JPS6116012A - 磁気記録媒体および磁気記録方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

■　発明の背景 技術分野 本発明は、磁気記録媒体、特に金属薄膜型の磁気記録媒
体と磁気記録方法に関する。 先行技術とその問題点 ビデオ用、オーディオ用等の磁気記録媒体として、テー
プ化して巻回したときのコンパクト性から、金属薄膜型
の磁性層を有するものの開発が活発に行われている。 このような金属薄膜型の媒体の磁性層としては、特性−
ヒ基体法線に対し、所定の傾斜角にて誘着を行う、いわ
ゆる斜め蒸着法によって形成したＣｏ系、Ｃｏ−Ｎｉ系
等からなる蒸着膜が好適である。 このような媒体は、スペーシングロスによる特＋１低下
が大きいので、その表面をできるだけ平滑化する必要が
ある。 しかし、あまり表面を下用にすると、摩擦が大きくなり
、ヘッドタッチ、走行面で支障が出る。 ところで、金属薄膜型の媒体では、磁性層が０．０５〜
０．５μｍと非常にうすいため、媒体の表面性は基板の
表面性に依存する。 このため、基板表面に比較的なだらかな、いわゆるしわ
状、ミミズ状等の突起を設ける旨が提案されている（特
開昭５３−１１６１１５号等）。 また、特開昭５８−８８２２７号、同５８−１００２２
１号には、基体表面に微粒子を配設して、光学顕微鏡で
５０〜４００倍で観察でき、しかも触針式表面粗さ測定
装置で高さが実測できる凹凸を設ける旨が提案されてい
る。 Ｌ７かし、これらでも走行摩擦、耐久走行性、走行安定
性の物性や、電磁変換特性の点で未だ不七分である。 一方、特公昭３Ｌ２５２４６号等には、強磁性金属薄膜
層表面に、有機物潤滑剤からなるトップコート層を設け
、走行摩擦を低減する旨が提案されている。 しかし、有機物潤滑剤を用いるときには、潤滑剤のヘッ
ドへの付着、ヘッド目づまりが発生し、実用に大きな問
題となる。 すなわち、現状では、走行摩擦を下げ、しかも走行面で
支障の出ない範囲で、ヘッド付着、ヘント１」づまりを
解消し、かつ電磁変換特性の面でも不都合の生じない技
術は未だ実現していない。 ＩＩ　　５Ｆ：明の目的 本発明の目的は、金属薄膜型の磁気記録媒体と、それを
用いた磁気記録方法において、摩擦、耐久性、走行安定
性等の物性を改良し、しかも物性面で支障のない範囲で
ヘラｌ”　（−１着やヘット１」づまりを解消し、かつ
電磁変換特性の面でも何ら不都合が生じないようにする
ことにある。 このような目的は、下記の本発明によって達成される。 すなわち本発明は、 可とう性基板上にＣＯを主成分とする強磁性金属薄膜層
を設け、さらにこの強磁性金属薄膜層表面に有機物トッ
プコート層を設けた磁気記録媒体において。 有機物トップコート層が放射線硬化型化合物と、酸化防
止剤または酸化防止剤および潤滑剤とを含有し、 かつ強磁性金属薄膜層が酸素を含んでおり、さらに、磁
気ヘッドのギャップ長をａμｍとしたとき、媒体表面が
１＠−２当り平均１０５／ａ２以上の突起を有し、しか
もこの突起が３０〜３００人の高さを有することを特徴
とする磁気記録媒体である。 また、第２の発明は、 可とう性基板上にＣＯを主成分とする強磁性金属薄膜層
を設け、かつ強磁性金属薄膜層表面に有機物トップコー
ト層を設けた磁気記録媒体と磁気ヘッドとを用いて記録
、再生を行う磁気記録方法において。 有機物トップコニト層が放射線硬化型化合物と、酸化防
止剤または酸化防止剤および潤滑剤とを含有し。 かつ強磁性金属薄膜層が酸素を含んでおり。 さらに磁気ヘッドのキャップ長をａｐＬｍとしたとき、
媒体表面が１１■２当り１０５／ａ２個以上の突起を有
し、しかもこの突起が３０〜３００人の高さを有するこ
とを特徴とする磁気記録方法である。 ■　発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。 本発明における磁性層としての強磁性金属薄膜層は、Ｃ
Ｏを主成分とし、これに０を含み、さらに必要に応じＮ
ｉおよび／またはＣｒが含有される組成を有する。 すなわち、好ましい態様においては、ＣＯ単独からなっ
てもよく、ＣＯとＮｉからなってもよい。　Ｎｉが含ま
れる場合、Ｃｏ／Ｎｉの重量比は、１．５以上であるこ
とが好ましい。 さらに、強磁性金属薄膜層中には、Ｃｒが含有されてい
てもよい。 Ｃｒが含有されると、電磁変換特性が向上し、出力およ
びＳ／Ｎ比が向上し、さらに膜強度も向上する。 このような場合、Ｃｒ／ＣｏあるいはＣｒ／（Ｇｏ＋Ｎ
ｉ）の重量比は０．１以下、特に０．００１〜０．１、
より好ましくは、０．００５〜０，０５であることが好
ましい。 さらに、強磁性金属薄膜中にはＯが含有されるものであ
る。 強磁性金属薄膜中の平均酸素量は、原子比、特にＯ／（
ＧｏまたはＣｏ＋Ｎｉ）の原子比で、０．５以下、より
好ましくは０，０５〜０．５であることが好ましい。 この場合、強磁性金属薄膜層の表面では、酸素が強磁性
金属（Ｃｏ、Ｎｉ）と酸化物を形成している。 すなわち１表面部、特に表面から５０人〜５００人、よ
り好ましくは５０〜２００人の厚さの範囲には、オージ
ェ分光分析により、酸化物を示すピークが認められるも
のである。　そして、この酸化物層の酸素含有量は、原
子比で０．５〜１．０程度である。 なお、このような強磁性金属薄膜中には、さらに他の微
量成分、特に遷移元素１例えばＦｅ、Ｍｎ、Ｖ、Ｚｒ、
Ｎｂ、Ｔａ、Ｔｆ　。 Ｚ　ｎ　、　Ｍ　ｏ　、　Ｗ　、　Ｃｕ等が含まれてい
てもよい。 このような強磁性金属薄膜層は、好ましい態様において
、上記したＣＯを主成分とする柱状結晶粒の集合体から
なる。 この場合、強磁性金属薄膜層の厚さは、０．０５−０．
５８Ｌｍ、好ましくは、０．０７〜０・３鉢ｍとされる
。 そして、柱状の結晶粒は、薄膜の厚さ方向のほぼ全域に
亘る長さをもち、その長手方向は、基体の主面の法線に
対して、１０〜７０’の範囲にて傾斜していることが好
ましい。 なお、酸素は、表面部の柱状の結晶粒の表面に前記のと
おり化合物の形で存在するものである。 また、強磁性金属薄膜層の酸素の濃度勾配の何如には特
に制限はない。 また、結晶粒の短径は、５０〜５００人程度の長さをも
つことが好ましい。 このような強磁性金属薄Ｍ層を形成する基板は、非磁性
のものでありさえすれば特に制限はないが、特に町どう
性の基板、特にポリエステル、ポリイミド等の樹脂製の
ものであることが好ましい。 また、その厚さは５種々のものであってよいが、特に５
〜２０μｍであることが好ましい。 この場合、基板の強磁性金属薄膜層形成面の裏面には、
公知の種々のバックコート層が形成されていてもよい。 このように構成される本発明の磁気記録媒体の表面には
、微細な突起が所定の密度で設けられる。 微細な突起は、３０〜３００人、より好ましくは５０〜
２００人の高さを有するものである。 すなわち１本発明の突起は、光学顕微鏡で観察でき、か
つ触針型表面粗さ計で測定できるものではなく、走査型
電子顕微鏡にてｉ察できる程度のものである。 突起高さが３００人をこえ、光学顕微鏡にて観察できる
ものとなると、電磁変換特性の劣化と、走行安定性の低
下をもたらす。 また、３０人未満となると、物性の向−Ｉｎの実効かな
い。 そして、その密度はｌ　ｍｍ２あたり平均１０５／ａ２
個、より好ましくは２Ｘ１．ＱＦｌ／ａ２〜ｌＸ１０９
／ａ２個である。 この場合、ａはｐＬｍ単位にて、用いる磁気ベントのキ
ャンプ長を表わす。 そして、ａは０．１−０．５μｍ、特に０゜１〜０．４
川ｍとされる。 なお、突起密度がｌ　Ｑ　５　／　ａ、２個／ｍｍ２．
より好ましくは２Ｘ１０５／ａ２個／ｌｌ１ｆｆｉ２未
満となると、ノイズが増大し、耐久走行特性が低下する
等物性の低下をきたし、実用に耐えない。 また、１０９　／ａ２個／ｍｒａ２をこえると、型持が
