JPH0762892B2 - 画像記録用磁気記録媒体 - Google Patents
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-
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
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- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
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Description
【発明の詳細な説明】 (イ)技術分野 この発明は磁気記録媒体に関し、特に出力変動、目づま
り、ドロップアウトの少ない、走行安定性及び耐久性等
のすぐれた、強磁性薄膜を磁気記録層とする強磁性薄膜
画像記録用テープに関するものである。
り、ドロップアウトの少ない、走行安定性及び耐久性等
のすぐれた、強磁性薄膜を磁気記録層とする強磁性薄膜
画像記録用テープに関するものである。
(ロ)従来技術及びその問題点 現在、磁気記録媒体は、オーディオ、ビデオ、コンピュ
ーター、磁気ディスク等の分野で広範囲に使用されるよ
うになっており、それに伴い、磁気記録媒体に記録する
情報量も年々増加の一途をたどり、そのため磁気記録媒
体に対しては記録密度の向上が益々要求されるようにな
ってきている。
ーター、磁気ディスク等の分野で広範囲に使用されるよ
うになっており、それに伴い、磁気記録媒体に記録する
情報量も年々増加の一途をたどり、そのため磁気記録媒
体に対しては記録密度の向上が益々要求されるようにな
ってきている。
塗布型の磁気記録媒体より薄型化が容易で飽和磁化も大
きい非バインダー型磁気記録媒体、即ち強磁性薄膜画像
記録用テープは、電磁変換特性上でもすぐれたものであ
るが、従来の強磁性薄膜テープはヘッドとの接触力(タ
ッチ)が弱いため、当りが悪く、出力変動、目づまり、
ドロップアウトが出やすいものであった。
きい非バインダー型磁気記録媒体、即ち強磁性薄膜画像
記録用テープは、電磁変換特性上でもすぐれたものであ
るが、従来の強磁性薄膜テープはヘッドとの接触力(タ
ッチ)が弱いため、当りが悪く、出力変動、目づまり、
ドロップアウトが出やすいものであった。
(ハ)問題点を解決するための手段 本発明者等はそれらの欠点を改善すべく、鋭意研究の結
果、非磁性基材上に強磁性薄膜を設けた磁気記録媒テー
プにおいて、強磁性薄膜画像記録テープ全体のスティフ
ネスが特定の範囲のものであるとき、出力変動、目づま
り、ドロプアウトの少ない走行安定性のある磁気テープ
が得られることを見出し、本発明に到達したものであ
る。
果、非磁性基材上に強磁性薄膜を設けた磁気記録媒テー
プにおいて、強磁性薄膜画像記録テープ全体のスティフ
ネスが特定の範囲のものであるとき、出力変動、目づま
り、ドロプアウトの少ない走行安定性のある磁気テープ
が得られることを見出し、本発明に到達したものであ
る。
すなわち、本発明は基体上に強磁性金属薄膜、その基体
の反対側にバックコート層を設けた磁気記録媒体であっ
て、基体フィルムがヤング率280〜800kg/cm2、厚さ6〜
12μmを有し、該磁気記録媒体テープ全体のスティフネ
スが、 〔式中、w:荷重(g)、 a:テープの輪の半径(mm) b:テープ巾(mm) d:テープ輪の変形量(mm)〕 であることを特徴とする強磁性薄膜画像記録用テープに
関するものである。
の反対側にバックコート層を設けた磁気記録媒体であっ
て、基体フィルムがヤング率280〜800kg/cm2、厚さ6〜
12μmを有し、該磁気記録媒体テープ全体のスティフネ
スが、 〔式中、w:荷重(g)、 a:テープの輪の半径(mm) b:テープ巾(mm) d:テープ輪の変形量(mm)〕 であることを特徴とする強磁性薄膜画像記録用テープに
関するものである。
上記式におけるスティフネスは次のようにして求めたも
のである。すなわち、強磁性薄膜画像記録テープのその
磁性面側(トップコートがあってもよい)を内側にし、
ベース面側(バックコートがあってもよい)を外側にし
て、該強磁性薄膜テープを丸めて一つの輪(リング)と
為し、該テープの輪の半径をa(mm)、テープ巾をb
(mm)とし、テープ面が基部に接するように静置した該
テープの輪の上部よりテープ面に荷重w(g)をかけた
時の力方向への変形量をd(mm)とし、各値を該式に当
てはめて求める。
のである。すなわち、強磁性薄膜画像記録テープのその
磁性面側(トップコートがあってもよい)を内側にし、
ベース面側(バックコートがあってもよい)を外側にし
て、該強磁性薄膜テープを丸めて一つの輪(リング)と
為し、該テープの輪の半径をa(mm)、テープ巾をb
(mm)とし、テープ面が基部に接するように静置した該
テープの輪の上部よりテープ面に荷重w(g)をかけた
時の力方向への変形量をd(mm)とし、各値を該式に当
てはめて求める。
テープの腰が強くて、該スティフネスの値が0.12g・mm
を超えると、出力変動、目づまり、ドロップアウトが出
やすい。これはヘッドタッチが弱いために、つまり高い
値となるとヘッドへの当りが悪いので、そのようなこと
が起こりやすい。0.12g・mm以下になると、腰がやわら
かくなるので、ヘッドタッチが良好となり、以上のよう
な欠点が解消されるのである。
を超えると、出力変動、目づまり、ドロップアウトが出
やすい。これはヘッドタッチが弱いために、つまり高い
値となるとヘッドへの当りが悪いので、そのようなこと
が起こりやすい。0.12g・mm以下になると、腰がやわら
かくなるので、ヘッドタッチが良好となり、以上のよう
な欠点が解消されるのである。
又、強磁性薄膜画像記録用テープ全体のスティフネスの
値が0.02g・mm以下となると、今度はヘッドタッチが強
くなりすぎて、走行ストップ、トップコート削れ、ヘッ
ド付着が増し、好ましくない。
値が0.02g・mm以下となると、今度はヘッドタッチが強
くなりすぎて、走行ストップ、トップコート削れ、ヘッ
ド付着が増し、好ましくない。
更に好ましい範囲は0.03〜0.09g・mmであった。
強磁性薄膜テープのスティフネスの調整はベースの厚
みを変えること、ベースの柔軟性のあるもの(ヤング
率の低いもの)を使用する。ベースとして片面が強固
のものと片面がヤング率の低いものとを組合わせる。
強磁性薄膜の強度を変える。バックコート層に柔軟性
のものを使用する。強磁性薄膜及び/又はバックコー
ト層の下に柔軟なものをアンダーコートする、又は顔料
を入れて固くする等によって行なうことができる。
みを変えること、ベースの柔軟性のあるもの(ヤング
率の低いもの)を使用する。ベースとして片面が強固
のものと片面がヤング率の低いものとを組合わせる。
強磁性薄膜の強度を変える。バックコート層に柔軟性
のものを使用する。強磁性薄膜及び/又はバックコー
ト層の下に柔軟なものをアンダーコートする、又は顔料
を入れて固くする等によって行なうことができる。
強磁性薄膜画像記録テープのベース(非磁性基材)とし
ては、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、芳
香族ポリエステル、ポリカーボネート、芳香族ポリアミ
ド、ポリスルホン、ポリイミド、ジアセテート、トリア
セテート、セロハン、硬質ポリ塩化ビニル、ポリプロピ
レンなどが挙げられ、又、この種のベースに通常使用さ
れるものはいずれも用いることができる。
ては、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、芳
香族ポリエステル、ポリカーボネート、芳香族ポリアミ
ド、ポリスルホン、ポリイミド、ジアセテート、トリア
セテート、セロハン、硬質ポリ塩化ビニル、ポリプロピ
レンなどが挙げられ、又、この種のベースに通常使用さ
れるものはいずれも用いることができる。
、、のベースについては、具体的には、これらの
ヤング率及びベース厚、ラミネート加工ベースによりス
ティフネスが調節できる。
ヤング率及びベース厚、ラミネート加工ベースによりス
ティフネスが調節できる。
は強磁性薄膜の酸素含有量、膜厚、材料により変える
ことができる。
ことができる。
はバック材料により変えることができる。
においては、アンダーコートは放射線硬化型の樹脂を
使用したり、微粒子顔料としてはSiO2、ZrO2、Cr2O3、A
l2O3、Y2O3、CeO2、Fe3O4、Fe2O3、ZrSiO4、Sb2O5、TiO
2等を用いることができる。これら微粒子顔料は、例え
ばSiO2の場合、 無水硅酸の超微粒子コロイド溶液(スノーテックス、
水系、メタノールシリカゾル等、日産化学) 精製四塩化ケイ素の燃焼によって製造される超微粒子
状無水シリカ(標準品100Å)(アエロジル、日本アエ
ロジル株式会社)などが挙げられる。
使用したり、微粒子顔料としてはSiO2、ZrO2、Cr2O3、A
