸メチルエステル86p(1モル)及び1.4−
ジアザビシクロ−[2,2,2] −オクタン(以下D
ABCOと略記する)7.9(0,062モル)を、2
2容の三つロフラスコ中で窒素雰囲気中で50℃におい
て48時間強力に攪拌する。次いで揮発性成分を水流真
空中で除去し、残留物をジエチルエーテル250scd
で溶解し、生成した溶液を8%塩酸6011g及び水1
00dで順次洗浄する。次いで有機相を硫酸ナトリウム
上で乾燥し、エーテルを除去し、残留物を真空蒸留する
。2−(1−ヒドロキシカルボエトキシメチル)−メチ
ルアクリレート149g(理論値の79%)が、o、
4ミリバールで96〜100℃の沸点を有する無色液体
として得られる。
実施例2
グリオキシル酸−n−ブチルエステル26I(0,2モ
ル)、イソブチルアクリレ−) 25.61 (0,2
モ# )及びDABCO2Jil (17,8ミリモル
)を、攪拌下に27時間50℃に加熱する。
ル)、イソブチルアクリレ−) 25.61 (0,2
モ# )及びDABCO2Jil (17,8ミリモル
)を、攪拌下に27時間50℃に加熱する。
次いで揮発性成分を真空中で除去し、油状残留物をジエ
チルエーテル200Mに溶解し、この溶液を10%塩酸
5Qm及び水5QIR1で洗浄する。硫酸す) IJウ
ム上で乾燥したのち、溶剤を留去する。2−(1−ヒド
ロキシカルボブトキシメチル)−イソブチルアクリレー
ト34!i(理論値の66%)が黄色清秋物として得ら
れる。
チルエーテル200Mに溶解し、この溶液を10%塩酸
5Qm及び水5QIR1で洗浄する。硫酸す) IJウ
ム上で乾燥したのち、溶剤を留去する。2−(1−ヒド
ロキシカルボブトキシメチル)−イソブチルアクリレー
ト34!i(理論値の66%)が黄色清秋物として得ら
れる。
実施例6
グリオキシル酸メチルエステル44.Jil(0,5モ
ル)、メチルアクリレ−)45g(0,5モル)及びD
ABCO4、jil (55,7ミリモル)を、25℃
で48時間強力に攪拌する。揮発性成分を水流真空中で
除去したのち、油状残留物をジエチルエーテル200M
に溶解し、得られた溶液を8%塩酸50Xj及び水75
mgで洗浄する。硫酸ナトリウム上での乾燥及び油圧ポ
ンプ真空中での溶剤の除去ののち、有機相を分留する。
ル)、メチルアクリレ−)45g(0,5モル)及びD
ABCO4、jil (55,7ミリモル)を、25℃
で48時間強力に攪拌する。揮発性成分を水流真空中で
除去したのち、油状残留物をジエチルエーテル200M
に溶解し、得られた溶液を8%塩酸50Xj及び水75
mgで洗浄する。硫酸ナトリウム上での乾燥及び油圧ポ
ンプ真空中での溶剤の除去ののち、有機相を分留する。
沸点86〜8.4℃(0,4ミリバール)の2−(1−
ヒドロキシカルボエトキシメチル)−メチルアクリレー
トが64,91!論値の74%)得られる。
ヒドロキシカルボエトキシメチル)−メチルアクリレー
トが64,91!論値の74%)得られる。
実施例4
グリオキシル酸エチルエステル10.211 (0゜1
モル)、エチルアクリレート10 p (0,1モル)
及びDABCO1p (8,9ミリモル)を、60℃〜
で48時間強力に攪拌する。。次いで揮発性成分を水流
真空中で除去し、残留物をジエチルエーテル5Qmjに
溶解し、得られた溶液を8%塩酸20m及び水50mで
順次洗浄する。有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、溶
剤を除去したのち、残留物を分留することにより、沸点
120〜122°G (0,3ミリバール)の2−(1
−ヒドロキシカルボエトキシメチル)−エチルアクリレ
ートが11 F (El理論値54%)得られる。
モル)、エチルアクリレート10 p (0,1モル)
及びDABCO1p (8,9ミリモル)を、60℃〜
で48時間強力に攪拌する。。次いで揮発性成分を水流
真空中で除去し、残留物をジエチルエーテル5Qmjに
溶解し、得られた溶液を8%塩酸20m及び水50mで
順次洗浄する。有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、溶
剤を除去したのち、残留物を分留することにより、沸点
120〜122°G (0,3ミリバール)の2−(1
−ヒドロキシカルボエトキシメチル)−エチルアクリレ
ートが11 F (El理論値54%)得られる。
DABCOの代わりにトリエチルアミンを用いて同様に
実験を行うと、理論値の64%の収率が得られる。
実験を行うと、理論値の64%の収率が得られる。
実施例5
グリオキシル酸エチルエステル20.49 (0゜2モ
ル)、アクリルニトリル10.6 、!i+ (0,2
モル)及びDABCO2g(17,8ミリモル)を、2
5℃で70時間激しく攪拌する。仕上げ処理を実施例2
に記載したと同様に行い、残留物な分留スる。o、 5
ミリバールの圧力において105〜107℃の温度範
囲において、2−(F−ヒドロキシカルボエトキシメチ
ル)−アクリルニトリル17g(理論値の51%)が無
色液体の形で得られる。
