JPS6285403A - 磁気記録媒体 - Google Patents
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Landscapes
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- Paints Or Removers (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
■ 発明の背景
技術分野
本発明は磁気記録媒体に関し、特にビデオ用、オーディ
オ用等の磁気記録媒体に使用される磁性粒子の組成の改
良に関するものである。
オ用等の磁気記録媒体に使用される磁性粒子の組成の改
良に関するものである。
先行技術とその問題点
近年、家庭用VTRの普及や高性能オーディオカセット
テープ、ビデオテープ、コンピュータテープ、多重コー
トテープ、磁気ディスク。
テープ、ビデオテープ、コンピュータテープ、多重コー
トテープ、磁気ディスク。
フロッピーディスク、磁気カード等の実用化がはかられ
、それにともなって磁気記録媒体に使用する磁性粒子材
料が種々開発されている。
、それにともなって磁気記録媒体に使用する磁性粒子材
料が種々開発されている。
そのなかで、代表的なものは針状酸化鉄である。 しか
し、これのみでは磁気記録の高密度化に対処できず、さ
らにコバルト被着酸化鉄粒子および磁性金属を使用した
金属磁性粒子が検討され、高性能オーディオカセットテ
ープ、ビデオテープ、名種磁気ディスク等で一部実用化
されている。
し、これのみでは磁気記録の高密度化に対処できず、さ
らにコバルト被着酸化鉄粒子および磁性金属を使用した
金属磁性粒子が検討され、高性能オーディオカセットテ
ープ、ビデオテープ、名種磁気ディスク等で一部実用化
されている。
しかし、ビデオテープ、オーディオテープとしては、依
然として主流として用いられているのは釘状酸化鉄であ
り、これには次のような問題がある。
然として主流として用いられているのは釘状酸化鉄であ
り、これには次のような問題がある。
すなわち、針状酸化鉄は、保磁力He、最大飽和磁化M
sなどの磁気特性上、不十分であり、十分な出力および
S/Nがえられない。
sなどの磁気特性上、不十分であり、十分な出力および
S/Nがえられない。
また、塗膜としての残留磁化Brをあげるには粉体の含
有率を−1−げなければならないが、そのとき耐久性に
問題を生じる。
有率を−1−げなければならないが、そのとき耐久性に
問題を生じる。
そして、電気抵抗も高く、ドロップアウトの発生等の不
都合も生じる。 この場合、磁性層中にカーボン等の帯
電防11−剤を添加すれば電気抵抗は減少するが、磁性
層のBrは低下してしまい、出力やS/Nが減少してし
まう。
都合も生じる。 この場合、磁性層中にカーボン等の帯
電防11−剤を添加すれば電気抵抗は減少するが、磁性
層のBrは低下してしまい、出力やS/Nが減少してし
まう。
また、コバルト被着酸化鉄粒子は未だMsが低く、減磁
がおこりやすく磁気特性−1−不十分である。 さらに
、電気抵抗の点で不1−分であり、繰返し使用時にドロ
ップアウトが増加し、耐久性の点でも不l−分である。
がおこりやすく磁気特性−1−不十分である。 さらに
、電気抵抗の点で不1−分であり、繰返し使用時にドロ
ップアウトが増加し、耐久性の点でも不l−分である。
また、金属磁性粒子は、耐摩耗性が小さく、使用による
劣化がはげしいこと、非常に酸化されやすく、磁気記録
媒体とした場合でも酸化により磁束密度の低ドが起り、
その結果、出力が低ドするという問題がある。
劣化がはげしいこと、非常に酸化されやすく、磁気記録
媒体とした場合でも酸化により磁束密度の低ドが起り、
その結果、出力が低ドするという問題がある。
また、金属磁性粒子を使用した磁気記録媒体を、センダ
ス]・系やアモルファス系の磁気ヘッド1:を走行させ
た場合には、ヘッド表面にヘッド材質と色の異なる光沢
のない変色層が形成される、いわゆる「焼き付き」の現
象が見られることが多い。 これは、磁気記録媒体と磁
気ヘッドの間の摺動摩擦による、センダスト表面やアモ
ルファス金属表面の化学的物理的変質現象と考えられる
。
ス]・系やアモルファス系の磁気ヘッド1:を走行させ
た場合には、ヘッド表面にヘッド材質と色の異なる光沢
のない変色層が形成される、いわゆる「焼き付き」の現
象が見られることが多い。 これは、磁気記録媒体と磁
気ヘッドの間の摺動摩擦による、センダスト表面やアモ
ルファス金属表面の化学的物理的変質現象と考えられる
。
さらに、金属磁性粒子を使用して磁気記録媒体を形成す
る場合には、金属磁性粒子を増扱う過程で粒子表面に酸
化被膜が形成されることは避けられない。 また意識的
に酸化被膜を形成する場合もある。
る場合には、金属磁性粒子を増扱う過程で粒子表面に酸
化被膜が形成されることは避けられない。 また意識的
に酸化被膜を形成する場合もある。
このように粒子表面に酸化被膜を有する金属磁性粒子を
用いた磁気記録媒体は、温度、湿度等に外部環境による
磁束密度の低下や、磁性層のサビの発生による特性劣化
を防ぐという効果があるが、表面酸化被膜によって電気
抵抗が−に昇し、磁気記録媒体表面が帯電することによ
って磁気記録媒体表面に異物が付着し、ドロップアウト
となり、あるいは剥離帯電による放電ノイズが生じてテ
ープ性能の劣化を来す問題がある。
用いた磁気記録媒体は、温度、湿度等に外部環境による
磁束密度の低下や、磁性層のサビの発生による特性劣化
を防ぐという効果があるが、表面酸化被膜によって電気
抵抗が−に昇し、磁気記録媒体表面が帯電することによ
って磁気記録媒体表面に異物が付着し、ドロップアウト
となり、あるいは剥離帯電による放電ノイズが生じてテ
ープ性能の劣化を来す問題がある。
II 発明の目的
本発明は、上述した従来の磁性粒子を使用した磁気記録
媒体の欠点を除去し、帯電防Iに効果が高く、帯電防1
]二剤の添加による出力の低下がなく、耐酸化特性が良
好で、かつ焼きイ4け現象がみられず、各種磁気特性が
良好な磁気記録媒体を提供することを目的とする。
媒体の欠点を除去し、帯電防Iに効果が高く、帯電防1
]二剤の添加による出力の低下がなく、耐酸化特性が良
好で、かつ焼きイ4け現象がみられず、各種磁気特性が
良好な磁気記録媒体を提供することを目的とする。
■ 発明の開示
このような目的は、下記の本発明によって達成される。
すなわち、本発明は、支持体1−に、磁性粒子とバイン
ダーとを含む記録層を有する磁気記録媒体において、磁
性粒子が、少なくとも表面が炭化鉄である粒子と酸化物
系粒子とを含み、磁性粒子中の炭化鉄含有量が5〜90
重量%であることを特徴とする磁気記録媒体である。
ダーとを含む記録層を有する磁気記録媒体において、磁
性粒子が、少なくとも表面が炭化鉄である粒子と酸化物
系粒子とを含み、磁性粒子中の炭化鉄含有量が5〜90
重量%であることを特徴とする磁気記録媒体である。
■ 発明のIt体内的構
成下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。
本発明の磁気記録媒体の記録層は、少なくとも表面が炭
化鉄である磁性粒子を1成分とする磁性粒子を含む。
化鉄である磁性粒子を1成分とする磁性粒子を含む。
このような磁性粒子は1Mシアン化合物を硫酸塩、亜硫
酸塩あるいは硫化物と混合し、鉄製反応器中に入れCO
を導入しつつ加熱還元後冷却して得られる。
酸塩あるいは硫化物と混合し、鉄製反応器中に入れCO
を導入しつつ加熱還元後冷却して得られる。
また、特開昭58−1717.65号や特開昭60−1
2402吟などに記載されているように、a −F e
OOH(Goethite) 、β−FeOOH(
Akaganite) 、 y −F e 0OH(
Lepidocr。
2402吟などに記載されているように、a −F e
OOH(Goethite) 、β−FeOOH(
Akaganite) 、 y −F e 0OH(
Lepidocr。
cite)等のオキシ水酸化鉄や
a−Fe203 、 y−Fe203 。
Fe304 、y−Fe203−Fe3O4(固溶体
)等の酸化鉄を、−酸化炭素や水素と一酸化炭素との混
合ガスを用いた還元によって得られる。
)等の酸化鉄を、−酸化炭素や水素と一酸化炭素との混
合ガスを用いた還元によって得られる。
あるいは、これら酸化鉄と、水系コロイド状カーボンブ
ラック粒子サスペンションのスラリー状混合物を水素還
元、−酸化炭素還元、または水素と一酸化炭素との混合
ガス還元によって調製してもよい。 これ以外にも鉄シ
アン化合物としてターンブルー青、ベルリンホワイト等
のへキサシアノ鉄f1.黄血カリ、貧血ソーダ、赤面カ
リ、赤面ソーダ等のフェロまたはフェリシアン化合物等
を用い、添加物として硫酸カリ、硫酸ソーダ、硫酸アン
モニウム、硫酸鉄、硫酸水素ソーダ、硫酸水素カリ等の
硫酸塩、亜硫酸カリ、亜硫酸ソーダ、亜硫酸アンモニウ
ム、亜硫酸水素カリ等の亜硫酸塩、あるいはチオ硫酸ソ
ーダ、チオ硫酸カリ、硫化ソーダ、硫化カリ、硫化鉄、
ロダンソーダ、ロダンカリ、インチオシアン酸ソータ゛
、インチオシアン酸カリ等の硫化物を用いることができ
る。
ラック粒子サスペンションのスラリー状混合物を水素還
元、−酸化炭素還元、または水素と一酸化炭素との混合
ガス還元によって調製してもよい。 これ以外にも鉄シ
アン化合物としてターンブルー青、ベルリンホワイト等
のへキサシアノ鉄f1.黄血カリ、貧血ソーダ、赤面カ
リ、赤面ソーダ等のフェロまたはフェリシアン化合物等
を用い、添加物として硫酸カリ、硫酸ソーダ、硫酸アン
モニウム、硫酸鉄、硫酸水素ソーダ、硫酸水素カリ等の
硫酸塩、亜硫酸カリ、亜硫酸ソーダ、亜硫酸アンモニウ
ム、亜硫酸水素カリ等の亜硫酸塩、あるいはチオ硫酸ソ
