JPS6139921A - 磁気記録媒体および磁気記録方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

■　発明の背景 技術分野 本発明は、磁気記録媒体、特に金属薄Ｆｌ型の磁気記録
媒体と磁気記録方法に関する。 先行技術とその問題点 ビデオ用、オーディオ用等の磁気記録媒体として、テー
プ化して巻回したときのコンパクト性から、金属薄膜型
の磁性層を有す−るものの開発が活発に行われている。 このような金属薄膜型の媒体の磁性層としては、特性上
、基体法線に対し所定の傾斜角にて蒸着を行う、いわゆ
る斜め蒸着法によって形成したＣｏ系、Ｃｏ−Ｎｉ系等
からなる蒸着膜が好適である。 このような媒体は、スペーシングロスによる特性低下が
大きいので、その表面をできるだけ平滑化する必要があ
る。 しかし、あまり表面を平坦にすると、摩擦が大きくなり
、ヘッドタッチ、走行面で支障が出る。 ところで、金属薄膜型の媒体では、磁性層が０．０５〜
０．５７Ｌｍと非常にうすいため、媒体の表面性は基板
の表面性に依存する。 このため、基板表面に比較的なだらかないわゆるしわ状
、ミミズ状等の突起を設ける旨が提案されている（＃開
閉５３−１１８１１５号等）。 また、特開昭５８−８８２２７号、同５８−１（３０２
２１号には、基体表面に微粒子を配設して、光学顕微−
で５０〜４００倍で観察でき、しかも触針式表面粗さ測
定装置で高さが実測できる凹凸を設ける旨が提案されて
いる。 しかし、これらでも、走行摩擦、耐久走行性、走行安定
性等の物性や、電磁変換特性の点で未だ不十分である。 一方、特公昭３８−２５２４８号等には、強磁性金属薄
膜層表面に、有機物潤滑剤からなるトップコート層を設
け、走行摩擦を低減する旨が提案されている。 しかし、有機物潤滑剤を用いるときには、潤滑剤のヘッ
ドへの付着、ヘッド目づまりが発生し、実用上大きな問
題となる。 すなわち、現状では、走行摩擦を下げ、しかも走行面で
支障の出ない範囲で、ヘッド付着。 ヘッド目づまりを解消し、かつ電磁変換特性の面でも不
都合の生じない技術は未だ実現していない。 ｎ　　発明の目的 本発明の目的は、金属薄膜型の磁気記録媒体と、それを
用いた磁気記録方法において、摩擦、耐久走行性、走行
安定性等の物性を改良し、しかも物性面で支障のない範
囲でヘッド付着や目づまりを解消し、かつ電磁変換特性
の面でも何ら不都合が生じないようにすることにある。 このような目的は、下記の本発明によって達成される。 すなわち第１の発明は 可どう性基板上にＣｏを主成分とする強磁性金属薄膜層
を設け、さらにこの強磁性金属薄膜層表面に有機物トッ
プコート層を設け、しかも他方の面にバックコート層を
設けた磁気記録媒体において、 有機物トップコート層が放射線硬化型化合物と、酸化防
止剤または酸化防止剤および潤滑剤とを含有し、バック
コート層が無機顔料、有機バインダーおよび潤滑剤を含
有し、かつ強磁性金属薄膜が酸素を含んでおり、さらに
磁気ヘッドのギャップ長をａとしたとき、媒体表面が１
１＋ＩＮ２当り平均１０５／ａ２以上の突起を有し、し
かもこの突起が３０〜３００人の高さを有することを特
徴とする磁気記録媒体である。 また、第２の発明は 可とう性基板上にＣｏを主成分とする強磁性金属薄膜層
を設け、かつ強磁性金属薄膜層表面に有機物トップコー
ト層を設け、しかも他方の面にバックコート層を設けた
磁気記録媒体と、磁気ヘッドとを用いて記録、再生を行
う磁気記録方法において、 有機物トップコート層が放射線硬化型化合物と“、酸化
防止剤または酸化防止剤および潤滑剤とを含有し、バッ
クコート層が無機顔料、有機バインダーおよび潤滑剤を
含有し、かつ強磁性金属薄膜層が酸素を含んでおり、さ
らに磁気ヘッドのギャップ長をａＩＬｍとしたとき、媒
体を表面が１　ｍｍ２当り平均１０６７ａ２個以上の突
起を有し、しかもこの突起が３０〜３００人の高さを有
することを特徴とする磁気記録方法である。 ■　発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。 本発明における磁性層としての強磁性金属薄膜層は、Ｃ
ｏを主成分とし、これに０を含み、さらに必要に応じＮ
ｉおよび／またはＣｒが含有される組成を有する。 すなわち、好ましい態様においては、Ｃｏ単独からなっ
てもよく、ＣｏとＮｉからなってもよい。　Ｎｉが含ま
れる場合、Ｃｏ　／　Ｎ　ｉの重量比は、１．５以上で
あることが好ましい。 さらに、強磁性金属薄膜層中には、Ｃｒが含有されてい
てもよい。 Ｃｒが含有されると、電磁変換特性が向上し、出力およ
びＳ／Ｎ比が向上し、さらに膜強度も向上する。 このような場合、Ｃｒ　／　ＣｏあるいはＣｒ／（Ｃｏ
十Ｎｉ）の重量比は０．１以下、特に０．００１〜０．
１、より好ましくは、０．００５〜０．０５であること
が好ましい。 さらに、強磁性金属薄膜中には０が含有されるものであ
る。 強磁性金属薄膜中の平均酸素量は、原子比、特にＯ／（
ＣｏまたはＣｏ＋Ｎ１）（７）原子比で、０．５以下、
より好ましくは０．０５〜０．５であることが好ましい
。 この場合、強磁性金属薄膜層の表面では、酸素が強磁性
金属（Ｃｏ、Ｎｉ）と酸化物を形成している。 すなわち、表面部、特に表面から５０λ〜５００人、よ
り好ましくは５０〜２００人の厚さの範囲には、オージ
ェ分光分析により、酸化物を示すピークが認められるも
のである。　そして、この酸化物層の酸素含有量は、原
子比で０．５〜１．０程度である。　　　　□なお、こ
のような強磁性金属薄膜中には、さらに他の微量成分、
特に遷移元素、例えばＦｅｌＭｎ、Ｖ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｔ
ａ、Ｔｉ。 Ｚ　ｎ　、　Ｍ　ｏ　、　Ｗ　、　Ｃｕ等が含まれてい
てもよい。 このような強磁性金属薄膜層は、好ましい態様において
、上記したＣｏを主成分とする柱状結晶粒の集合体から
なる。 この場合、強磁性金属薄膜層の厚さは、０．０５〜０．
５７１ｍ、好ましくは′、０．０７〜０・３ルｍとされ
る。 □そして、柱状の結晶粒は、薄膜の厚さ方向のほぼ全域
に亘る長さをもち、その長手方向は、基体の主面の法線
に対して、１０〜７０”の範囲にて傾斜していることが
好ましい。 なお、酸素は、表面部の柱状の結晶粒の表面に前記のと
おり化合物の形で存在するものである。 また、強磁性金属薄膜層の酸素の濃度勾配の回加には特
に制限はない。 また、結晶粒の□短径は、５０〜５００人程度の長さを
もつことが好ましい。 このような強磁性金属薄膜層を形成する基板は、非磁性
のものでありさえすれば特に制限はないが、特に可とう
性の基板、特にポリエステル、ポリイミド等の樹脂製の
ものであることが好ましい。 また、その厚さは、種々のものであってよいが、特に５
〜２０μｍであることが好ましい。 この場合、基板の強磁性金属薄膜層形成面の裏面には、
公知の種々のバックコート層が形成されていてもよい。 このように構成される本発明の磁気記録媒体の表面には
、微細な突起が所定の密度で設けられる。 微細な突起は、３０〜３００人、より好ましくは５０〜
２００人の高さを有するものである。 すなわち、本発明の突起は、光学顕微鏡で観察でき、か
つ触針型表面粗さ計で測定できるものではなく、走査型
電子顕微鏡にて観察できる程度のものである。 突起高さが３００人をこえ、光学顕微鏡にて観察できる
ものとなると、電磁変換特性の劣化と、走行安定性の低
下をもたらす。 また、３０人未満となると、物性の向上の実効がない。 そして、その、密痺は１　＋ｓｍ２あたり平均１０６／
　８２個、より好ましくは２Ｘ１０５／ａ２〜１Ｘ１０
９／ａ２個である。 この場合、ａはｌＬｍ単位にて、用いる磁気ヘッドのギ
ャップ長を表わす。 そして、ａは０．１〜０．５ｐｍ、特に０゜１〜０．４
鉢ｍとされる。 なお、突起密度が１０５／ａ２個／ｒａｔｓ２．、より
好ましくは２Ｘ　ｌ　０５．／ａ２（！ｌ／＋＊ｍ２未
満となると、ノイズが増大し、耐久走行特性が低下する
等物性の低下をきたし、実用に耐えない。 また、１０９／ａ２個／腸■２をこえると、型持が低下
し物性上の効果が少なくなってしまう。 このような突起を設けるには、通常、基板上に微粒子を
配設すればよい。　微粒子径は、３０〜３００人、特に
５０〜２００人とすればよく、これにより微粒子径と対
応した微細突起が形成される。 用いる微粒子としては、通常コロイド粒子として知られ
ているものであって、例えばＳｉＯ２（コロイダルシリ
カ）、Ａ１２ｏ３（アルミナゾル）、ＭｇＯ、ＴｉＯ２
、ＺｎＯ，Ｆｅ２Ｏ３，ジ）Ｌｔコ−７、ＣｄＯ、Ｎ　
ｉＯ、ＣａＷＯ４、ＣａｃＯ３、Ｂ　ａｃＯ３。 ＣｏＣｏ３、ＢａＴｉＯ３′、Ｔｉ　（チタンブラック
）、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｎｉ　、Ｆｅ、各種ヒドロシル
や、樹脂粒子等が使用可能である。 この場渣、特に無機物置を用いるのが好ましい。 このような微粒子は、各種溶媒を用いて塗布液とし、こ
れを基板状に塗布、乾燥してもよく、あるいは塗布液中
に各種水性エマルジョン等の樹脂分を添加したもめを塗
布、乾燥してもよい。 なお、場合によっては、これら塗布液を基板上に配設す
るのではなく、微粒子をトップコート層中に添加して突
起を設けることもできる。 また、樹脂分を用いる場合、これら微粒子にもとづく微
細突起に重畳してゆるやかな突起を設けることもできる
が、通常はこのようにする必要はない。 なお、基板と強磁性金属薄膜層との間には、必要に応じ
、公知の各種下地層を介在させることもできる。 また、もし必要であるならば１強磁性金属薄膜層を複数
に分割して、その間に非強磁性金属薄膜層を介在させて
もよい。 本発明において、磁性層の形成は電着、蒸着、イオンブ
レーティング等を用いることもできるが、いわゆる斜め
蒸着法によって形成されることが好ましい。 この場合、基体法線に対する、蒸着物質の入射角の最小
値は、２０°以上とすることが好ましい。 入射角が２０°未満となると、電磁変換特性が低下する
。 なお、蒸着雰囲気は、通常、アルゴン、ヘリウム、真空
等の不活性雰囲気に、酸素ガスを含む雰囲気とし、１０
−’Ｘ１００Ｐａ程度の圧力とし、また、蒸着距離、基
体搬送方向、キャンやマスクの構造、配置等は公知の条
件と同様にすればよい。 そして、酸素雰囲気での蒸着により、表面に金属酸化物