低下し物性上の効果が少なくなってしまうこのような突
起を設けるには、通常、基板上に微−粒子を配設すれば
よい。　微粒子径は、３０〜３００人、特に５０〜２０
０人とすればよく、これにより微粒子径と対応した微細
突起が形成される。 用いる微粒子としては、通常コロイド粒子として知られ
ているものであって、例えば５ｉ０２（コロイダルシリ
カ）、Ａｔ２Ｏ，。 （アルミナツル）、ＭｇＯ，ＴｉＯ２、ＺｎＯ，Ｆｅ２
Ｏ３，ジルコニア、ＣｄＯ，ＮｉＯ、ＣａＷＯ４、Ｃａ
ｃＯ３、Ｂ　ａｃＯ３。 ＣｏＣＯ３、ＢａＴｉＯ３、Ｔｉ　　（チタンブラック
）、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｆｅ、各種ヒドロツルや
、樹脂粒子等が使用可能である。 この場合、特に無機物質を用いるのが好ましい。 このような微粒子は、各種溶媒を用いて塗布液とし、こ
れを基板状に塗布、乾燥してもよく、あるいは塗布液中
に各種水性エマルジョン等の樹脂分を添加したものを塗
布、乾燥してもよい。 なお、場合によっては、これら塗布液を基板十に配設す
るのではなく、微粒子をトップコート層中に添加して突
起を設けることもできる６また、樹脂分を用いる場合、
これら微粒子にもとづく微細突起に重畳してゆるやかな
突起を設けることもできるが１通常はこのようにする必
要はない。 なお、基板と強磁性金属薄膜層との間には、必要に応し
、公知の各種下地層を介在させることもできる。 また、もし必要であるならば、強磁性金属薄膜層を複数
に分割して、その間に非強磁性金属８１１９層を介在さ
せてもよい。 本発明において、磁性層の形成は電解蒸着。 イオンブレーティング等を用いることもできるが、いわ
ゆる斜め蒸着法によって形成されることが好ましい。 この場合、基体法線に対する、蒸着物質の入射角の最小
値は、２０°以上とすることが好ましい。 入射角が２０°未満となると、電磁変換特性が低下する
。 なお、蒸着雰囲気は、通常、アルゴン、ヘリウム、真空
等の不活性雰囲気に、酸素ガスを含む雰囲気とし、　　
Ｉ　Ｏ＝Ｘ　Ｉ　Ｏｎ　Ｐａ程度の圧力とし、また、蒸
着距離、基体搬送方向、キャンやマスクの構造、配置等
は公知の条件と同様にすればよい。 そして、酸素雰囲気での蒸着により、表面に金属酸化物
の被膜が形成される。　なお、金属酸化物が形成される
酸素ガス分圧は、実験から容易に求めることができる。 なお１表面に金属酸化物の被膜を形成するには、各種酸
化処理が可使である。 適用できる酸化処理としては下記のようなものがある。 １）乾式処理 ａ、エネルギー粒子処理 特願昭５８−７８８４０号に記載したように、蒸着の後
期に、イオンガンや中性ガンにより酸素をエネルギー粒
子として磁性層にさしむけるもの。 ｂ、グロー処理 ０２　　、Ｎ２０，０２　＋Ｈ２０！＄とＡｒ。 Ｎ２等の不活性カスとを用い、これをグロー放電してプ
ラズマを生じさせ、このプラズマ中に磁性膜表面をさら
すもの。 Ｃ１酸化性カス オゾン、加熱水蒸気等の酸化性ガスを吹きつけるもの。 ｄ、加熱処理 加熱によって酸化を行うもの。　加熱温度は６０〜１５
０℃程度。 ２）湿式処理 ａ、陽極酸化 す、アルカリ処理 Ｃ酸処理 クロム酸塩処理、過マンガン酸塩処理、リン酎塩処理等
を用いる。 ｄ、酸化剤処理 Ｈ２Ｏ２等を用いる。 本発明の有機物のトップコート層は、放射線硬化型化合
物、すなわち放射線硬化型ポリマー、モノマー、オリゴ
マーの１種以上と、酢化防止剤と、さらに必要に応じ潤
滑剤とを含有し、かつ所定の密度と大きさの突起を有す
る強磁性金属薄膜上に設層されたものである。 木発用のトップコート層で用いられる放射線硬化型ポリ
マー、モノマー、オリゴマーとしては、ラジカル重合性
を示す不飽和二重結合を有するアクリル耐、メタクリル
酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリル
系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重
結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結合等
の、放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱
可塑性樹脂の分子中に含有または導入した樹脂等を用い
ることができる。 その他、使用可能なポリマー成分としては。 単量体としてアクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミ
ド等がある。 二重結合のあるポリマーとしては１種々のポリエステル
、ポリオール、ポリウレタン等をアクリル二重結合を有
する化合物で変性することもできる。　さらに必要に応
じて多価アルコールと、多価カルボン酸を配合すること
によって種々の分子量のものもできる。 放射線感応樹脂として、上記のものはその一部であり、
これらは混合して用いることもできる。 また、（Ａ）放射線により硬化性をもつ不飽和二重結合
を２個以上有するか、または放射線硬化性を有しない分
子量５０００−１０００００のプラスチック状化合物、 （Ｂ）放射線により硬化性をもつ不飽和二重結合を１個
以上有するか、または放射線硬化性を有しない分子量３
０００〜ｔｏｏｏｏｏのゴム状化合物、および （Ｃ）放射線により硬化性をもつ不飽和二重結合を１個
以上有する、分子量２００〜３０００の化合物がある。 これらは単独または混合物の形で用いられ、混合物の場
合、特に好ましいものとしては。 （Ａ）２０〜７Ｏｔｒ量％、（Ｂ）２０〜８０重埴％、
（Ｃ）１０〜４０重量％の割合で用いた組合せである。 さらに、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の化合物における不飽
和二重結合は１分子当り（Ａ）は２以ヒ、好ましくは５
以上、（Ｂ）は！以」二、好ましくは５以］二、（Ｃ）
は１以上、好ましくは３以上である。 本発す１で用いる（Ａ）のプラスチック状化合物は、放
射線によりラジカルを発生し、架橋構造を生じるような
、不飽和二重結合を分子鎖中に２個以上含むものなので
あり、これはまた熱可塑性樹脂を放射線感応変性するこ
とによっても得ることができる。 放射線硬化性樹脂の具体例としては　ラジカル重合性を
有する不飽和二重結合を示すアクリル酎、メタクリル酸
、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリル系
二重結合、ジアクリルフタレートのようなアリル系二重
結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結合等
の放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を、熱
可塑性樹脂の分子中に含有または導入した樹脂である。 　その他、放射線照射により架橋重合する不飽和二重結
合を有する化合物で分子量が５０００−１０００００の
もの、好ましくは１００００〜８ｏｏｏｏのもノテあれ
ば用いることができる。 放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱可塑
性樹脂の分子中に含有する樹脂としては、次のような不
飽和ポリエステル樹脂がある。 分子鎖中に放射線硬化性不飽和二重結合を含有するポリ
エステル化合物１例えば下記（２）の多塩基酸と多価ア
ルコールのエステル結合からなる飽和ポリエステル樹脂
で、多塩基酸の一部をマレイン酸とした放射線硬化性不
飽和二重結合を含有する不飽和ポリエステル樹脂を挙げ
ることができる。 放射線硬化性不飽和ポリエステル樹脂は、多塩基酸成分