ーダ、チオ硫酸カリ、硫化ソーダ、硫化カリ、硫化鉄、
ロダンソーダ、ロダンカリ、インチオシアン酸ソータ゛
、インチオシアン酸カリ等の硫化物を用いることができ
る。
これら加熱還元雰囲気に用いる気体はCOに限らず、C
H4、水性ガス、プロパン等の炭素含有還元性気体を用
いてもよい。
H4、水性ガス、プロパン等の炭素含有還元性気体を用
いてもよい。
さらには、純鉄粒子を形成後、上記各種加熱還元処理を
行ってもよい。
行ってもよい。
なお、還元に際しては、加熱温度300〜700 ’O
1加熱加熱時間3御 ればよい。
1加熱加熱時間3御 ればよい。
生成される炭化鉄粒子としては、FenCにおいて、n
≧2、特に2〜3のものである。
≧2、特に2〜3のものである。
この場合、nは整数であって、化学量論組成となる必要
はないが、Fe2 C 、Fe5 C2 。
はないが、Fe2 C 、Fe5 C2 。
Fe5Cが主として生成される。
そして、粒子中には濃度勾配があってもかまわず、Cは
必ずしも全域に存在する必要はないが、炭化鉄が粒子中
の10−100重量%を占めることが好ましい。
必ずしも全域に存在する必要はないが、炭化鉄が粒子中
の10−100重量%を占めることが好ましい。
以上述べてきた少なくとも表面が炭化鉄である磁性粒子
は、釧状形態あるいは粒状形態のものを使用し、磁気記
録媒体として用いる用途によって選択される。 ビデオ
用、オーディオ用等のテープなどに使用される釧状形態
は、長径0、2〜2ル■、釧状比2〜20のものが好ま
しい。
は、釧状形態あるいは粒状形態のものを使用し、磁気記
録媒体として用いる用途によって選択される。 ビデオ
用、オーディオ用等のテープなどに使用される釧状形態
は、長径0、2〜2ル■、釧状比2〜20のものが好ま
しい。
また、このような磁性粒子は、全体の磁性粒子の5〜9
0重量%である。
0重量%である。
5重量%より少ないか90重量%より多いと、本発明の
効果が実現しないからである。
効果が実現しないからである。
磁性粒子としては、上記の少なくとも表面が炭化鉄であ
る磁性粒子の他に、コバルト被着酸化鉄粒子あるいはγ
−F8203粒子などの酸化鉄等の酸化物系粒子が含ま
れていてもよい。
る磁性粒子の他に、コバルト被着酸化鉄粒子あるいはγ
−F8203粒子などの酸化鉄等の酸化物系粒子が含ま
れていてもよい。
本発明に用いるγ−F8203粒子としては、a −
F e O O H (goethite)を400℃
以上で脱水してα−Fe203とし.H2ガス中で35
0℃以上で還元してFe3O4とし、さらに250°C
以下で酸化して作製したものを用いればよい。 またγ
ーFeOOH (レピッドクロサイト)を脱水、還元酸
化してもよい。
F e O O H (goethite)を400℃
以上で脱水してα−Fe203とし.H2ガス中で35
0℃以上で還元してFe3O4とし、さらに250°C
以下で酸化して作製したものを用いればよい。 またγ
ーFeOOH (レピッドクロサイト)を脱水、還元酸
化してもよい。
コバルト被着酸化鉄粒子としては、γーF6203粒子
やFe3O4粒子の表面から数10人以内のごく薄い層
にCo2+を拡散させたものを用いればよい。
やFe3O4粒子の表面から数10人以内のごく薄い層
にCo2+を拡散させたものを用いればよい。
磁性粒子を磁P1塗料とする際に用いるバインダーは、
放射線硬化性、熱可塑性樹脂、熱硬化性もしくは反応型
樹脂またはこれらの混合物等が使用されるが、得られる
膜強度等から熱硬化性樹脂、放射線硬化性樹脂を用いる
ことが好ましい。
放射線硬化性、熱可塑性樹脂、熱硬化性もしくは反応型
樹脂またはこれらの混合物等が使用されるが、得られる
膜強度等から熱硬化性樹脂、放射線硬化性樹脂を用いる
ことが好ましい。
熱可塑性樹脂とl、ては軟化温度が150℃以下、平均
分子槍10,000〜 200.000、重合度200〜2.000程度のもの
である。
分子槍10,000〜 200.000、重合度200〜2.000程度のもの
である。
熱硬化樹脂または反応型樹脂としてもこのような重合度
等のものであり、塗布、乾燥後に加熱することにより、
縮合、付加等の反応により分子酸は無限大のものとなる
ものである。 そして、これらの樹脂のなかで、樹脂が
熱分解するまでの間に軟化または溶融しないものが好ま
しい。
等のものであり、塗布、乾燥後に加熱することにより、
縮合、付加等の反応により分子酸は無限大のものとなる
ものである。 そして、これらの樹脂のなかで、樹脂が
熱分解するまでの間に軟化または溶融しないものが好ま
しい。
具体的には例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリ
ウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、ブチラール樹脂、ホル
マール樹脂、メラミン樹脂、アルキンド樹脂、シリコー
ン樹脂、アクリル系反応樹脂、ポリアミド樹脂、エポキ
シ−ポリアミド樹脂、飽和ポリエステル樹脂、尿素ホル
ムアルデヒド樹脂などの縮重合系の樹脂あるいは高分子
酸ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混
合物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシアネートプレ
ポリマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソ
シアネートの混合物、低分子量グリコール/高分子酸ジ
オール/トリフェニルメタントリイソシアネートの混合
物など、上記の縮重合系樹脂とインシアネート化合物な
どの架橋剤との混合物、塩化ビニル−酢酸ビニル(カル
ボン酸含有も含む)、nI化ヒビニルビニルアルコール
−酢酸ビニル(カルボン酸含有も含む)、塩化ビニル−
塩化ビニリデン、塩素化塩化ビニル、塩化ビニル−アク
リロニトリル、ビニルブチラール、ビニルホルマール等
のビニル共重合系樹脂と架橋剤との混合物、ニトロセル
ロース、セルロースアセトブチレート等の繊維素系樹脂
と架橋剤との混合物、ブタジェン−アクリロニトリル等
の合成ゴム系と架橋剤との混合物、さらにはこれらの混
合物が好適である。
ウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、ブチラール樹脂、ホル
マール樹脂、メラミン樹脂、アルキンド樹脂、シリコー
ン樹脂、アクリル系反応樹脂、ポリアミド樹脂、エポキ
シ−ポリアミド樹脂、飽和ポリエステル樹脂、尿素ホル
ムアルデヒド樹脂などの縮重合系の樹脂あるいは高分子
酸ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混
合物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシアネートプレ
ポリマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソ
シアネートの混合物、低分子量グリコール/高分子酸ジ
オール/トリフェニルメタントリイソシアネートの混合
物など、上記の縮重合系樹脂とインシアネート化合物な
どの架橋剤との混合物、塩化ビニル−酢酸ビニル(カル
ボン酸含有も含む)、nI化ヒビニルビニルアルコール
−酢酸ビニル(カルボン酸含有も含む)、塩化ビニル−
塩化ビニリデン、塩素化塩化ビニル、塩化ビニル−アク
リロニトリル、ビニルブチラール、ビニルホルマール等
のビニル共重合系樹脂と架橋剤との混合物、ニトロセル
ロース、セルロースアセトブチレート等の繊維素系樹脂
と架橋剤との混合物、ブタジェン−アクリロニトリル等
の合成ゴム系と架橋剤との混合物、さらにはこれらの混
合物が好適である。
このような、熱硬化性樹脂を硬化するには、一般に加熱
オーブン中で50〜80℃にて6〜IOθ時間加熱すれ
ばよい。 あるいは、低速度にて、8ON120℃にて
オープン中を走行させてもよい。
オーブン中で50〜80℃にて6〜IOθ時間加熱すれ
ばよい。 あるいは、低速度にて、8ON120℃にて
オープン中を走行させてもよい。
バインダーとしては、放射線硬化型化合物を硬化したも
の、すなわち放射線硬化性樹脂を用いたものが特に好ま
しい。
の、すなわち放射線硬化性樹脂を用いたものが特に好ま
しい。
放射線硬化性化合物の具体例としては、ラジカル重合性
を有する不飽和二重結合を示すアクリル酸、メタクリル
酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリル
系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重
結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結合等
の放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱可
塑性樹脂の分子中に含有または導入した樹脂である。
その池数射線照射により架橋重合する不飽和二重結合を
有する化合物であれば用いることができる。
を有する不飽和二重結合を示すアクリル酸、メタクリル
酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリル
系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重
結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結合等
の放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱可
塑性樹脂の分子中に含有または導入した樹脂である。