の被膜が形成される。　なお、金属酸化物が形成される
酸素ガス分圧は、実験から容易に求めることができる。 なお、表面に金属酸化物の被膜を形成するには、各種酸
化処理が可能である。 適用できる酸化処理としては下記のようなものがある。 ｌ）乾式処理 ａ、エネルギー粒子処理 特願昭５８−７８８４０号に記載したように、蒸着の後
期に、イオンガンや中性ガンにより酸素をエネルギー粒
子として磁性層にさしむけるもの。 ｂ、グロー処理 ０２　　、Ｎ２０，０２　＋Ｈ２０等とＡｒ。 Ｎ２等の不活性ガスとを用い、これをグロー放電してプ
ラズマを生じさせ、このプラズマ中に磁性膜表面をさら
すもの。 Ｃ０酸化性ガス オゾン、加熱水蒸気等の酸化性ガスを吹□きつけるもの
。 ｄ、加熱処理 加熱によって酸化を行うもの、　加熱温度は６０〜１５
０℃程度。 ２）湿式処理 ａ、陽極酸化 す、アルカリ処理 Ｃ０酸処理 クロム酸塩処理、過・マンガン酸塩処理、リン酸塩処理
等を用いる。 ｄ、酢化剤処理 Ｈ２Ｏ２等を用−いる。 本発明の有機物のトップコート層は、放射線硬化型化合
物、すなわち放射線硬化型ポリマー、モノマー、オリゴ
マーの１種以上と、酸化防止剤と、さらに必要に応じ潤
滑剤とを含有し、かつ所定の密度と大きさの突起を有す
る強磁性金属薄膜上に設層されたものである。 本発明のトップコート層で用いられる放射線硬化型ポリ
マー、千ツマ−、オリゴマーとシテは、ラジカル重合性
を示す不飽和二重結合を有するアクリル酸、メタクリル
酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリル
系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重
結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結合等
の、放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱
可塑性樹脂の分子中に含有または導入した樹脂等を用い
ることができる。 その他、使用可能なポリマー成分としては、単量体とし
てアクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド等がある
。 二重結合のあるポリマーとしては、種々のポリエステル
、ポリオール、ポリウレタン等をアクリル二重結合を有
９する化合物で変性することもできる。　さらに必要に
応じて多価アルコールと、多価カルボン酸を配合するこ
とによって種々の分子量のものもできる。 放射線感応樹脂として、上記のものはその一部であり、
これらは混合して用いることもできる。 また、（Ａ）放射線により硬化性をもつ不飽和二重結合
を２個以上有するか、または放射線硬化性を有しない分
子量５ｏｏｏＮｌｏｏｏ。 Ｏのプラスチック状化合物、 ＣＢ）放射線により硬化性をもつ不飽和二重結合を１個
以上有するか、または放射線硬化性を有しない分子量３
０００−１０００００（７）ゴム状化合物、および （Ｃ）放射線により硬化性をもつ不飽和二重結合を１個
以上有する、分子量２００〜３０００の化合物がある。 これらは単独または混合物の形で用いられ、混合物の場
合、特に好ましいものとしては、（Ａ）２０〜７０重量
％、（Ｂ）２０〜８０重景π１（Ｃ）１０〜４０重量％
の割合で用いた組合せである。 さらに、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の化合物における不飽
和二重結合は１分子当り（Ａ）は２以上、好ましくは５
以上、（′Ｂ）は１以上、好ましくは５以上、（Ｃ４）
は１以上、好ましくは３以上である・ 本発明で用いる（Ａ）のプラスチック状化合物は、放射
線によりラジカルを発生し、架橋構造を生じるような、
不飽和二重結合を分子鎖中に２個以上含むものなのであ
り、これはまた熱可塑性樹脂を放射線感応変性すること
によっても得ることができる。 放射線硬化性樹脂の具体例としては　ラジカル重合性を
有する不飽和二重結合を示すアクリル酸、メタクリル酸
、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリル系
二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重結
合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結合等の
放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を、熱可
塑性樹脂の分子中に含有または導入した樹脂である。　
その他、放射線照射により架橋重合する不飽和二重結合
を有する化合物で分子量が５０００〜１ｏｏｏｏｏのも
の、好ましくは１００００〜８００００のものであれば
用いることができる。 放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱可塑
性樹脂の分子中に含有する樹脂としては、次のような不
飽和ポリエステル樹脂がある。 分子鎖中に放射線硬化性不飽和二重結合を含有するポリ
エステル化合物、例えば下記（２）の多塩基酸と多価ア
ルコールのエステル結合からなる飽和ポリエステル樹脂
で、多塩基酸の−□部をマレイン酸とした放射線硬化性
不飽和二重結合を含有する不飽和ポリエステル樹脂を挙
げることができる。 放射線硬化性不飽和ポリエステル樹脂は、多塩基酸成分
１種以上と、多価アルコール成分１種以上に、マレイン
酸、フマル酸等を加え、常法すなわち触媒の存在下で、
１８０〜２００℃、窒素雰囲気下、脱水あるいは脱アル
コール反応の後、２４０〜２８０℃まで昇温し、０゜５
〜１　ａｍ）Ｉｇの減圧下、縮合反応により得ることが
できる。 マレイン酸やフマル酸等の含有量は、製造時の架橋、放
射線硬化性等から酸成分中１〜４０モル％、好ましくは
１０〜３０モル％である。 放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例として
は、次のようなものを挙げることができる。 （１）塩化ビニール系共重合体 塩化ビニル−酢酸ビニルービニルアルコール共重合体、
塩化ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−
ビニルアルコール−プロピオン酸ビニル共重合体、塩化
ビニル−酢酸ビニル−マレイン酸共重合体、塩化ビニル
−酢酸ビニル−末端ＯＨ側鎖アノ−キル基共重合体、た
と工ｉｆ　Ｕ　ＣＣ社製ＶＲＯＨ、ＶＹＮＣ、ＶＹＢＧ
Ｘ　　、ＶＥＲＲ、ＶＹＥＳ　　、ＹＭＣＡ　　、ＶＡ
ＧＨ等が挙げられ、このものに後述の手法により、アク
リル系二重結合、マレイン酸系二重結合、アリル系二重
結合を導入して、放射線感応変性を行う。 （２）飽和ポリエステル樹脂 フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、ア
ジピン酸、セバシン酸のような飽和多塩基酸と、エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、ト
リメチロールプロパン、ｌ、２プロピレングリコール、
１．３ブタンジオール、ジプロピレングリコール、ｌ。 ４ブタジオール、１．６ヘキサンジオール、ペンタエリ
スリット、ソルビトール、グリセ・リン、ネオペンチル
グリコール、１．４シクロヘキサンジメタツールのよう
に多価アルコールとのエステル結合により得られる飽和
ポリエステル樹脂、あるいはこれらのポリエステル樹脂
をＳＯ３Ｎａ等で変性した樹脂（例えばバイロン５３Ｓ
）が例として挙げられ、これらも同様にして放射線感応
変性を行う。 （３）ポリビニルアルコール系樹脂 ポリビニルアルコール、ブチラール樹脂、アセタール樹
脂、ホルマール樹脂およびこれらの成分の共重合体で、
これら樹脂中に含まれる水酸基に対し、後述の手法によ
り放射線感応変性を行う。 （４）エポキシ系樹脂、フェノキシ系樹脂ビスフェノー
ルＡとエピクロルヒドリン、メチルエピクロルヒドリン
の反応によるエポキシ樹脂、例えばシェル化学製（エピ
コート１５２．１５４，８２８．ｔｏｏｌ、１００４．
１００７）、ダウケミカル製（ＤＥＮ４３１　、ＤＥＲ
７３２，ＤＥＲ５１１、ＤＥＲ３３１）、大日本インキ
社製（エピクロン４００．８００）、さらに上記エポキ
シの高重合度樹脂であるＵＣＣ社製フェノキシ樹脂（Ｐ
ＫＨＡ　、ＰＫＨＣ、ＡＰＫＨＨ）、臭素化ビスフェノ
ールＡとエピクロルヒドリンの共重合体、大日本インキ
化学工業製（エピクロン１４５，１５２，１５３．１１
２０）等がある。 これら樹脂中に含まれるエポキシ基を利用して、放射線
感応変性を行う。 （５）繊維素誘導体 各種のものが用いられるが、特に効果的なものは、硝化
綿、セルローズアセトブチレート、エチルセルローズ、
ブチルセルローズ、アセチルセルローズ等が好適である
。 樹脂中の水酸基を利用して後述の方法により放射線感応
変性を行う。 その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂とし
ては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル
樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体（ＰＶＰ
オレフィン共重合体）、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹
脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基を
含有するアクリルエステル、およびメタクリエステルを
重合成分として、少なくとも１種含むアクリル系樹脂等
も有効である。 本発明で用いるＣＢ）の高分子量に化合物は、熱可塑性
エストラ−もしくはプレポリマー、またはこれらを放射
線感応変性したものであり、後者の場合は、より効果的
である。 以下にエラストマーもしくはプレポリマーの例を挙げる
。 （１）ポリウレタンエラストマーもしくはプレポリマー ポリウレタンの使用は耐摩耗性が良好で、基体フィルム
、例えばＰＥＴフィルムへの接着性が良い点で特に有効
である。 ウレタン化合物の例としては、インシアネートとして、
２　、４−　）ルエンジイソシアネート、２，６−トル
エンジイソシアネート、ｌ。 ３−キシレンジイソシアネート、１．４−キシレンジイ
ソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、
ｍ−フェニレンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイ
ソシアネート、３．３′−ジメチル−４，４′−ジフェ
ニルメタンジイソシアネート、４．４’　−ジフェニル
メタンジ、インシアネート、３，３′−ジメチルビフェ
ニレンジイソシアネート、４，４′−ビフェニレンジイ
ソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イン
フォロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジ
イソシアネート、デスモジ、−ルＬ、デスモジュールＮ
等の各種多価イソシアネートと、　　　　　□線状飽和
ポリエステル（エチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、グリセリン、トリメチロールプロパン、１．４−
ブタンジオール、１．６−ヘキサンジオール、ペンタエ
リスリット、ソルビトール１、ネオペンチルグリコール
、１．４−シクロヘキサンジメチノールのような多価ア
ルコールと、フタル醸、イソフタル酸、テレフタル酸、
コハク酸、アジピン酸、セバシン酸のような飽和多塩基
酸との縮重合によるもの）、 線状飽和ポリエーテル（ポリエチレングリコール、ポリ
プロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール
）やカプロラクタム、ヒドロキシル含有アクリル酸エス
テル、ヒドロキシル含有メタクリル酸エステル等の各種
ポリエステル類の縮重合物よりなるポリウレタンエラス
トマー、プレポリマーが有効である。 これらのウレタンエラストマーの末端のイソシアネート
基または水酸基と、アクリル系二重結合またはアリル系
二重結合を有する単量体とを反応させることにより、放
射線感応性に変性することは非常に効果的である。 また、末端に極性基としてＯＨ，Ｃ０ＯＨ等を含有する
ものも含む。 （２）アクリルニトリル−ブタジェン共重合エラストマ
ー シンクレアペトロケミカル社製ポリＢＤリタイッドレジ
ンとして市販されている、末端水酸基のあるアクリロニ
トリルブタジェン共重合体プレポリマー、あるいは日本
ゼオン社製ノ＼イカー１４３２Ｊ等のエラストマーは、
特にブタジェン中の二重結合が放射線によりラジカルを
生じ、架橋および重合させるエラストマー成分として適
する。 （３）ポリブタジエンエラストマー シンクレアペトロケミカル社製ポリＢＤリタイッドレジ
ンＲ−１５等の低分子量末端水酸基を有するプレポリマ
ーが、特に熱可塑性との相溶性の点で好適である。 Ｒ−１５プレポリマーにおいては、分子末端が水酸基と
なっているため、分子末端にアクリル系不飽和二重結合
を付加することにより放射線感応を高めることが可能で
あり、バインダーとしてさらに有利となる。 また、ポリブタジェンの環化物、日本合成ゴム製ＣＢＲ
−Ｍ９０１も熱可塑性樹脂との組合わせにより、すぐれ
た性質を、有している。 その他、熱可塑性エラストマーおよびそのプレボリマア
ーの系で好適なものとしては、スチレン−ブタジェンゴ
ム、塩化ゴム、アクリルゴム、イソプレンゴム、および
その環化物（日本合成ゴム製ＣｌＲ７０１）があり、エ
イキシ変性ゴム、内部可塑化飽和線状ポリエステル（東
洋紡バイロン＃３００）等のエラストマーも下記に述べ
る放射線感応変性処理を施すことにより有効に利用でき
る。 本発明で用いられる（Ｃ）放射線硬化性不飽和二重結合
を有する化合物としては、スチレン、エチルアクリレー
ト、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリ
コールアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリ
レート、１．６−ヘキサングリコールジアクリレート、
１．６−ヘキサングリコールジアクリレート、トリメチ
ロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロ
パントリメタクリレート、多官能オリゴエステルアクリ
レート〔アロニックスＭ−７１００，Ｍ−５４００，５
５００，５７００等、東亜合成〕、ウレタンエラストマ
ーにツボラン４０４０）のアクリル変性体、あるいはこ
れらのものにＣ０ＯＨ等の官能基が導入されたもの等が
挙げられる。 次に、放射線感応性バインダーの合成例を説明する。 ａ）塩化ビニル酢酸ビニル共重合系樹脂のアクリル変性
体（放射線感応変性樹脂）の合成ＯＨ基を有する一部ケ
ン化塩ビー酢ビ共重合体（平均重合度　ｎ＝５００）７
ｊＯ部とトルエン１２５０部、シクロヘキサノン５００
部を、５１の４つロフラスコに仕込み、加熱溶解し、８
０℃昇温昇温ジトリレンジイソシアネート−ヒドロキシ
エチルメタクリレートアダクト※を６１．４部加え、さ
らにオクチル酸スズ０．０１２部、ハイドロキノｙｏ’
、０１２部を加え、８０℃でＮ２気流中、ＮＧＯ反応率
が９０％となるまで反応せしめる。 反応終了後冷却し、メチルエチルケトン１２５０部を加
え、希釈する。

【※トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）の２−ヒドロ
キシエチルメタクリレート（２ＨＨＭＡ）アダクトの製
法 ＴＤＩ３４８部をＮ２気流中１１の４つロフラスコ内で
８０℃に加熱後、′２−エチレンメタクリレート２６０
部、オクチル醸スズ０．０７部、ハイドロキノン０，０
５部を１反応缶内の温度が８０〜８５℃となるように、
冷却コントロールしながら滴下終了後、８０℃で３時間
撹拌し、反応を完結させる。 反応終了後、取り出して、冷却後、白色ペースト状のＴ
ＤＩの２ＨＥＭＡを得た。】ｂ）ブラチール樹脂アクリ
ル変性体に合成（放射線感応変性樹脂） ブチラール樹脂積水化学製ＢＭ−３１００部をトルエン
１９１．２部、シクロヘキサノン７１．４部と共に５１
の４つロフラスコに仕込み、加熱溶解し、８０℃昇温後
、ＴＤＩの２ＨＥＭＡアダクト※を７．４部加え、さら
にオクチル酸スズ０．０１５部、ハイドロキノン０゜０
１５部を加え、８０℃−１？Ｎ２気流中ＮＧＯ反応率が
９０％以上となるまで反応せしめる。 反応路７後冷却し、メチルエチルケトンにて希釈する。 Ｃ）飽和ポリエステル樹脂アクリル変性体の合成（放射
線感応変性樹脂） 飽和ポリエステル樹脂（東洋紡製バイロンＲＶ−２００
）１０’Ｏ部をトルエン１１６部、メチルエチルケトン
１１６部に加熱溶解し、８０℃に昇温後、ＴＤＩの２Ｈ
ＥＭＡアダクト※を３．５５部加え、さらにオクチル酸
スズｏ、００７部、ハイドロキノン０．００７部を加え
、８０℃、Ｎ２気流中ＮＣｏ反応率が９０％以上となる
まで反応せしめる。 ｄ）ｉ）　　エポキシ樹脂アクリル変性体の合成（放射
線感応変性樹脂） エポキシ樹脂（シェル化学製エピコー）１００７）４０
０部をトルエン５０部、メチルエチルケトン５０部に加
熱溶解後、Ｎ、Ｎ−ジメチルベンジルアミン０．００６
部、ハイドロキノン０．００３部を添加し８０℃とし、
アクリル酸６９部を滴下し、８０℃で酸価５以下となる
まで反応せしめる。 ｉｉ）フェノキシ樹脂アクリル変性体の合成（放射線感
応変性樹脂） ＯＨ基を有するフェノキシ樹脂（ＰＫＨＨ：ＵＣＣ社製
　分子量３００００）６００部、メチルエチルケトン１
８００部を３すの４つロフラスコに仕込み、加熱溶解し
、８０℃昇温後、トリレンジイソシアネートの２ヒドロ
キシエチルメタクリレートアダクトを６．０部加え、さ
らにオクチル酸スズ０．０１２部、ハイドロキノン０．
０１２部を加え、８０℃でＮ２気流中、ＮＧＯ反応率が
９０％となるまで反応せしめる。 このフェノキシ変性体の分子量は、３５０００．１分子
当りの二重結合は１個である。 ｅ）ウレタンエラストマーアクリル変性体の合成（放射
線硬化性エラストマー） 末端インシアネートのジフェニルメタンジイソシアネー
ト（ＭＤＩ）系ウレタンプレポリマー（日本ポリウレタ
ン製ニッポラン３１１９）２５０部、２ＨＥＭＡ３２．
５部、ハイドロキノン０．０７部、オクチル酸スズ０．
００９部を反応缶にいれ、８０℃に加熱溶解後、ＴＤＩ
４３．５部を、反応缶内の温度が８０〜９０℃となるよ
うに冷却しながら滴下し、滴下終了後、８０℃で反応率
９５％以上となるまで反応せしめる。 ｆ）ポリエーテル系末端ウレタン変性エラストマーアク
リル変性体（放射線硬化性エラストマー）の合成 日本ポリウレタン社製ポリエーテルＰＴＧ−５００，２
５０部、２ＨＥＭＡ３２．５部、ハイドロキノン０．０
０７部、オクチル酸スズ０．００９部を反応缶にいれ、
８０”Ｃに加熱溶解後、ＴＤＩ４３．５部を、反応缶内
の温度が８０〜９０℃となるように冷却しながら滴下し
、滴下終了後、８０℃で反応率９５％以上となるまで反
応せしめる。 ｇ）ポリブタジェンエラストマーアクリル変性体の合成
（放射線硬化性エラストマー）シンクレアペトロケミカ
ル社製低分子量末端水酸基ポリブタジェンポリＢＤリク
ィットレンジンＲ−１５，２５０部、２ＨＨＭＡ３２．
５部、ハイドロキノン０．００７部、オクチル酸スズ０
．００９部を反応缶にいれ、８０℃に加熱溶解後、ＴＤ
Ｉ４３．５部を、反応缶内の温度が８０〜９０℃となる
ように冷却しながら滴下し、滴下終了後、８０℃で反応
率９５％以上となるまで反応せしめる。 高分子には、放射線照射により崩壊するものと分子間に
架橋を起こすものが知られている。 分子間に架橋を起すものとしては、ポリエチ、レン、ポ
リプロピレン、ポリスチレン、ポリアクリル酸エステル
、ポリアクリルアミド、ポリ塩化ビニル、ポリエステル
、ポリビニルピロリドンゴム、ポリビニルアルコール、
ポリアクリルンがある。 このような架橋型ポリマーであれば、上記のような変性
を特に施さなくても、架橋反応が起こるので、前記変性
体の他に、これらの樹脂はそのまま放射線架橋用トップ
コート樹脂として使用可能である。 さらにまた、この方法によれば溶剤を使用しない無溶剤
型の樹脂であっても、短時間で硬化することができるの
で、このような樹脂をトップコート用として用いること
ができる。 また、官能基としては、水酸基としてアルコール系　、
フェノール系、リン酸系、カルボン酸基として芳香族系
、脂肪族系、スルホン酸基、アミン基、アンモニウム基
