JPS61143379A - チアゾ−ル酢酸誘導体の製法 - Google Patents
チアゾ−ル酢酸誘導体の製法Info
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- JPS61143379A JPS61143379A JP26479984A JP26479984A JPS61143379A JP S61143379 A JPS61143379 A JP S61143379A JP 26479984 A JP26479984 A JP 26479984A JP 26479984 A JP26479984 A JP 26479984A JP S61143379 A JPS61143379 A JP S61143379A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明はセファロスポリン化合物の合成中間体として有
用な下記一般式で示されるチアゾール酢酸誘導体の製法
に関する。
用な下記一般式で示されるチアゾール酢酸誘導体の製法
に関する。
（但し、 Ｒ１′ＮＨ−はアミ７基又は保護されたアミ
ノＭ 、 −ＧＯＯＲ”は力シボキシ基又は保護され
た力〜ボキシ基を表わす。） （従来の技術） 特開昭５９−５１２９２号には下記反応式で示されるチ
アゾール酢酸誘導体の製法が記載されている。
ノＭ 、 −ＧＯＯＲ”は力シボキシ基又は保護され
た力〜ボキシ基を表わす。） （従来の技術） 特開昭５９−５１２９２号には下記反応式で示されるチ
アゾール酢酸誘導体の製法が記載されている。
（但し、 Ｔｒはトリチル基を表わす。）（発明の目的
） 本発明は、優れた抗菌作用を有するセファロスポリン化
合物の合成中間体として有用なチアゾ−μ酢酸誘導体（
Ｉ）の新規製法を提供しようとす・るものである。
） 本発明は、優れた抗菌作用を有するセファロスポリン化
合物の合成中間体として有用なチアゾ−μ酢酸誘導体（
Ｉ）の新規製法を提供しようとす・るものである。
（発明の構成及び効果）
本発明によれば、目的化合物（Ｉ）は一般式（：但し、
−ＣＯＯＲ”はカルボキシ基又は保護された力Ｖポ
キシ基を表わす。） で示される化合物と一般式 （但し Ｒ３は置換もしくは非置換フエ二〜基又は低級
アルキル基を表わす。） で示される化合物とを反応させて一般式％式％ （但し、−ＧＯＯＲ”は前記と同一意味を有する。）で
示される化合物とし、該化合物（ｆｆ）をハロゲン化剤
で処理して一般式 （但し ｚｌはハロゲン原子を表わし、 −ＧＯＯＲ
”は前記と同一意味を有する。） で示される化合物とし、該化合物（Ｖ）と一般式％式％
（） （但し、Ｒ”＆アミノ基又は保護されたアミノ基を表わ
す。） で示される化合物とを反応させて一般式（但し、Ｒ”Ｎ
ト及び−ＣＯＯＲ” は前記と同一意味を有する６） で示される化合物とし、要すれば該化合物（Ｉ′）から
保護基を除去することにより製することができる。
−ＣＯＯＲ”はカルボキシ基又は保護された力Ｖポ
キシ基を表わす。） で示される化合物と一般式 （但し Ｒ３は置換もしくは非置換フエ二〜基又は低級
アルキル基を表わす。） で示される化合物とを反応させて一般式％式％ （但し、−ＧＯＯＲ”は前記と同一意味を有する。）で
示される化合物とし、該化合物（ｆｆ）をハロゲン化剤
で処理して一般式 （但し ｚｌはハロゲン原子を表わし、 −ＧＯＯＲ
”は前記と同一意味を有する。） で示される化合物とし、該化合物（Ｖ）と一般式％式％
（） （但し、Ｒ”＆アミノ基又は保護されたアミノ基を表わ
す。） で示される化合物とを反応させて一般式（但し、Ｒ”Ｎ
ト及び−ＣＯＯＲ” は前記と同一意味を有する６） で示される化合物とし、要すれば該化合物（Ｉ′）から
保護基を除去することにより製することができる。
上記反応において、記号１／で示される基としては１例
えば水素原子；又はホルミル基、アセチル基、ピパロイ
ル基の如き低級アルカノイル基；クロロアセチＶ基、ト
リフルオロアセチル基の如キモノー、ジーもしくはトリ
ハロゲノ−低級アルカノイ〃基：メトキシカルボニル基