l2O3、Y2O3、CeO2、Fe3O4、Fe2O3、ZrSiO4、Sb2O5、TiO
2等を用いることができる。これら微粒子顔料は、例え
ばSiO2の場合、 無水硅酸の超微粒子コロイド溶液(スノーテックス、
水系、メタノールシリカゾル等、日産化学) 精製四塩化ケイ素の燃焼によって製造される超微粒子
状無水シリカ(標準品100Å)(アエロジル、日本アエ
ロジル株式会社)などが挙げられる。
又、前記の超微粒子コロイド溶液及びと同様の気相
法で製造される超微粒子状の酸化アルミニウム、並びに
酸化チタン及び前述微粒子顔料が使用され得る。
法で製造される超微粒子状の酸化アルミニウム、並びに
酸化チタン及び前述微粒子顔料が使用され得る。
アンダーコート層はメタノールSiO2の場合はそのまま塗
布されていても良い。
布されていても良い。
微粒子顔料は1,000個〜1,000,000個/100μ2含まれてい
るのが良く、平均粒径500Å以下のものがよい。これら
の粒径、個数を変えることによってもヤング率の調整が
できる。
るのが良く、平均粒径500Å以下のものがよい。これら
の粒径、個数を変えることによってもヤング率の調整が
できる。
本発明の強磁性薄膜に用いられる強磁性金属あるいは強
磁性合金としては、鉄、コバルト、ニッケルその他の強
磁性金属あるいはFe−Co、Fe−Ni、Co−Ni、Fe−Rh、Fe
−Cu、Fe−Au、Co−Cu、Co−Au、Co−Y、Co−La、Co−
Pr、Co−Gd、Co−Sm、Co−Pt、Ni−Cu、Fe−Co−Nd、Mn
−Bi、Mn−Sb、Mn−Al、Co−Ni−P、Co−Ni−B、Fe−
Co−Ni、Ni−Co−Cr、Co−Ni−Ag、Co−Ni−Na、Co−Ni
−Ce、Co−Ni−Zn、Co−Ni−Ca、Co−Ni−W、Co−Ni−
Be、Co−Sm−Ca等のような磁性合金を挙げることができ
る。これらのものによりヤング率の調節が可能である。
磁性合金としては、鉄、コバルト、ニッケルその他の強
磁性金属あるいはFe−Co、Fe−Ni、Co−Ni、Fe−Rh、Fe
−Cu、Fe−Au、Co−Cu、Co−Au、Co−Y、Co−La、Co−
Pr、Co−Gd、Co−Sm、Co−Pt、Ni−Cu、Fe−Co−Nd、Mn
−Bi、Mn−Sb、Mn−Al、Co−Ni−P、Co−Ni−B、Fe−
Co−Ni、Ni−Co−Cr、Co−Ni−Ag、Co−Ni−Na、Co−Ni
−Ce、Co−Ni−Zn、Co−Ni−Ca、Co−Ni−W、Co−Ni−
Be、Co−Sm−Ca等のような磁性合金を挙げることができ
る。これらのものによりヤング率の調節が可能である。
強磁性薄膜は前記非磁性基材の上に直接あるいは非磁性
薄膜層を介して、上記金属又は合金を真空蒸着、スパッ
タリング、イオンプレーティング、メッキその他の方法
で形成され得、例えば特公昭57−29769号公報実施例5
に記載のような真空度5.0×10-6Torrの真空中で、その
幅方向が蒸発源に対して50゜傾斜して蒸着するもの、現
在一般に行なわれているところの、蒸着方向が長手方向
に傾斜(90゜〜30゜)し、幅方向には傾斜していないも
ので、雰囲気として、O2又はO2とArを導入しながら、〜
1×10-4Torrで蒸着したもの、その他、酸素の存在しな
い真空蒸着での蒸着膜を、例えば90℃、20%RH等の雰囲
気中で強制酸化し、そのベースと反対側の表面を酸化物
のみとするものなどを用いることができる。酸素を含有
する強磁性薄膜の酸素の含有量は(O/磁性金属)×100
で3〜60%である。
薄膜層を介して、上記金属又は合金を真空蒸着、スパッ
タリング、イオンプレーティング、メッキその他の方法
で形成され得、例えば特公昭57−29769号公報実施例5
に記載のような真空度5.0×10-6Torrの真空中で、その
幅方向が蒸発源に対して50゜傾斜して蒸着するもの、現
在一般に行なわれているところの、蒸着方向が長手方向
に傾斜(90゜〜30゜)し、幅方向には傾斜していないも
ので、雰囲気として、O2又はO2とArを導入しながら、〜
1×10-4Torrで蒸着したもの、その他、酸素の存在しな
い真空蒸着での蒸着膜を、例えば90℃、20%RH等の雰囲
気中で強制酸化し、そのベースと反対側の表面を酸化物
のみとするものなどを用いることができる。酸素を含有
する強磁性薄膜の酸素の含有量は(O/磁性金属)×100
で3〜60%である。
本発明の強磁性薄膜画像記録テープは、トップコート層
及びバックコート層が設けられていてもよい。トップコ
ート層を設けることにより摩擦レベルの低い、防錆性、
耐腐食性、走行安定性、耐久性のすぐれたものが得ら
れ、又、バックコート層を設けることにより、カール、
ドロップアウトが少なく、走行耐久性、電磁変換特性な
どのすぐれたものが得られる。
及びバックコート層が設けられていてもよい。トップコ
ート層を設けることにより摩擦レベルの低い、防錆性、
耐腐食性、走行安定性、耐久性のすぐれたものが得ら
れ、又、バックコート層を設けることにより、カール、
ドロップアウトが少なく、走行耐久性、電磁変換特性な
どのすぐれたものが得られる。
トップコート層、バックコート層の形成方法は、塗布
型、蒸着法、スパッタリング、イオンプレーティング、
メッキ法、グロー処理等、何であってもよい。塗布型の
場合、酸化防止剤、潤滑剤、モノマー、ポリマー、オリ
ゴマー、無機顔料等の1種以上の添加剤成分を溶剤で希
釈して強磁性金属薄膜上に薄く塗布する方法が、又蒸着
法の場合、該添加剤を大気中、不活性ガス中、あるいは
真空中で気化せしめてその蒸気を強磁性金属薄膜表面に
当てるなどの方法が、スパッタリング法では金属又は酸
化物よりなるもの等を、トップコート上に形成すること
ができる。また強磁性薄膜テープの上にプラズマ処理等
の特殊処理がされていてトップコート材の吸着性を上げ
ていても良い。
型、蒸着法、スパッタリング、イオンプレーティング、
メッキ法、グロー処理等、何であってもよい。塗布型の
場合、酸化防止剤、潤滑剤、モノマー、ポリマー、オリ
ゴマー、無機顔料等の1種以上の添加剤成分を溶剤で希
釈して強磁性金属薄膜上に薄く塗布する方法が、又蒸着
法の場合、該添加剤を大気中、不活性ガス中、あるいは
真空中で気化せしめてその蒸気を強磁性金属薄膜表面に
当てるなどの方法が、スパッタリング法では金属又は酸
化物よりなるもの等を、トップコート上に形成すること
ができる。また強磁性薄膜テープの上にプラズマ処理等
の特殊処理がされていてトップコート材の吸着性を上げ
ていても良い。
本発明のトップコート層は、酸化防止剤、潤滑剤、有機
バインダー、無機顔料、金属等のうち1種以上を含むこ
とができる。
バインダー、無機顔料、金属等のうち1種以上を含むこ
とができる。
塗布型及び蒸着方法での形成について挙げると、トップ
コート層には潤滑剤として従来この種磁気記録媒体に用
いられるシリコンオイル、弗素オイル、脂肪酸、脂肪酸
エステル、パラフィン、流動パラフィン、界面活性剤等
を用いることができるが、脂肪酸および/又は脂肪酸エ
ステルを用いるのが好ましい。
コート層には潤滑剤として従来この種磁気記録媒体に用
いられるシリコンオイル、弗素オイル、脂肪酸、脂肪酸
エステル、パラフィン、流動パラフィン、界面活性剤等
を用いることができるが、脂肪酸および/又は脂肪酸エ
ステルを用いるのが好ましい。
脂肪酸としてはカプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、
ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン
酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン
酸、ステアロール酸等の炭素数12以上の脂肪酸(RCOO
H、Rは炭素数11以上のアルキル基)であり、脂肪酸エ
ステルとしては、炭素数12〜16個の一塩基性脂肪酸と炭
素数3〜12個の一価のアルコールからなる脂肪酸エステ
ル類、炭素数17個以上の一塩基性脂肪酸と該脂肪酸の炭
素数と合計して炭素数が21〜23個より成る一価のアルコ
ールとから成る脂肪酸エステル等が使用される。
ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン
酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン
酸、ステアロール酸等の炭素数12以上の脂肪酸(RCOO
H、Rは炭素数11以上のアルキル基)であり、脂肪酸エ
ステルとしては、炭素数12〜16個の一塩基性脂肪酸と炭
素数3〜12個の一価のアルコールからなる脂肪酸エステ
ル類、炭素数17個以上の一塩基性脂肪酸と該脂肪酸の炭
素数と合計して炭素数が21〜23個より成る一価のアルコ
ールとから成る脂肪酸エステル等が使用される。
シリコーンとしては脂肪酸変性よりなるもの、一部フッ
素変性されているものが使用される。アルコールとして
は高級アルコールよりなるもの、フッ素としては電解置
換、テロメリゼーション、オリゴメリゼーション等によ
って得られるものが使用される。