１種以上と、多価アルコール成分１程以」二に、マレイ
ン酸、フマル酸等を加え、常法すなわち触媒の存在下で
、１８０〜２００℃、窒素雰囲気下、脱水あるいは脱ア
ルコール反応の後、２４０〜２８０Ｃ！まで昇温し、０
゜５〜１　ａｍ）ＩＨの減圧下、縮合反応により得るこ
とができる。 マレイン酸やフマル酩等の含有量は、製造時の架橋、放
射線硬化性等から酸成分中１〜４０モル％、＆Ｔましく
は１０〜３０モル％である。 放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例として
は、次のようなものを挙げることができる。 （１）塩化ビニール系共重合体 塩化ビニル−酢酸ビニルービニルアルコール共重合体、
塩化ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−
ビニルアルコール−プロピオン酸ビニル共重合体、塩化
ビニルー酢酸ビニルーマレイン酸共重合体、塩化ビニル
−酢酸ビニル−末端ＯＨ側鎖アルキル基共重合体、たと
えばＵＣＣ社製ＶＲＯＨ、ＶＹＮＣ、ＶＹＢＧＸ、ＶＥ
ＲＲ，ＶＹＥＳ　、ＹＭＣＡ、ＶＡＧＨ等が挙げられ、
このものに後述の手法により、アクリル系二重結合、マ
レイン酸系二重結合、アリル系二重結合を導入して、放
射線感応変性を行う。 （２）飽和ポリエステル樹脂 フタル酪、イソフタル酩、テレフタル酸、コハク酸、ア
ジピン酸、セパシン酸のような飽和多塩基酸と、エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、ト
リメチロールプロパン、１．２プロピレングリコール、
１，３ブタンジオール、ジプロピレングリコール、１゜
４ブタジオール、１．６ヘキサンジオール、ペンタエリ
スリット、ンルビトール、グリセリン、ネオペンチルグ
リコール、１．４シクロヘキサンジメタツールのように
多価アルコールとのエステル結合により得られる飽和ポ
リエステル樹脂、あるいはこれらのポリエステル樹脂を
５Ｏ３Ｎ＆等で変性した樹脂（例えばバイロン５３Ｓ）
が例として挙′げられ、これらも同様にして放射線感応
変性を行う。 （３）ポリビニルアルコール系樹脂 ポリビニルアルコール、ブチラール樹脂、アセタール樹
脂、ホルマール樹脂およびこれらの成分の共重合体で、
これら樹脂中に含まれる水酸基に対し、後述の手法によ
り放射線感応変性を行う。 （４）エポキシ系樹脂、フェノキシ系樹脂ビスフェノー
ルＡとエピクロルヒドリン、メチルエピクロルヒドリン
の反応によるエポキシ樹脂、例えばシェル化学製（エピ
コート１５２．１５４，８２８，１００１，１００４．
１００７）、ダウケミカル製（ＤＥＮ４３１．ＤＥＲ７
３２、ＤＥＲ５１１、ＤＥＲ３３１）。 大日本インキ社製（エピクロン４００．８００）、さら
に上記エポキシの高重合度樹脂であるＵＣＣ社製フェノ
キシ樹脂（ＰＫＨＡ　、ＰＫＨＣ、ＡＰＫＨＨ）、臭素
化ビスフェノールＡとエピクロルヒドリンの共重合体、
大日本インキ化学工業製（エピクロン１４５，１５２，
１５３．１１２０）等がある。 これら樹脂中に含まれるエポキシ基ヲ利用して、放射線
感応変性を行う。 （５）繊維素誘導体 各種のものが用いられるが、特に効果的なものは、硝化
綿、セルローズアセトブチレート、エチルセルローズ、
ブチルセルローズ、アセチルセルローズ等が好適である
。 樹脂中の水酸基を利用して後述の方法により放射線感応
変性を行う。 その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂とし
ては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル
樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体（ＰＶＰ
オレフィン共重合体）、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹
脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基を
含有するアクリルエステル、およびメタクリエステルを
重合成分として、少なくとも１種含むアクリル系樹脂等
も有効である。 本発明で用いるＣＢ）の高分子量に化合物は、熱可塑性
エストラ−もしくはプレポリマー、またはこれらを放射
線感応変性したものであり、後者の場合は、より効果的
である。 以下にエラストマーもしくはプレポリマーの例を挙げる
。 （１）ポリウレタンエラストマーもしくはプレポリマー ポリウレタンの使用は耐摩耗性が良好で、基体フィルム
、例えばＰＥＴフィルムへの接着性が良い点で特に有効
である。 ウレタン化合物の例としては、インシアネートとして、
２　、４−　トルエンジイソシアネート、２．６−トル
エンジイソシアネート、ｌ。 ３−キシレンジイソシアネート、１．４−キシレンジイ
ソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、
ｍ−フェニレンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイ
ソシアネート、３．３′−ジメチル−４，４′−ジフェ
ニルメタンジイソシアネー）、４．４’　−ジフェニル
メタンジイソシアネート、３．３′−ジメチルビフェニ
レンジイソシアネート、４，４′−ビフェニレンジイソ
シアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、インフ
ォロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイ
ソシアネート、デスモジュールし、デスモジュールＮ等
の各種多価インシアネートと、 線状飽和ポリエステル（エチレングリコール、ジエチレ
ングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、
１　、４−メタンジオール、１．６−ヘキサンジオール
、ペンタエリスリット、ソルビトール１、ネオペンチル
グリ１−ル、１．４−シクロヘキサンジメチノールのよ
うな多価アルコールと、フタル酸、イソフタル酸、テレ
フタル酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸のような
飽和多塩基酸との縮重合によるもの）、 線状飽和ポリエーテル（ポリエチレングリコール、ポリ
プロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール
）やカプロラクタム、ヒドロキシル含有アクリル酸エス
テル、ヒドロキシル含有メタクリル酸エステル等の各種
ポリエステル類め縮重合物よりなるポリウレタンエラス
トマー、プレポリマーが有効である゛。 これらのウレタンエラストマーの末端のイソシアネート
基または水酸基と、アクリル系二重結合またはアリル系
二重結合を有する単量体とを反応させることにより、放
射線感応性に変性することは非常に効果的である。 また、末端に極性基としてＯＨ，Ｃ０ＯＨ等を含有する
ものも含む。 （２）アクリルニトリル−ブタジェン共重合エラストマ
ー ンンクレアペトロケミカル社製ポリＢＤリタイッドレジ
ンとして市販されている、末端水酸基のあるアクリロニ
トリルブタジェン共重合体プレポリマー、あるいは日本
ゼオン社製ハイカー１４３２Ｊ等のエラストマーは、特
にブタジェン中の二重結合が放射線によりラジカルを生
じ、架橋および重合させるエラストマー成分として適す
る。 （３）ポリブタジエンエラストマー シンクレアペトロケミカル社製ポリＢＤリタイッドレジ
ンＲ−１５等の低分子量末端水酸基を有するプレポリマ