、エトキシカＭボニルＭ ６ ｔａｒｔ、−プトキシカ
ルボニμ基の如き低級アルコキシカルボニＶ基；トリク
ロロエトキシカＶボニル基の如きモノ−、ジーもしくは
トリハロゲノ−低級アＶコキシカルボニル基；ベンジ〃
オキシカ〃ボニル基、Ｐ−メトキシベンジＶオキシカル
ボニル基の如き置換もしくは非置換ベンジルオキシカル
ボニル基；ベンジ〃基、Ｐ−メトキシベンジｙ基、３，
４−ジメトキシベンジル基の如き置換もしくは非置換フ
ェニル低級アルキル基げられる。また記号Ｒ′で示され
る基としては０例えば水素原子；又はメチル基、エチル
基、 ｔａｒｔ、 −エチル基の如き低級アｙキ〃基；
ベンジル基、Ｐ−メトキシベンジル基、Ｐ−ニトロベン
ジＡ／ ｇ （２）如き書換もしくは非置換フェニル低
級アＶキル基；ベンズヒドリル基の如き保護基が挙げら
れる。
えば水素原子；又はホルミル基、アセチル基、ピパロイ
ル基の如き低級アルカノイル基；クロロアセチＶ基、ト
リフルオロアセチル基の如キモノー、ジーもしくはトリ
ハロゲノ−低級アルカノイ〃基：メトキシカルボニル基
、エトキシカＭボニルＭ ６ ｔａｒｔ、−プトキシカ
ルボニμ基の如き低級アルコキシカルボニＶ基；トリク
ロロエトキシカＶボニル基の如きモノ−、ジーもしくは
トリハロゲノ−低級アＶコキシカルボニル基；ベンジ〃
オキシカ〃ボニル基、Ｐ−メトキシベンジＶオキシカル
ボニル基の如き置換もしくは非置換ベンジルオキシカル
ボニル基；ベンジ〃基、Ｐ−メトキシベンジｙ基、３，
４−ジメトキシベンジル基の如き置換もしくは非置換フ
ェニル低級アルキル基げられる。また記号Ｒ′で示され
る基としては０例えば水素原子；又はメチル基、エチル
基、 ｔａｒｔ、 −エチル基の如き低級アｙキ〃基；
ベンジル基、Ｐ−メトキシベンジル基、Ｐ−ニトロベン
ジＡ／ ｇ （２）如き書換もしくは非置換フェニル低
級アＶキル基；ベンズヒドリル基の如き保護基が挙げら
れる。
さらに記号ＢＳで示される基としては１例えばフェニル
１１ｓ、ｐ−メチルフェニル基の如き置換４Ｌ＜は非置
換フェニル基又はメチル基、エチル基、プロピ〃基の如
き低級ア／Ｌ／キＭ基が挙げられる。
１１ｓ、ｐ−メチルフェニル基の如き置換４Ｌ＜は非置
換フェニル基又はメチル基、エチル基、プロピ〃基の如
き低級ア／Ｌ／キＭ基が挙げられる。
化合物（ＩＩ）と化合物（［［）との反応は適当な溶媒
中脱酸剤の存在下に実施することができる。脱酸剤とし
ては０例えば炭酸ア〃カリ金属（例えば８炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム）、水累化アＶカリ金属（例えば、水
素化ナトリウム）、水酸化アルカリ金＠Ｃ例えば、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム）などが挙げられる。溶
媒としては１例エバアセトン、テトラヒドロフラン、酢
Ｍエチｔｖ、ジメチＭスＶホキシト、ジメ千Ｖホルムア
ミドなどが挙げられる。本反応は一１０℃〜８０℃。
中脱酸剤の存在下に実施することができる。脱酸剤とし
ては０例えば炭酸ア〃カリ金属（例えば８炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム）、水累化アＶカリ金属（例えば、水
素化ナトリウム）、水酸化アルカリ金＠Ｃ例えば、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム）などが挙げられる。溶
媒としては１例エバアセトン、テトラヒドロフラン、酢
Ｍエチｔｖ、ジメチＭスＶホキシト、ジメ千Ｖホルムア
ミドなどが挙げられる。本反応は一１０℃〜８０℃。
好ましくは１０℃〜５０℃で実施するのが適当である。
化合物ＱＶ）とハロゲン化剤との反応は適当な溶媒中実
施することができる。ハロゲン化剤としては３例えば塩
化スルフリ〃、塩素、臭素、Ｎ−プロモサクｌンイミド
、ピリジニウムハイドログロミドバープロミドなどが好
適に挙げられる。溶媒としては１例えばクロロホルム、
塩化メチレン。
施することができる。ハロゲン化剤としては３例えば塩