等を含有するものも含まれる。　特に官能基を有するも
のの方が強磁性薄膜に対して密着性がよい。 本発明の放射線硬化性樹脂組成物の特に好ましい組合わ
せとしては、 （Ａ）の化合物として、一部ケン化したカルボン酸が導
入された塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル
−酢酸ビニル−ビニルアルコール−マレイン酸共重合体
、エポキシ、フェノキシ樹脂（好ましくはフタル酸、イ
ソフタル酸、テレフタル酸、アジピン酸、セバシン酸等
のカルボン酸を導入したもの）にポリイソシアネート化
合物を反応させて得られたインシアネート基を有する化
合物に、インシアネート基との反応性を有する官能基を
もつアクリル化合物、あるいはメタクリル化合物を反応
させてなる化合物である。 （Ｂ）の化合物としては、ポリオールにインシアネート
化合物を反応させて得られた、インシアネート化合物ま
たはポリオール（ポリウレタンエラストマー、好ましく
はＯＨ，Ｃ０ＯＨ基が導入されたもの）に、反応性を有
する官能基をもつアクリル化合物あるいはメタクリル化
合物を反応させてなる化合物である。 （Ｃ）の化合物としては多官能（メタ）クリレートモノ
マー、オリゴエステルアクリレート、または（Ｂ）の低
分子量化合物というものである。 そして、これらの組あわせも含まれる。 このような放射線硬化型化合物を用いることにより１強
磁性薄膜との付着性がよく、トップコート層がポリマー
により補強され、塗膜の破断強度が上り、塗膜の強化が
為され、トップコート削れが少なく、かつ高温走行での
耐久性が改善できる。 そこで、ドロップアウトの少ない、かつロール状に巻き
取った形での硬化の際の巻きしまりのない、長さ方向で
均一の特性を有する磁気記録媒体が得られる。 ポリマーがない場合、高温走行でのストップを生じ、ケ
ズレが大であり、付着が生じる。 また、放射線硬化型ポリマーを用いると、トップコート
層の製造上、連続処理が可能であり、オンライン上で処
理できるので、省エネルギー、コストの低減に役立つ。 本発明で用いられる酸化防止剤としては、通常の酸化防
止剤剤が用いられ、これらは、ｌ）フェノール系酸化防
止剤 ２）アミン系酸化防止剤、 ３）リン系酸化防止剤、 ４）硫黄系酸化防止剤、 ５）有機酸、アルコール、エステル系酸化防止剤、 ６）キノン系酸化防止剤、 ７）無機酸、無機塩系酸化防止剤のように構造的に大別
される。 上記、各種酸化防止剤の具体例を挙げると、 ｌ）フェノール系酸化防止剤としては、２．６−ジー第
三ブチル−ｐ−クレゾール、２．６−ジー第三ブチル−
フェノール、２．４−ジ−メチル−６−第三ブチル−フ
ェノール、ブチルヒドロキシアニソール、２．２′−メ
チレンビス（４−メチル−６−第三ブチルフェノール）
、４．４’　−ブチリデンビス（３−メチル−６−第三
ブチルフェノール）、 ４．４′−チオビス（３−メチル−６−第三ブチルフェ
ノール）、テトラキス〔メチレン−３（３，５−ジー第
三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネートコ
メタン、１，１゜３−トリス（２−メチル−４−ヒドロ
キシ−５−第三ブチルフェニル）ブタン、ジブチルヒド
ロキシトルエン、没食子酸プロピル、グアヤク脂、ノル
ジヒドログアヤレチン酸等がある。 放射線硬化型としては、モノグリコールサリチレート、
２．５−ジ第三ブチルハイドロキノン、２，４−ジヒド
ロキシベンゾフェノン、２．４．５−）リヒドロキシブ
チロフェノン、ハイドロキノン等のメタクリレート、ア
クリレート、ビニルタイプが挙げられる。 ２）アミン系酸化防止剤としては、フェニル−β−ナフ
チルアミン、α−ナフチルアミン、Ｎ、Ｎ’　−ジー第
ニブチル−ｐ−フェニレンジアミン、フェノチアジン、
Ｎ、Ｎ’　−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミンの他
、アルカノールアミン、リン脂質等が挙げられる。 アミン系でもジメチルアミノエチルメタクリレート、ア
クリレートあるいｔｉビニルタイプ等の放射線硬化可能
のものが放射線硬化型として挙げられる。 ３）リン系酸化防止剤としては、 放射線硬化型あるいは放射線硬化型でないものが用いら
れ、リン酸エステル部分のＲとしてはアルキル基、アル
キルフェニル基、その他酸化エチレン、酸化プロピレン
を含有し、ソ（７ＪＲとしてＣが１〜２６が好ましく、
さらに好ましいのは１〜２２である。 リン酸エステルとしては、モノ、ジ、トリのものが含ま
れ、モノあるいはジの成分が多いものであってもよく、
トリタイプのものはカットされていてもよい。 また、リン酸エステルは、ＮＨ４タイプのものおよびメ
タクリレートタイプ、アクリレート、ビニルタイプのも
のも含まれる。 具体的には、トリフェニルホスファイト、トリオクタデ
シルホスファイト、トリデシルホスファイト、トリラウ
リルトリチオホスファイト等の亜リン酸エステルや、ヘ
キサメチルホスホリックトリアミド、ブチルホスフェー
ト、セチルホスフェート、ブトキシエチルホスフェート
、２−エチルへキシルホスフェート、β−クロロエチル
ホスフェート、ブトキシエチルホスフェートジエチルア
ミン塩、ジ（２−エチルヘキシル）ホスフェート、エチ
レングリコールアシッドホスフェート、（２−ヒドロキ
シエチル）メタクリレート拳ホスフェート、ブチルヒド
ロキシメタクリレート・ホスフェート、カプリルヒドロ
キシメタクリレート・ホスフェート、ミリスチルヒドロ
キシメタクリレート・ホスフェート、ステアリルヒドロ
キシメタクリレート・ホスフェート、セチルヒドロキシ
メタクリレート・ホスフェート、ブチルフェニルヒドロ
キシメタクリレート拳ホスフェート、アミルフェニルヒ
ドロキシメタクリレート・ホスフェート、ノニルフェニ
ルヒドロキシメタクリレート・ホスフェート、およびこ
れらの７クリレートタイプ、フェニルホスフェート、そ
の他のアルコール、およびノニルフェニル等のフェニル
ホスフェート、バナジウム系酸性リン酸エステル等のリ
ン酸エステルが挙げられる。 、４）硫黄系酸化防止剤としては、 ジラウリルチオジプロピオネート、ジステアリルチオジ
プロピオネート、ラウリルステアリルチオジプロピオネ
ート、ジミリスリルチオジプロピオネート、ジステアリ
ルβ、β′−チオブチレート、２−メルカプトベンゾイ
ミダゾール、ジラウリルサルファイドの他、４．４’−
チオ−ビス（３−メチル−６−第三ブチル−フェノール
）、２．２’−チオ−ビス（４−メチル−６−第三ブチ
ル−フェノール）等のメタクリレート、アクリレート等
の放射線硬化型が挙げられる。 また、これらは酸化エチレン、酸化プロピレンを含有し
ていてもよい。 ５）有機酸、アルコール、エステル系酸化防止剤として
はＪ ソルビトール、グリセリン、プロピレングリコール、ア
ジピン酸、クエン酸、アスコルビン酸等が挙げられ、こ
れらの放射線硬化型であってもよい。 ６）キノン系酸化防止剤としては、 ヒドロキノン、トコフェロール等がＪｔｌ、、：れらの
中で放射線硬化型であってもよい。 ７）無機酸、無機塩系酸化防止剤としては、リン酸がそ
の代表例として挙げられる。 上記酸化防止剤の中でも、強磁性薄膜への裏型転写を抑
えうるという点から、分子中にアクリル系二重結合を有
する放射線硬化型のもの、例えば、モノグリコールサリ
チレートメタクリレート（アクリレート）、４−第三ブ
チルカテコールメタクリレート（アクリレート）、ジメ
チルアミノエチルメタクリレート（アクリレート）、エ
チルヒドロキシメタクリレート（アクリレート）ホスフ
ェート、セチルヒドロキシホスフェートメタクリレート
（アクリレート）、ステアリルメタクリレート（アクリ
レート）ホスフェート、および上記のもののフェニルタ
イプのもの、２，２′チオ−ビス（４−メチル−６−第
三ブチル−フェノール）メタクリレート（アクリレート
）等が好ましい。 リン酸エステルの製法としては公知の方法で行われるが
、特公昭５７−４４２２３号公報記載の方法も挙げられ
る。 放射線硬化型防止剤では、強磁性薄膜へのオンライン硬
化ができるため、熱硬化時の巻きしまりによる裏型転写
による表面性の劣化がなく、そのため出力の低下がない
。 強磁性薄膜上のトップコートは、１０〜１００λ以下が
望ましく、より好ましくは１０〜５０人である。　　１
０人より下ではトップコートの効果かえられず、これ以
上厚くすると型持の低下や目づまりを生じる。 そして、ドロップアウトの防止、ロール状に巻かれたと
きの内外径□め個所による出力差の減少といった特性上
の効果の他、オンライン上での製造が可能といった処理
上の効果をもあげうるものである。 本発明で必要に応じ用いられる潤滑剤とじては、従来こ
の種の磁気記録媒体に用いられる潤滑・剤として、シリ
コンオイル、フッ素オイル、脂肪酸、脂肪酸エステル”
、パラフィン、流動パラフィン、界面活性剤等を用いる
ことができるが、脂肪酸および／または脂肪酸エステル
を用いるのが好ましい。 脂肪酸としては、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸
、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン
酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リルン酸
、ステアロール酸等の炭素数１２以上の脂肪酸（ＲＣｏ
ＯＨｌＲは炭素数１１以上のアルキル基）である。 脂肪酸エステルとしては、炭素数１２〜１６個の一塩基
性脂肪酸と炭素数３〜１２個の一価のアルコールからな
る脂肪酸エステル類、炭素数１７個以上の一塩基性脂肪
酸と脂肪酸の炭素数と合計して、炭素数が２１〜２３個
よりなる一価のアルコールとからなる脂肪酸エステル等
が使用される。　　　　　　　□ シリコーンとしては、脂肪酸変性よりなるもの、一部フ
ッ素変性されているものが使用される。 アルコールとしては高級アルコールよりなるもの、フッ
素としては電解置換、テロメリゼーション、オリゴメリ
ゼーション等によって得られるものが使用される。 潤滑剤の中では、放射線硬化型のものも使用して好都合
である。 これらは強磁性薄膜への裏型転写を抑えるため、ドロッ
プアウトの防止、ロール状に巻かれたときの内外径の個
所よる出力差の減少の他、オンライン上での製造が可能
である等の利点を持つ。 放射線硬化型潤滑剤としては、滑性を示す分子鎖とアク