ル)、アクリルニトリル10.6 、!i+ (0,2
モル)及びDABCO2g(17,8ミリモル)を、2
5℃で70時間激しく攪拌する。仕上げ処理を実施例2
に記載したと同様に行い、残留物な分留スる。o、 5
ミリバールの圧力において105〜107℃の温度範
囲において、2−(F−ヒドロキシカルボエトキシメチ
ル)−アクリルニトリル17g(理論値の51%)が無
色液体の形で得られる。
実施例6
グリオキシル酸エチルエステル51 、!i! (0,
5モル)、ヒドロキシエチルア/’)L/−)58g(
0,5モル)及びDABCO511(44,6ミリモル
)を、無水アセトニトリル100dと混合する。
5モル)、ヒドロキシエチルア/’)L/−)58g(
0,5モル)及びDABCO511(44,6ミリモル
)を、無水アセトニトリル100dと混合する。
生成した溶液を25℃で70時間攪拌する。仕上げ処理
を実施例2に記載したと同様に行5−0 −2−(1−
ヒドロキシカルボエトキシメチル)−ヒドロキシエチル
アクリレート6gN(理論値の58%)が淡黄色油状物
として得られる。
を実施例2に記載したと同様に行5−0 −2−(1−
ヒドロキシカルボエトキシメチル)−ヒドロキシエチル
アクリレート6gN(理論値の58%)が淡黄色油状物
として得られる。
実施例7
グリオキシル酸エチルエステル51#(0,5モA/)
、N、N−ジエチルアミノエチルアクリレート85.5
F (、0,5モル)及びDABC’07 、、F
(62,5ミリモル)を無水ジオキサン100d中で、
実施例6と同様に反応させる。2−(1−ヒドロキシカ
ルボエトキシメチル)−ジエチルアミノエチルアクリレ
ートが74g(理論値の54%)得られる。
、N、N−ジエチルアミノエチルアクリレート85.5
F (、0,5モル)及びDABC’07 、、F
(62,5ミリモル)を無水ジオキサン100d中で、
実施例6と同様に反応させる。2−(1−ヒドロキシカ
ルボエトキシメチル)−ジエチルアミノエチルアクリレ
ートが74g(理論値の54%)得られる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中RはC_1〜C_1_8−アルキル基、Xは−C
N又は▲数式、化学式、表等があります▼、R^1はC
_1〜C_1_8−アルキル基、−(CH_2)_n−
OH、▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼又は−(C_2H_
4O)_pR、 R^2及びR^3は−CH_3又は−C_2H_5、R
^4は−H、−CH_3、−C_2H_5又は▲数式、
化学式、表等があります▼、nは2〜4、mは2〜5、
pは1〜80、Y^■はCl^−、Br^−、SO_4
^2^−、PO_4^3^−、CH_3OSO_3^−
、C_2H_5OSO_^3^−、CH_3COO^−
又はHCOO^−を意味する)で表わされる化合物。 2、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中Xは後記の意味を有する)で表わされる化合物を
一般式 RO−CO−CHO(III) (式中Rは後記の意味を有する)で表わされるグリオキ
シル酸エステルと、触媒としての三級アミンの存在下に
反応させることを特徴とする、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中RはC_1〜C_1_8−アルキル基、Xは−C
N又は▲数式、化学式、表等があります▼、R^1はC
_1〜C_1_8−アルキル基、−(CH_2)_n−
OH、▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼又は−(C_2H_
4O)_pR、 R^2及びR^3は−CH_3又は−C_2H_5、R
^4は−H、−CH_3、−C_2H_5又は▲数式、
化学式、表等があります▼、nは2〜4、mは2〜5、
pは1〜80、Y^■はCl^−、Br^−、SO_4
^2^−、PO_4^3^−、CH_3OSO_3、C
_2H_5OSO_3、CH_3COO^−又はHCO
O^−を意味する)で表わされる化合物の製法。 3、式II及びIIIの化合物からの混合物100重量部に
対し10〜200重量部のジオキサン、テトラヒドロフ
ラン、水及び/又はアセトニトリルを溶剤として用いる
ことを特徴とする、特許請求の範囲第2項に記載の方法
。 4、式II及びIIIの化合物からの混合物100重量部に
対し、0.1〜10重量部の三級アミンを用いることを
特徴とする、特許請求の範囲第2項又は第3項に記載の
方法。 5、三級アミンとして1,4−ジアザビシクロ−〔2,
2,2〕−オクタン、ピロコリン又はキノリジンを用い
ることを特徴とする、特許請求の範囲第2項ないし第4
項のいずれかに記載の方法。 6、化合物III及びIIを20:1〜1:2のモル比で反
応させることを特徴とする、特許請求の範囲第2項ない
し第5項のいずれかに記載の方法。 7、化合物III及びIIを1:1のモル比で反応させるこ
とを特徴とする、特許請求の範囲第2項ないし第5項の