化スルフリ〃、塩素、臭素、Ｎ−プロモサクｌンイミド
、ピリジニウムハイドログロミドバープロミドなどが好
適に挙げられる。溶媒としては１例えばクロロホルム、
塩化メチレン。
四塩化炭素、１．２−ジクロロエタンなどが好適に挙げ
られる。本反応は０℃〜１００℃、好ましくは１０℃〜
５０℃で実施するのが適当である。
られる。本反応は０℃〜１００℃、好ましくは１０℃〜
５０℃で実施するのが適当である。
化合物（Ｖ）と化合物（ＶＩ）との反応は適当を溶媒中
脱酸剤の存在下に実施することができる。脱酸剤として
は０例えば１１．Ｎ−ジメチルアニリン、トリエチルア
ミン、ピリジンの如き有機第３級アミンが好適に挙げら
れる。溶媒としては０例えば低級ブルカノール（例えば
、メタノ−／Ｉ／、エタノール、イングロパノール）或
いはこれら溶媒と水との混合溶媒を好適に用いることが
できる。水反応Ｖｉｉｏ℃〜８０℃、好ましくは７０℃
〜ｑｏ℃で実施するのが適当である。
脱酸剤の存在下に実施することができる。脱酸剤として
は０例えば１１．Ｎ−ジメチルアニリン、トリエチルア
ミン、ピリジンの如き有機第３級アミンが好適に挙げら
れる。溶媒としては０例えば低級ブルカノール（例えば
、メタノ−／Ｉ／、エタノール、イングロパノール）或
いはこれら溶媒と水との混合溶媒を好適に用いることが
できる。水反応Ｖｉｉｏ℃〜８０℃、好ましくは７０℃
〜ｑｏ℃で実施するのが適当である。
かくして得られる化合物げ）からの保護基の脱離は１例
えば加水分解、加溶媒分解、＃処理、還元の如き常法に
より容易に実施することができる。
えば加水分解、加溶媒分解、＃処理、還元の如き常法に
より容易に実施することができる。
例えば、アミ７基の保護基Ｒ１’がホルミル基、アセチ
ル基１ ｔｅｒｔ、−ブトキシカルボニル基、トリチｌ
し基もしくはベンズヒドリル基及び／又はカルボキシ基
の保護基♂′がｔｅｒｔ、−ブチル基もしくはベンズヒ
ドリル基である場合、これら保護基は化合物（１′）を
酸で処理することにより除去することができる。酸とし
ては８例えばギ駿、トリフルオロ酢酸、ベンゼンスルホ
ンＷＩＮ 、 ｐ−）ルエンスルホン酸、塩酸、臭化水
Ｘｆｋどが挙げられる。本反応は適当な溶媒又は無溶媒
中で実施することができ。
ル基１ ｔｅｒｔ、−ブトキシカルボニル基、トリチｌ
し基もしくはベンズヒドリル基及び／又はカルボキシ基
の保護基♂′がｔｅｒｔ、−ブチル基もしくはベンズヒ
ドリル基である場合、これら保護基は化合物（１′）を
酸で処理することにより除去することができる。酸とし
ては８例えばギ駿、トリフルオロ酢酸、ベンゼンスルホ
ンＷＩＮ 、 ｐ−）ルエンスルホン酸、塩酸、臭化水
Ｘｆｋどが挙げられる。本反応は適当な溶媒又は無溶媒
中で実施することができ。
溶媒としては例えば、水、メタノ−〃、エタノール、酢
酸、ジオキサンｉどを使用することができる。本反応は
一３０℃〜７０℃、好ましくは１０℃〜５０℃で実施す
るのが適当である。なお１本反応において、′：ａとし
てトリフルオロ詐りを用いる場合には、アニソールの存
在下に実施するのが好ましい。
酸、ジオキサンｉどを使用することができる。本反応は
一３０℃〜７０℃、好ましくは１０℃〜５０℃で実施す
るのが適当である。なお１本反応において、′：ａとし
てトリフルオロ詐りを用いる場合には、アニソールの存
在下に実施するのが好ましい。
また、アミノ基の保護基Ｒ１がトリチル基である場合、
該保護基の除去は化合物（工うを適当な溶媒中加熱する
ことによっても実施することができる。溶媒としては９
例えば低級アＶカッ−／Ｌ／（例えば、メタノ−Ｖ、エ
タノール）、水、或いはこれらの混合溶媒などを好適に
使用することができる。本反応は４０℃〜１００℃、好
ましくは５０’ｅ〜８０℃で実施するのが適当である。
該保護基の除去は化合物（工うを適当な溶媒中加熱する
ことによっても実施することができる。溶媒としては９
例えば低級アＶカッ−／Ｌ／（例えば、メタノ−Ｖ、エ
タノール）、水、或いはこれらの混合溶媒などを好適に
使用することができる。本反応は４０℃〜１００℃、好