リル系二重結合とを分子中に有する化合物、例えばアク
リル酸エステル、メタクリル酸エステ・ル、ビニル酢酸
エステル、アクリル酸アミド系化合物、ビニルアルコー
ルエステル、メチルビニルアルコールエステル、アリル
アルコールエステル、グリセライド等がある。 これらの潤滑剤を構造式で表すと、 ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２Ｃ００Ｒ１ ＣＨ２＝ＣＨＣ０ＮＨＣＨ２０ＣｏＲ ＲＣｏＯＣＨ＝ＣＨ２、 ＲＣｏＯＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ２等がある。 ここで、Ｒは直鎖または分枝状の飽和もしくは不飽和炭
化水素基で、炭素数は７以上、好ましくは１２以上２３
以下であり、これらはフッ素置換体とすることもできる
。 フッ素置換体としては、 Ｃｎ　Ｆ２ｎ＋１−、　　Ｃｎ　Ｆ２ｎ、１（ＣＨ２）
　Ｂ　−（ただし、ｍ＝１〜５）、 ＣＨ＝ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＨ２ＣＨ２−１０″Ｆ２．−
１゜ＸＤ」１２鋤− 等がある。 これら放射線硬化型潤滑剤の好ましい具体例としては、
ステアリン酸メタクリレート（アクリレ一ト）、ステア
リルアルコールのメタクリレート（アクリレート）、グ
リセリンのメタクリレート（アクリレート）、グリコー
ルのメタクリレート（アクリレート）、シリコーンのメ
タクリレート（アクリレート）、ステアリン酸ビニル、
ミリスチン酸ビニル等が挙げられ□る。 強磁性薄膜表面に放射線硬化型ポリマー、モノマー、オ
リゴマーの１種以上と、酸化防止剤と、必要に応じ潤滑
剤とを含むトップコート層を設ける方法としては、前記
添加剤を溶剤で希釈して、強磁性金属薄膜上に薄く塗布
したり、添加剤を大気中、不活性ガス中、あるいは真空
中で気化せしめて、その蒸気を強磁性金属表面に当てる
などの手段があり、これらを適用することができる。 このとき、放射線硬化型化合物、酸化防止剤、潤滑剤を
混合塗布して硬化したり、まず放射線硬化型ポリマー、
モノマー、オリゴマー、酸化防ＩＦ剤を塗布、硬化後、
この塗布膜上に前記潤滑剤を塗布、あるいは蒸着して塗
布膜あるいは蒸着膜を形成することができる。 前記添加剤の塗布に当っては、溶剤を用いて行うことが
でる。 また、前記添加剤の蒸着は、添加剤を大気中、不活性ガ
ス中、あるいは真空中で気化せしめてその蒸気を、膜を
形成すべき物質の表面にあてて行うものである。 添加剤の蒸着法によるものでは、その膜の表面が均一と
なり、出力波形が良好なものが得られる。 本発明のトップコート層における放射線硬化型化合物、
＃化防止剤、潤滑剤の使用割合は、放射線硬化型化合物
二酸化防止剤＝１０：９０〜９０：１０、好ましくは３
０ニア０〜７０：３０（重量）、潤滑剤は放射線′硬化
型化合物子酸化防止剤１００重量部に対し、３０重量部
以下、特に０．５〜３０重量部である。 本発明において、トップコート層に前記の放射線硬化型
化合物を含有することによりトップコート層が補強され
、削れが少なくなる。 また、酸化防止剤を含有することにより、防錆効果が著
しく、さらに潤滑剤を含ませることにより、磁性層の表
面の摩擦抵抗が低下するという効果が実現し、走行安定
性、耐久性の優れたドロップアウトの減少した磁気記録
媒体を得られる。 また、本発明のトップコート層に用いる放射線硬化型添
加剤の架橋に使用する活性エネルギー線としては、放射
線加速器を線源とした電子線、Ｃｏ６０を線源としたγ
−線、Ｓ　ｒ９０を線源としへβ−線、Ｘ線発生器を線
源としたＸ線あるいは紫外線等が使用される。 特に照射線源としては吸収線量の制御、製造工程ライン
への導入、電離放射線の遮蔽等の見地から放射線加熱器
により放射線を使用する方法が有利で声る。 トップコート層を硬化する際に使用する放射線特性とし
ては、透過力の面から加速電圧１゜Ｏ〜７５０ＫＶ、好
マシくは１５０〜３００ＫＶ（７）放射線加速器を用い
吸収線量を０．５〜２０メガラツトになるように照射す
るのが好都合である。 本発明の放射線硬化に際しては、米国エナージーサイエ
ンス社にて製造されている低線量タイプの放射線加速器
（エレクトロカーテンシステム）等が、テープコーティ
ング加エラインへの導入の加速器内部の２次Ｘ線の遮蔽
等にきわめて有利である。 また、従来より放射線加速器法して広く活用されている
ところのファンデグラフ型加速器を使用してもよい。 また、放射線架橋に際しては、Ｎ２ガス、Ｈｅガス等の
不活性ガス気流中で、放射線をバックコート層、トップ
コート層に照射することが重要であり、空気中で放射線
を照射することは、バインダー成分の架橋に際し、放射
線により生じた０３等の影響でポリマー中に生じたラジ
カルが有利に架橋反応に働くとこを阻害するのできわめ
て不利である。 従って、活性エネルギー線を照射する部分の雰囲気は、
特に酸素濃度が最大で５％であるＮ２　、Ｈｅ　、Ｃｏ
２等の不活性ガス雰囲気に保つことが重要となる。 本発明のトップコート層には、光重合増感剤を加えるこ
とにより、紫外線硬化を行うこともできる。 光重合増感剤としては従来公知のものでよく、例えば、
ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル
、α−メチルベンゾイン、α−クロルデオキシベンゾイ
ン等のベンゾイン系、ベンゾフェノン、アセトフェノン
、ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等のケトン類、
アントラキノン、フエナントラキノン等のキノン類、ベ
ンジルジスルフィド、テトラメチルチウラムモノスルフ
ィド等のスルフィド類、等を挙げることができる。 光重合増感剤は固形分に対し、０．１−１０重量％の範
囲が望ましい。 本発明のバックコート層は、無機顔料、有機バインダー
および潤滑剤を含有するものからなる。 無機顔料としては、 １）導電性のあるカーボンブラック、グラファイト、ま
た、 ２）無機充填剤として５ｉ０２．ＴｉＯ２、ＡＪＬ２０
３　、Ｃｒ２．０３　、Ｓ　ｉ　Ｃ，ＣａＯ１ＣａＣｏ
３、酸化亜鉛、ゲーサイト、ａＦｅ２０３、タルク、カ
オリン、ＣａＳＯ４，窒化ホウ素、フッ化黒塩、二値酸
モリブデン、ＺｎＳ等があり、中でもＣａＣｏ３，カオ
リン、ＺｎＯ、ゲーサイト、ＺｎＳやカーボンが使用さ
れる。 このような無機顔料の使用量は、 ｌ）に関してはバインダー１００重量部に対して２０〜
２００重量部、また ２）に関しては１０〜３００重量部が適当であり、無機
顔料があまり多くなると、塗膜力（もろくなり、かえつ
でドロップアウトカ１多くなるという欠点がある。 潤滑剤としては（分散剤をも含めて）、従来この種バッ
クコート層に用いられる種類のものはいずれも用いるこ
とができるが、 カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、
パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、
エライジン酸、リノール酸、リルン酸、ステアロール酸
等の炭素数１２以上の脂肪酸（ＲＣｏＯＨ，Ｒは炭素数
１１以上のアルキル基）； 前記の脂肪酸のアルカリ金属（Ｌｉ、、Ｎａ。 Ｋ等）またはアルカリ土類金属（Ｍｇ、Ｃａ。 Ｂａ等）からなる金属石鹸； レシチン等が使用される。 この他に、炭素数１２以上の高級アルコール、およびこ
れらの硫酸エステル、界面活性剤、チタンカップリング
剤、シランカップリング剤等も使用可能である。 これらの潤滑剤（分散剤）はバインダー１００重量部に
対して１〜２０重量部の範囲で添加される。 潤滑剤としては、上記の他にシリコンオイル、グラファ
イト、二硫化モリブデン、二硫化タングステン、炭素数
１２〜１６個の一塩基性脂肪酸と炭素数３〜１２個の一
価のアルコールからなる脂肪酸エステル類、炭素数１７
個以上の一塩基性脂肪酸と該脂肪酸の炭素数と合計して
、炭素数が２１〜２３個よりなる一価のアルコールとか
らなる脂肪酸エステル等が使用される。 これらの潤滑剤はバインダー１００重量部に対して０．
２〜２０重量部の範囲で添加される。 また、その他の添加剤としては、この種のバックコート
に用いるものは何にでも用いることができるが、 例えば、帯電防止剤として、 サポニンなどの天然界面活性剤： アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール
系などのノニオン界面活性剤：高級アルキルアミン類、
第４級アンモニウム塩類、ピリジンその他の複素環類、
ホスホニウムまたはスルホニウム類などのカチオン界面
活性剤； カルボン酸、スルホン酸、リン酸、硫酸エステル基、リ
ン酸エステル基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤； アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの
硫酸またはリン酸エステル類等の両性活性剤などが使用
される。 本発明のバックコート層で用いる有機バインダーは、従
来、磁気記録媒体用に利用されている熱可塑性、熱硬化
性または反応型樹脂やこれらの混合物が使用されるが、
得られる塗膜強度等の点から硬化型、特に放射線硬化型
の樹脂が好ましい。 熱可塑性樹脂としては、軟化温度が１５０℃以下、平均
分子量が１００００〜２０００００、重合度が約２００
〜２０００程度のもので、 例えば塩化ビニール−酢酸ビニール共重合体（カルボン
酸導入のものも含む）、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニ
ルアルコール共重合体（カルボン酸導入のものも含む）
、塩化ビニール−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニー
ル−７クリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−
７クリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−塩化
ビニリデン共重合体、アクリル酸エステル−スチレン共
重合体、メタクリル酸エステル−アクリロニトリル共重
合体、メタクリル酸エステル−塩化ビニルデン共重合体
、メタクリル酸エステル−スチレン共重合体、ウレタン