その池数射線照射により架橋重合する不飽和二重結合を
有する化合物であれば用いることができる。
放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱可塑
性樹脂の分子中に含有する樹脂としては次の様な不飽和
ポリエステル樹脂がある。
性樹脂の分子中に含有する樹脂としては次の様な不飽和
ポリエステル樹脂がある。
分子鎖中に放射線硬化性不飽和二重結合を含有するポリ
エステル化合物、例えば下記(2)の多塩基酸と多価ア
ルコールのエステル結合から成る飽和ポリエステル樹脂
で多塩基酸の一部をマレイン酸とした放射線硬化性不飽
和二重結合を含有する不飽和ポリエステル樹脂を挙げる
ことができる。 放射線硬化性不飽和ポリエステル樹脂
は多塩基酸成分1種以−Lと多価アルコール成分1程以
−Lにマレイン酸、フマル酸等を加え常法、すなわち触
媒の存在下で、180〜200℃、窒素雰囲気下、脱水
あるいは脱アルコール反応の後、240〜280℃まで
昇温し、0.5〜1m+wHgの減圧下、縮合反応によ
り得ることができる。 マレイン酸やフマル酸等の含有
酸は、製造時の架橋、放射線硬化性等から酸成分中1〜
40モル%、好ましくは10〜30モル%である。
エステル化合物、例えば下記(2)の多塩基酸と多価ア
ルコールのエステル結合から成る飽和ポリエステル樹脂
で多塩基酸の一部をマレイン酸とした放射線硬化性不飽
和二重結合を含有する不飽和ポリエステル樹脂を挙げる
ことができる。 放射線硬化性不飽和ポリエステル樹脂
は多塩基酸成分1種以−Lと多価アルコール成分1程以
−Lにマレイン酸、フマル酸等を加え常法、すなわち触
媒の存在下で、180〜200℃、窒素雰囲気下、脱水
あるいは脱アルコール反応の後、240〜280℃まで
昇温し、0.5〜1m+wHgの減圧下、縮合反応によ
り得ることができる。 マレイン酸やフマル酸等の含有
酸は、製造時の架橋、放射線硬化性等から酸成分中1〜
40モル%、好ましくは10〜30モル%である。
放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例として
は、次のようなものを挙げることができる。
は、次のようなものを挙げることができる。
(1)塩化ビニール系共重合体
塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニールアルコール共重
合体、塩化ビニール−ビニールアルコール共重合体、塩
化ビニール−ビニールアルコール−プロピオン酸ビニー
ル共重合体、11i化ビニール−酢酸ビニール−マレイ
ン酸共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニルア
ルコール−マレイン酸共重合体、塩化ビニール−酢酸ビ
ニール−末端OH側鎖アルキル基共重合体、例えばUC
C社製VROH,VYNClVYEGX、VERR,V
YES、VMCA、VAGH,UCARMAG520.
UCARMAG528等が挙げられ、このものにアクリ
ル系二重結合、マレイン酸系−1型詰合、アリル系二重
結合を導入して放射線感応変性を行う。
合体、塩化ビニール−ビニールアルコール共重合体、塩
化ビニール−ビニールアルコール−プロピオン酸ビニー
ル共重合体、11i化ビニール−酢酸ビニール−マレイ
ン酸共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニルア
ルコール−マレイン酸共重合体、塩化ビニール−酢酸ビ
ニール−末端OH側鎖アルキル基共重合体、例えばUC
C社製VROH,VYNClVYEGX、VERR,V
YES、VMCA、VAGH,UCARMAG520.
UCARMAG528等が挙げられ、このものにアクリ
ル系二重結合、マレイン酸系−1型詰合、アリル系二重
結合を導入して放射線感応変性を行う。
これらはカルボン酸を含有してもよい。
(2)飽和ポリエステル樹脂
フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酎、コハク酸、ア
ジピン酸、セバシン酸のような飽和多塩基酸と、エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、ト
リメチロールプロパン、1.2プロピレングリコール、
1.3ブタンジオール、ジプロピレングリコール、l。
ジピン酸、セバシン酸のような飽和多塩基酸と、エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、ト
リメチロールプロパン、1.2プロピレングリコール、
1.3ブタンジオール、ジプロピレングリコール、l。
4ブタンジオール、1.6ヘキサンジオール、ペンタエ
リスリット、ソルビトール、グリセリン、ネオペンチル
グリコール、1.4シクロヘキサンジメタツールのよう
な多価アルコールとのエステル結合により得られる飽和
ポリエステル樹脂またはこれらのポリエステル樹脂をS
O3Na等で変性した樹脂(例えばバイロン53S)が
例として挙げられ、これらも放射線感応変性を行う。
リスリット、ソルビトール、グリセリン、ネオペンチル
グリコール、1.4シクロヘキサンジメタツールのよう
な多価アルコールとのエステル結合により得られる飽和
ポリエステル樹脂またはこれらのポリエステル樹脂をS
O3Na等で変性した樹脂(例えばバイロン53S)が
例として挙げられ、これらも放射線感応変性を行う。
(3)ポリビニルアルコール系樹脂
ポリビニルアルコール、ブチラール樹脂、アセタール樹
脂、ホルマール樹脂およびこれらの成分の共重合体で、
これら樹脂中に含まれる水酸基に対し放射線感応変性を
行う。
脂、ホルマール樹脂およびこれらの成分の共重合体で、
これら樹脂中に含まれる水酸基に対し放射線感応変性を
行う。
(4)エポキシ系樹脂、フォノキシ系樹脂ビスフェノー
ルAとエピクロルヒドリン、メチルエピクロルヒドリン
の反応によるエポキシ樹脂、例えばシェル化学製(エピ
コート+52.154 、828 、1001.100
4.100?) 、ダウケミカル製(DEN431 、
DER732、DER511、DER331)、大11
本インキ製(エビクロン400 、800)、さらに上
記エポキシの高重合度樹脂であるUCC社製フェノキシ
樹脂(PKHA、PKHC,PK)(H)、臭素化ビス
フェノールAとエピクロルヒドリンとの共重合体、大日
本インキ化学工業製(エビクロン145゜152 、1
53 、1120)等があり、またこれらにカルボン酸
基を含有するものも含まれる。 これら樹脂中に含まれ
るエポキシ基を利用して放射線感応変性を行う。
ルAとエピクロルヒドリン、メチルエピクロルヒドリン
の反応によるエポキシ樹脂、例えばシェル化学製(エピ
コート+52.154 、828 、1001.100
4.100?) 、ダウケミカル製(DEN431 、
DER732、DER511、DER331)、大11
本インキ製(エビクロン400 、800)、さらに上
記エポキシの高重合度樹脂であるUCC社製フェノキシ
樹脂(PKHA、PKHC,PK)(H)、臭素化ビス
フェノールAとエピクロルヒドリンとの共重合体、大日
本インキ化学工業製(エビクロン145゜152 、1
53 、1120)等があり、またこれらにカルボン酸
基を含有するものも含まれる。 これら樹脂中に含まれ
るエポキシ基を利用して放射線感応変性を行う。
(5)繊維素誘導体
各種のものが用いられるが、特に効果的なものは硝化綿
、セルローズアセトブチレート、エチルセルローズ、ブ
チルセルローズ、アセチルセルローズ等が好適である樹
脂中の水酸基を活用して放射線感応変性を行う。
、セルローズアセトブチレート、エチルセルローズ、ブ
チルセルローズ、アセチルセルローズ等が好適である樹
脂中の水酸基を活用して放射線感応変性を行う。
その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂とし
ては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル
樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体(pvp
オレフィン共重合体)、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹
脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基を
含有するアクリルエステルおよびメタクリルエステルを
重合成分として少なくとも一種含むアクリル系樹脂等も
有効である。
ては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル
樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体(pvp
オレフィン共重合体)、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹
脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基を
含有するアクリルエステルおよびメタクリルエステルを
重合成分として少なくとも一種含むアクリル系樹脂等も
有効である。
以下にエラストマーもしくはプレポリマーないしオリゴ
マーの例を挙げる。
マーの例を挙げる。
(1)ポリウレタンエラストマー、プレポリマーもしく
はオリゴマー ポリウレタンの使用は耐摩耗性、および基体フィルム、
例えばPETフィルムへの接H+’lカ良い点で特に有
効である。 ウレタン化合物の例としては、インシアネ
ートとして、2,4−トルエンジインシアネート、2*
6 h Jl/ −c ンジイソシアネート、1.