ましくは５０’ｅ〜８０℃で実施するのが適当である。
アミノ基の保護基がベンジルオキシカＶボニＶ基、Ｐ−
メトキシベンジルオキシカルポニル基、ベンジ／Ｌ基。
メトキシベンジルオキシカルポニル基、ベンジ／Ｌ基。
Ｐ−メトキシベンジル基もしくは３．４−ジメトキシヘ
ンシル基及び／又なカルボキシ基のｌ［ｉＲ”がベンジ
ル基、Ｐ−メトキシベンジル基もしくはＰ−ニトロベン
ジル基である場合、これら保護基の除去は化合物（工り
を水素ガス気流中触媒の存在下に接触還元することによ
シ実施することができる。触媒としては０例えばパッジ
ラム−炭酸バリウム、バッジラム１炭素バヲジウム黒な
どが好適に挙げられる。本接触遭元反応は適当な溶媒中
常圧乃至加工下Ｏ℃〜１００℃、とくに１０℃〜４０℃
で実施するのが好ましい。溶媒としては０例えばメタノ
ール、エタノール、テトラヒドロフラン、水などを好適
に用いることができる。アミノ基の保３１Ｉ基Ｒ１′が
トリフＶオロアセチｖ基、ピバロイル基、メトキシカル
ボニル基もしくはエトキシカルボニル基及び／又はカル
ボキシ基の保護基Ｒ″′がメチＭ基、エチル基の如き低
級ア７７ ＊ Ａ／基である場合、これら保護基は化合
物（Ｉ’）を加水分解することにより除去することがで
きる。化合物（Ｉりの加水分解は常法により実施するこ
とができ０例えば適当な溶媒中アルカリ試薬又は酸で処
理することにより実施することができる。γρ力・す試
薬としでは０例えば水ｐ化アルカリ金Ｗ４（例えば水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム）、水酸化アルカリ土類
金属（例えば、水酸化カルシウム、水酸化バリウム）な
どが挙げられ、また酸としては例えば、塩酸、臭化水素
酸などが挙げられる。溶媒としては１例えば低級アルカ
ノール（メタノール、エタノール）、ジメチ〃ホ〃ムア
ミド、或いはこれら溶媒と水との混合溶媒などを好適に
使用することができる。本反応は１０”０〜８０℃、好
ましくは２０℃〜６０℃で実施するのが適当である。さ
らに、アミノ基の保護基Ｗ′がクロロアセチ〃基である
場合、該保護基は適当な溶媒中化合物（Ｉ５をチオ尿素
で処理することにより除去することができる。溶媒とし
ては２例えばメタノール、エタノール、水などを好適に
使用することができる。
ンシル基及び／又なカルボキシ基のｌ［ｉＲ”がベンジ
ル基、Ｐ−メトキシベンジル基もしくはＰ−ニトロベン
ジル基である場合、これら保護基の除去は化合物（工り
を水素ガス気流中触媒の存在下に接触還元することによ
シ実施することができる。触媒としては０例えばパッジ
ラム−炭酸バリウム、バッジラム１炭素バヲジウム黒な
どが好適に挙げられる。本接触遭元反応は適当な溶媒中
常圧乃至加工下Ｏ℃〜１００℃、とくに１０℃〜４０℃
で実施するのが好ましい。溶媒としては０例えばメタノ
ール、エタノール、テトラヒドロフラン、水などを好適
に用いることができる。アミノ基の保３１Ｉ基Ｒ１′が
トリフＶオロアセチｖ基、ピバロイル基、メトキシカル
ボニル基もしくはエトキシカルボニル基及び／又はカル
ボキシ基の保護基Ｒ″′がメチＭ基、エチル基の如き低
級ア７７ ＊ Ａ／基である場合、これら保護基は化合
物（Ｉ’）を加水分解することにより除去することがで
きる。化合物（Ｉりの加水分解は常法により実施するこ
とができ０例えば適当な溶媒中アルカリ試薬又は酸で処
理することにより実施することができる。γρ力・す試
薬としでは０例えば水ｐ化アルカリ金Ｗ４（例えば水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム）、水酸化アルカリ土類
金属（例えば、水酸化カルシウム、水酸化バリウム）な
どが挙げられ、また酸としては例えば、塩酸、臭化水素
酸などが挙げられる。溶媒としては１例えば低級アルカ
ノール（メタノール、エタノール）、ジメチ〃ホ〃ムア
ミド、或いはこれら溶媒と水との混合溶媒などを好適に
使用することができる。本反応は１０”０〜８０℃、好
ましくは２０℃〜６０℃で実施するのが適当である。さ