ーが、特に熱可塑性との相溶性の点で好適である。 Ｒ−１５プレポリマーにおいては、分子末端が水酸基と
なっているため、分子末端にアクリル系不飽和二重結合
を付加することにより放射線感応を高めることが可能で
あり、バインダーとしてさらに有利となる。 また、ポリブタジェンの環化物、日本合成ゴム製ＣＢＲ
−Ｍ９０１も熱可塑性樹脂との組合わせにより、すぐれ
た性質を有している。 その他、熱可塑性エラストマーおよびそのプレポリマ−
の系で好適なものとしては、スチレン−ブタジェンゴム
、塩化ゴム、アクリルゴム、インプレンゴム、およびそ
の環化物（日本合成ゴム製ＣｌＲ７０１）があり、エポ
キシ変性ゴム、内部可塑化飽和線状ポリエステル（東洋
紡バイロン＃３００）等のエラストマーも下記に述べる
放射線感応変性処理を施すことにより有効に利用できる
。 本発明で用いられる（Ｃ）放射線硬化性不飽和二重結合
を有する化合物としては、スチレン、エチルアクリレー
ト、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリ
コールアクリレート、シエチレングリコールジメタクリ
レー）、１．６−ヘキサングリコールジアクリレート、
１．６−ヘキサングリコールジアクリレート、トリメチ
ロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロ
パントリメタクリレート、多官能オリゴエステルアクリ
レート（アロニックスＭ−７１００，Ｍ−５４００，５
５００，５７００等、東亜合成）、ウレタンエラストマ
ーにツボラン４０４０）のアクリル変性体、あるいはこ
れらのものにＣ０ＯＨ等の官能基が導入されたもの等が
挙げられる。 次に、放射線感応性バインダーの合成例を説明する。 ａ）塩化ビニル酢酸ビニル共重合系樹脂のアクリル変性
体（放射線感応変性樹脂）の合成ＯＨ基を有する一部ケ
ン化塩ビー酢ビ共重合体（平均重合度　ｎ＝５００）７
５０部とトルエン１２５０部、シクロヘキサノン５００
部を、５１０４つロフラスコに仕込み、加熱溶解し、８
０℃昇温昇温ジトリレンジイソシアネート−ヒドロキシ
エチルメタクリレートアダクト※を６１．４部加え、さ
らにオクチル酸スズ０．０１２部、ハイドロキノン０．
０１２部を加え、８０℃でＮ２気流中、ＮＧＯ反応率が
９０％となるまで反応せしめる。 反応終了後冷却し、メチルエチルケトン１２５０部を加
え、希釈する。

【※トリレンジイソシアネー）（ＴＤＩ）の２＝ヒドロ
キシエチルメタクリレート（２ＨＥＭＡ）アダクトの製
法 ＴＤＩ３４８部をＮ２気流中１１の４つロフラスコ内で
８０℃に加熱後、２−エチレンメタクリレート２６０部
、オクチル酸スズ０．０７部、ハイドロキノン０．０５
部を、反応缶内の温度が８０〜８５℃となるように、冷
却コントロールしながら滴下終了後、８０℃で３時間撹
拌し、反応を完結させる。 反応終了後、取り出して、冷却後、白色ペースト状のＴ
ＤＩの２ＨＥＭＡを得た。】ｂ）ブラチール樹脂アクリ
ル変性体に合成（放射線感応変性樹脂） ブチラール樹脂積水化学製ＢＭ−５１００部ヲトルエン
１９１．２ｍ、シクロヘキサノン７１．４９と共に５１
の４つ目フラスコに仕込み、加熱溶解し、８０℃昇温後
、ＴＤＩの２ＨＥＭＡアダクト※を７．４部加え、さら
にオクチル酸スズ０．０１５部、ハイドロキノン０゜０
１５部を加え、８０℃でＮ２気流中ＮＣＯ反応率が９０
％以上となるまで反応せしめる。 反応終了後冷却し、メチルエチルケトンにて冷釈する。 Ｃ）飽和ポリエステル樹脂アクリル変性体の合成（放射
線感応変性樹脂） 飽和ポリエステル樹脂（東洋紡製バイロンＲＶ−２００
）１００部をトルエン１１６部、メチルエチルケトン１
１６部に加熱溶解し、８０℃に昇温後、ＴＤＩの２ＨＥ
ＭＡアダクト※を３．５５部加え、さらにオクチル酸ス
ズ０．ＯＯ，７部、ハイドロキノン０．００７部を加え
、８０℃、Ｎ２気流中ＮＧＯ反応率が９０％以上となる
まで反応せしめる。 ｄ）ｉ）　　エポキシ樹脂アクリル変性体の合成（放射
線感応変性樹脂） エポキシ樹脂（シェル化学製エピコート１００７）４０
０部をトルエン５０部、メチルエチルケトン５０部に加
熱溶解後、Ｎ、Ｎ−ジメチルへンジルアミン０．００６
部、ハイドロキノン９．００３部を添加し８０℃とし、
アクリル酸６９部を滴下し、８０℃で酸価５以下となる
まで反応せしめる。 １１）フェノキシ樹脂アクリル変性体の合成（放射線感
応変性樹脂） ＯＨ基を有するフェノキシ樹脂（ＰＫＨＨ：ＵＣＣ社製
　分子量３００００）６００部、メチルエチルケトン１
８００部を３文の４つロフラスコに仕込み、加熱溶解し
、８０℃昇温後、トリレンジイソシアネートの２ヒドロ
キシエチルメタクリレートアダクトを６．０部加え、さ
らにオクチル酸スズ０．０１２部、ハイドロギノン０．
０１２部を加え、８０℃でＮ２気流中、ＮＧＯ反応率が
９０％となるまで反応せしめる。 このフェノキシ変性体の分子量は、３５０００．１分子
当りの二重結合は１個である。 ｅ）ウレタンエラストマーアクリル変性体の合成（放射
線硬化性エラストマー） 末端インシアネートのジフェニルメタンジイソシアネー
ト（ＭＤＩ）系ウレタンプレポリマー（日本ポリウレタ
ン製ニッポラン３１１９）２５０部、２ＨＨＭＡ３２．
５部、ハイドロキノン０．０７部、オクチル酸スズ０，
００９部を反応缶にいれ、８０℃に加熱溶解後、ＴＤＩ
　４３．５部を、反応缶内の温度が８０〜９０℃となる
ように冷却しながら滴下し、滴下終了後、８０℃で反応
率９５％以上となるまで反応せしめる。 ｆ）ポリエーテル系末端ウレタン変性エラストマーアク
リル変性体（放射線硬化性エラストマー）の合成 日本ポリウレタン社製ポリエーテルＰＴＧ−５００，２
５０部、２ＨＨＭＡ３２．５部、ハイドロキノン０．０
０７部、オクチル酸スズ０．００９部を反応缶にいれ、
８０℃に加熱溶解後、ＴＤＩ４３．５部を、反応缶内の
温度が８０〜９０℃となるように冷却しながら滴下し、
滴下終了後、８０℃で反応率９５％以上となるまで反応
せしめる。 ｇ）ポリブタジェンエラストマーアクリル変性体の合成
（放射線硬化性エラストマー）シンクレアペトロケニカ
ル社製低分子量末端水ｔｌ＃１ポリブタジエンボリＢＤ
リクイ−、トレンジンＲ−１５，２５０部、２ＨＥＭＡ
３２．５部、ハイドロキノン０．００７部、オクチル酸
スズ０．００９部を反応缶にいれ、８０℃に加熱溶解後
、ＴＤＩ４３．５部を１反応缶内の温度が８０〜９０℃
となるように冷却しながら滴下し１滴下終了後、８σ℃
で反応率９５％以上になるまで反応せしめる。 高分子には、放射線照射により崩壊するものと分子間に
架橋を起こすものが知られている。 分子間に架橋を起すものとしては、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン、ポリアクリル酸エステル、
ポリアクリルアミド、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、
ポリビニルピロリドンゴム、ポリヒニルアルコール、ポ
リアクリルンがある。 このような架橋型ポリマーであれば、上記のような変性
を特に施さなくても、架橋反応が起こるので、前記変性
体の他に、これらの樹脂はそのまま放射線架橋用トップ
コート樹脂として使用可能である。 さらにまた、この方法によれば溶剤を使用しない無溶剤
型の樹脂であっても、短時間で硬化することができるの
で、このような樹脂をトップコート用として用いること
ができる。 また、官能基としては、水酸基としてアルコール系　、
フェノール系、リン酸系、カルボン酸基として芳香族系
、脂肪族系、スルホン酸基、アミン基、アンモニウム基
等を含有するものも含まれる。　特に官能基を有するも
のの方が強磁性薄膜に対して密着性がよい。 本発明の放射線硬化性樹脂組成物の特に好ましい組合わ