3−キシレンジイソシアネート、1,4−キシレンジイ
ソシアネート、1.5−ナフタレンジイソシアネート、
m−フェニレンジイソシアネート、p−フェニレンジイ
ソシアネート、3.3′−ジメチル−4,4′−ジフェ
ニルメタンジイソシアネート、4,4′−ジフェニルメ
タンジイソシアネート、3.3′−ジメチルビフェニレ
ンジイソシアネート、4,4′−ビフェニレンジイソシ
アネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、インフォ
ロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソ
シアネ−1・、デスモジュールL、デスモジュールN等
の各種多価インシアネートと、線状飽和ポリエステル(
エチレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリ
ン、トリメチロールプロパン、l、4−ブタンジオール
、1,6−ヘキサンジオール、ペンタエリスリット、ソ
ルビトール、ネオペンチルグリコール、1.4−シクロ
ヘギサンジメタノールの様な多価アルコールと、フタル
酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、アジピン
酸、セバシン酸の様な飽和多塩基酸との縮重合によるも
の)、線状飽和ポリエーテル(ポリエチレングリコール
、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリ
コール)やカプロラクタム、ヒドロキシル含有アクリル
酸エステル、ヒドロキシル含有メタクリル酸エステル等
の各種ポリエステル類の縮重合物により成るポリウレタ
ンエラストマー、プレポリマーが有効である。
はオリゴマー ポリウレタンの使用は耐摩耗性、および基体フィルム、
例えばPETフィルムへの接H+’lカ良い点で特に有
効である。 ウレタン化合物の例としては、インシアネ
ートとして、2,4−トルエンジインシアネート、2*
6 h Jl/ −c ンジイソシアネート、1.
3−キシレンジイソシアネート、1,4−キシレンジイ
ソシアネート、1.5−ナフタレンジイソシアネート、
m−フェニレンジイソシアネート、p−フェニレンジイ
ソシアネート、3.3′−ジメチル−4,4′−ジフェ
ニルメタンジイソシアネート、4,4′−ジフェニルメ
タンジイソシアネート、3.3′−ジメチルビフェニレ
ンジイソシアネート、4,4′−ビフェニレンジイソシ
アネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、インフォ
ロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソ
シアネ−1・、デスモジュールL、デスモジュールN等
の各種多価インシアネートと、線状飽和ポリエステル(
エチレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリ
ン、トリメチロールプロパン、l、4−ブタンジオール
、1,6−ヘキサンジオール、ペンタエリスリット、ソ
ルビトール、ネオペンチルグリコール、1.4−シクロ
ヘギサンジメタノールの様な多価アルコールと、フタル
酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、アジピン
酸、セバシン酸の様な飽和多塩基酸との縮重合によるも
の)、線状飽和ポリエーテル(ポリエチレングリコール
、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリ
コール)やカプロラクタム、ヒドロキシル含有アクリル
酸エステル、ヒドロキシル含有メタクリル酸エステル等
の各種ポリエステル類の縮重合物により成るポリウレタ
ンエラストマー、プレポリマーが有効である。
これらのウレタンエラストマーの末端のイソシアネート
ノ人または水酸基と、アクリル系二重結合またはアリル
系二重結合等を有する単量体とを反応させることにより
、放射線感応性に変性することは非常に効果的である。
ノ人または水酸基と、アクリル系二重結合またはアリル
系二重結合等を有する単量体とを反応させることにより
、放射線感応性に変性することは非常に効果的である。
また、末端に極性基としてOH,C0OH等を含有す
るものも含む。
るものも含む。
さらに、不飽和二重結合を有する長鎖脂肪酸のモノある
いはジグリセリド等、インシアネート基と反応する活性
水素を持ち、かつ放射線硬化性を有する不飽和二重結合
を有する単量体も含まれる。
いはジグリセリド等、インシアネート基と反応する活性
水素を持ち、かつ放射線硬化性を有する不飽和二重結合
を有する単量体も含まれる。
(2)アクリロニトリル−ブタジェン共重合エラストマ
ー シンクレアペトロケミカルン1製ポリBDリタイッドレ
ジンとして市販されている末端水酸基のあるアクリロニ
トリルブタジェン共重合体プレポリマーあるいは11本
ゼオン社製ハイカー1432 J等のエラストマーは、
特にブタジェン中の二重結合が放射線によりラジカルを
生じ架橋および重合させるエラストマー成分として適す
る。
ー シンクレアペトロケミカルン1製ポリBDリタイッドレ
ジンとして市販されている末端水酸基のあるアクリロニ
トリルブタジェン共重合体プレポリマーあるいは11本
ゼオン社製ハイカー1432 J等のエラストマーは、
特にブタジェン中の二重結合が放射線によりラジカルを
生じ架橋および重合させるエラストマー成分として適す
る。
(3)ポリブタジエンエラストマー
シンクレアペトロケミカル社製ポリBDリタイッドレジ
ンR−15等の低分子綴末端水酸基を有するプレポリマ
ーが特に熱可塑性樹脂との相溶性の点で好適である。
R−15プレポリマーにおいては分子末端が水酸基とな
っている為、分子末端にアクリル系不飽和二重結合を付
加することにより放射線感応性を高めることが可能であ
り、バインダーとしてさらに有利となる。
ンR−15等の低分子綴末端水酸基を有するプレポリマ
ーが特に熱可塑性樹脂との相溶性の点で好適である。
R−15プレポリマーにおいては分子末端が水酸基とな
っている為、分子末端にアクリル系不飽和二重結合を付
加することにより放射線感応性を高めることが可能であ
り、バインダーとしてさらに有利となる。
またポリブタジェンの環化物、日本合成ゴム製CBR−
M901も熱可塑性樹脂との組合せによりすぐれた性質
を有している。
M901も熱可塑性樹脂との組合せによりすぐれた性質
を有している。
その他、熱可塑性エラストマーおよびそのプレポリマー
の系で好適なものとしては、スチレン−ブタジェンゴム
、塩化ゴム、アクリルゴム、インプレンゴムおよびその
環化物(日本合成ゴム製ClR701)があり、エポキ
シ変性ゴム、内部可塑化飽和線状ポリエステル(東洋紡
バイロン#300)等のエラストマーも放射線感応変性
処理を施すことにより有効に利用できる。
の系で好適なものとしては、スチレン−ブタジェンゴム
、塩化ゴム、アクリルゴム、インプレンゴムおよびその
環化物(日本合成ゴム製ClR701)があり、エポキ
シ変性ゴム、内部可塑化飽和線状ポリエステル(東洋紡
バイロン#300)等のエラストマーも放射線感応変性
処理を施すことにより有効に利用できる。
オリゴマー、モノマーとして本発明で用いられる放射線
硬化性不飽和二重結合を有する化合物としては、スチレ
ン、エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリ
レート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチ
レングリコールジアクリレート、ジエチレングリコール
ジメタクリレート、1.6−ヘキサングリコールジアク
リレート、1.6−ヘキサングリコールジアクリレート
、N−ビニルピロリドン、ペンタエリスリト−ルテI・
ジアクリレート(メタクリレート)、ペンタエリスリト
−ルトリアクリレート(メタクリレート)、トリメチロ
ールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパ
ントリメタクリレート、多官能オリゴエステルアクリレ
ート(アロニックスM−7100、M−5400,55
00,5700等、東亜合成)、ウレタンエラストマー
にツインラン4040)のアクリル変性体、あるいはこ
れらのものにCOOH等の官能基が導入されたもの、ト
リメチロールプロパンジアクリレート(メタクリレ−1
・)フェノールエチレノキシド付加物のアクリレート(
メタクリレ−ト)、下記一般式で示されるペンタエリス
リトール縮合環にアクリル基(メタクリル基)またはε
カプロラクトン−アクリル基のついた化合物、 式中、m=1.a=2、b=417)化合物(以下、特
殊ペンタエリスリトール縮合物Aという)、 m−1,a=3、b=3(7)化合物(以下、特殊ペン
タエリスリトール縮合物Bという)、m−1,a=6、
b−〇の化合物(以下、特殊ペンタエリスリトール縮合
物Cという)、m−2、a=6、b−0の化合物(以下
、特殊ペンタエリスリトール縮合物りという)、および
下記式一般式で示される特殊アクリレート類等が挙げら