らに、アミノ基の保護基Ｗ′がクロロアセチ〃基である
場合、該保護基は適当な溶媒中化合物（Ｉ５をチオ尿素
で処理することにより除去することができる。溶媒とし
ては２例えばメタノール、エタノール、水などを好適に
使用することができる。
本反応は２０℃〜８０℃、好ましくは２０℃〜５０℃で
実施するのが適当である。
実施するのが適当である。
上記反応において、原料化合物（１［）は分子内に１個
の不斉炭素原子を有する九め２個の光学異性体が存在す
るが、上記本発明の反応は全てラセミ化を伴うことなく
進行するなめ原料化合物として化合物（１［）の光学活
性体を使用すれば、目的化合物（Ｉ）を光学活性体とし
て容易に取得することができる。また目的化合物（Ｉ）
にはオキシイミノ基が２（すなわち、シン）配置の化合
物とＦ！（すなわち、アンチ）配置の化合物が存在する
が、上記本発明の反応においては、オキシイミノ基が主
として２配置である化合物（Ｉ）が生成する。
の不斉炭素原子を有する九め２個の光学異性体が存在す
るが、上記本発明の反応は全てラセミ化を伴うことなく
進行するなめ原料化合物として化合物（１［）の光学活
性体を使用すれば、目的化合物（Ｉ）を光学活性体とし
て容易に取得することができる。また目的化合物（Ｉ）
にはオキシイミノ基が２（すなわち、シン）配置の化合
物とＦ！（すなわち、アンチ）配置の化合物が存在する
が、上記本発明の反応においては、オキシイミノ基が主
として２配置である化合物（Ｉ）が生成する。
上記の如くして得られる本発明の目的化合物（Ｉ）Ｈセ
ファロスポリン化合物合成中間体として有用であり１例
えば特開昭５９−５１２９２号に記載されている優れた
抗閑活性を有するセファロスポリン化合物の合成中間体
と＋−，て有用である。
ファロスポリン化合物合成中間体として有用であり１例
えば特開昭５９−５１２９２号に記載されている優れた
抗閑活性を有するセファロスポリン化合物の合成中間体
と＋−，て有用である。
尚、原料化合物（給の光学活性体は１例えば光学活性３
−ヒドロキシ−２−ピロリドン（ＡａｔａＣｈａｍｉａ
ａ ５ｏａｎｄｉｎａｖｉｏａ、 、 Ｂ ３４ 、７
３ ］−−７３３訂（１９８０年）参照）と一般式 ％式％ （但し １ｇはハロゲン原子を表わし Ｒ１は前記と同
一意味を有する。） で示される化合物とを反応壊せることにより製すること
かできる。
−ヒドロキシ−２−ピロリドン（ＡａｔａＣｈａｍｉａ
ａ ５ｏａｎｄｉｎａｖｉｏａ、 、 Ｂ ３４ 、７
３ ］−−７３３訂（１９８０年）参照）と一般式 ％式％ （但し １ｇはハロゲン原子を表わし Ｒ１は前記と同
一意味を有する。） で示される化合物とを反応壊せることにより製すること
かできる。
実施例 １
（１）２−ヒドロキシイミノ−３−オキソ酪酸工寿
千Ｍエステ／ｌ／ ３．２１をアセトン２Ｆ＋ｆｆ＋／
に呑解し。
に呑解し。
該溶液に炭酸カリウム４．２１及び（Ｒ１−３−（ｐ−
トシルオキシ）−２−ピロリドン７．６ｙ−を加え室温
で１５時間かく拌する。混合＠を減圧下に濃縮乾固する
。残査に冷水５０−？前え、該混合物を酢酸エチＶで抽
出する。抽出液を乾燥後減圧下に濃縮乾固することによ
り１Ｚｌ−２−（（（３Ｓ ）−２−ピロリドン−３−
イ／Ｌ／）オキシイミノ〕−３−オキソ酪酸エチルエス
テル３．３Ｆ？得る。
トシルオキシ）−２−ピロリドン７．６ｙ−を加え室温
で１５時間かく拌する。混合＠を減圧下に濃縮乾固する
。残査に冷水５０−？前え、該混合物を酢酸エチＶで抽
出する。抽出液を乾燥後減圧下に濃縮乾固することによ
り１Ｚｌ−２−（（（３Ｓ ）−２−ピロリドン−３−
イ／Ｌ／）オキシイミノ〕−３−オキソ酪酸エチルエス
テル３．３Ｆ？得る。
Ｎ Ｍ Ｒ（０００１３）δ：
１．３２（３Ｈ、ｔ 、Ｊ＝７Ｈｚ）、２．００ （３
１。
１。
自） 、２．０４−２．８６（２ＴＩ 、ｆｆ１） 、
３．３−３．７（２８。
３．３−３．７（２８。
１１１） 、４−３６（２Ｈ、ｑ 、Ｊ＝７Ｅ［ｚ ）
、４．９６（１！１ 。
、４．９６（１！１ 。
６、Ｊｇｓ７Ｈｚ） ＋７．５（ＩＩ、ｂｒｏａｄ ｓ
）＋２１ （Ｋｌ−２−〔（（３Ｅｌ） −２−ピ