いずれかに記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3444097.6 | 1984-12-04 | ||
| DE19843444097 DE3444097A1 (de) | 1984-12-04 | 1984-12-04 | 2-(1-hydroxycarbalkoxymethyl)-acrylnitril und -acrylester und verfahren zu deren herstellung |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61134352A true JPS61134352A (ja) | 1986-06-21 |
Family
ID=6251802
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60270874A Pending JPS61134352A (ja) | 1984-12-04 | 1985-12-03 | 2‐(1‐ヒドロキシカルボアルコキシメチル)‐アクリルニトリル及び‐アクリルエステル及びその製法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4652669A (ja) |
| EP (1) | EP0185234B1 (ja) |
| JP (1) | JPS61134352A (ja) |
| DE (2) | DE3444097A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0240344A (ja) * | 1988-07-28 | 1990-02-09 | Takasago Internatl Corp | 光学活性α−ヒドロキシカルボン酸エステルの製造法 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4704466A (en) * | 1984-02-27 | 1987-11-03 | Midwest Research Institute | α-substituted acrylic acid esters |
| FR2619810B1 (fr) * | 1987-09-02 | 1990-01-05 | Hoechst France | Nouveaux monomeres ethyleniques polyfonctionnels |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3499024A (en) * | 1965-12-24 | 1970-03-03 | Toray Industries | 2-hydroxy-hydrocarbyl acrylonitriles and preparation thereof by condensation of acrylonitrile and aldehydes |
| US3743669A (en) * | 1970-11-06 | 1973-07-03 | Celanese Corp | Reaction of acrylic type compounds with aldehydes and certain ketones |
-
1984
- 1984-12-04 DE DE19843444097 patent/DE3444097A1/de not_active Withdrawn
-
1985
- 1985-11-29 EP EP85115163A patent/EP0185234B1/de not_active Expired
- 1985-11-29 DE DE8585115163T patent/DE3563043D1/de not_active Expired
- 1985-12-03 JP JP60270874A patent/JPS61134352A/ja active Pending
- 1985-12-03 US US06/804,121 patent/US4652669A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0240344A (ja) * | 1988-07-28 | 1990-02-09 | Takasago Internatl Corp | 光学活性α−ヒドロキシカルボン酸エステルの製造法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3444097A1 (de) | 1986-06-05 |
| DE3563043D1 (en) | 1988-07-07 |
| EP0185234B1 (de) | 1988-06-01 |
| US4652669A (en) | 1987-03-24 |
| EP0185234A1 (de) | 1986-06-25 |
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