せとしては、 （Ａ）の化合物として、一部ケン化したカルボン酸が導
入された塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル
−酢酸ビニル−ビニルアルコール−マレイン酸共重合体
、エポキシ、フェノキシ樹脂（好ましくはフタル酸、イ
ソフタル酸、テレフタル酸、アジピン酸、セ／ヘンン酸
等のカルボン酸を導入したもの）にポリイソシアネート
化合物を反応させて得られたインシアネート基を有する
化合物に、イソシアネート基との反応性を有する官能基
をもつアクリル化合物、あるいはメタクリル化合物を反
応させてなる化合物である。 （Ｂ）の化合物としては、ポリオールにインシアネート
化合物を反応させて得られた、インシアネート化合物ま
たはポリオール（ポリウレタンエラストマー、好ましく
はＯＨ，Ｃ０ＯＨ基が導入されたもの）に、反応性を有
する官能基をもつアクリル化合物あるいはメタクリル化
合物を反応させてなる化合物である。 （Ｃ）の化合物としては多官能（メタ）クリレートモノ
マー、オリゴエステルアクリレート、または（Ｂ）の低
分子量化合物というものである。 そして、これらの組あわせも含まれる。 このような放射線硬化型化合物を用いることにより、強
磁性薄膜との付着性がよく、トップコート層がポリマー
により補強され、塗膜の破断強度が上り、塗膜の強化が
為され、トップコート削れが少なく、かつ高率走行での
耐久性が改善できる。 そこで、ドロップアウトの少ない、かつロール状に巻き
取った形での硬化の際の巻きしまりのない、長さ方向で
均一の特性を有する磁気記録媒体が得られる。 ポリマーがない場合、高温走行でのストー／プを生じ、
ケズレが大であり、付着が生しる。 また、放射線硬化型ポリマーを用いると。 トップコート層の製造上、連続処理が回旋であり、オン
ライン上で処理できるので、省エネルギー、コストの低
減に役立つ。 本発明で用いられる酸化防止剤としては、通常の酸化防
止剤剤が用いられ、これらは、■）フェノール系酸化防
止剤 ２）アミン系酸化防止剤。 ３）リン系酸化防止剤、 ４）硫黄系酸化防止剤、 ５）有機酸、アルコール、エステル系酸化防止剤。 ６）キノン系酸化防止剤、 ７）無機酸、無機塩系酸化防止剤のように構造的に大別
される。 上記、各種酸化防止剤の具体例を挙げると、 １）フェノール系酸化防止剤としては、２．６−ジー第
三ブチル−ｐ−フレソール、２．６−ジー第三ブチル−
フェノール、２．４−ジ−メチル−６−第三ブチル−フ
ェノール、プチルヒトロキ゛シアニンール、２．２′−
メチレンビス（４−メチル−６−第三ブチルフェニル）
、４．４′−ブチリデンビス（３−メチル−６−第三ブ
チルフェノール）、 ４．４′−チオビス（３−メチル−６−第三ブチルフェ
ノール）、テトラキス〔メチレン−３（３、５−ジー第
三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネートコ
メタン、■、１゜３−トリス（２−メチル−４−ヒドロ
キシ−５−第三ブチルフェニル）ブタン、ジブチルヒド
ロキシトルエン、没食子酸プロピル、グアヤク脂、ノル
ジヒドログアヤレチン酸等がある。 放射線硬化型としては、モノグリコールサリチレート、
２．５−ジ第三ブチルハイドロキ／ン、２．４−ジヒド
ロキシヘンシフエノン、２．４．５−）リヒドロキシブ
チロフェノン、ハイドロキノン等のメタクリレート、ア
クリレート、ビニルタイプが挙げられる。 ２）アミン系酸化防止剤としては、フェニル−β−ナフ
チルアミン、α−ナフチルアミン、Ｎ、Ｎ”　−ジー第
ニブチルーＰ−フェニレンシアミン、フェッチアシン、
Ｎ　、　Ｎ′　−ジフェニル−Ｐ−フェニレンシアミン
の他、アルカノールアミン、リン脂質等が挙げられる。 アミン系でもジメチルアミノエチルメタクリレート、ア
クリレートあるいはビニルタイプ等の放射線硬化可能の
ものが放射線硬化型として挙げられる。 ３）リン系酸化防止剤としては。 放射線硬化型あるいは放射線硬化型でないものが用いら
れ、リン酸エステル部分のＲとしてはアルキル基、アル
キルフェニル基、その他醜化エチレン、酸化プロピレン
を含有し、そのＲとしてＣが１〜２６が好ましく、さら
に好ましいのは１〜２２である。 リン酸エステルとしては、モノ、シ、トリのものが含ま
れ、モノあるいはジの成分が多いものであってもよく、
トリタイプのものはカフ）されていてもよい。 また、リン酸エステルは、ＮＨ４タイプのものおよびメ
タクリレートタイプ、アクリレート、ビニルタイプのも
のも含まれる。 具体的には、トリフェニルホスファイト、トリオクタデ
シルホスファイト、トリデシルホスファイト、トリラウ
リルトリチオホスファイト等の亜すン酩エステルや、ヘ
キサメチルホスホリックトリアミド、ブチルホスフェー
ト、セチルホスフェート、ブトキシエチルホスフェート
、２−エチルへキシルホスフェート、β−クロロエチル
ホスフェート、ブトキシエチルホスフェートジエチルア
ミン塩、シ（２−エチルヘキシル）ホスフェート、エチ
レングリコールアシッドホスフェート、（２−ヒドロキ
シエチル）メタクリレート・ホスフェート、ブチルヒド
ロキシメタクリレート・ホスフェート、カプリルジヒド
ロキシメタクリレート拳ホスフェート、ミリスチルヒド
ロキシメタクリレート−ホスフェート、ステアリルヒド
ロキシメタクリレート・ホスフェート、セチルヒドロキ
シメタクリレート・ホスフェート、ブチルフェニルヒド
ロキシメタクリレート・ホスフェート、アミルフェニル
ヒドロキシメタクリレート・ホスフェート、ノニルフェ
ニルヒドロキシメタクリレート・ホスフェート、および
これらの７クリレートタイプ、フェニルホスフェート、
その他のアルコール、およびノニルフェニル等のフェニ
ルホスフェート、バナジウム系酸性リン酸エステル等の
リン酸エステルが挙げられる。 ４）硫員系酸化防止剤としては、 ジラウリルチオジプロピオネート、ジステアリルチオジ
プロピオネート、ラウリルステアリルチオジプロピオネ
ート、ジミリスリルチオジブロピオネート、ジステアリ
ルβ、β′−チオブチレート、２−メルカプトヘンソイ
ミタゾール、ジラウリルサルファイドの他、４．４′　
−チオ−ヒス（３−メチル−６−第三ブチル−フェノー
ル）、２．２′−チオ−ビス（４−メチル−６−第三ブ
チル−フェノール）等のメタクリレート、アクリレート
等の放射線硬化型が挙げられる。 また、これらは酸化エチレン、酸化プロピレンを含有し
ていてもよい。 ５）有機酸、アルコール、エステル系酸化防止剤として
は、 ソルビトール、グリセリン、プロピレングリコール、ア
ジピン酸、クエン酸、アスコルビン酸等が挙げられ、こ
れらの放射線硬化型であってもよい。 ６）ギノン系醸化防止剤としては、 ヒドロキノン、トコフェロール等カアリ、これらの中で
放射線硬化型であってもよい。 ７）無機酸、無機塩系酸化防止剤としては、リン酸がそ
の代表例として挙げられる。 」−記酸化防止剤の中でも、強磁性薄膜への裏型転写を
抑えうるという点から、分子中にアクリル系二重結合を
有する放射線硬化型のもの、例えば、モノグリコールサ
リチレートメタクリレート（アクリレート）、４−第三
ブチルカテコールメタクリレート（アクリレート）、ジ
メチルアミノエチルメタクリレート（アクリレート）、
エチルヒドロキシメタクリレート（アクリレート）ホス
フェート、セチルヒドロキシホスフェートメタクリレー
ト（アクリレート）、ステアリルメタクリレート　（ア
クリレート）ホスフェート、および上記のもののフェニ
ルタイプのもの、２．２′チオ−ビス（４−メチル−６
−第三ブチル−フェノール）メタクリレート（アクリレ
ート）等が好ましい。 リン酸エステルの製法としては公知の方法で行われるが