ロリドン−３−イ／Ｉ／）オキシイミノツー３−オキソ
酪酸エチルエステＡ／２．４Ｆを塩化メチレン１５ｒｎ
ｌに溶解し。
）＋２１ （Ｋｌ−２−〔（（３Ｅｌ） −２−ピ
ロリドン−３−イ／Ｉ／）オキシイミノツー３−オキソ
酪酸エチルエステＡ／２．４Ｆを塩化メチレン１５ｒｎ
ｌに溶解し。
該溶液に塩化スルフリル１．６１を加え１５〜２５℃で
２０時間かく拌する。混合物を減圧下に濃縮して溶媒を
留去する。残査全クロロホルムに溶解し、該溶液を水で
洗浄する。クロロホルム液を乾燥後減圧下に濃縮乾固す
ることにより、（Ｚ）−２−（（（３Ｓ）−２−ピロリ
ドン−３−イル）オキシイミノ〕−３−オキソー４−ク
ロロ酪酸エチＶエステルを粗製物として得る。この粗製
物をエタノール２０−に溶解し、該溶液にチオ尿素１．
０１及びＮ、Ｎ−ジメチＭアニリン１．２ Ｆ ？加え
２０〜２５℃で２時間かく拌する。混合物を減圧下に濃
縮して溶媒全留去する。残査をクロロホルムに溶解し、
該溶液を水及び炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄する。
２０時間かく拌する。混合物を減圧下に濃縮して溶媒を
留去する。残査全クロロホルムに溶解し、該溶液を水で
洗浄する。クロロホルム液を乾燥後減圧下に濃縮乾固す
ることにより、（Ｚ）−２−（（（３Ｓ）−２−ピロリ
ドン−３−イル）オキシイミノ〕−３−オキソー４−ク
ロロ酪酸エチＶエステルを粗製物として得る。この粗製
物をエタノール２０−に溶解し、該溶液にチオ尿素１．
０１及びＮ、Ｎ−ジメチＭアニリン１．２ Ｆ ？加え
２０〜２５℃で２時間かく拌する。混合物を減圧下に濃
縮して溶媒全留去する。残査をクロロホルムに溶解し、
該溶液を水及び炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄する。
クロロホルム液を乾燥後減圧下に濃縮して溶媒を留去す
る。残査をイソプロパツールで結晶化し、ろ取すること
により、ｍｌ−２−（２−アミ／チアゾ−Ａ／−４−イ
Ａ／）−２−（（（３Ｓ）−２−ピロリドン−３−イ／
Ｉ／）オキシイミノ〕酢酸エチルエステｙｉ、２ｐを得
ル。
る。残査をイソプロパツールで結晶化し、ろ取すること
により、ｍｌ−２−（２−アミ／チアゾ−Ａ／−４−イ
Ａ／）−２−（（（３Ｓ）−２−ピロリドン−３−イ／
Ｉ／）オキシイミノ〕酢酸エチルエステｙｉ、２ｐを得
ル。
Ｍ、ｐ、１６０−１６３℃
〔α〕哲 −１５，９０（Ｃ−１，メタノ−／Ｌ／）Ｎ
ＭＲ（ＤＭｌＩＯ−ｄ＠）ａ ： 。
ＭＲ（ＤＭｌＩＯ−ｄ＠）ａ ： 。
１−２７ （３Ｈ、ｔ 、Ｊ ＝７ Ｈｚ ） ＊ １
．９３−２．６０ （２” −’Ｉ）−３，１−３，５
（２Ｈ，ａｉ）−４−３２（２”＊ｑ−’−７Ｈｇ）、
４．７４（ＩＦ５ｔ 、Ｊ−７Ｈｇ）、８．９３（Ｉ
ＩＩ。
．９３−２．６０ （２” −’Ｉ）−３，１−３，５
（２Ｈ，ａｉ）−４−３２（２”＊ｑ−’−７Ｈｇ）、
４．７４（ＩＦ５ｔ 、Ｊ−７Ｈｇ）、８．９３（Ｉ
ＩＩ。
ｓ）、７．３０（２１１、ｓ）、７．９６（ＩＩＩ、５
）ｆｉ ／ ４−１シーＩＷ−４−４ｖ）−２−Ｃ（＜
３ｓ＞−２−ピロリドン−３−イ／Ｉ／）オキシイミノ
〕酢酸エチルエステル１．ＯＦを加え２０℃で１時間か
く拌する。混合物をｌＯ鳴墳酸でｐＨ５とし、８１１合
物を減圧下に濃縮してメタノールを留去する。
）ｆｉ ／ ４−１シーＩＷ−４−４ｖ）−２−Ｃ（＜
３ｓ＞−２−ピロリドン−３−イ／Ｉ／）オキシイミノ
〕酢酸エチルエステル１．ＯＦを加え２０℃で１時間か
く拌する。混合物をｌＯ鳴墳酸でｐＨ５とし、８１１合
物を減圧下に濃縮してメタノールを留去する。
残査を１０哄塩酸でＰｌ（３とし、該混合物を水冷する
。析出晶をろ取し、メタノ−μで洗浄後乾燥することに
より、（ｚｌ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）−２−（（（３ｇ）−２−ピロリドン−３−イＡ／）
オキＶイミノ〕酢酸７３０ＩＩＰを得る。
。析出晶をろ取し、メタノ−μで洗浄後乾燥することに