素変性されているものが使用される。アルコールとして
は高級アルコールよりなるもの、フッ素としては電解置
換、テロメリゼーション、オリゴメリゼーション等によ
って得られるものが使用される。
潤滑剤の中では放射線硬化型のものも使用して好都合で
ある。これらは強磁性薄膜への裏型転写を抑えるため、
ドロップアウトの防止、ロール状に巻かれたときの内外
径の個所による出力差の減少の他、オンライン上での製
造が可能である等の利点を持つ。
ある。これらは強磁性薄膜への裏型転写を抑えるため、
ドロップアウトの防止、ロール状に巻かれたときの内外
径の個所による出力差の減少の他、オンライン上での製
造が可能である等の利点を持つ。
本発明のトップコート層に用い得る酸化防止剤は金属の
酸化を防止するものであれば、いずれのものでも良い
が、次のような通常の酸化防止剤が用いられる。これら
は1)フェノール系酸化防止剤、2)アミン系酸化防止
剤、3)リン系酸化防止剤、4)硫黄系酸化防止剤、
5)有機酸、アルコール、エステル系酸化防止剤、6)
キノン系酸化防止剤、7)無機酸、無機塩系酸化防止剤
のように構造的に大別される。
酸化を防止するものであれば、いずれのものでも良い
が、次のような通常の酸化防止剤が用いられる。これら
は1)フェノール系酸化防止剤、2)アミン系酸化防止
剤、3)リン系酸化防止剤、4)硫黄系酸化防止剤、
5)有機酸、アルコール、エステル系酸化防止剤、6)
キノン系酸化防止剤、7)無機酸、無機塩系酸化防止剤
のように構造的に大別される。
上記各種酸化防止剤の具体例を挙げると、 1)フェノール系酸化防止剤としては、2,6−ジ−第三
ブチル−p−クレゾール、2,6−ジ−第三ブチル−フェ
ノール、2,4−ジ−メチル−6−第三ブチル−フェノー
ル、ブチルヒドロキシアニソール、2,2′−メチレンビ
ス(4−メチル−6−第三ブチルフェノール)、4,4′
−ブチリデンビス(3−メチル−6−第三ブチルフェノ
ール)、4,4′−チオビス(3−メチル−6−第三ブチ
ルフェノール)、テトラキス〔メチレン−3(3,5−ジ
−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネー
ト〕メタン、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロ
キシ−5−第三ブチルフェニル)ブタン、ジブチルヒド
ロキシトルエン、没食子酸プロピル、グアヤク脂、ノル
ジヒドログアヤレチン酸等がある。放射線硬化型として
はモノグリコールサリチレート、2,5−ジ第三ブチルハ
イドロキノン、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2,
4,5−トリヒドロキシブチロフェノン、ハイドロキノン
等のメタクリレート、アクリレートタイプが挙げられ
る。
ブチル−p−クレゾール、2,6−ジ−第三ブチル−フェ
ノール、2,4−ジ−メチル−6−第三ブチル−フェノー
ル、ブチルヒドロキシアニソール、2,2′−メチレンビ
ス(4−メチル−6−第三ブチルフェノール)、4,4′
−ブチリデンビス(3−メチル−6−第三ブチルフェノ
ール)、4,4′−チオビス(3−メチル−6−第三ブチ
ルフェノール)、テトラキス〔メチレン−3(3,5−ジ
−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネー
ト〕メタン、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロ
キシ−5−第三ブチルフェニル)ブタン、ジブチルヒド
ロキシトルエン、没食子酸プロピル、グアヤク脂、ノル
ジヒドログアヤレチン酸等がある。放射線硬化型として
はモノグリコールサリチレート、2,5−ジ第三ブチルハ
イドロキノン、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2,
4,5−トリヒドロキシブチロフェノン、ハイドロキノン
等のメタクリレート、アクリレートタイプが挙げられ
る。
2)アミン系酸化防止剤としては、フェニル−β−ナフ
チルアミン、α−ナフチルアミン、N,N′−ジ−第二ブ
チル−p−フェニレンジアミン、フェノチアジン、N,
N′−ジフェニル−p−フェニレンジアミンの他、アル
カノールアミン、リン脂質等が挙げられる。アミン系で
もジメチルアミノエチルメタクリレート、アクリレート
等の放射線硬化可能のものが放射線硬化型として挙げら
れる。
チルアミン、α−ナフチルアミン、N,N′−ジ−第二ブ
チル−p−フェニレンジアミン、フェノチアジン、N,
N′−ジフェニル−p−フェニレンジアミンの他、アル
カノールアミン、リン脂質等が挙げられる。アミン系で
もジメチルアミノエチルメタクリレート、アクリレート
等の放射線硬化可能のものが放射線硬化型として挙げら
れる。
3)リン系酸化防止剤としては放射線硬化型或いは放射
線硬化型でないものが用いられ、リン酸エステル部分の
Rとしてはアルキル基、アルキルフェニル基、その他酸
化エチレン、酸化プロピレンを含有し、そのRとしてC
が1〜26が好ましく、更に好ましいのは1〜22である。
リン酸エステルとしてはモノ、ジ、トリのものが含ま
れ、モノあるいはジの成分が多いものであってもよく、
トリタイプのものはカットされていてもよい。またリン
酸エステルはNH4タイプのもの及びメタクリレートタイ
プ、アクリレートタイプのものも含まれる。具体的には
トリフェニルホスファイト、トリオクタデシルホスファ
イト、トリデシルホスファイト、トリラウリルトリチオ
ホスファイト等の亜リン酸エステルや、ヘキサメチルホ
スホリックトリアミド、ブチルホスフェート、セチルホ
スフェート、ブトキシエチルホスフェート、2−エチル
ヘキシルホスフェート、β−クロロエチルホスフェー
ト、ブトキシエチルホスフェートジエチルアミン塩、ジ
(2−エチルヘキシル)ホスフェート、エチレングリコ
ールアシッドホスフェート、(2−ヒドロキシエチル)
メタクリレート・ホスフェート、ブチルヒドロキシメタ
クリレート・ホスフェート、カプリルヒドロキシメタク
リレート・ホスフェート、ミリスチルヒドロキシメタク
リレート・ホスフェート、ステアリルヒドロキシメタク
リレート・ホスフェート、セチルヒドロキシメタクリレ
ート・ホスフェート、ブチルフェニルヒドロキシメタク
リレート・ホスフェート、アミルフェニルヒドロキシメ
タクリレート・ホスフェート、ノニルフェニルヒドロキ
シメタクリレート・ホスフェート、及びこれらのアクリ
レートタイプ、フェニルホスフェート、その他のアルコ
ール、及びノニルフェニル等のフェニルホスフェート、
バナジウム系酸性リン酸エステル等のリン酸エステルが
挙げられる。
線硬化型でないものが用いられ、リン酸エステル部分の
Rとしてはアルキル基、アルキルフェニル基、その他酸
化エチレン、酸化プロピレンを含有し、そのRとしてC
が1〜26が好ましく、更に好ましいのは1〜22である。
リン酸エステルとしてはモノ、ジ、トリのものが含ま
れ、モノあるいはジの成分が多いものであってもよく、
トリタイプのものはカットされていてもよい。またリン
酸エステルはNH4タイプのもの及びメタクリレートタイ
プ、アクリレートタイプのものも含まれる。具体的には
トリフェニルホスファイト、トリオクタデシルホスファ
イト、トリデシルホスファイト、トリラウリルトリチオ
ホスファイト等の亜リン酸エステルや、ヘキサメチルホ
スホリックトリアミド、ブチルホスフェート、セチルホ
スフェート、ブトキシエチルホスフェート、2−エチル
ヘキシルホスフェート、β−クロロエチルホスフェー
ト、ブトキシエチルホスフェートジエチルアミン塩、ジ
(2−エチルヘキシル)ホスフェート、エチレングリコ
ールアシッドホスフェート、(2−ヒドロキシエチル)
メタクリレート・ホスフェート、ブチルヒドロキシメタ
クリレート・ホスフェート、カプリルヒドロキシメタク
リレート・ホスフェート、ミリスチルヒドロキシメタク
リレート・ホスフェート、ステアリルヒドロキシメタク
リレート・ホスフェート、セチルヒドロキシメタクリレ
ート・ホスフェート、ブチルフェニルヒドロキシメタク
リレート・ホスフェート、アミルフェニルヒドロキシメ
タクリレート・ホスフェート、ノニルフェニルヒドロキ
シメタクリレート・ホスフェート、及びこれらのアクリ
レートタイプ、フェニルホスフェート、その他のアルコ
ール、及びノニルフェニル等のフェニルホスフェート、
バナジウム系酸性リン酸エステル等のリン酸エステルが
挙げられる。
4)硫黄系酸化防止剤としては、ジラウリルチオジプロ
ピオネート、ジステアリルチオジプロピオネート、ラウ
リルステアリルチオジプロピオネート、ジミリスチルチ
オジプロピオネート、ジステアリルβ,β′−チオジブ
チレート、2−メルカプトベンゾイミダゾール、ジラウ
リルサルファイドの他、4,4′−チオ−ビス(3−メチ
ル−6−第三ブチル−フェノール)、2,2′−チオ−ビ
ス(4−メチル−6−第三ブチルフェノール)等のメタ
クリレート、アクリレート等の放射線硬化型が挙げられ