、特公昭５７−４４２２３号公報記載の方法も挙げられ
る。 放射線硬化型防止剤では、強磁性薄膜へのオンライン硬
化ができるため、熱硬化時の巻きしまりによる裏型転写
による表面性の劣化がなく、そのため出力の低下がない
。 強磁性薄膜上のトップコートは、１０〜１００Å以下が
望ましく、より好ましくは１０〜５０人である。　　　
１０人より下ではトップコートの効果かえられず、これ
以上厚くすると型持の低下や目づまりを生じる。 そして、ドロップアウトの防止、ロール状に巻かれたと
きの内外径の個所による出力差の減少といった特性上の
効果の他、オンライン上での製造が可能といった処理上
の効果をもあげうるものである。 本発明で必要に応し用いられる潤滑剤とじては、従来こ
の種の磁気記録媒体に用いられる潤滑剤として、シリコ
ンオイル、フッ素オイル、脂肪酸、脂肪酸エステル、パ
ラフィン、流動パラフィン、界面活性剤等を用いること
ができるが、脂肪酸および／または脂肪酸エステルを用
いるのが好ましい。 脂肪酸としては、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸
、ミリスチン酸、パルミチン酸、スーｒ７リン酸、ベヘ
ン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リルン
酸、ステアロール酸等の炭素数１２以上の脂肪酸（ＲＣ
ＯＯＨｌＲは炭素数１１以上のアルキル基）である。 脂肪酸エステルとしては、炭素ＩＱ１２〜１６個の一塩
基性脂肪酸と炭素数３〜１２個の一価のアルコールから
なる脂肪酸エステル類、炭素数１７個以上の一塩基性脂
肪酸と脂肪酸の炭素数と合計して、炭素数が２１〜２３
個よりなる一価のアルコールとからなる脂肪酸エステル
等が使用される。 シリコーンとしては、脂肪酸変性よりなるもの、一部フ
ッ素変性されているものが使用される。 アルコールとしては高級アルコールよりなるもの、フッ
素としては電解置換、テロメリゼーション、オリゴメリ
ゼーション等によって得られるものが使用される。 潤滑剤の中では、放射線硬化型のものも使用して好都合
である。 これらは強磁性薄膜への裏型転写を抑えるため、ドロッ
プアウトの防止、ロール状に巻かれたときの内外径の個
所よる出力差の減少の他、オンライン上での製造が可能
である等の利点を持つ。 放射線硬化型潤滑剤としては、滑性を示す分子鎖とアク
リル系二重結合とを分子中に有する化合物、例えばアク
リル酸エステル、メタクリル酸エステル、ヒニル酢酸エ
ステル、アクリル酸アミド系化合物、ビニルアルコール
エステル、メチルビニルアルコールエステル、アリルア
ルコールエステル、グリセライド等がある。 これらの潤滑剤を構造式で表すと、 ＣＨ２＝　ＣＨ−ＣＨ２ＣＯＯＲ１ ＣＨ２＝ＣＨＣ０ＮＨＣＨ２０ＣＯＲ （！：）（２０ＣＯＲ ＲＣＯＯＣＨ＝ＣＨ２、 ＲＣＯＯＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ２等がある。 ここで、Ｒは直鎖または分枝状の飽和もしくは不飽和炭
化水素基で、炭素数は７以上、好ましくは１２以上２３
以下であり、これらはフッ素置換体とすることもできる
。 フッ素置換体としては。 Ｃｎ　Ｆ　２　ｎ＋１−１ＣｎＦ　　　　（ＣＨ２）１
１−（ただし、ｍ＝１−６） Ｃｎ　Ｆ　２ｎ＋Ｉ　Ｓ　Ｏ２Ｎ　ＣＨ２ＣＨ２−１Ｃ
ｎＦｎＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＨ２ＣＨ２−１Ｃｒｆ２ｎ−
、Ｏ＜Σ１２°ト 等がある。 これら放射線硬化型潤滑剤の好ましい具体例としては、
ステアリン酸メタクリレート（アクリレート）、ステア
リルアルコールのメタクリレート　（アクリレート）、
グリセリンのメタクリレート（アクリレート）、グリコ
ールのメタクリレート（アクリレート）、シリコーンの
メタクリレート　（アクリレート）、ステアリン酸ビニ
ル、ミリスチン酸ビニル等が挙げられる。 強磁性薄膜表面に放射線硬化型ポリマー、千ツマ−、オ
リゴマーの１挿具」二と、酸化防止剤と、必要に応じ潤
滑剤とを含むトップコート層を設ける方法としては、前
記添加剤を溶剤で希釈して、強磁性金属薄膜上に薄く塗
布したり、添加剤を大気中、不活性ガス中、あるいは真
空中で気化せしめて、その蒸気を強磁性金属表面に当て
るなどの手段があり、これらを適用することができる。 このとき、放射線硬化型化合物、酸化防止剤、潤滑剤を
混合塗布して硬化したり、まず放射線硬化型ポリマー、
モノマー、オリゴマー、酸化防止剤を塗布、硬化後、こ
の塗布膜上に前記潤滑剤を塗布、あるいは蒸着して塗布
膜あるいは蒸着膜を形成することができる。 前記添加剤の塗布に当っては、溶剤を用いて行うことが
でる。 また、前記添加剤の蒸着は、添加剤を大気中、不活性ガ
ス中、あるいは真空中で気化せしめてその蒸気を、膜を
形成すべき物質の表面にあてて行うものである。 添加剤の薄着法によるものでは、その膜の表面が均一と
なり、出力波形が良好なものが得られる。 本発明のトップコート層における放射線硬化型化合物、
酸化防止剤、潤滑剤の使用割合は、放射線硬化型化合物
二酸化防止剤＝１０：９０〜９０：１０、好ましくは３
０　：　７０〜７０：３０（重量）、潤滑剤は放射線硬
化型化合物二酸化防止剤１００重量部に対し、３０重量
部以下、特に０．５〜３０重量部である。 本発明において、トップコート層に前記の放射線硬化型
化合物を含有することによりトップコート層が補強され
、削れが少なくなる。 また、酸化防止剤を含有することにより、防錆効果が著
しく、ざらに潤滑剤を含ませることにより、磁性層の表
面の摩擦抵抗が低下するという効果が実現し、走行安定
性、耐久性の優れたドロップアウトの減少した磁気記録
媒体を得られる。 また、本発明のトップコート層に用いる放射線硬化型添
加剤の架橋に使用する活性エネルギー線としては、放射
線加速器を線源とした電子線、Ｃｏ６０を線源としたγ
−線、５ｒ９０を線源としたβ−線、Ｘ線発生器を線源
としたＸ線あるいは紫外線等が使用される。 特に照射線源としては吸収線量の制御、製造工程ライン
への導入、電離放射線の遮蔽等の見地から放射線加熱器
により放射線を使用する方法が有利である。 トップコート層を硬化する際に使用する放射線特性とし
ては、透過力の面から加速電圧１ＯＯ−７５０ＫＶ、好
マシくは１５０−３００ＫＶ１７）放射線加速器を用い
吸収線量を０．５〜２０メカラツトになるように照射す
るのが好都合である。 本発明の放射線硬化に際しては、米国エナージーサイエ
ンス社にて製造されている低線量タイプの放射線加速器
（エレクトロカーテンシステム）等が、テープコーティ
ング加エラインへの導入の加速器内部の２次Ｘ線の遮蔽
等にきわめて有利である。 また、従来より放射線加速材として広く活用されている
ところのファンデグラフ型加速器を使用してもよい。 また、放射線架橋に際しては、Ｎ２ガス、Ｈｅガス等の
不活性ガス気流中で、放射線をバックコート層、トップ
コート層に照射することが重要であり、空気中で放射線
を照射することは、バインダー成分の架橋に際し、放射
線により生じた０３等の影響でポリマー中に生じたラジ
カルが有利に架橋反応に働くとこを阻害するのできわめ
て不利である。 従って、活性エネルギー線を照射する部分の雰囲気は、
特に酸素濃度が最大で５％であるＮ２　、Ｈｅ　、ＣＯ
２等の不活性ガス雰囲気に保つことが重要となる。 本発明において、バックコート層は必要ないが、バック
コート層があれば走行性がさらに安定し好ましい。　バ
ックコート層は通常用いられる無機顔料、潤滑剤、有機
バインダーからなるものである。 本発明のトップコート層には、光重合増感剤を加えるこ