れる。
硬化性不飽和二重結合を有する化合物としては、スチレ
ン、エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリ
レート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチ
レングリコールジアクリレート、ジエチレングリコール
ジメタクリレート、1.6−ヘキサングリコールジアク
リレート、1.6−ヘキサングリコールジアクリレート
、N−ビニルピロリドン、ペンタエリスリト−ルテI・
ジアクリレート(メタクリレート)、ペンタエリスリト
−ルトリアクリレート(メタクリレート)、トリメチロ
ールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパ
ントリメタクリレート、多官能オリゴエステルアクリレ
ート(アロニックスM−7100、M−5400,55
00,5700等、東亜合成)、ウレタンエラストマー
にツインラン4040)のアクリル変性体、あるいはこ
れらのものにCOOH等の官能基が導入されたもの、ト
リメチロールプロパンジアクリレート(メタクリレ−1
・)フェノールエチレノキシド付加物のアクリレート(
メタクリレ−ト)、下記一般式で示されるペンタエリス
リトール縮合環にアクリル基(メタクリル基)またはε
カプロラクトン−アクリル基のついた化合物、 式中、m=1.a=2、b=417)化合物(以下、特
殊ペンタエリスリトール縮合物Aという)、 m−1,a=3、b=3(7)化合物(以下、特殊ペン
タエリスリトール縮合物Bという)、m−1,a=6、
b−〇の化合物(以下、特殊ペンタエリスリトール縮合
物Cという)、m−2、a=6、b−0の化合物(以下
、特殊ペンタエリスリトール縮合物りという)、および
下記式一般式で示される特殊アクリレート類等が挙げら
れる。
1) (CH2=CHC00C)12 ):3−C
CH20H(特殊アクリレートA) 2) (CH2=CHCOOCH2)3−CCH2
CH3(特殊アクリレ−]・B) 3) (CH2=CHC0(OC3Ha )n −
0CH2)3−CCH2CH3(特殊アクリレートC) (特殊アクリレートD) (特殊アクリレートE) (特殊アクリレートF) (n=¥−16) (特殊アクリレートG)
8) CH2=CHC0O−(CH2CH20)4−
COCH=CH2(特殊アクリレートH) CH2CH2C00CH=CH2 (特殊アクリレート■) (特殊アクリレートJ) Aニアクリル酸、 X:4IIiアルコールY:5
均」q唆 (停、鴇朱アクリレートK)12)
A千M−N−)−r、M’−A Aニアクリル酸 M:2価アルコール N:2塩川
唆(特殊アクリレートし) 次に、放射線感応性バインダー合成例を説明する。
CH20H(特殊アクリレートA) 2) (CH2=CHCOOCH2)3−CCH2
CH3(特殊アクリレ−]・B) 3) (CH2=CHC0(OC3Ha )n −
0CH2)3−CCH2CH3(特殊アクリレートC) (特殊アクリレートD) (特殊アクリレートE) (特殊アクリレートF) (n=¥−16) (特殊アクリレートG)
8) CH2=CHC0O−(CH2CH20)4−
COCH=CH2(特殊アクリレートH) CH2CH2C00CH=CH2 (特殊アクリレート■) (特殊アクリレートJ) Aニアクリル酸、 X:4IIiアルコールY:5
均」q唆 (停、鴇朱アクリレートK)12)
A千M−N−)−r、M’−A Aニアクリル酸 M:2価アルコール N:2塩川
唆(特殊アクリレートし) 次に、放射線感応性バインダー合成例を説明する。
a)塩化ビニール酢酸ビニール共重合系樹脂のアクリル
変性体(放射線感応変性樹脂)の合成OH基を有する一
部ケン化塩ビー酢ビ共重合体(平均重合度 n=500
)750部とトルエン1250部、シクロヘキサノン5
00部を51の4つ目フラスコに仕込み、加熱溶解し、
80°Cl温後トリレンジイソシアネートの2−ヒドロ
キシエチルメタクリレートアダクト※を61.4部加え
、さらにオクチル酸スズ0゜012部、ハイドロキノン
0.012部を加え、80℃でN2気流中、NGO反応
率が90%となるまで反応せしめる。
変性体(放射線感応変性樹脂)の合成OH基を有する一
部ケン化塩ビー酢ビ共重合体(平均重合度 n=500
)750部とトルエン1250部、シクロヘキサノン5
00部を51の4つ目フラスコに仕込み、加熱溶解し、
80°Cl温後トリレンジイソシアネートの2−ヒドロ
キシエチルメタクリレートアダクト※を61.4部加え
、さらにオクチル酸スズ0゜012部、ハイドロキノン
0.012部を加え、80℃でN2気流中、NGO反応
率が90%となるまで反応せしめる。
反応終了後冷却し、メチルエチルケトン1250分を加
え希釈する。
え希釈する。
【※トリレンジイソシアネート(TDI)の2−ヒドロ
キシエチルメタクリレート(2HEMa)アダクトの製
法 TDI348部をN2気流中11の4っロフラスコ内で
80℃に加熱後、2−エチレンメタクリレート260部
、オクチル酸スズ0.07部、ハイドロキノン0.05
部を反応缶内の温度が80〜85℃となるように冷却コ
ントロールしながら滴下終了後80℃で3時間撹拌し、
反応を完結させる。
キシエチルメタクリレート(2HEMa)アダクトの製
法 TDI348部をN2気流中11の4っロフラスコ内で
80℃に加熱後、2−エチレンメタクリレート260部
、オクチル酸スズ0.07部、ハイドロキノン0.05
部を反応缶内の温度が80〜85℃となるように冷却コ
ントロールしながら滴下終了後80℃で3時間撹拌し、
反応を完結させる。
反応終了後取り出して、冷却後、白色ペースト状のTD
Iの2I(EMAを得た。]b)ブラチ、−ル樹脂アク
リル変性体に合成(放射線感応変性樹脂) ブチラール樹脂積水化学製BM−S100部をトルエン
191.2部、シクロヘキサノン71.4分と共に51
の4つロフラスコに仕込み、加熱溶解し、80℃昇温後
TDIの2HEMAアダクト※を7.4部加え、さらに
オクチル酸スズ0.015部、ハイドロキノン0゜01
5部を加え、80℃でN2気流中NCO反応率が90%
以上となるまで反応せしめる。
Iの2I(EMAを得た。]b)ブラチ、−ル樹脂アク
リル変性体に合成(放射線感応変性樹脂) ブチラール樹脂積水化学製BM−S100部をトルエン
191.2部、シクロヘキサノン71.4分と共に51
の4つロフラスコに仕込み、加熱溶解し、80℃昇温後
TDIの2HEMAアダクト※を7.4部加え、さらに
オクチル酸スズ0.015部、ハイドロキノン0゜01
5部を加え、80℃でN2気流中NCO反応率が90%
以上となるまで反応せしめる。
反応終了後冷却し、メチルエチルケトンにて希釈する。
C)飽和ポリエステル樹脂アクリル変性体の合成(放射
線感応変性樹脂) 飽和ポリエステル樹脂(東洋紡バイロンRV−200)
、100部をトルエン116部、メチルエチルケトン1
16部に加熱溶解し、80℃昇温後、TDIの2HEM
Aアダクト※を3.55部加え、さらにオクチル酸スズ
0゜007部、ハイドロキノン0 、007 部ヲ加え
、80℃でN2気流中NCO反応率が90%以上となる
まで反応せしめる。
線感応変性樹脂) 飽和ポリエステル樹脂(東洋紡バイロンRV−200)
、100部をトルエン116部、メチルエチルケトン1
16部に加熱溶解し、80℃昇温後、TDIの2HEM
Aアダクト※を3.55部加え、さらにオクチル酸スズ
0゜007部、ハイドロキノン0 、007 部ヲ加え
、80℃でN2気流中NCO反応率が90%以上となる
まで反応せしめる。
d)oエポキシ樹脂アクリル変性体の合成(放射線感応
変性樹脂) xホ、i−シ樹脂(シェル化学製エピコート1007)
400部をトルエン50部、メチルエチルケトン50部
に加熱溶解後、N、N−ジメチルベンジルアミンo、o
os部、ハイドロキノン0.003部を添加し80℃と
し、アクリル酸69部を滴下し、80℃で酸価5以下と
なるまで反応せしめる。
変性樹脂) xホ、i−シ樹脂(シェル化学製エピコート1007)
400部をトルエン50部、メチルエチルケトン50部
に加熱溶解後、N、N−ジメチルベンジルアミンo、o
os部、ハイドロキノン0.003部を添加し80℃と
し、アクリル酸69部を滴下し、80℃で酸価5以下と
なるまで反応せしめる。
0フ工ノキシ樹脂アクリル変性体の合成(放射線感応変
性樹脂) OH基を有するフェノキシ樹脂(PKHH:UCC社製
分子1jt30000)600部、メチルエチルケト
ン1800部を31の4つ11フラスコに仕込み、加熱
溶解し、80°CyI温後、トリレンジイソシアネート
の2ヒドロキシエチルメタクリレートアダクトを6.0
部加え、さらにオクチル酸スズ0.012部、ハイドロ
キノン0.012部を加え、80℃でN2気流中、NG
O反応率が90%となるまで反応せしめる。
性樹脂) OH基を有するフェノキシ樹脂(PKHH:UCC社製
分子1jt30000)600部、メチルエチルケト
ン1800部を31の4つ11フラスコに仕込み、加熱
溶解し、80°CyI温後、トリレンジイソシアネート
の2ヒドロキシエチルメタクリレートアダクトを6.0