る。またこれらは酸化エチレン、酸化プロピレンを含有
していてもよい。
ピオネート、ジステアリルチオジプロピオネート、ラウ
リルステアリルチオジプロピオネート、ジミリスチルチ
オジプロピオネート、ジステアリルβ,β′−チオジブ
チレート、2−メルカプトベンゾイミダゾール、ジラウ
リルサルファイドの他、4,4′−チオ−ビス(3−メチ
ル−6−第三ブチル−フェノール)、2,2′−チオ−ビ
ス(4−メチル−6−第三ブチルフェノール)等のメタ
クリレート、アクリレート等の放射線硬化型が挙げられ
る。またこれらは酸化エチレン、酸化プロピレンを含有
していてもよい。
5)有機酸、アルコール、エステル系酸化防止剤として
はソルビトール、グリセリン、プロピレングリコール、
アジピン酸、クエン酸、アスコルビン酸等が挙げられ、
これらの放射線硬化型であってもよい。
はソルビトール、グリセリン、プロピレングリコール、
アジピン酸、クエン酸、アスコルビン酸等が挙げられ、
これらの放射線硬化型であってもよい。
6)キノン系酸化防止剤としてはヒドロキノン、トコフ
ェロール等があり、これらの中で放射線硬化型であって
もよい。
ェロール等があり、これらの中で放射線硬化型であって
もよい。
7)無機酸、無機塩系酸化防止剤としてはリン酸がその
代表例として挙げられる。
代表例として挙げられる。
リン酸エステルの製法としては公知の方法で行なわれる
が、特公昭57−44223号公報記載の方法も挙げられる。
放射線硬化型酸化防止剤では強磁性薄膜へのオンライン
硬化ができるため熱硬化時の巻きしまりによる裏型転写
による表面性の劣化がなく、そのため出力の低下がな
い。そしてドロップアウトの防止、ロール状に巻かれた
ときの内外径の個所による出力差の減少といった特性上
の効果の他、オンライン上での製造が可能といった処理
上の効果もあげ得るものである。
が、特公昭57−44223号公報記載の方法も挙げられる。
放射線硬化型酸化防止剤では強磁性薄膜へのオンライン
硬化ができるため熱硬化時の巻きしまりによる裏型転写
による表面性の劣化がなく、そのため出力の低下がな
い。そしてドロップアウトの防止、ロール状に巻かれた
ときの内外径の個所による出力差の減少といった特性上
の効果の他、オンライン上での製造が可能といった処理
上の効果もあげ得るものである。
本発明トップコート層で用いることのできる有機バイン
ダーとしては、ポリマー、モノマー、オリゴマーがあ
る。
ダーとしては、ポリマー、モノマー、オリゴマーがあ
る。
ポリマーとしては、従来、磁気記録媒体用に利用されて
いる熱可塑性、熱硬化性又は反応型樹脂やこれらの混合
物が使用されるが、得られる塗膜強度等の点から硬化
型、特に放射線硬化型の樹脂が好ましい。
いる熱可塑性、熱硬化性又は反応型樹脂やこれらの混合
物が使用されるが、得られる塗膜強度等の点から硬化
型、特に放射線硬化型の樹脂が好ましい。
熱可塑性樹脂としては軟化温度が150℃以下、平均分子
量が10,000〜200,000、重合度が約200〜2,000程度のも
ので、例えば塩化ビニール−酢酸ビニール共重合体(カ
ルボン酸導入のものも含む)、塩化ビニル−酢酸ビニル
−ビニルアルコール共重合体(カルボン酸導入のものも
含む)、塩化ビニール−塩化ビニリデン共重合体、塩化
ビニール−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エス
テル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル
−塩化ビニリデン共重合体、アクリル酸エステル−スチ
レン共重合体、メタクリル酸エステル−アクリロニトリ
ル共重合体、メタクリル酸エステル−塩化ビニリデン共
重合体、メタクリル酸エステル−スチレン共重合体、ウ
レタンエラストマー、ナイロン−シリコン系樹脂、ニト
ロセルロース−ポリアミド樹脂、ポリフッ化ビニル、塩
化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、ブタジエン
−アクリロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビ
ニールブチラール、セルロース誘導体(セルロースアセ
テート、セルロースダイアセテート、セルローストリア
セテート、セルロースプロピオネート、ニトロセルロー
ス等)、スチレン−ブタジエン共重合体、ポリエステル
樹脂、クロロビニルエーテル−アクリル酸エステル共重
合体、アミノ樹脂、各種の合成ゴム系の熱可塑性樹脂及
びこれらの混合物が使用される。
量が10,000〜200,000、重合度が約200〜2,000程度のも
ので、例えば塩化ビニール−酢酸ビニール共重合体(カ
ルボン酸導入のものも含む)、塩化ビニル−酢酸ビニル
−ビニルアルコール共重合体(カルボン酸導入のものも
含む)、塩化ビニール−塩化ビニリデン共重合体、塩化
ビニール−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エス
テル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル
−塩化ビニリデン共重合体、アクリル酸エステル−スチ
レン共重合体、メタクリル酸エステル−アクリロニトリ
ル共重合体、メタクリル酸エステル−塩化ビニリデン共
重合体、メタクリル酸エステル−スチレン共重合体、ウ
レタンエラストマー、ナイロン−シリコン系樹脂、ニト
ロセルロース−ポリアミド樹脂、ポリフッ化ビニル、塩
化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、ブタジエン
−アクリロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビ
ニールブチラール、セルロース誘導体(セルロースアセ
テート、セルロースダイアセテート、セルローストリア
セテート、セルロースプロピオネート、ニトロセルロー
ス等)、スチレン−ブタジエン共重合体、ポリエステル
樹脂、クロロビニルエーテル−アクリル酸エステル共重
合体、アミノ樹脂、各種の合成ゴム系の熱可塑性樹脂及
びこれらの混合物が使用される。
熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては、塗布液の状態で
は200,000以下の分子量であり、塗布、乾燥後に加熱す
ることにより、縮合、付加等の反応により分子量は無限
大のものとなる。又、これらの樹脂のなかで、樹脂が熱
分解するまでの間に軟化又は溶解しないものが好まし
い。具体的には例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、
ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、ア
ルキッド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂、エ
ポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロースメラミン樹
脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポ
リマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシア
ネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオール
とポリイソシアネートの混合物、尿素ホルムアルデヒド
樹脂、低分子量グリコール/高分子量ジオール/トリフ
ェニルメタントリイソシアネートの混合物、ポリアミン
樹脂、及びこれらの混合物である。
は200,000以下の分子量であり、塗布、乾燥後に加熱す
ることにより、縮合、付加等の反応により分子量は無限
大のものとなる。又、これらの樹脂のなかで、樹脂が熱
分解するまでの間に軟化又は溶解しないものが好まし
い。具体的には例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、
ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、ア
ルキッド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂、エ
ポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロースメラミン樹
脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポ
リマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシア
ネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオール
とポリイソシアネートの混合物、尿素ホルムアルデヒド
樹脂、低分子量グリコール/高分子量ジオール/トリフ