とにより、紫外線硬化を行うこともできる。 光重合増感剤としては従来公知のものでよく１例えば、
ベンゾインメチルエーテル１．ベンゾインエチルエーテ
ル、α−メチルベンゾイン、α−クロルデオキシヘンゾ
イン等ノベンソイン系、ベンゾフェノン、アセトフェノ
ン、ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等のケトン類
、アントラキノン、フェナントラキ／ン等のキノン類、
ベンジルジスルフィド、テトラメチルチウラムモノスル
フィト等のスルフィト類、等を挙げることができる。 光重合増感剤は固形分に対し、０．１−１０重量％の範
囲が望ましい。 他方、用いる磁気ヘットは、種々のものが使用できる。 この場合、磁気ヘッドとしては、少なくもキャップ部端
面を金属磁性体で構成したものであることが好適である
。 これにより、きわめて良好な電磁変換特性が得られ、し
かも走行が良好となり、ヘッド付着やヘッド［」づまり
も良好となる。 この場合、コア全体を金属強磁性体から形成することも
でき、必要に応じ、ギャップ部端面を含むコアの一部を
金属強磁性体から形成することもできる。 第１図には、例えばフェライト等の強磁性体からなるコ
ア半休２１．２２のギャップ部端面に１〜５１ｔｍ程度
の厚さの金属強磁性体３１゜３２をスパッタリング等に
より被着し、ガラス質等のギャ７プ４を介してコア半休
２１．２２をつきあわせて磁気へラド１を構成した例が
示される。 そして、その形状、構造等は公知のものであってよい。 ただ、キャップ長ａは、前記のとおり、通常、０．１〜
０．５川。、特に０．１〜０．４μｍ、またトラック幅
は、通常、１０〜５０−ｍ、特に１０〜２０用ｍとする
。 用いる金属強磁性体としては、種々のものが可能であり
、非晶質磁性金属、センダスト、ハートパーマロイ、パ
ーマロイ等の薄膜、薄板等はいずれも使用可能である。 ただ、これらのうちで、ヘット目づまりないし付着が特
に少なく、電磁変換特性が良好なのは、ＣＯを主成分と
する非晶質磁性合金である。 このような非晶質磁性合金としては、Ｃｏ７０〜９５ａ
ｔ％で、ガラス化元素として、Ｚｒ。 Ｎｂ、Ｔａ、Ｈｆ、Ｓｔ、Ｂ、Ｐ、Ｃ，ＡＭ等、特にＺ
ｒおよび／またはＮｂを５〜２０８ｔ％含有するものが
好適である。 あるいは、Ｃ０６５〜８５ａｔ％で、ガラス化元素とし
て、Ｓｉおよび／またはＢを１５〜３５ａｔ％含有する
ものも好適である。 これらの場合、さらに１０ａｔ％以下のＦｅ、２５ａｔ
％以下のＮｂ、総計２０ａｔ％以下のＣｒ　、　Ｔ　ｉ
　、　Ｒｕ　、　Ｗ　、　Ｍ　ｏ　、　Ｔ　ｉ　、　Ｍ
　ｎ等）１種以上が含有されていてもよい。 これら非晶質磁性合金は、スパッタリングや高速急冷法
等を用いて、コア半体ないしギャップ部等として形成さ
れる。 なお、センダストを用いて作製したヘッドを用いた場合
は、上記の場合に比して本発明のヘッド目づまり減少の
効果が少ない。 このような磁気ヘッドを用いて、前記した媒体に対して
記録再生を行うには、いわゆるＶＨ８Ｈ８式、ベータ方
式、８ｍｍビデオ方式、Ｕ規格方式等公知のビデオ録画
システムに従えばよい。　　中 ■　発明の具体的作用効果 本発明によれば、走行摩擦が安定して小さくなる。。 また、走行耐久性が格段と向上し、多数回走行後も走行
摩擦の増大がなく、くりかえし録画、再生回数が格段と
向上し、スチル特性が格段と向」ニする。 そして、走行安定性も高く、高温多湿から低温低湿まで
、ｌ］広い条件丁できわめて高い安定性を示す。 さらに、スペーシングロスにもとづく再生出力もきわめ
て小さい。 また、ノイズもきわめて少ない。 そして、ヘットの目づまりやヘッドの付着もきわめて少
ない。 このような効果は、最低記録波長１μｍ未満の高密度記
録において、より一層高い効果を発揮する。 ■　発明の具体的実施例 以ドに本発明の実施例を示す。 実施例１ 実質的に微粒子を含まない平滑なポリエステルフィルム シリカを塗ＩＩ＋　Ｌ、微小突起を有する基板を得た。 　突起高さは約１５０人、突起密度は約】Ｏｑ個／ｍｚ
２であった。 （１）　ＬＩＬ燵二月１ 倉げ１曹Ｉ」 一１−記ノ．（板を円筒」−冷却キャンの周面に沿わせ
て移動させ、０２＋Ａｒ（容積比１・ｌ）を毎分８００
ｃｃの早さで流し、真空度を１　、　Ｏ　Ｘ　１　０−
’Ｔｏｒｒとしたチャンバー内で、Ｃｏ８０，Ｎｉ２０
よりなる合金を溶融し、入射角９０°〜３０°の部分の
み斜め基若し、膜厚０．１５μｍのＣｏ−Ｎｉ−０薄膜
を形成した。 酸素はベースとの界面およびベースと反対側の表面に多
く偏在していた。 また、ベータと反対側の表面は、はぼ酸化物のみの覆わ
れていた。 Ｈｃ＝１０００　　０ｅ。 膜中のモ均酸素量は、ＣｏとＮｉに対する原子比 （−−−−　　Ｘ’ｌＯＯ） ＣｏＮｉ で４０％であった。 強ｊ１１１１先ヱ 上記基板を円筒状冷却キャンの周面の沿わせて移動させ
、真空度を５　、　ＯＸ　Ｉ　Ｇ’Ｔｏｒｒとしたチャ
ンバー内で、　　　　　　１の場合と同様に蒸着した。 膜厚は、０　１５鉢ｍで、実質的にＣｏ−Ｎｉよりなる
。 このテープを９０°Ｃ、２０％ＲＨ雰囲気中で強ルｊ酸
化し、そのベースと反対側の表面を酸化物のみとした。 Ｈｃ＝９００　　０ｅ。 膜中の平均酸素量は、ＣＯとＮｉに対する原子化で４５
％であった。 １直丘１１」 酸素による酸化工程を省略した以外は１強乱１獲Ｉ」と
同様に、厚さ１２ルｍの上記基板を円筒状冷却キャンの
周面に沿わせて移動させ、真空度を５．０ＸｌＯモＴｏ
ｒｒとしたチャンへ−内で、　　　−，１の場合と同様
に蒸着した。 膜厚は０．１５μｍで実質的にＣｏ−Ｎｉよりなるもの
であった。 Ｈｃ＝９５００ｅ。 （２）トップコート層の形成 トップコート組成 トップコート組　１　　　　　　　　　手置部２．６ジ
第三ブチルｐ−クレゾール　　１．６アクリル変性塩ビ
一酢ビーヒニルアルコール共重合体（マレイン酸含有）
分子量２００００ＭＥＫ　　　　　　　　　　　　　　
　　　ｔｏ。 トップコート、１−″２ モノゲルコールサリチレート アクリレ−１−３ 工ポキシ変性体（コハク耐含右）分子量６０００ミリス
チン酎　　　　　　　　　　　　　　０３ミリスチルア
ルコールの メタクリレート　　　　　　　　　　　　１０ＭＥＫ／
ｌルエン（１／ｌ）　　　　　　　　　１００トツプコ
ート、　３ ンメチルアミノメタクリレート　　　　　　ｌフェノキ
シ変性体　分子量３００００　　　０　、６アクリル変
性ポリウレタン工ラストマー分子量４０００　　　　０
　、６ フツ素（電解法）０．３ ＭＥＫ／）ルエン（＋／Ｉ）　　　　　　　　　ｌ　Ｏ
Ｏトップコート層の°゛′−ム」辷ｙ」Ｌ淋１　トップ
コート層１は、強磁性薄膜上に、トップコート組成ｌを
そのまま塗布し、加速電圧１５０ＫｅＶ、電極電流６　
ｍＡ、３　Ｍｒａｄ、　Ｎ　２カス中で照射を行った。 １１便厚は２０人であっｔこ。 ２、ト、プコーｉ・層２は、強磁性薄膜上に、トンブコ
−１・組Ｊ＆２を塗布し、加速電圧１５０ＫｅＶ、電極
型ｉＱ６ｍＡ、　３Ｍｒａｄ、　Ｎ２ガス中で照射を行
った。 膜Ｊゾは５０人であった。 ３、トップコート層３は、強磁性薄膜」二に、トンプコ
ート組成３を塗布し、加速電圧１５０ＫｅＶ、電極電流
１０ｍＡ、５　Ｎｒａｄ、Ｎ２カス中で照射を行った。 膜厚は４０人であった。 ４　、　）　、＝仁り一ニニニニＬ才ＬＡ　　　　　　
　　市星部ａ　ジメチルアミノエチルメタクリレート　
１工ポキシ変性体　分子量８００００　　０．５アクリ
ル変性ポリウレタン工ラウドマー分子ｊｊ５０００　　
　０　、５ ＭＥＫ／ｌルエン（１／ｌ）　　　　１００このものを
強磁性→膜上に塗布、加速電圧１５０ＫｅＶ、電極電流
１０ｍＡ、５　Ｍｒａｄ、　Ｎ　２カス中で照射を行っ
た。 その上に、 ｂ、ステアリルメタクリレ−１，０、３フツ素オイル（