エラストマー、ナイロン−シリコン系樹脂、ニトロセル
ロース−ポリアミド樹脂、ポリフッ化ビニル、塩化ビニ
リデン−アクリロニトリル共重合体、ブタジェン−アク
リロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニール
ブチラール、セルロース誘導体（セルロースアセテート
、セルロースダイアセテート、セルローストリアセテー
ト、セルロースプロピオネート、ニトロセルロース等）
、スチレン−ブタジェン共重合体、ポリエステル樹脂、
クロロビニルエーテル−アクリル酸エステル共重合体、
アミノ樹脂、各種の合成ゴム系の熱可塑性樹脂およびこ
れらの混合物が使用される。 熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては、塗布液の状態
では２０００００以下の分子量であり、塗布、乾燥後に
加熱することにより、縮合、付加等の反応により分子量
が無限大のものとなる。　また、これらの樹脂のなかで
、樹脂が熱分解するまでのあいだに軟化または溶融しな
いものが好ましい。 具体的には、例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポ
リウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アル
キッド樹脂、シリコン樹脂、アクリル樹脂、アクリル系
反応樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロー
スメラミン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシア
ネートプレポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体
とジイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステ
ルポリオールとポリイソシアネートの混合物、尿素ホル
ムアルデヒド樹脂、低分子量グリコール／高分子量ジオ
ール／トリフェニルメタントリイソシアネートの混合物
、ポリアミン樹脂、およびこれらの混合物である。 特に好ましいものは、 繊維素樹脂（硝化綿等）、塩化ビニル−酢酸ヒニルーヒ
ニルアルコール共重合体、ウレタンの組み合わせからな
る熱硬化性樹脂（硬化剤使用）、 あるいは塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共
重合体（カルボン酸導入のものも含む）、またはアクリ
ル変性塩化ビニル−酢酸ビニルーヒニルアクコール共重
合体（カルボン酸導入のものも含む）およびウレタンア
クリレートからなる放射線硬化系樹脂からなるものであ
る。 放射線硬化系樹脂については、前記の好ましい組み合わ
せのほかに、前記のトップコート層におけると同様、ラ
ジカル重合性を有する不飽和二重結合を示すアクリル酸
、メタクリル酸あるいはそれらのエステル化合物のよう
なアクリル系二重結合、 ジアリルフタレートのようなアリル系二重結合゛、 マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結合等の、放
射畔照射による架橋あるいは重合する基を熱可塑性樹脂
の分子中に含有または導入した樹脂等を用いることがで
きる。 その他、使用可能なバインダー成分としては、単量体と
してアクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド等があ
る。 放射線硬化型有機バインダーの好ましい例および組み合
わせは、トップコート層におけると同様である。 本発明の磁気記録媒体の製造において、有機バインダー
が熱硬化型では、製造過程において、バックコート層の
潤滑剤が磁性薄膜に裏型転写し、前述のような不安定な
走行による出方ダウンが発生し、画像が出なくなるとか
、あるいは摩擦レベルが未だ大きく不十分であり、裏型
転写により強磁性薄膜が取れたり、あるいは破壊される
という現象が生じ好ましくない。 そのため、トップコートを最初に行うことが考えられる
が、操作上、傷つきやすく不都合な場合が多い。 さらに、熱硬化型の場合、硬化時の巻きしまりによるバ
ックコート面の裏型転移のため、熱硬化中のジャンボロ
ールの内側、外側での電磁変換特性の差が問題とな、る
。 これに対して、放射線硬化型樹脂の場合、製造上、連続
硬化が可能であり、硬化時間も短く、上記の裏型転写が
ないのでドロップアウトが防止でき、その上、放射線硬
化およびトップコート処理がオンライン上で処理できる
ので、省エネルギ一対策、製造時の人員の減少にも役立
ち、コストの低減にもつながる。　特性面では、熱硬化
時の巻きしまりによるドロップアウトの外に、ロール状
に巻かれたときの内外径の個所の圧力のちがいにより磁
気テープの長さ方向の距離による出力差が生じることも
なくなる。 前記（Ａ）、ＣＢ）、および（Ｃ）からなる放射線硬化
型樹脂バインダーにおいて、（Ａ）だけでは、柔軟性が
なく脆く、（Ｂ）だけでは弾性の欠けたものであり、（
Ａ）、（Ｂ）を組合わせることにより破壊エネルギー大
となるが、脆性エネルギーを大とするには制限があり、
また（Ａ）、ＣＢ）だけでは硬度が低いためか、高温多
湿下で粘着性を生じ、静摩擦が高くなった。 これに対し、（Ａ）、（Ｂ）にさらに（Ｃ）を組合わせ
ることにより、架橋性が増大し、バインダーの引っ張り
強度大、破断エネルギー、脆性エネルギーが大となり、
バックコート削れもなく、硬化度が高い強靭な塗膜にな
る。 そのため、５０℃、８０％、５日間の高温保存下におい
たところ、粘着を生じず、摩擦係数も低く、画像ひずみ
を生じなかった。　これは（Ｃ）を加えることによりバ
ックコート膜の架橋性が増し、硬化度が増したためであ
る。 （Ａ）、（Ｂ）にさらに（Ｃ）を加えることにより、（
Ａ）、（Ｂ）のみよりなる組成の場合に比べ、（Ａ）成
分が低分子量のほうまで使えるようになった。　これは
（Ａ）成分よりなるプラスチック状のものを、（Ｃ）成
分を導入することにより可塑性を向上させた硬化度の向
上となるため、粘弾性に富んだ脆性エメルギーの大なる
塗膜となったものである。 本発明の放射線硬化型樹脂バインダーにおいて、（Ａ）
の分子量５０００未満、ＣＢ）の分子量３５００未満で
は塗膜が硬くなって、バックコート削れが激しく、電磁
変換特性も低下し、また（Ｂ）の分子量ｔｏｏｏｏｏを
超えると分散不良のため電磁変換特性が低下すると共に
、（Ｂ）が放射線硬化性の場合には、その特性が低下し
て強度低下を生じる。　　（Ｃ）については、分子量が
３０００を超えると架橋性が低下し、塗膜の強度が低下
する。　　’（Ａ）ｔｆ１個所の圧力のちがいにより磁
気テープの長さ方向の距離による出力差が生じることも
なくなる。 前記（Ａ）、（Ｂ）、および（Ｃ）からなる放射線硬化
型樹脂バインダーにおいて、（Ａ）だけでは、柔軟性が
なく脆く、（Ｂ）だけでは弾性の欠けたものであり、（
Ａ）、（Ｂ）を組合わせることにより破壊エネルギー大
となるが、脆性エネルギーを大とするには制限があり、
また（Ａ）、（Ｂ）だけでは硬度が低いためか、高温多
湿下で粘着性を生じ、静摩擦が高くなった・ これに対し、（Ａ）、（Ｂ）にさらに（Ｃ）を組合わせ
ることにより、架橋性が増大し、バインダーの引っ張り
強度大、破断エネルギー、脆性エネルギーが大となり、
バックコート削れもなく、硬化度が高い強靭な塗膜にな
る。 そのため、５０℃、８０％、５日間の高温保存下におい
たところ、粘着を生じず、摩擦係数も低く、画像ひずみ
を生じなかった。　これは（Ｃ）を加える、ことにより
バックコート膜の架橋性が増し、硬化度が増したためで
ある。 （Ａ）、（Ｂ）にさらに（Ｃ）を加えることにより、（
Ａ）、（Ｂ）のみよりなる組成の場合に比べ、（Ａ）成
分が低分子量のほうまで使えるようになった。　これは
（Ａ）成分よりなるプラスチック状のものを、（Ｃ）成
分を導入することにより可塑性を向上させた硬化度の向
上となるため、粘弾性に富んだ脆性エメルギーの大なる
塗膜となったものである。 本発明の放射線硬化型樹脂バインダーにおいて、（Ａ）
の分子量５０００未満、（Ｂ）の分子量３５００未満で
は塗膜が硬くなって、バックコート削れが激しく、電磁
変換特性も低下し、また（Ｂ）の分子量１０００００を
超えると分散不良のため電磁変換特性が低下すると共に
、（Ｂ）が放射線硬化性の場合には、その特性が低下し
て強度低下を生じる。　　（Ｃ）については、分子量が
３０００を超えると架橋性が低下し、塗膜の強度が低下
する。　　（Ａ）はｌ００００〜８０ｏｏｏ、（Ｂ）は
３ｏｏｏ〜８００００、（Ｃ）は２００〜２５００が好
ましい分子量範囲で、（Ｂ）は放射線硬化性のものが、
架橋性を上げ、塗膜強度が大となるので好ましい。 （Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ，）の配合比率は、（Ａ）が２０
〜７０重量％、好ましくは３０〜７０重量％、（Ｂ）が
２０〜８０重量％、好ましくは２０〜６０重量％、（Ｃ
）が１０〜４０重量％、好ましくは１０〜３０重量％で
ある。 本発明の（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の化合物の分子量は、
次のような測定方法による数平均分子量によっている。 ※ＧＰＣによるバインダーの平均分子量測定Ｇ　　Ｐ　
　Ｃ（Ｇｅｌ　　Ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ　　Ｃｈｌｏｍ
ａｔｏｇｒａｐｂｙ）とは、試料の分子を移動相中のそ
の大きさに基いて分離する方法で、分子ふるいの役をす
る多孔質ゲルをカラムに充填し、液体クロマトグラフィ
ーを行う方法である。 平均分子量を算出するには、標準資料として分子量既知
のポリスチレンを使い、その溶出時間から検量線を作製
する。　これにより、ポリスチレン換算の平均分子量を
計算する。 与えられた高分子量物質中に分子量Ｍｉである分子がＮ
ｉ個あったとすると、 ΣＮｉ で表わせる。 本発明の（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の化合物における不飽
和二重結合は１分子当り（Ａ）は２以上、好ましくは５
以上、（Ｂ）は１以上、好ましくは５以上、（Ｃ）は１