ェニルメタントリイソシアネートの混合物、ポリアミン
樹脂、及びこれらの混合物である。
放射線硬化系樹脂については、ラジカル重合性を有する
不飽和二重結合を示すアクリル酸、メタクリル酸、ある
いはそれらのエステル化合物のようなアクリル系二重結
合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重結合、マ
レイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結合等の、放射
線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱可塑性樹
脂の分子中に含有または導入した樹脂等を用いることが
できる。その他、使用可能なバインダー成分としては、
単量体としてアクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミ
ド等がある。二重結合のあるバインダーとしては、種々
のポリエステル、ポリオール、ポリウレタン等をアクリ
ル二重結合を有する化合物で変性することもできる。更
に必要に応じて多価アルコールと多価カルボン酸を配合
することによって種々の分子量のものもできる。放射線
感応樹脂として上記のものはその一部であり、これらは
混合して用いることもできる。
不飽和二重結合を示すアクリル酸、メタクリル酸、ある
いはそれらのエステル化合物のようなアクリル系二重結
合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重結合、マ
レイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結合等の、放射
線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱可塑性樹
脂の分子中に含有または導入した樹脂等を用いることが
できる。その他、使用可能なバインダー成分としては、
単量体としてアクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミ
ド等がある。二重結合のあるバインダーとしては、種々
のポリエステル、ポリオール、ポリウレタン等をアクリ
ル二重結合を有する化合物で変性することもできる。更
に必要に応じて多価アルコールと多価カルボン酸を配合
することによって種々の分子量のものもできる。放射線
感応樹脂として上記のものはその一部であり、これらは
混合して用いることもできる。
前記放射線硬化型モノマー、放射線硬化型オリゴマー及
び放射線硬化型ポリマーとしては、イオン化エネルギー
に感応し、ラジカル重合性を示す不飽和二重結合を有す
アクリル酸、メタクリル酸、あるいはそれらのエステル
化合物のようなアクリル系二重結合、ジアリルフタレー
トのようなアリル系二重結合、アレイン酸、マレイン酸
誘導体等の不飽和結合等の、放射線照射による架橋ある
いは重合乾燥する基を分子中に含有または導入したモノ
マー、オリゴマー及びポリマー等を用いることができ
る。
び放射線硬化型ポリマーとしては、イオン化エネルギー
に感応し、ラジカル重合性を示す不飽和二重結合を有す
アクリル酸、メタクリル酸、あるいはそれらのエステル
化合物のようなアクリル系二重結合、ジアリルフタレー
トのようなアリル系二重結合、アレイン酸、マレイン酸
誘導体等の不飽和結合等の、放射線照射による架橋ある
いは重合乾燥する基を分子中に含有または導入したモノ
マー、オリゴマー及びポリマー等を用いることができ
る。
その他、シランカップリング剤、チタンカップリング剤
等が添加されていてもよい。
等が添加されていてもよい。
放射線硬化型モノマーとしては分子量2,000未満の化合
物が、オリゴマーとしては分子量2,000乃至1万のもの
が用いられる。
物が、オリゴマーとしては分子量2,000乃至1万のもの
が用いられる。
放射線硬化型バインダーを用いると、トップコート層の
製造上、連続処理が可能であり、オンライン上で処理で
きるので、省エネルギー、コストの低減に役立つ。
製造上、連続処理が可能であり、オンライン上で処理で
きるので、省エネルギー、コストの低減に役立つ。
バックコート層形成方法において、例えば塗布型よりな
るものの場合、バックコート層は無機顔料、有機バイン
ダー、潤滑剤等を含有する。
るものの場合、バックコート層は無機顔料、有機バイン
ダー、潤滑剤等を含有する。
無機顔料としては、1)導電性のあるカーボンブラッ
ク、グラファイト、また2)無機充填剤としてSiO2、Ti
O2、Al2O3、Cr2O3、SiC、CaO、CaCO3、酸化亜鉛、ゲー
サイト、αFe2O3、タルク、カオリン、CaSO4、窒化硼
素、フッ化黒鉛、二硫化モリブデン、ZnS等がある。こ
の様な無機顔料の使用量は1)に関してはバインダー10
0重量部に対して20〜200重量部、又2)に関しては10〜
300重量部が適当であり、無機顔料量があまり多くなる
と、塗膜がもろくなり、かえってドロップアウトが多く
なるという欠点がある。
ク、グラファイト、また2)無機充填剤としてSiO2、Ti
O2、Al2O3、Cr2O3、SiC、CaO、CaCO3、酸化亜鉛、ゲー
サイト、αFe2O3、タルク、カオリン、CaSO4、窒化硼
素、フッ化黒鉛、二硫化モリブデン、ZnS等がある。こ
の様な無機顔料の使用量は1)に関してはバインダー10
0重量部に対して20〜200重量部、又2)に関しては10〜
300重量部が適当であり、無機顔料量があまり多くなる
と、塗膜がもろくなり、かえってドロップアウトが多く
なるという欠点がある。
バックコート層について、潤滑剤、モノマー、オリゴマ
ー、ポリマーは前述のトップコート層で用いたものと同
様のものが使用される。
ー、ポリマーは前述のトップコート層で用いたものと同
様のものが使用される。
本発明のバックコート層で用いる有機バインダーは、従
来、磁気記録媒体用に利用されている熱可塑性、熱硬化
性又は反応型樹脂やこれらの混合物が使用されるが、得
られる塗膜強度等の点から硬化型、特に放射線硬化型の
樹脂が好ましい。
来、磁気記録媒体用に利用されている熱可塑性、熱硬化
性又は反応型樹脂やこれらの混合物が使用されるが、得
られる塗膜強度等の点から硬化型、特に放射線硬化型の
樹脂が好ましい。
熱硬化型の場合、硬化時の巻きしまりによるバックコー
ト面の裏型転移のため、熱硬化中のジャンボロールの内
側、外側での電磁変換特性の差が問題となる。
ト面の裏型転移のため、熱硬化中のジャンボロールの内
側、外側での電磁変換特性の差が問題となる。
これに対して、放射線硬化型樹脂の場合、製造上、連続
硬化が可能であり、硬化時間も短かく、上記の裏型転写
がないのでドロップアウトが防止でき、その上、放射線
硬化及びトップコート処理がオンライン上で処理できる
ので、省エネルギー対策、製造時の人員の減少にも役立
ち、コストの低減にもつながる。特性面では熱硬化時の
巻きしまりによるドロップアウトの他に、ロール状に巻
かれたときの内外径の個所の圧力のちがいにより磁気テ
ープの長さ方向の距離による出力差が生じることもなく
なる。
硬化が可能であり、硬化時間も短かく、上記の裏型転写
がないのでドロップアウトが防止でき、その上、放射線
硬化及びトップコート処理がオンライン上で処理できる
ので、省エネルギー対策、製造時の人員の減少にも役立
ち、コストの低減にもつながる。特性面では熱硬化時の
巻きしまりによるドロップアウトの他に、ロール状に巻
かれたときの内外径の個所の圧力のちがいにより磁気テ
ープの長さ方向の距離による出力差が生じることもなく
なる。
更にまた、この方法によれば溶剤を使用しない無溶剤型
の樹脂であっても短時間で硬化することができるので、
この様な樹脂をバックコート用として用いることができ
る。
の樹脂であっても短時間で硬化することができるので、
この様な樹脂をバックコート用として用いることができ
る。
トップコート層、バックコート層の潤滑剤、酸化防止
剤、有機バインダーが放射線硬化型の場合、その架橋に
使用する活性エネルギー線としては、放射線加速器を線
源とした電子線、Co60を線源としたα−線、Sr90を線源
としたβ−線、X線発生器を線源としたX線あるいは紫
外線等が使用される。
剤、有機バインダーが放射線硬化型の場合、その架橋に
使用する活性エネルギー線としては、放射線加速器を線
源とした電子線、Co60を線源としたα−線、Sr90を線源
としたβ−線、X線発生器を線源としたX線あるいは紫
外線等が使用される。
特に照射線源としては吸収線量の制御、製造工程ライン
への導入、電離放射線の遮蔽等の見地から放射線加熱器
により放射線を使用する方法が有利である。
への導入、電離放射線の遮蔽等の見地から放射線加熱器
により放射線を使用する方法が有利である。
上記バックコート層、及びトップコート層を硬化する際
に使用する放射線特性としては、透過力の面から加速電
圧100〜750KeV、好ましくは150〜300KeVの放射線加速器
を用い吸収線量を0.5〜20メガラッドになるように照射