より、（ｚｌ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）−２−（（（３ｇ）−２−ピロリドン−３−イＡ／）
オキＶイミノ〕酢酸７３０ＩＩＰを得る。
Ｍ、ｐ、 １９９−２００℃ Ｃ分解）〔α〕甘せ５
０．８° （Ｃコ１．水）Ｎ Ｍ Ｒ（Ｄ Ｏ＋
ＮａＨＣＯｉ ） δ ：２．０−２．７（２１
１、ｍ）、３．３−３．６（２Ｒ，ｍ）。
０．８° （Ｃコ１．水）Ｎ Ｍ Ｒ（Ｄ Ｏ＋
ＮａＨＣＯｉ ） δ ：２．０−２．７（２１
１、ｍ）、３．３−３．６（２Ｒ，ｍ）。
４．９５（ＩＦＩ 、ｔ 、Ｊ−８ｋ ）、６．９０
（ｉｌｌ ＋！り上記実施例１に準拠して下記表記載
の化合物を上記表中の化合物は全て１！＋配置である。
（ｉｌｌ ＋！り上記実施例１に準拠して下記表記載
の化合物を上記表中の化合物は全て１！＋配置である。
（注１）：ｌ’１ＭＨの溶媒： ＣＤＣＩｇ（注２）：
（ａ）％’ −：１ｇ、８° （Ｃ−１，ジメ＋ｐ
ｖ＊Ｖムアミド） （注ｓ＞ ： ｃａ）ｖ−２１，５° （Ｃ窃１．メタ
ノール）（注４）：〔α）ＤＩ′−３４２° （Ｃ−１
，ジメチ〃ホＶムアミド） （郡） ： Ｃｂｇ ：ベンジＶオキシカ〃ボニル〔原
料化合物の調製〕 （Ｒ１−３−ヒドロキＦ −２−ピロリドン（Ａａｔａ
に２Ｎ水酸化ナトリウム１５−を室温で加えけん濁物を
溶解させる。この溶液を一３〜５℃に冷却し、該溶液に
ｐ−）シルクロリド５．７ｙを加え同温で１時間かく拌
する。混合物？１０〜１５℃で一夜かく拌後、該混合物
を２Ｎ塩＃１０＆でＰＨ２とする。混合物を減圧下に濃
縮してアセトンを留去する。残査をクロロホＶムで抽出
し、抽出液を飽和食塩水で洗浄後乾燥する。クロロホル
ム液を減圧下に濃縮して溶媒を留去する。残査をエーテ
〃で結晶化し、酢酸エチルから再結晶することにより、
１Ｒ）−３−（ｐ−）シルオキシ）−２−ピロリドン３
．５ノを得る。
（ａ）％’ −：１ｇ、８° （Ｃ−１，ジメ＋ｐ
ｖ＊Ｖムアミド） （注ｓ＞ ： ｃａ）ｖ−２１，５° （Ｃ窃１．メタ
ノール）（注４）：〔α）ＤＩ′−３４２° （Ｃ−１
，ジメチ〃ホＶムアミド） （郡） ： Ｃｂｇ ：ベンジＶオキシカ〃ボニル〔原
料化合物の調製〕 （Ｒ１−３−ヒドロキＦ −２−ピロリドン（Ａａｔａ
に２Ｎ水酸化ナトリウム１５−を室温で加えけん濁物を
溶解させる。この溶液を一３〜５℃に冷却し、該溶液に
ｐ−）シルクロリド５．７ｙを加え同温で１時間かく拌
する。混合物？１０〜１５℃で一夜かく拌後、該混合物
を２Ｎ塩＃１０＆でＰＨ２とする。混合物を減圧下に濃
縮してアセトンを留去する。残査をクロロホＶムで抽出
し、抽出液を飽和食塩水で洗浄後乾燥する。クロロホル
ム液を減圧下に濃縮して溶媒を留去する。残査をエーテ
〃で結晶化し、酢酸エチルから再結晶することにより、
１Ｒ）−３−（ｐ−）シルオキシ）−２−ピロリドン３
．５ノを得る。
輩、ｐ、 １４８−１４９℃
〔α〕π ＋１７．７° （Ｃ，＝１ 、メタノ−／Ｌ
／）ＮＭＲ（ＣＤＣＩｇ） δ： ２．０−２．７（２１１，＋１１）、２．４３（３ＦＩ
、！ｌ）３．１−３．５（２１！、＋ｍ ）、４．９１
（ＩＨ，ｔ、Ｊ−７１１ｇ）７．２（ｌＥｉ、ｂｒｏａ
ｄ）、７．３２（２Ｆ１．ｄ、２ｍ９Ｈｚン７．８４
（２Ｈ，ｄ 、 Ｊ−９ｔｌｚ ）・−−−１
／）ＮＭＲ（ＣＤＣＩｇ） δ： ２．０−２．７（２１１，＋１１）、２．４３（３ＦＩ
、！ｌ）３．１−３．５（２１！、＋ｍ ）、４．９１
（ＩＨ，ｔ、Ｊ−７１１ｇ）７．２（ｌＥｉ、ｂｒｏａ
ｄ）、７．３２（２Ｆ１．ｄ、２ｍ９Ｈｚン７．８４
（２Ｈ，ｄ 、 Ｊ−９ｔｌｚ ）・−−−１
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （但し、−ＣＯＯＲ＾２はカルボキシ基又は保護された
カルボキシ基を表わす。） で示される化合物と一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（III） （但し、Ｒ＾３は置換もしくは非置換フエニル基又は低