テロメリセ゛−ジョン法）０．２ ＭＥＫ　　　　　　　　　　　　　　　１００を塗ＩＩ
ｊＬ、、加速電圧１５０ＫｅＶ、電極電流４ｍＡ、２　
Ｍｒａｄ、Ｎ　２カス中で照射を行った。 膜厚は５０人であった。 ５、トップコート８５ 強磁性膜」−のトンプコート組成４のａの上に４　Ｘ　
１．０　’　Ｔｏｒｒの条件の雰囲気中でステアリルア
ルコールを吸着させた。 膜厚は３０人であった。 ６　トップコート　６ 強磁性膜」、のトップコート組成４のａの」−に、　　
４Ｘ　１０−３Ｔｏｒｒの条件の雰囲気中でフッ素変性
オイルを吸着ｙせた。 膜厚は２０人であった。 比較用トップコート１ １・ツブコートｌの組成の中から放射線硬化型ポリマー
を除き、その除いた分量だけ酸化防止剤の分量をふやし
たものである。 １゛　　　　　　　ト　・　　プ　コ　−　ト　　２ト
、プコート３の組成の中から放射基硬化型のポリマーを
除き、その除いた分量だけ酸化防止剤の分与を増したも
のである。 これらの磁気記録媒体および比較例の特性を次の表に示
す。 これら強磁性体薄膜およびトップコート膜を用いて表１
に示される媒体を作成した。 特性を表１に示す。 なお５用いた磁気へνＦは、第１図に示されるものであ
り、キャップ長０．２５μｍ、）ラック長２０μｍのも
のである。 この場合、コア半休２１．２２はフェライト製、キャッ
プ端面は、スパッタリングにより形成した３　０　メＬ
ｍ厚（７）　８０　Ｃｏ　−１０Ｎ　ｉ　−１０Ｚｒ（
原子比）であり、ギャップ材はガラスとした。 なお、に２特性の測定方法について、以下に記す。 １、メチル特性 ５ＭＨｚで記録し、再生出力のスチル特性を測定する。 １０分以上をＯＫレベルとする。 ２、ｉｉａ性面側面側摩擦 測定テープがシリンター側に来るように巻きつけ、一方
の端面に２０ｇの負荷をかけ、シリング−を９０°回転
したときの張力変化を読みとって摩擦測定をする。 ３、突起観察 ＳＥＭ（走査型電子ｍ微鏡）およびＴＥＭ（透過型電子
顕微鏡）を使用 ４、出力 中心周波数５ＭＨｚで記録、再生した場合のＳＺＮ比（
相対（ｆｉ　）を示す。 ＶＨ３（７）ＶＴＲを改造し、５ＭＨｚまで測定できる
ようにする。 ５、目づまり 出力測定に用いたデツキを用い、所定回走行時の目づま
りを計測した。 ６　、　ヘ　ン　ド　イ・１　才？ テープを５０パス走行後、光学顕微鏡で観察した。 ７、ガイド伺着 テープを５０バス走行後、光学顕微鏡で観察゛した。 ８、トンブコート面削れ 一般市販（７）ＶＨ３方式ＶＴＲを改造し、４゜０Ｃ１
６０％走行にて５０回走行後のトップコート面削れを観
察する。 実施例２ トンプコート膜は、実施例１の且ユｌ−ｒユ」組人」を
用い、磁性膜製造条件は実施例１の強組１藤玉」を用い
て、磁性膜表面の突起高さおよび密度と特性の関係を表
２に示した。 なお、最短記録波長０．７ＡＬｍの信号を用いて実験を
行った。 また、これらの磁性層表面は、オージェ分光分析の結果
、１００〜２００人の酸化物層で覆われていることがわ
かった。 へ、トは、実施例１と回しものを用いた。 また、比較用として、同トラック長、同キャンプ長のフ
ェライト製磁気ヘッドを用いｌこ。 なお、上記実施例では、無４＃！微粒イとして。 コロイタルシリ力を用いたが、他の物質、例えばアルミ
ナゾル、チタンブランク、ジルコニアあるいは各種ヒド
ロシル等を用いてもよいことは言うまでもない。 なお、Ｃｏ−Ｆｅ−Ｒｕ−Ｃｒ−３ｉ　−Ｂ系非晶質を
用いて作製したヘッドを用いた場合も、同様の結果かえ
られた。 また、センダストを用いて作製したヘノドを用いた場合
は、」二足の場合に比へて効果が少なかった。 表　　　　　２ １　　　　５０　　２Ｘ１０８　　　非晶質　　　＋２
．０　　小２　　　　５０　　５Ｘ１０７　　　非晶質
　　　＋１．８　　　無３　　　　ｔｏｏ　　　４Ｘｌ
Ｏ［＋　　　非晶質　　　＋１．８　　　無５　　　１
００　　２Ｘ１０８　　　非晶質　　　＋１．５　　　
無６　　　２００　　３Ｘ１０ａ　　　非晶質　　　＋
１．６　　　無８　　　２００　　３Ｘ１０８　　　非
晶質　　　＋１．２　　　無９　　　３００　　２Ｘｌ
−０６非晶質　　　＋１．５　　　小＋０　　　３００
　　３Ｘ１０７　　　非晶質　　　＋１．３　　　無Ｉ
Ｉ　　　　３００　　３Ｘｉ０８　　　非晶質　　　＋
０．７　　　小１２−　　　　−　　　　　非晶質　　
　＋１．５　　　大１３　　１０００　　３Ｘ１０８　
　　非晶質　　　−７，５大

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明に用いる磁気ヘッドの１例を示す正面
図である。 １、　　・・・・磁気ヘッド。 ２１．２２・・・・コア半休。 ３１．３２・・・・金属強磁性体。 ４　　・・・・ギャップ

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. （１）可とう性基板上にＣｏを主成分とする強磁性金属
   薄膜層を設け、さらにこの強磁性金属薄膜層表面に有機
   物トップコート層を設けた磁気記録媒体において、 有機物トップコート層が放射線硬化型化合物と、酸化防
   止剤または酸化防止剤および潤滑剤とを含有し、 かつ強磁性金属薄膜層が酸素を含んでおり、さらに、磁
   気ヘッドのギャップ長をａμｍとしたとき、媒体表面が
   １ｍｍ＾２当り平均１０＾５／ａ＾２以上の突起を有し
   、しかもこの突起が３０〜３００Åの高さを有すること
   を特徴とする磁気記録媒体。
2. （２）可とう性基板が高分子からなり、この基板上に径
   が３０〜３００Åの大きさを有する微粒子を配設し、そ
   の上に強磁性金属薄膜層および有機物トップコート層を
   設けてなる特許請求の範囲第１項に記載の磁気記録媒体
   。
3. （３）強磁性金属薄膜が、表面に強磁性金属の酸化物の
   層を有する特許請求の範囲第１項または第２項に記載の
   磁気記録媒体。
4. （４）トップコート層の酸化防止剤が放射線硬化型のも
   のである特許請求の範囲第１項ないし第３項のいずれか
   に記載の磁気記録媒体。
5. （５）トップコート層の潤滑剤が放射線硬化型のものを
   含むものである特許請求の範囲第１項ないし第４項のい
   ずれかに記載の磁気記録媒体。
6. （６）トップコート層の厚みが１０〜１００Åである特
   許請求の範囲第１項ないし第５項のいずれかに記載の磁
   気記録媒体。
7. （７）磁気ヘッドのギャップ長ａが、０．１〜０．５μ
   ｍである特許請求の範囲第１項ないし第６項のいずれか
   に記載の磁気記録媒体。
8. （８）可とう性基板上にＣｏを主成分とする強磁性金属
   薄膜層を設け、かつ強磁性金属薄膜層表面に有機物トッ
   プコート層を設けた磁気記録媒体と磁気ヘッドとを用い
   て記録、再生を行う磁気記録方法において、 有機物トップコート層が放射線硬化型化合物と、酸化防
   止剤または酸化防止剤および潤滑剤とを含有し、 かつ強磁性金属薄膜層が酸素を含んでおり、さらに磁気
   ヘッドのギャップ長をａμｍとしたとき、媒体表面が１
   ｍｍ＾２当り１０＾５／ａ＾２個以上の突起を有し、し
   かもこの突起が３０〜３００Åの高さを有することを特
   徴とする磁気記録方法。
9. （９）磁気ヘッドの少なくともギャップ部端面が金属強
   磁性体で構成されている特許請求の範囲第８項に記載の
   磁気記録方法。
10. （１０）金属強磁性体が、Ｃｏを主成分とする非晶質磁
    性合金である特許請求の範囲第９項に記載の磁気記録方
    法。
11. （１１）磁気ヘッドのギャップ長ａが０．１〜０．５μ
    ｍである特許請求の範囲第８項ないし第１０項のいずれ
    かに記載の磁気記録方法。