するのが好都合である。
に使用する放射線特性としては、透過力の面から加速電
圧100〜750KeV、好ましくは150〜300KeVの放射線加速器
を用い吸収線量を0.5〜20メガラッドになるように照射
するのが好都合である。
本発明の放射線硬化に際しては、米国エナージーサイエ
ンス社にて製造されている低線量タイプの放射線加速器
(エレクトロカーテンシステム)等がテープコーティン
グ加工ラインへの導入、加速器内部の2次X線の遮蔽等
に極めて有利である。
ンス社にて製造されている低線量タイプの放射線加速器
(エレクトロカーテンシステム)等がテープコーティン
グ加工ラインへの導入、加速器内部の2次X線の遮蔽等
に極めて有利である。
勿論、従来より放射線加速材として広く活用されている
ところのファンデグラフ型加速器を使用してもよい。
ところのファンデグラフ型加速器を使用してもよい。
また放射線架橋に際しては、N2ガス、Heガス等の不活性
ガス気流中で放射線をバックコート層、トップコート層
に照射することが重要であり、空気中で放射線を照射す
ることは、バインダー成分の架橋に際し放射線照射によ
り生じたO3等の影響でポリマー中に生じたラジカルが有
利に架橋反応に働くことを阻害するので極めて不利であ
る。従って、活性エネルギー線を照射する部分の雰囲気
は、特に酸素濃度が最大で5%である、N2、He、CO2等
の不活性ガス雰囲気に保つことが重要となる。
ガス気流中で放射線をバックコート層、トップコート層
に照射することが重要であり、空気中で放射線を照射す
ることは、バインダー成分の架橋に際し放射線照射によ
り生じたO3等の影響でポリマー中に生じたラジカルが有
利に架橋反応に働くことを阻害するので極めて不利であ
る。従って、活性エネルギー線を照射する部分の雰囲気
は、特に酸素濃度が最大で5%である、N2、He、CO2等
の不活性ガス雰囲気に保つことが重要となる。
本発明のトップコート層には光重合増感剤を加えること
により紫外線硬化を行なうこともできる。該光重合増感
剤としては従来公知のものでよく、例えばベンゾインメ
チルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、α−メチル
ベンゾイン、α−クロルデオキシベンゾイン等のベンゾ
イン系、ベンゾフェノン、アセトフェノン、ビスジアル
キルアミノベンゾフェノン等のケトン類、アントラキノ
ン、フェナントラキノン等のキノン類、ベンジルジスル
フィド、テトラメチルチウラムモノスルフィド等のスル
フィド類、等を挙げることができる。光重合増感剤は樹
脂固形分に対し、0.1〜10重量%の範囲が望ましい。
により紫外線硬化を行なうこともできる。該光重合増感
剤としては従来公知のものでよく、例えばベンゾインメ
チルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、α−メチル
ベンゾイン、α−クロルデオキシベンゾイン等のベンゾ
イン系、ベンゾフェノン、アセトフェノン、ビスジアル
キルアミノベンゾフェノン等のケトン類、アントラキノ
ン、フェナントラキノン等のキノン類、ベンジルジスル
フィド、テトラメチルチウラムモノスルフィド等のスル
フィド類、等を挙げることができる。光重合増感剤は樹
脂固形分に対し、0.1〜10重量%の範囲が望ましい。
以上、塗布型のものについての例を記したが、蒸着方
法、スパッタ法、イオンプレーティング法、メッキ法等
によって行なわれる時はそれぞれに合った材料が適宜選
択される。
法、スパッタ法、イオンプレーティング法、メッキ法等
によって行なわれる時はそれぞれに合った材料が適宜選
択される。
(ニ)発明の効果 以上、記載のとおり、本発明にあっては強磁性薄膜画像
記録テープ全体のスティフネスを特定の数値範囲とする
ことにより、出力変動、目づまり、ドロップアウトの少
ない、又、走行ストップ、トップコート削れ、ヘッド付
着のないすぐれた効果が奏せられるものである。
記録テープ全体のスティフネスを特定の数値範囲とする
ことにより、出力変動、目づまり、ドロップアウトの少
ない、又、走行ストップ、トップコート削れ、ヘッド付
着のないすぐれた効果が奏せられるものである。
(ホ)発明の利用分野 本発明の磁気記録媒体である強磁性薄膜テープは、主に
ビデオテープとして利用できる。
ビデオテープとして利用できる。
近年、特に技術進歩が著しく、しかも市場性の拡大して
いるビデオカセットテープ、発売される8ミリビデオカ
セットテープ等には、本発明の、スティフネスが特定範
囲の強磁性薄膜テープは、極めて良好な電磁変換特性と
物性信頼性を有する高性能テープであるので、最適であ
る。
いるビデオカセットテープ、発売される8ミリビデオカ
セットテープ等には、本発明の、スティフネスが特定範
囲の強磁性薄膜テープは、極めて良好な電磁変換特性と
物性信頼性を有する高性能テープであるので、最適であ
る。
(ヘ)発明の具体的実施例 以下に本発明の実施例を示す。なお、本発明がこの実施
例に限定されるものでないことは理解されるべきであ
る。
例に限定されるものでないことは理解されるべきであ
る。
実施例1 (1)磁性層の形成 強磁性薄膜1 厚さ12μmのポリエステルフィルムを円筒状冷却キャン
の周面に沿わせて移動させ、O2+Ar(容積比1:1)を毎
分800ccの速さで流し真空度を1.0×10-4Torrとしたチャ
ンバー内で、Co80、Ni20よりなる合金を溶融し、入射角
90゜〜30゜の部分のみ斜め蒸着し膜厚0.15μmのCo−Ni
−O薄膜を形成した。酸素はベースとの界面およびベー
スと反対側の表面に多く偏在していた。またベースと反
対側の表面はほぼ酸化物のみで覆われていた。Hc=1000
Oe。
の周面に沿わせて移動させ、O2+Ar(容積比1:1)を毎
分800ccの速さで流し真空度を1.0×10-4Torrとしたチャ
ンバー内で、Co80、Ni20よりなる合金を溶融し、入射角
90゜〜30゜の部分のみ斜め蒸着し膜厚0.15μmのCo−Ni
−O薄膜を形成した。酸素はベースとの界面およびベー
スと反対側の表面に多く偏在していた。またベースと反
対側の表面はほぼ酸化物のみで覆われていた。Hc=1000
Oe。
膜中の平均酸素量はCoとNiに対する原子比 で40%であった。
強磁性薄膜2 厚さ12μmのポリエステルフィルムを円筒状冷却キャン
の周面に沿わせて移動させ、真空度を5.0×10-5Torrと
したチャンバー内で、強磁性薄膜1の場合と同様に蒸着
した。膜厚は0.15μmで実質的にCo−Niより成る。
の周面に沿わせて移動させ、真空度を5.0×10-5Torrと
したチャンバー内で、強磁性薄膜1の場合と同様に蒸着
した。膜厚は0.15μmで実質的にCo−Niより成る。
このテープを90℃、20%RH雰囲気中で強制酸化し、その
ベースと反対側の表面を酸化物のみとした。Hc=900O
e。膜中の平均酸素量はCoとNiに対する原子比で45%で
あった。
ベースと反対側の表面を酸化物のみとした。Hc=900O
e。膜中の平均酸素量はCoとNiに対する原子比で45%で
あった。
強磁性薄膜3 酸素による酸化工程を省略した以外は強磁性薄膜2と同
様に厚さ12μmのポリエステルフィルムを円筒状冷却キ
ャンの周面に沿わせて移動させ、真空度を5.0×10-5Tor
rとしたチャンバー内で、強磁性薄膜1の場合と同様に
蒸着した。膜厚は0.15μmで実質的にCo−Niより成るも
のであった。Hc=950Oe。
様に厚さ12μmのポリエステルフィルムを円筒状冷却キ
ャンの周面に沿わせて移動させ、真空度を5.0×10-5Tor
rとしたチャンバー内で、強磁性薄膜1の場合と同様に
蒸着した。膜厚は0.15μmで実質的にCo−Niより成るも
のであった。Hc=950Oe。
(2)バックコート層の形成 バックコート層1(熱硬化型) 重量部 酸化亜鉛 80mμ 200 硬化剤 コロネートL 20 潤滑剤 ステアリン酸変性シリコーン 4 ステアリン酸ブチル 2 硝化綿 40 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重 合体(積水化学製、エスレックA) 30 ポリウレタンエラストマー(B.Fグッドリッチ 社製、エッセン5703) 30 混合溶剤(MIBK/トルエン)250重量部の混合物を良く混
合溶解させる。
合溶解させる。
この塗料を15μのポリエステルフィルム上に塗布し、赤
外線ランプまたは熱風により溶剤を乾燥させた後、表面
平滑化処理後、80℃に保持したオープン中にロールを48
時間保持し、イソシアネートによる架橋反応を促進させ
た。
外線ランプまたは熱風により溶剤を乾燥させた後、表面
平滑化処理後、80℃に保持したオープン中にロールを48
時間保持し、イソシアネートによる架橋反応を促進させ
た。
バックコート層2 重量部 硫化亜鉛 50mμ 30 カーボンブラック 25 アクリル変性塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルア ルコール共重合体(分子量3万) 40 アクリル変性ポリウレタンエラストマー分子量2 0,000 40 多官能アクリレート分子量1,000 20 ステアリン酸 4 ステアリン酸ブチル 2 混合溶剤(MIBK/トルエン) 250 上記混合物をボールミル中5時間分散させ、磁性面が形