部加え、さらにオクチル酸スズ0.012部、ハイドロ
キノン0.012部を加え、80℃でN2気流中、NG
O反応率が90%となるまで反応せしめる。
このフェノキシ変性体の分子量は、35000.1分子
当りの二重結合は1個である。
当りの二重結合は1個である。
e)ウレタンエラストマーアクリル変性体の合成(放射
線硬化性エラストマー) 末端インシアネートのジフェニルメタンジイソシアネ−
1(MDI)系ウレタンプレポリマー([−1本ポリウ
レタン製ニッポラン3119)250部、2HEMA3
2.5部、ハイドロキノン0.07部、オクチル酸スズ
0.009部を反応缶にいれ、80℃に加熱溶解後、T
DI43.5部を反応缶内の温度が80〜90 ’Cと
なるように冷却しながら滴下し、滴下終了後、80℃で
反応率95%以」二となるまで反応せしめる。
線硬化性エラストマー) 末端インシアネートのジフェニルメタンジイソシアネ−
1(MDI)系ウレタンプレポリマー([−1本ポリウ
レタン製ニッポラン3119)250部、2HEMA3
2.5部、ハイドロキノン0.07部、オクチル酸スズ
0.009部を反応缶にいれ、80℃に加熱溶解後、T
DI43.5部を反応缶内の温度が80〜90 ’Cと
なるように冷却しながら滴下し、滴下終了後、80℃で
反応率95%以」二となるまで反応せしめる。
f)ポリエーテル系末端ウレタン変性エラストマーアク
リル変性体(放射線硬化性エラストマー)の合成 1本ポリウレタン社製ポリエーテルPTG−500,2
50部、2HHMA32.5部、ハイドロキノン0.0
7部、オクチル酸スズ0゜009部を反応缶にいれ、8
0℃に加熱溶解後、TDI43.5部を反応缶内の温度
が80〜90℃となるように冷却しながら滴下し、滴下
終了後、80℃で反応率95%以上となるまで反応せし
める。
リル変性体(放射線硬化性エラストマー)の合成 1本ポリウレタン社製ポリエーテルPTG−500,2
50部、2HHMA32.5部、ハイドロキノン0.0
7部、オクチル酸スズ0゜009部を反応缶にいれ、8
0℃に加熱溶解後、TDI43.5部を反応缶内の温度
が80〜90℃となるように冷却しながら滴下し、滴下
終了後、80℃で反応率95%以上となるまで反応せし
める。
g)ポリブタジェンエラストマーアクリル変性体の合成
(放射線硬化性エラストマー)シンクレアペトロケミカ
ル社製低分子量末端水酸基ポリブタジェンポリBDリク
イットレジンR−15250部、2HHMA32.5部
、ハイドロキノン0.07部、オクチル酸スズ0.00
9部を反応缶にいれ、80℃に加熱溶解後、TDI43
.5部を反応缶内の温度が80〜90℃となるように冷
却しながら滴下し、滴下終了後、80℃で反応率95%
以上となるまで反応せしめる。
(放射線硬化性エラストマー)シンクレアペトロケミカ
ル社製低分子量末端水酸基ポリブタジェンポリBDリク
イットレジンR−15250部、2HHMA32.5部
、ハイドロキノン0.07部、オクチル酸スズ0.00
9部を反応缶にいれ、80℃に加熱溶解後、TDI43
.5部を反応缶内の温度が80〜90℃となるように冷
却しながら滴下し、滴下終了後、80℃で反応率95%
以上となるまで反応せしめる。
高分子には、放射線照射により崩壊するものと分子間に
架橋を起こすものが知られている。
架橋を起こすものが知られている。
分子間に架橋を起すものとしては、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン、ポリアクリル酸エステル、
ポリアクリルアミド、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、
ポリビニルピロリドンゴム、ポリビニルアルコール、ポ
リアクリルンがある。 このような架橋型ポリマーであ
れば、上記のような変性を特に施さなくても、架橋反応
が起こるので、前記変性体の他に、これらの樹脂はその
まま使用可能である。
プロピレン、ポリスチレン、ポリアクリル酸エステル、
ポリアクリルアミド、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、
ポリビニルピロリドンゴム、ポリビニルアルコール、ポ
リアクリルンがある。 このような架橋型ポリマーであ
れば、上記のような変性を特に施さなくても、架橋反応
が起こるので、前記変性体の他に、これらの樹脂はその
まま使用可能である。
このような放射線硬化性樹脂を硬化するには、公知の種
々の方法に従えばよい。
々の方法に従えばよい。
なお、硬化に際して、紫外線を用いる場合、」二連した
ような、放射線硬化型化合物の中には、光重合増感剤が
加えられる。
ような、放射線硬化型化合物の中には、光重合増感剤が
加えられる。
この光重合増感剤としては、従来公知のものでよく、例
えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾイネチルエーテ
ル、α−メチルベンゾイン、α−クロルデオキシベンゾ
イン等のベンゾイン系、ベンゾフェノン、アセトフェノ
ン、ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等のケトン類
、アセドラキノン、フエナントラキノン等のキノン類、
ベンジルジスルフィド、テトラメチルチウラムモノスル
フィト等のスルフィト類、等を挙げることができる。
光重合増感剤は樹脂固形分に対し、0.1〜10重量%
の範囲が望ましい。
えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾイネチルエーテ
ル、α−メチルベンゾイン、α−クロルデオキシベンゾ
イン等のベンゾイン系、ベンゾフェノン、アセトフェノ
ン、ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等のケトン類
、アセドラキノン、フエナントラキノン等のキノン類、
ベンジルジスルフィド、テトラメチルチウラムモノスル
フィト等のスルフィト類、等を挙げることができる。
光重合増感剤は樹脂固形分に対し、0.1〜10重量%
の範囲が望ましい。
紫外線照射は1例えばキセノン放電管、水素放電管など
の紫外線電球等を用いればよい。
の紫外線電球等を用いればよい。
一方、電子線を用いる場合には、放射線特性としては、
加速電圧lOO〜750KV、好ましくは150〜30
0KVの放射線加速器を用い、吸収線績を0.5〜20
メガラツドになるように照射するのが好都合である。
加速電圧lOO〜750KV、好ましくは150〜30
0KVの放射線加速器を用い、吸収線績を0.5〜20
メガラツドになるように照射するのが好都合である。
特に照射線源としては、吸収線部−の制御、製造工程ラ
インへの導入、電離放射線の遮蔽等の見地から、放射線
加熱器により電子線を使用する方法および前述した紫外
線を使用する方法が有利である。
インへの導入、電離放射線の遮蔽等の見地から、放射線
加熱器により電子線を使用する方法および前述した紫外
線を使用する方法が有利である。
さらにまた、この方法によれば溶剤を使用しない無溶剤
型の樹脂であっても、短時間で硬化することができるの
で、このような樹脂を用いることができる。
型の樹脂であっても、短時間で硬化することができるの
で、このような樹脂を用いることができる。
このような放射線硬化性樹脂を用いることによって大径
のいわゆるジャンボロールで巻きしまりがなくなり、ジ
ャンボロール内外での電磁変換特性の差がなくなり特性
が向上する。 またオンラインで行えるので生産性が良
くなる。
のいわゆるジャンボロールで巻きしまりがなくなり、ジ
ャンボロール内外での電磁変換特性の差がなくなり特性
が向上する。 またオンラインで行えるので生産性が良
くなる。
磁性粒子/バインダーは、組品比でl/1〜9/1.特
にl 、571〜6/1であることが好ましい。
にl 、571〜6/1であることが好ましい。
このような割合とするのは1/1未満では飽和磁束密度
が低くなり、9/1をこえると分散不良により表面粗度
が悪くなり、また塗膜ももろくなり好ましくなくなるか
らである。
が低くなり、9/1をこえると分散不良により表面粗度
が悪くなり、また塗膜ももろくなり好ましくなくなるか
らである。
本発明では必要に応じ、非反応性溶剤が使用される。
溶剤としては特に制限はないが、バインダーの溶解性お
よび相溶性等を考慮して適宜選択される。
溶剤としては特に制限はないが、バインダーの溶解性お
よび相溶性等を考慮して適宜選択される。
例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ギ酸エチル
、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、メタノール
、エタノール、インプロパツール、ブタノール等のアル
コール類、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳
香族炭化水素類、イソプロピルエーテル、エチルエーテ
ル、ジオキサン等のエーテル類、テトラヒドロフラン、
フルフラール等のフラン類等を単一溶剤またはこれらの
混合溶剤として用いられる。
ルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ギ酸エチル
、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、メタノール
、エタノール、インプロパツール、ブタノール等のアル
コール類、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳
香族炭化水素類、イソプロピルエーテル、エチルエーテ
ル、ジオキサン等のエーテル類、テトラヒドロフラン、
フルフラール等のフラン類等を単一溶剤またはこれらの
混合溶剤として用いられる。
これらの溶剤はバインダーに対して10〜10000重
量%、特に100〜5000重量%の割合で用いる。
量%、特に100〜5000重量%の割合で用いる。
磁性層には無機顔料が含まれていてもよい。
無機顔料としては、無機充填剤として
S i02 、TiO2、Al2O2、Cr203 、
S iC,Cab、 CaCO3、酸化亜鉛、ゲーサ
イト、γ−Fe203.タルク、カオリン、CaSO4
,窒化硼素、フッ化黒鉛、二硫化モリブデン、ZnS等
がある。
S iC,Cab、 CaCO3、酸化亜鉛、ゲーサ
イト、γ−Fe203.タルク、カオリン、CaSO4
,窒化硼素、フッ化黒鉛、二硫化モリブデン、ZnS等
がある。
またこの他、次のような微粒子顔料(エアロジルタイプ
、コロイダルタイプ):5i02、A1203 、T
i 02 、Z r02、Cr203 、Y203 、
CeO2、Fe304 、Fe203 、ZrS i0
4 、Sb205.5n02等も用いられる。 これら
微粒子顔料は、例えば5I02の場合。
、コロイダルタイプ):5i02、A1203 、T
i 02 、Z r02、Cr203 、Y203 、
CeO2、Fe304 、Fe203 、ZrS i0
4 、Sb205.5n02等も用いられる。 これら
微粒子顔料は、例えば5I02の場合。
■無水硅酸の超微粒子コロイド溶液(スノーテックス、
水系、メタノールシリカゾル等、1産化学)、■精製四
塩化ケイ素の燃焼によって製造される超微粒子状無水シ
リカ(標準品100人)(アエロジル、日本アエロジル
株式会社)などが挙げられる。 また、電解法や、前記
■の超微粒子コロイド溶液および■と同様の気相法で製
造される超微粒子状の酸化アルミニウム、並びに酸化チ
タンおよび前述の微粒子顔料が使用され得る。 この様
な無機顔料の使用量は、磁性粒子100 ij Iii
部に対17て1〜30重に部が適当であり、これらがあ
まり多くなると、塗膜がもろくなり、かえってドロップ
アウトが多くなるという欠点がある。
水系、メタノールシリカゾル等、1産化学)、■精製四
塩化ケイ素の燃焼によって製造される超微粒子状無水シ
リカ(標準品100人)(アエロジル、日本アエロジル
株式会社)などが挙げられる。 また、電解法や、前記
■の超微粒子コロイド溶液および■と同様の気相法で製
造される超微粒子状の酸化アルミニウム、並びに酸化チ
タンおよび前述の微粒子顔料が使用され得る。 この様
な無機顔料の使用量は、磁性粒子100 ij Iii
部に対17て1〜30重に部が適当であり、これらがあ
まり多くなると、塗膜がもろくなり、かえってドロップ
アウトが多くなるという欠点がある。
また、無機顔料の径については0.7gts以下、さら
には0.05g+s以下が好ましい。
には0.05g+s以下が好ましい。
なお本発明では、カーボンブラック、グラフアイ]・、
グラファイト化カーボン等の導電剤ないし帯電防1L剤
の使用は全く必要ないか、あるいは少量の使用でよい。
グラファイト化カーボン等の導電剤ないし帯電防1L剤
の使用は全く必要ないか、あるいは少量の使用でよい。
磁性層には分散剤が含まれていてもよい。
分散剤として有機チタンカップリング剤、シランカップ
リング剤や界面活性剤が、帯電防11−剤として大豆油
、精製レシチン、サポニンなどの天然界面活性剤;アル
キレンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール系な
どの7ニオン界面活性剤:高級アルキルアミン類、第4
級アンモニウム塩類、ピリジンその他の複素環類、ホス
ホニウムまたはスルホニウム類などのカチオン界面活性
剤;カルボン酸、スルホン酸、燐酸、硫酸エステル基、
燐酸エステル基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤;
アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの
硫酸または燐酸エステル等の両性活性剤などが使用され
る。
リング剤や界面活性剤が、帯電防11−剤として大豆油
、精製レシチン、サポニンなどの天然界面活性剤;アル
キレンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール系な
どの7ニオン界面活性剤:高級アルキルアミン類、第4
級アンモニウム塩類、ピリジンその他の複素環類、ホス
ホニウムまたはスルホニウム類などのカチオン界面活性
剤;カルボン酸、スルホン酸、燐酸、硫酸エステル基、
燐酸エステル基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤;
アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの
硫酸または燐酸エステル等の両性活性剤などが使用され
る。
磁性層には潤滑剤が含まれていてもよい。
潤滑剤としては、従来この種の磁気記録媒体に用いられ
る潤滑剤として、シリコンオイル、フッ素オイル、脂肪
酸、脂肪酸エステル、パラフィン、流動パラフィン、界
面活性剤等を用いることができるが、脂肪酸および/ま
たは脂肪酸エステルを用いるのが好ましい。
る潤滑剤として、シリコンオイル、フッ素オイル、脂肪
酸、脂肪酸エステル、パラフィン、流動パラフィン、界
面活性剤等を用いることができるが、脂肪酸および/ま
たは脂肪酸エステルを用いるのが好ましい。
脂肪酸としては、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸
、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン
酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リルン酩
、ステアロール酸等の炭素数12以−Lの脂肪酸(RC
OOHlRは炭素数11以りのアルキル基)であり、脂
肪酸エステルとしては、炭素数12〜16個の一塩基性
脂肪酸と炭素数3〜12個の一価の7ルコールからなる
脂肪酸エステル類、炭素数17個以−ヒのノルマルない
しイソ−塩基性脂肪酸と脂肪酸の炭素数と合計して炭素
数が21〜23個よりなる一価のアルコールとからなる
脂肪酸エステル等が使用され、また前記脂肪酸のアルカ
リ金属またはアルカリ土類金属からなる金属石鹸、レシ
チン等が使用される。
、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン
酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リルン酩
、ステアロール酸等の炭素数12以−Lの脂肪酸(RC
OOHlRは炭素数11以りのアルキル基)であり、脂
肪酸エステルとしては、炭素数12〜16個の一塩基性
脂肪酸と炭素数3〜12個の一価の7ルコールからなる
脂肪酸エステル類、炭素数17個以−ヒのノルマルない
しイソ−塩基性脂肪酸と脂肪酸の炭素数と合計して炭素
数が21〜23個よりなる一価のアルコールとからなる
脂肪酸エステル等が使用され、また前記脂肪酸のアルカ
リ金属またはアルカリ土類金属からなる金属石鹸、レシ
チン等が使用される。
シリコーンとしては、脂肪酸変性よりなるもの、一部フ
ッ素変性されているものが使用される。 アルコールと
しては高級アルコールよりなるもの、フッ素としては電
解置換、テロメリゼーション、オリゴメリゼーション等
によって得られる。ものが使用される。
ッ素変性されているものが使用される。 アルコールと
しては高級アルコールよりなるもの、フッ素としては電
解置換、テロメリゼーション、オリゴメリゼーション等
によって得られる。ものが使用される。
潤滑剤の中では、放射線硬化型のものも使用して好都合
である。 これらは裏面への裏型転写を抑えるため、ド
ロップアウトの防1に、ロール状に巻かれたときの内外
径の個所よる出力差の減少の他、オンラインI−での製
造が可能である等の利点を持つ。
である。 これらは裏面への裏型転写を抑えるため、ド
ロップアウトの防1に、ロール状に巻かれたときの内外
径の個所よる出力差の減少の他、オンラインI−での製
造が可能である等の利点を持つ。
放射線硬化型部滑剤としては、滑性を示す分子鎖とアク
リル系二重結合とを分子中に有する化合物、例えばアク
リル酸エステル、メタクリル酸エステル、ビニル酢酸エ
ステル、アクリル酸アミド系化合物、ビニルアルコール
エステル、メチルビニルアルコールエステル、アリルア