以上、好ましくは３以上である。 本発明の放射線硬化性樹脂組成物の、特に好ましい組合
わせとしては、（Ａ）の化合物が一部ケン化した塩化ビ
ニール−酢酸ビニール共重合体、カルボン酸が導入され
た塩化ビニール−酢酸ビニール共重合体、フェノキシ樹
脂にポリイソシアネート化合物を反応させて得られたイ
ソシアネート基を有する化合物に、インシアネート基と
の反応性を有する官能基をもつアクリル化合物、あるい
はメタクリル化合物を反応させてなる化合物であり、（
Ｂ）の化合物がポリオールにインシアネート化合物を反
応させて得られた、インシアネート化合物またはポリオ
ール（ポリウレタネラストマー）に、反応性を有する官
能基をもつアクリル化合物あるいはメタクリル化合物を
反応させてなる化合物であり、（Ｃ）は多官能（メタ）
クリレートモノマー、オリゴエステルアクリレート、ま
たは（Ｂ）の低分子量化合物というものである。 また、本発明のバックコート層に用いられる有機バイン
ダー、トップコート層あるいはバ・ツクコート層に含ま
れる潤滑剤、酸化防止剤が放射線硬化型のものが好まし
い。 この場合、その架橋に使用する活性エメルギー線、線源
、照射条件等は上記したとおりである。 本発明のバックコート層には、前記光重合増感剤を加え
ることにより紫外線硬化を行うこともできる。 磁気記録媒体の製造に際し、熱硬化系バックコート面形
成においては、バックコート面を磁性面より先に形成す
ると、バックコート面の熱硬化処理はベースとは巻きし
まりのため、ベース面の表面粗度を低下させ好ましくな
い。 そのため、磁性面を形成した後、熱硬化処理を行ってい
た。　そのため、バックコート処理は、磁性塗膜を支持
体上に形成した後、その支持体の裏面になされるのが普
通であるが、本発明で放射線硬化性バインダーを用いた
ときは、バックコート面での巻きしまりがなく、またオ
ンライン硬化が可能なため、トップコート、バックコー
トの形成順序はどちらが先でもよい。 他方、用いる磁気ヘッドは、種々のものが使用できる。 この場合、磁気ヘッドとしては、少なくもギャップ部端
面を金属磁性体で構成したものであることが好適である
。 これにより、きわめて良好な電磁変換特性が得られ、し
かも走行が良好となり、ヘッド付着やヘッド目づまりも
良好となる。 この場合、コア全体を金属強磁性体から形成することも
でき、必要に応じ、ギャップ部端面を含むコアの一部を
金属強磁性体から形成することもできる。 第１図には、例えばフェライト等の強磁性体からなるコ
ア半休２１．２２のギャップ部端面に１〜５μｍ程度の
厚さの金属強磁性体３１゜３２をスパッタリング等によ
り被着し、ガラス質等のギャップ４を介してコア半休２
１．２２をつきあわせて磁気ヘッドｌを構成した例が示
される。 そして、その形状、構造等は公知のものであってよい。 ただ、ギャップ長ａは、前記のとおり、通常、０．１−
０．５＃Ｌｍ、特に０．１〜ｏ、４ルｍ、またトラック
輻は、通常、１０〜５０ＩＬｍ、特に１０〜２０ＩＬｍ
とする。 用いる金属強磁性体としては、種々のものが可能であり
、非晶質磁性金属、センダスト、ハードパーマロイ、パ
ーマロイ等の薄膜、薄板等はいずれも使用可能である。 ただ、これらのうちで、ヘッド目づまりないし付着が特
に少なく、電磁変換特性が良好なのは、Ｃｏを主成分と
する非晶質磁性合金である。 このような非晶質磁性合金としては、Ｃｏ７０〜９５ａ
ｔ％で、ガラス化元素として、Ｚｒ。 Ｎｂ、Ｔａ、Ｈｆ、Ｓｔ、Ｂ、Ｐ、Ｃ，ＡＨ等、特にｚ
ｒおよび／またはＮｂを５〜２０ａｔ％含有するものが
好適である。 あるいは、Ｃｏ６５〜８５ａｔ％で、ガラス化元素とし
て、Ｓ５および／またはＢを１５〜３５ａｔ％含有する
ものも好適である。 これらの場合、さらに１ｏａｔ％以下のＦｅ、２５ａｔ
％以下のＮｂ、総計２０ａｔ％以下のＣｒ　、　Ｔ　ｉ
　、　Ｒｕ　、Ｗ、Ｍｏ　、　Ｔ　ｉ　、Ｍｎ等１７１
１種以上が含有されていてもよい。 これら非晶質磁性合金は、スパッタリングや高速急冷法
等を用いて、コア半体ないしギャップ部等として形成さ
れる。 なお、センダストを用いて作製したヘッドを用いた場合
は、上記の場合に比して本発明のヘッド目づまり減少の
効果が少ない。 このような磁気ヘッドを用いて、前記した短体に対して
記録再生を行うには、いわゆるＶＨ５方式、ベータ方式
、８１ビデオ方式、Ｕ規格方式等公知のビデオ録画シス
テムに従えばよい。 ■　発明の具体的作用効果 本発明によれば、走行摩擦がきわめて小さくなり、安定
化する。 また、走行耐久性が格段と向上し、多数回走行後も走行
摩擦の増大がなく、くりかえし録画、再生回数が格段と
向上し、メチル特性が格段と向上する。 そして、走行安定性も高く、高温多湿から低温低湿まで
、巾広い条件下できわめて高い安定性を示す。 さらに、スペーシングロスにもとづく再生出力もきわめ
て小さい。 また、ノズルもきわめて少ない。 そして、ヘッドの目づまりやヘッドの付着もきわめて少
ない。 このような効果は、バックコート層を設けであることに
より、より効果があがる。 また、この効果は、金属強磁性体性へアトを用いるとき
、より高いものとなる。 なお、このような効果は、最低記録波長１ｊＬｍ未満の
高密度記録において、より一層高いものとなる。 ■　発明の具体的実施例 実施例１ 実質的に微粒子を含まない平滑なポリエステルフィルム
（厚さ１２μｍ）上にコロイダルシリカを塗布し、微小
突起を有する基板を得た。 突起高さは約１５０人、突起密度は約１０７個１ｍ■２
であった。 （１）磁性層の形成 １龜性ＪＬＩＬＬ 上記基板を円筒上冷却キャンの周面に沿わせて移動させ
、Ｑ２＋Ａｒ（容積比１　：　１）を毎分８００ｃｃの
早さで流し、真空度をｌ。 ０ＸＩＯ−’Ｔｏｒｒとしたチャンバー内で、Ｃ０８０
、Ｎ　ｉ　、２０よりなる合金を溶融し、入射角９０°
〜３０°の部分のみ斜め蒸着し、膜厚０．１５　μｍノ
ｃ　ｏ−Ｎ　ｉ　−０薄膜を形成した。 酸素はベースとの界面およびベースと反対側の表面に多
く偏在していた。 また、ベースと反対側の表面は、はぼ酸化物のみの覆わ
れていた。 Ｈｃ＝１００００ｅ。 膜中の平均酸素量は、ＣｏとＮ１に対する原子比 （−ｍ−ＴＸ　Ｉ　ＯＯ） ｏＮｓ ｔ’４０％であった。 強ＪＬ１１」」ヱ 上記基板を円筒状冷却キャンの周面の沿わせて移動させ
、真空度を５．０ＸＩＯ−１３丁Ｏｒｒとしたチャンバ
ー内で、　　　　　　ｉの場合と同様に蒸着した。　膜
厚は、０．１５ｐｍで実質的にＣｏ−Ｎｉよりなる。 このテープを９０℃、２０％ＲＨ雰囲気中で強制酸化し
、そのベースと反対側の表面を酸化物のみとした。 Ｈｃ＝９０Ｑ　　Ｏｓ、　　膜中の平均酸素量は、Ｃｏ
とＮｉに対する原子比で４５％であった。 強ｍ 酸素による酸化工程を省略した以外は、催１１貞１」と
同様に、上記基板を円筒状冷却キャンの周面に沿わせて
移動させ、真空度を５　、　ＯＸ　Ｉ　Ｏ”ＢＴｏｒｒ
としたチャンバー内で、弧［の場合と同様に蒸着した。 　膜 厚は、０．１５μｍで実質的にＣｏ−Ｎｆよりなるもの
であった。 Ｈｃ＝９５００ｅ。 （２）バックコート層の形成 バークコート　１　　　　　　　　　　重量部酸化亜鉛
　　　　　８０ＪＬｍ　　　　　　２００硬化剤　コロ
ネートＬ　　　　　　　　　　２０潤滑剤　ステアリン
酸変性シリコーン　　　４ステアリン酸ブチル　　　　
　　　２ 硝化綿　　　　　　　　　　　　　　　　。。 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体（
積木化学製、エスレックＡ）　　３０（Ｂ、Ｆグツドリ
ッチ社製、エラセン５７０．３）バー　コート　２　　
　　　　　　　　重量部カーボンブラック　　　　　　
　　　　　５０旭カーボン（株）製　１００Ｉ１０ ０ＩＬ、アクリル変性基ビー酢ビービニルアルコール共
重合体　分子量４５０００　　　５０（Ｂ）アクリル変
性ポリウレタナラシトマー分子量５０００　　　　　５
　’０ ステアリン酸　　　　　　　　　　　　　　　　２ステ
アリン酸ブチル　　　　　　　　　　　　２混合溶剤（
ＭＩＢＫ／）ルエン＝１／１）上記混合物をボールミル
中５時間分散させ、磁性面が形成されているポリエステ
ルフィルムの裏面に乾燥厚ＩＪＬになるように塗布し、
エレクトロカーテンタイプ電子線加速装置を用いそ加速
電圧１５０ＫｅＶ、電極電流１０ｍＡ、吸収線量５にｒ
ｅｄ、　Ｎ２ガス中で電子線をバックコート層に照射し
た。 バークコート　３　　　　　　　　　　重量部訪ル嘗鉛
　　　持俸　回置　　　　　　　３０　　　゛カーボン
ブラック　　　　　　　　　　　　２５アクリル変性塩
化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体（分
子量３万）４０アクリル変性ポルウレタンエラストマー
（分子量２万）４０ 多官能アクリレート　（分子量１０００）２０オレイン
酸　　　　　　　　　　　　　　　　４ステアリンメタ
クリレート　　　　　　　　　２混合溶剤（ＭＩＢＫ／
）ルエン）　　　２５０これらをバックコート層２と同
様に処理、製造した。　　　　　　′ バークコート　４　　　　　　　　　　重量部ＣａＣｏ
３８０ＩＬｍ　　　　　　　　　　５０アクリル変性塩
ビ一酢ビービニルアルコール共重合体　（分子量３００
００）　　　　　３０アクリル変性ポルウレタンエラス
トマ・−（分子量５００００）　　　　　３０ アクリル変性フエノキシ樹脂 （分子量３５０００）　　　　　２０ 多官能アクリレート　（分子量５００）　　２０ステア
リン酸　　　　　　　　　　　　　　　４混合溶剤（Ｍ
ＩＢＫ／）ルエン＝　１／１）これらを上記と同様に処
理、製造した。 （３）トップコート層の形成 トップコート組成 トープコート　　１　　　　　　　　　　重量部２．６
ジ第三ブチルｐ−クレゾール　　１．６アクリル変性塩
ビ一酢ビービニルアルコール共重合体（マレイン酸含有
）分子量２００００ＭＥＫ　　　　　　　　　　　　　
　　　１００アクリレート　　　　　　　　　　　　　
　３工ポキシ変性体（コハク酸含有）分子量６０００ミ
リスチン酸　　　　　　　　　　　　　０．３ミリスチ
ルアルコールの メタクリレート　　　　　　　　　　　　ｔ、。 ＭＥＫ／トルエン（１／１）　　　　　　　　　ｌ　Ｏ
Ｏト　−　　プ　コ　−　ト　　　　　　　３ジメチル
アミノメタクリレート　　　　　ｌフェノキシ変性体　
分子量３００００　　　０　、６アクリル変性ポリウレ