成されているポリエステルフィルムの裏面に乾燥厚1μ
になるように塗布し、エレクトロカーテンタイプ電子線
加速装置を用いて加速電圧150KeV、電極電流10mA、吸収
線量5Mrad、N2ガス中で電子線をバックコート層に照射
した。
成されているポリエステルフィルムの裏面に乾燥厚1μ
になるように塗布し、エレクトロカーテンタイプ電子線
加速装置を用いて加速電圧150KeV、電極電流10mA、吸収
線量5Mrad、N2ガス中で電子線をバックコート層に照射
した。
バックコート層3 重量部 CaCO3 80mμ 50 アクリル変性塩ビ−酢ビ−ビニルアルコール共重 合体 分子量30,000 30 アクリル変性ポリウレタンエラストマー 分子量 50,000 30 アクリル変性フェノキシ樹脂 分子量35,00 0 20 多官能アクリレート 分子量500 20 ステアリン酸 4 溶剤(MEK/トルエン=1/1) 300 これらを上記と同様に処理、製造した。
(3)トップコート層の形成 ◎トップコート組成 トップコート組成1 重量部 メタクリロキシエチルホスフェート 0.5 ペンタエリスリトールテトラアクリレート(二重 結合1個あたりの分量88) 0.4 ステアリン酸 0.1 アノン 100 トップコート組成2 ジメチルアミノエチルメタクリレート 0.6 パークロロアルキルアクリレート 0.2 アノン 100 トップコート組成3 モノグリコールサリチレートアクリレート 0.3 多官能オリゴエステルアクリレート(アロックスM−81
00東亜合成化学工業株式会社)(同約200) 0.6 パルミチルパルミテート 0.1 アノン 100 ◎トップコート層の製造及び性状 1.トップコート層1は強磁性薄膜(1)〜(3)上、ト
ップコート組成1をそのまま塗布し、加速電圧150KeV、
電極電流6mA、3Mrad、N2ガス中で照射を行なった結果、
膜厚100Åのものが得られた。
00東亜合成化学工業株式会社)(同約200) 0.6 パルミチルパルミテート 0.1 アノン 100 ◎トップコート層の製造及び性状 1.トップコート層1は強磁性薄膜(1)〜(3)上、ト
ップコート組成1をそのまま塗布し、加速電圧150KeV、
電極電流6mA、3Mrad、N2ガス中で照射を行なった結果、
膜厚100Åのものが得られた。
2.トップコート層2は強磁性薄膜(1)〜(3)上、ト
ップコート組成2を塗布し、加速電圧150KeV、電極電流
6mA、3Mrad、N2ガス中で照射を行なった。膜厚が60Åで
あった。
ップコート組成2を塗布し、加速電圧150KeV、電極電流
6mA、3Mrad、N2ガス中で照射を行なった。膜厚が60Åで
あった。
3.トップコート層3は強磁性薄膜(1)〜(3)上、ト
ップコート組成3を塗布し、加速電圧150KeV、電極電流
10mA、5Mrad、N2ガス中で照射を行なった。膜厚が100Å
であった。
ップコート組成3を塗布し、加速電圧150KeV、電極電流
10mA、5Mrad、N2ガス中で照射を行なった。膜厚が100Å
であった。
4.トップコート組成4 重量部 a.ジメチルアミノエチルメタクリレート 0.6 アノン 100 このものを強磁性薄膜(1)上に塗布、加速電圧150Ke
V、電極電流10mA、5Mrad、N2ガス中で照射を行なった。
V、電極電流10mA、5Mrad、N2ガス中で照射を行なった。
その上に b.ステアリルメタクリレート 0.1 フッ素オイル(テロメリゼーション法) 0.2 MEK 100 を塗布、加速電圧150KeV、電極電流4mA、2Mrad、N2ガス
中で照射を行なった。膜厚70Åであった。
中で照射を行なった。膜厚70Åであった。
5.強磁性薄膜(2)上のトップコート組成4のaの上に
4×10-3Torrの条件の雰囲気中でステアリルアルコール
を吸着させた。さらにその上に4×10-3Torrの条件の雰
囲気中でフッ素変性オイルを吸着させた。膜厚は70Åで
あった。
4×10-3Torrの条件の雰囲気中でステアリルアルコール
を吸着させた。さらにその上に4×10-3Torrの条件の雰
囲気中でフッ素変性オイルを吸着させた。膜厚は70Åで
あった。
以下、実施例を示す。
.ベースの厚みを変えることによるスティフネスの調
節 強磁性薄膜1において、バランスタイプのポリエステル
(ヤング率400kg/mm2)ベースの膜厚を変えることによ
りスティフネスの調節ができる。例えば、強磁性薄膜1
−トップ層1−バック層2の組合せにおける強磁性薄膜
のバランスタイプポリエステルのベース膜厚を、12、1
1.5、11、10、8、6.8、6、5μmと変えたときのステ
ィフネスを見た結果を、添付の図に示す。なお、ここで
は、ポリエステルフィルムの上にコロイダルシリカ100
Åのものを1万個/100μ2アンダーコート塗布し、その
上に強磁性薄膜を形成したものを用いた。
節 強磁性薄膜1において、バランスタイプのポリエステル
(ヤング率400kg/mm2)ベースの膜厚を変えることによ
りスティフネスの調節ができる。例えば、強磁性薄膜1
−トップ層1−バック層2の組合せにおける強磁性薄膜
のバランスタイプポリエステルのベース膜厚を、12、1
1.5、11、10、8、6.8、6、5μmと変えたときのステ
ィフネスを見た結果を、添付の図に示す。なお、ここで
は、ポリエステルフィルムの上にコロイダルシリカ100
Åのものを1万個/100μ2アンダーコート塗布し、その
上に強磁性薄膜を形成したものを用いた。
またこれらの磁気テープの特性を第1表に示す。
第1表のように、スティフネスが0.12を越えると、ヘッ
ドタッチが悪くなり、初期特性で出力変動、目づまりが
増加する。そのためドロップアウトが多い。トップコー
ト削れ、ヘッド付着は小である。このことから、ヘッド
タッチが悪いため目づまり、出力変動を発生することが
わかる。
ドタッチが悪くなり、初期特性で出力変動、目づまりが
増加する。そのためドロップアウトが多い。トップコー
ト削れ、ヘッド付着は小である。このことから、ヘッド
タッチが悪いため目づまり、出力変動を発生することが
わかる。
一方、スティフネスが0.02より小であると、摩擦が高い
ため走行不安定であり、出力変動が大となり、ヘッドタ
ッチが強すぎるため目づまりが発生しやすい。そのため
ドロップアウトも多い。摩擦が高いため2回目で走行ス
トップを発生した。
ため走行不安定であり、出力変動が大となり、ヘッドタ
ッチが強すぎるため目づまりが発生しやすい。そのため
ドロップアウトも多い。摩擦が高いため2回目で走行ス
トップを発生した。
このようにスティフネスを0.12〜0.02の範囲におさえる
ことにより、電特、物性上非常にすぐれた記録媒体とな
る。
ことにより、電特、物性上非常にすぐれた記録媒体とな
る。
.ベースのヤング率を変えることによるスティフネス
の調整 1)11.5μベースのものをポリエステルベースバラン
スタイプヤング率280kg/cm2に変えることによりスティ
フネスが0.10g・mmとなった。
の調整 1)11.5μベースのものをポリエステルベースバラン
スタイプヤング率280kg/cm2に変えることによりスティ
フネスが0.10g・mmとなった。
2)の10.0μベースのものをヤング率800kg/mm2のポ
リエステルベースのテンサライズのものを用いたところ
スティフネスが0.18g・mmとなった。
リエステルベースのテンサライズのものを用いたところ
スティフネスが0.18g・mmとなった。
1)のものは出力変動が0.2dB、目づまりもなく、ドロ
ップアウトも100個以内と良好なものとなった。また耐
久走行性でもすぐれたものであった。
ップアウトも100個以内と良好なものとなった。また耐
久走行性でもすぐれたものであった。
2)のものはスティフネスが0.12g・mmを越えるためヘ
ッドタッチが悪くなり、出力変動、目づまりが大とな
り、ドロップアウトも大となった。
ッドタッチが悪くなり、出力変動、目づまりが大とな
り、ドロップアウトも大となった。
.ラミネーションベースを用いることによるスティフ
ネスの調整 の11.5μベースのものをポリエステルベースバランス
タイプヤング率400kg/cm2、ポリプロピレン100kg/cm2の
ラミネーションベースにすることによりスティフネスが
0.09g・mmとなった。
ネスの調整 の11.5μベースのものをポリエステルベースバランス
タイプヤング率400kg/cm2、ポリプロピレン100kg/cm2の
ラミネーションベースにすることによりスティフネスが
0.09g・mmとなった。
スティフネスを低くすることにより、出力変動も少な
く、目づまりもなく、ドロップアウトも少ない良好なも
のとなった。
く、目づまりもなく、ドロップアウトも少ない良好なも
のとなった。
.バックコート層に柔軟性のものを用いることによる