級アルキル基を表わす。） で示される化合物とを反応させて一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） （但し、−ＣＯＯＲ＾２′は前記と同一意味を有する。 ）で示される化合物とし、該化合物（IV）をハロゲン化
剤で処理して一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） （但し、Ｘ＾１はハロゲン原子を表わし、−ＣＯＯＲ＾
２′は前記と同一意味を有する。） で示される化合物とし、該化合物（Ｖ）と一般式Ｒ＾１
′ＮＨ−ＣＳ−ＮＨ＿２ （VI） （但し、Ｒ＾１′ＮＨ−はアミノ基又は保護されたアミ
ノ基を表わす。） で示される化合物とを反応させて一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ′） （但し、Ｒ＾１′ＮＨ−及び−ＣＯＯＲ＾２′は前記と
同一意味を有する。） で示される化合物とし、要すれば該化合物（ I ′）か
ら保護基を除去することを特徴とする一般式▲数式、化
学式、表等があります▼（ I ） （但し、Ｒ＾１ＮＨ−はアミノ基又は保護されたアミノ
基、−ＣＯＯＲ＾２はカルボキシ基又は保護されたカル
ボキシ基を表わす。） で示されるチアゾール酢酸誘導体の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26479984A JPS61143379A (ja) | 1984-12-14 | 1984-12-14 | チアゾ−ル酢酸誘導体の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26479984A JPS61143379A (ja) | 1984-12-14 | 1984-12-14 | チアゾ−ル酢酸誘導体の製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61143379A true JPS61143379A (ja) | 1986-07-01 |
Family
ID=17408367
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26479984A Pending JPS61143379A (ja) | 1984-12-14 | 1984-12-14 | チアゾ−ル酢酸誘導体の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61143379A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0101265A2 (en) * | 1982-08-07 | 1984-02-22 | Tanabe Seiyaku Co., Ltd. | Novel cephalosporin compounds and preparation thereof |
| JPS59134784A (ja) * | 1983-01-07 | 1984-08-02 | Takeda Chem Ind Ltd | アミノチアゾ−ル酢酸誘導体及びその製造法 |
-
1984
- 1984-12-14 JP JP26479984A patent/JPS61143379A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0101265A2 (en) * | 1982-08-07 | 1984-02-22 | Tanabe Seiyaku Co., Ltd. | Novel cephalosporin compounds and preparation thereof |
| JPS59134784A (ja) * | 1983-01-07 | 1984-08-02 | Takeda Chem Ind Ltd | アミノチアゾ−ル酢酸誘導体及びその製造法 |
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