タン工ラストマー分子量４０００　　　　０　、８ フツ素（電解法）０．３ ＭＥＫ／ｌルエン（１／１）　　　　　　　　　１００
トープコート　の　　　よび ｉ−トップコート層ｌは、強磁性薄膜上に、トップコー
ト組成ｌをそのまま塗布し、加速電圧１５０　ＫｅＶ、
電極電流６ｍＡ、３　Ｍｒａｄ、　Ｎ　２ガス中で照射
を行った。 膜厚は２０人であった。 ２、トップコート層２は、強磁性薄膜上に、トップコー
ト組成２を塗布し、加速電圧１５０ＫｅＶ、電極電流６
腸＾、３　Ｎｒａｄ、　Ｎ　２ガス中で照射を行った。 膜厚は５０人であった。 ３、トップコート層３は、強磁性薄膜上に、トップコー
ト組成３を塗布し、加速電圧１５０ＫｅＶ、電極電流１
０ｍＡ、５　Ｎｒａｄ、　Ｎ　２ガス中で照射を行った
。 膜厚は４０人であった。 ’−Ｌｚヱユニュ１」　　　　　　　　重量部ａ、ジメ
チルアミノエチルメタクリレ−、ト　ｌエポキシ変性体
　分子量８００００　　０．５アクリル変性ポリウレタ
ン工ラウドマー分子量５０００　　　０．５ ＭＥＫ／トルエン（１／　１　）　　　　　１’　ＯＯ
このものを強磁性薄膜上に塗布、加速電圧１５０ＫｅＶ
、電極電流１０ｍＡ、５　Ｍｒａｄ、　Ｎ　２ガス中で
照射を行った。 その上に、 ｂ、ステアリルメタクリレート　　　　０．３フツ素オ
イル（テロメリゼーション法）０　、２ ＭＥＫ　　　　　　　　　　　　　　１００を塗布し、
加速電圧１５０ＫｅＶ、電極電流４ｍ、Ａ、２　Ｍｒａ
ｄ、　Ｎ　２ガス中で照射を行った。 膜厚は５０人であった。 ５　　、　　ト　−　　プ　コ　−　ト　　　　５強磁
性股上のトップコート組成４のａの上に４Ｘ１０’Ｔｏ
ｒｒの条件の雰囲気中でステアリルアルコールを吸着さ
せた。 膜厚は３０人であった。 ６　　、　　ト　−　　プ　コ　−　ト　　　　６強磁
性膜上のトップコート組成４のａの上に、　４Ｘ　Ｉ　
０−３Ｔｏｒｒの条件の雰囲気中でフッ素変性オイルを
吸着させた。 膜厚は２０人であった。 ト　−　プ　コ　−　ト　１ トップコート１の組成の中から放射線硬化型ポリマーを
除き、その除いた分量だけ酸化防止剤の分量をふやした
ものである。 ト　−　　プ　コ　−　ト　２ トップコート３の組成の中から放射基硬化型のポリマー
を除き、その除いた分量だけ酸化防止剤の分量を増した
ものである。 これらの磁気記録媒体および比較例の特性を次の表に示
す。 これら強磁性体薄膜およびトップコート膜を用いて表１
に示される媒体を作成した。 特性を下記に示す。 また、用いた磁気ヘッドは、第１図に示されるものであ
り、ギャップ長０．２５μｍ、トラック長２０μｍのも
のである。　この場合、コア半休２１．２２はフェライ
ト製、ギャップ端面は、スパッタリングにより形成した
３μｍ厚のＣｏ０．８ＮｉＯ，ｌＺｒ０．１　（原子比
）であり、ギャップ材はガラスとした。 また、比較用として、フェライト製磁気ヘッドを用いた
。 なお、１０５／ａ２は１．６Ｘ１０ｆｔである。 なお、上記特性の測定方法について、以下に記す。 １、スチル特性 ５ＭＨｚで記録し、再生出力のスチル特性を測定する。 １０分以上をＯＫレベルとする。 ２、磁性面側摩擦測定 磁気テープがシリンダー側に来るように巻きつけ、一方
の端面に２０ｇの負荷をかけ、シリンダーを９０°回転
したときの張力変化を読みとって摩擦測定をする。 ３、突起観察 ＳＥＭ　（走査型電子顕微鏡）およびＴＥＭ（透過型電
子顕微鏡）を使用 ４、出力 中心周波数５ＭＨｚで記録、再生した場合のＳＺＮ比（
相対値）を示す。 ＶＨ５のＶＴＲｔｔ改造し、５ＭＨｚｔテｌ１ｇ定でき
るようにする。 ５、目づまり 出力測定に用いたデツキを用い、所定回走行時の目づま
りを計測した。 ６、ヘッド付着 テープを５０パス走行後、光学顕微鏡で観察した。 ７、ガイド付着 テープを５０パス走粁移、光堂顯徹謔で側寄した。 ８、トップコート削れ 一般市販のＶＨ３方式ＶＴＲを改造し、４０℃、６０％
走行にて５０回走行後のトップコート面削れを観察する
。 実施例２ 磁性膜表面の突起高さおよび密度と特性の関係を次表に
示す。 なお、最短記録波長０．７μｍの信号を用いて実験を行
った。　磁気ヘッドは実施例１の非晶質ヘッドとフェラ
イトヘッドを用いた。 また、トップコートは、実施例１のトップコー）ＪｔＡ
’４を、磁性膜製造条件は実施例１のトップコート層ｌ
を、バックコート層は実施例１のバックコート層３を用
いた。 表　　　　　　２ １　　　５０　　２Ｘ１０６　　＋０．５　　　少　　
　非晶質２　　　５０　　５Ｘ１０９　　　０　　　　
　少　　　非晶質３　　１００　　４Ｘ１０６　−０．
１　　　無　　　非晶質４　　１００　　５Ｘ１０９　
　−０．１　　　無　　　非晶質５　　１００　　２Ｘ
１０１０−０．３　　　無　　　非晶質６　　、　２０
０　　３Ｘ１０１１　−０．３　　　無　　　非晶質７
　　２００　　４Ｘ１０”　　−０，４＠　　　　非晶
質８　　２００　　３Ｘ１０１０　−０．４　　　無　
　　非晶質９　　３００　　２Ｘ１０６　−０．３　　
　無　　　非晶質１０　　３００　　３Ｘ１０９　−０
．２　　　無　　　非晶質１１　　３００　　３ＸＩＯ
１０−０，５無　　　非晶質１２　　　−　　　　−　
　　　　０　　　　　大　　　非晶質１３　１０００　
　３ＸＩＯ”　　−８，０大　　　非晶質１４　　１０
０　　１Ｘ１０７　−０．１　　　中　　　非晶質１５
　　１００　　４ＸＩＯ１１−２，０中　　フェライト
１８　　２００　　４Ｘ１０９　−２．２　　　中　　
フェライト１７　　３００　　２ＸＩＯ”　　−２，０
中　　フェライト１８　１０００　　３Ｘ１０６　−１
１　　　　　大　　７ｘライト歴お、これらの磁性層表
面は、オージェ分光分析の結果、１００〜２００人の酸
化物層で覆われていることが判明した。 なお、上記実施例では、無機微粒子として、コロイダル
シリカを用いたが、他の物質１例えばアルミナゾル、チ
タンブラック、ジルコニアあるいは各種ヒドロシル等を
用いてもよいことは言うまでもない。 なお、Ｃｏ−Ｆｅ−Ｒｕ−Ｃｒ−３ｔ　−Ｂ系非晶質を
用いて作成したヘッドを用いた場合も、同様の結果かえ
られた。 また、センダストを用いて作成したヘッドを用いた場合
は、上記の場合に比べて効果が少なかった。

【図面の簡単な説明】

第１図は１本発明に用いる磁気ヘッドの１例を示す正面
図である。 ｌ　　・・・・磁気ヘッド。 ２１．２２・・・・コア半休。 ３１．３２・・・・金属強磁性体。 ４　　・・・・ギャップ

Claims (13)

【特許請求の範囲】
1. （１）可とう性基板上にＣｏを主成分とする強磁性金属
   薄膜層を設け、さらにこの強磁性金属薄膜層表面に有機
   物トップコート層を設け、しかも他方の面にバックコー
   ト層を設けた磁気記録媒体において、 有機物トップコート層が放射線硬化型化合物と、酸化防
   止剤または酸化防止剤および潤滑剤とを含有し、バック
   コート層が無機顔料、有機バインダーおよび潤滑剤を含
   有し、かつ強磁性金属薄膜が酸素を含んでおり、さらに
   磁気ヘッドのギャップ長をａとしたとき、媒体表面が１
   ｍｍ＾２当り平均１０＾５／ａ＾２以上の突起を有し、
   しかもこの突起が３０〜３００Åの高さを有することを
   特徴とする磁気記録媒体。
2. （２）可とう性が高分子からなり、この基板上に径が３
   ０〜３００Åの大きさを有する微粒子を配設し、その上
   に強磁性金属薄膜層および有機物トップコート層を設け
   てなる特許請求の範囲第１項に記載の磁気記録媒体。
3. （３）強磁性金属薄膜が、表面に強磁性金属の酸化物の
   層を有する特許請求の範囲第１項または第２項に記載の
   磁気記録媒体。
4. （４）バックコート層の有機バインダーが放射線硬化型
   樹脂である特許請求の範囲第１項ないし第３項のいずれ
   かに記載の磁気記録媒体。
5. （５）バックコート層の有機バインダーが、（Ａ）放射
   線により硬化性をもつ不飽和二重結合を２個以上有する
   分子量５０００〜１００００のプラスチック状化合物、 （Ｂ）放射線により硬化性をもつ不飽和二重結合を１個
   以上有するか、または放射線硬化性を有しない分子量３
   ０００〜１０００００のゴム状化合物、および （Ｃ）放射線により硬化性をもつ不飽和二重結合を１個
   以上有する分子量２００〜３０００の化合物 よりなる特許請求の範囲第１項ないし第４項のいずれか
   に記載の磁気記録媒体。
6. （６）トップコート層の酸化防止剤が放射線硬化型のも
   のである特許請求の範囲第１項ないし第５項のいずれか
   に記載の磁気記録媒体。
7. （７）トップコート層の潤滑剤が放射線硬化型のものを
   含むものである特許請求の範囲第１項ないし第６項のい
   ずれかに記載の磁気記録媒体。
8. （８）トップコート層の厚みが１０〜１００Åである特
   許請求の範囲第１項ないし第７項のいずれかに記載の磁
   気記録媒体。
9. （９）磁気ギャップ長ａが０．１〜０．５μｍである特
   許請求の範囲第１項ないし第８項のいずれかに記載の磁
   気記録媒体。
10. （１０）可とう性基板上にＣｏを主成分とする強磁性金
    属薄膜層を設け、かつ強磁性金属薄膜層表面に有機物ト
    ップコート層を設け、しかも他方の面にバックコート層
    を設けた磁気記録媒体と、磁気ヘッドとを用いて記録、
    再生を行う磁気記録方法において、 有機物トップコート層が放射線硬化型化合物と、酸化防
    止剤または酸化防止剤および潤滑剤とを含有し、バック
    コート層が無機顔料、有機バインダーおよび潤滑剤を含
    有し、かつ強磁性金属薄膜層が酸素を含んでおり、さら
    に磁気ヘッドのギャップ長をａμｍとしたとき、媒体の
    表面が１ｍｍ＾２当り平均１０＾６／ａ＾２個以上の突
    起を有し、しかもこの突起が３０〜３００Åの高さを有
    することを特徴とする磁気記録方法。
11. （１１）磁気ヘッドの少なくともギャップ部端面が金属
    強磁性体で構成されている特許請求の範囲第１０項に記
    載の磁気記録方法。
12. （１２）金属強磁性体がＣｏを主成分とする非晶質磁性
    合金である特許請求の範囲第１１項に記載の磁気記録方
    法。
13. （１３）磁気ヘッドのギャップ長ａが、０．１〜０．５
    μｍである特許請求の範囲第１０項ないし第１２項のい
    ずれかに記載の磁気記録方法。