スティフネスの調整 例えば強磁性薄膜2(ポリエステルベース10μm)−バ
ックコート層1−トップコート層2の組合せでは、この
もののスティフネスは0.12g・mmであるため、出力変
動、目づまり、ドロップアウトが良好であった。
スティフネスの調整 例えば強磁性薄膜2(ポリエステルベース10μm)−バ
ックコート層1−トップコート層2の組合せでは、この
もののスティフネスは0.12g・mmであるため、出力変
動、目づまり、ドロップアウトが良好であった。
これをバックコート層を蒸着方法でZnを真空度5×10-6
Torrで形成し、その上にステアリン酸を蒸着方法で固着
させた。スティフネスが0.13g・mmであった。スティフ
ネスが0.12g・mmを越えるためヘッドタッチが悪くな
り、出力変動、目づまりが大となり、ドロップアウトも
大となった。
Torrで形成し、その上にステアリン酸を蒸着方法で固着
させた。スティフネスが0.13g・mmであった。スティフ
ネスが0.12g・mmを越えるためヘッドタッチが悪くな
り、出力変動、目づまりが大となり、ドロップアウトも
大となった。
このことはバックコートの膜厚を変えることによっても
言える。
言える。
.その他 1)強磁性薄膜の厚さ、強度 2)強磁性薄膜及び/又はバックコートの下に柔軟なも
のをアンダーコートするか、又は顔料を入れて固くす
る。
のをアンダーコートするか、又は顔料を入れて固くす
る。
この場合、アンダーコートは放射線硬化型の樹脂を使用
したり、微粒子顔料SiO2、ZrO2、Cr2O3、Al2O3、Y2O3、
CeO2、Fe3O4、Fe2O3、ZrSiO4、Sb2O、TiO2等を用いるこ
とができる。これら微粒子顔料は、例えばSiO2の場合、 無水珪酸の超微粒子コロイド溶液(スノーテックス、
水系、メタノールシリカゾル等、日産化学) 精製四塩化ケイ素の燃焼によって製造される超微粒子
状無水シリカ(標準品100Å)(アエロジル、日本アエ
ロジル株式会社)などが挙げられる。
したり、微粒子顔料SiO2、ZrO2、Cr2O3、Al2O3、Y2O3、
CeO2、Fe3O4、Fe2O3、ZrSiO4、Sb2O、TiO2等を用いるこ
とができる。これら微粒子顔料は、例えばSiO2の場合、 無水珪酸の超微粒子コロイド溶液(スノーテックス、
水系、メタノールシリカゾル等、日産化学) 精製四塩化ケイ素の燃焼によって製造される超微粒子
状無水シリカ(標準品100Å)(アエロジル、日本アエ
ロジル株式会社)などが挙げられる。
又、前記の超微粒子コロイド溶液及びと同様の気相
法で製造される超微粒子状の酸化アルミニウム、並びに
酸化チタン及び前述微粒子顔料が使用され得る。
法で製造される超微粒子状の酸化アルミニウム、並びに
酸化チタン及び前述微粒子顔料が使用され得る。
アンダーコート層はメタノールSiO2の場合はそのまま塗
布されていても良い。
布されていても良い。
微粒子顔料は1,000個〜1,000,000個/100μ2含まれてい
るものが良く、平均粒径500Å以下のもの(200Å未満、
特に150Å以下)が良い。これらの粒径、個数を変える
ことによってもヤング率の調整ができる。
るものが良く、平均粒径500Å以下のもの(200Å未満、
特に150Å以下)が良い。これらの粒径、個数を変える
ことによってもヤング率の調整ができる。
3)トップコート層に上記微粒子顔料を含有することに
よってもヤング率の調整ができる。
よってもヤング率の調整ができる。
以上のことは強磁性薄膜3、バックコート3、トップコ
ート3、4についても言える。
ート3、4についても言える。
上記特性の測定方法について以下に記す。
1.スティフネス で表示される。
w:荷重(g) a:テープの輪の半径(mm) b:テープ巾(mm) d:テープの輪の変形量(mm) 2.出力変動 中心周波数5MHzで記録、再生した場合の出力の変動を見
た。
た。
3.ドロップアウト 20℃、60%でVHSデッキを用い5MHzの単一信号を記録
し、再生した場合の信号が、平均再生レベルより18dB以
上低下する時間が15μ秒以上であるものの個数を、サン
プル10個について1分間当りで数え、その平均をとる。
し、再生した場合の信号が、平均再生レベルより18dB以
上低下する時間が15μ秒以上であるものの個数を、サン
プル10個について1分間当りで数え、その平均をとる。
4.トップコート削れ 一般市販のVHS方式VTRを改造し、20℃、60%走行にて30
回走行後のトップコート削れを観察する。
回走行後のトップコート削れを観察する。
5.エッヂキズ 30回走行後のもののテープエッヂのキズを目視で判定す
る。
る。
添付の図面は、本発明の強磁性薄膜画像記録用テープに
おける、ベース厚とスティフネスとの関係の一例を示す
グラフである。
おける、ベース厚とスティフネスとの関係の一例を示す
グラフである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石崎 秀樹 東京都中央区日本橋1丁目13番1号 テイ ーデイーケイ株式会社内 (56)参考文献 特開 昭57−167126(JP,A) 特開 昭57−167127(JP,A)
Claims (2)
- 【請求項1】基体上に強磁性金属薄膜、その基体の反対
側にバックコート層を設けた磁気記録媒体であって、基
体フィルムがヤング率280〜800kg/cm2、厚さ6〜12μm
を有し、該磁気記録媒体テープ全体のスティフネスが、 〔式中、w:荷重(g)、 a:テープの輪の半径(mm) b:テープ巾(mm) d:テープ輪の変形量(mm)〕 であることを特徴とする強磁性薄膜画像記録用テープ。 - 【請求項2】トップコート層が形成されている特許請求
の範囲第1項記載の強磁性薄膜画像記録用テープ。
Priority Applications (4)
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|---|---|---|---|
| JP59116595A JPH0762892B2 (ja) | 1984-06-08 | 1984-06-08 | 画像記録用磁気記録媒体 |
| GB08513202A GB2159731B (en) | 1984-06-08 | 1985-05-24 | Magnetic recording medium for image recording |
| US06/738,780 US4693934A (en) | 1984-06-08 | 1985-05-29 | Magnetic recording medium for image recording |
| DE19853519928 DE3519928A1 (de) | 1984-06-08 | 1985-06-04 | Magnetisches aufzeichnungsmedium fuer bildaufzeichnung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59116595A JPH0762892B2 (ja) | 1984-06-08 | 1984-06-08 | 画像記録用磁気記録媒体 |
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| JPS60261020A JPS60261020A (ja) | 1985-12-24 |
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Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
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| JP (1) | JPH0762892B2 (ja) |
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-
1984
- 1984-06-08 JP JP59116595A patent/JPH0762892B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1985
- 1985-05-24 GB GB08513202A patent/GB2159731B/en not_active Expired
- 1985-05-29 US US06/738,780 patent/US4693934A/en not_active Expired - Lifetime
- 1985-06-04 DE DE19853519928 patent/DE3519928A1/de active Granted
Also Published As
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| GB2159731B (en) | 1987-09-30 |
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