ルコールエステル、グリセライド等があり、これらの潤
滑剤を構造式で表すと、 CH2=CH−CH2C00R1 CH2=CHC0NHCH2GOOR1RCOOCH=
CH2、 RCOOCH2−CH=CH2等で、ここでRは直鎖ま
たは分枝状の飽和もしくは不飽和炭化水素基で、炭素数
は7以ト、好ましくは12以]−23以下であり、これ
らはフッ素置換体とすることもできる。
リル系二重結合とを分子中に有する化合物、例えばアク
リル酸エステル、メタクリル酸エステル、ビニル酢酸エ
ステル、アクリル酸アミド系化合物、ビニルアルコール
エステル、メチルビニルアルコールエステル、アリルア
ルコールエステル、グリセライド等があり、これらの潤
滑剤を構造式で表すと、 CH2=CH−CH2C00R1 CH2=CHC0NHCH2GOOR1RCOOCH=
CH2、 RCOOCH2−CH=CH2等で、ここでRは直鎖ま
たは分枝状の飽和もしくは不飽和炭化水素基で、炭素数
は7以ト、好ましくは12以]−23以下であり、これ
らはフッ素置換体とすることもできる。
フッ素置換体としては、
Cn F 2n+1 、 Cn F 2n+l(C
H2) B−(ただし、m=1〜5)、 CnFnCH2CH2NHCH2CH2−1cnp2□
−1゜べ=ト0叫2°七− 等がある。
H2) B−(ただし、m=1〜5)、 CnFnCH2CH2NHCH2CH2−1cnp2□
−1゜べ=ト0叫2°七− 等がある。
これら放射線硬化型潤滑剤の好ましい具体例としては、
ステアリン酸メタクリレート(アクリレート)、ステア
リルアルコールのメタクリレート(アクリレート)、グ
リセリンのメタクリレート(アクリレート)、グリコー
ルのメタクリレート(アクリレート)、シリコーンのメ
タクリレート(アクリレート)等が挙げられる。
ステアリン酸メタクリレート(アクリレート)、ステア
リルアルコールのメタクリレート(アクリレート)、グ
リセリンのメタクリレート(アクリレート)、グリコー
ルのメタクリレート(アクリレート)、シリコーンのメ
タクリレート(アクリレート)等が挙げられる。
分散剤および潤滑剤はバインダーに対して0.1〜20
重量部含ませるのがよい。
重量部含ませるのがよい。
これら潤滑剤は、分散時に塗布膜中に添加してもよく、
あるいは塗膜表面にオーバーコートしてもよい。 さ
らには、これらを併用してもよい。
あるいは塗膜表面にオーバーコートしてもよい。 さ
らには、これらを併用してもよい。
その他に必要に応じて各種帯電防1■−剤、潤滑剤、分
散剤等を用途に合わせて使用することが有効である。
散剤等を用途に合わせて使用することが有効である。
なお、磁性粒子とバインダーとを含む磁性層の厚さは、
0.1〜10pm程度とする。
0.1〜10pm程度とする。
支持体としては、ポリエチレンテレフタレート等のポリ
エステル類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セ
ルローストリアセテート等のセルロース誘導体、ポリイ
ミド、ポリカーボネート、ポリサルホン、ポリエチレン
ナフタレート、芳香族アラミド、芳香族ポリエステル等
が使用されるが、これらに限定されるものではない。
エステル類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セ
ルローストリアセテート等のセルロース誘導体、ポリイ
ミド、ポリカーボネート、ポリサルホン、ポリエチレン
ナフタレート、芳香族アラミド、芳香族ポリエステル等
が使用されるが、これらに限定されるものではない。
これらの中では、特にポリエステル、ポリアミド、ポリ
イミド等を用いることがIITましい。
イミド等を用いることがIITましい。
また、必要に応じてアンダーコート層、バックコート層
およびオーバーコート層を設けてもよい。 また、必要
に応じ磁性層を基体の両面に設けてもよい。
およびオーバーコート層を設けてもよい。 また、必要
に応じ磁性層を基体の両面に設けてもよい。
なお、バックコートを設けるときには、バインダー、顔
料および潤滑剤からなる組成とするのがよい。 また、
アンダーコート層等は2層以上の積層構造としてもよい
。
料および潤滑剤からなる組成とするのがよい。 また、
アンダーコート層等は2層以上の積層構造としてもよい
。
本発明の磁気記録媒体を製造するには常法に従って行え
ばよい。 すなわち、磁性粒子をバインダー、有機溶剤
等とともに混合分散して磁性塗料を調製し、この磁性塗
料を必要に応じ下地層を設けたり下地処理を施したポリ
エステルフィルムなどの基体1−にグラビアコート、リ
バースロールコート、エアーナイフコート、エアードク
ターコート、ブレードコートキスコート、スプレーコー
トなどの手法を用いて塗布し、必要に応じて水平方向や
垂直方向の磁場等による配向処理を行って乾燥し、好ま
しくは常法tと従い放射線等により硬化すればよい。
ばよい。 すなわち、磁性粒子をバインダー、有機溶剤
等とともに混合分散して磁性塗料を調製し、この磁性塗
料を必要に応じ下地層を設けたり下地処理を施したポリ
エステルフィルムなどの基体1−にグラビアコート、リ
バースロールコート、エアーナイフコート、エアードク
ターコート、ブレードコートキスコート、スプレーコー
トなどの手法を用いて塗布し、必要に応じて水平方向や
垂直方向の磁場等による配向処理を行って乾燥し、好ま
しくは常法tと従い放射線等により硬化すればよい。
そして必要に応じてバックコートおよびオーバーコート
を設ければよい。
を設ければよい。
■ 発明の具体的作用効果
本発明によれば、磁性粒子として少なくとも表面が炭化
鉄である粒子を5〜90重亀%含有している。
鉄である粒子を5〜90重亀%含有している。
この場合、炭化鉄粒子は導電性を有するため磁気記録媒
体、例えばテープ表面での帯電を防止することができ、
テープ表面に異物が431着して、ドロップアウトを生
じたり、放電ノイズが生じたりすることを防いで、テー
プ性能を向上させる。
体、例えばテープ表面での帯電を防止することができ、
テープ表面に異物が431着して、ドロップアウトを生
じたり、放電ノイズが生じたりすることを防いで、テー
プ性能を向上させる。
そして、炭化鉄粒子は磁性を有するので、カーボンブラ
ック添加のうぢに磁化を減少ごせず良好な出力とS/N
とをq−える。
ック添加のうぢに磁化を減少ごせず良好な出力とS/N
とをq−える。
また、炭化鉄粒子は、化学的に安定であるので、耐酸化
性をもち、温度、湿度等の外部環境による磁束密度の低
下や、磁性層のサビの発生による特性の劣化を防ぐこと
ができる。
性をもち、温度、湿度等の外部環境による磁束密度の低
下や、磁性層のサビの発生による特性の劣化を防ぐこと
ができる。
一方、硬度が高いという性質を利用して、磁気記録走行
中に磁気ヘッドを逐次研磨することができるので、焼き
伺きを防止することかでき、かつ面荒れも防11二する
ことができ、出力等の経時的低下を防ぐことができる。
中に磁気ヘッドを逐次研磨することができるので、焼き
伺きを防止することかでき、かつ面荒れも防11二する
ことができ、出力等の経時的低下を防ぐことができる。
そして、このような効果は、炭化鉄量が5重礒%程度未
満および90重量%より大では実現しない。
満および90重量%より大では実現しない。
■ 発明の具体的実施例
以下、本発明を実施例および比較例によりさらに詳細に
説明する。
説明する。
実施例1
下記の通りの重量比で磁性塗料を調製した。
磁性粒子 120重量部α−A文2
03 5重品部(0,5pLm粉状) 溶剤(MEK/)ルエン: 100重縫部上記組成
物をボールミル中にて3時間混合し、磁性粒子をよく湿
潤させた。
03 5重品部(0,5pLm粉状) 溶剤(MEK/)ルエン: 100重縫部上記組成
物をボールミル中にて3時間混合し、磁性粒子をよく湿
潤させた。
次に、下記に示すバインダー1を磁性粒子混合物の入っ
たボールミル中に投入し、再び42時間混合分散させた
。
たボールミル中に投入し、再び42時間混合分散させた
。
バインダーl
塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体(
マレイン酸含有率:1% MW40.000)8重量部(固型分換算)、アクリル
ニ重結合導入111化ビニル−酢酸ビニル共重合体(マ
レイン酸含有率:1% MW20.000)10重量部(固型分換算)、 アクリル二重結合導入ポリエーテルウレタンエラストマ
ー(MW40.000)9重量部(固型分換算)、 ペンタエリスリトールトリアクリレート3重量部、 溶剤(MEK/トルエン、50150)200重量部、 ステアリン酸4重量部、 および ステアリン酸ブチル2重量部 を混合溶解させた。
マレイン酸含有率:1% MW40.000)8重量部(固型分換算)、アクリル
ニ重結合導入111化ビニル−酢酸ビニル共重合体(マ
レイン酸含有率:1% MW20.000)10重量部(固型分換算)、 アクリル二重結合導入ポリエーテルウレタンエラストマ
ー(MW40.000)9重量部(固型分換算)、 ペンタエリスリトールトリアクリレート3重量部、 溶剤(MEK/トルエン、50150)200重量部、 ステアリン酸4重量部、 および ステアリン酸ブチル2重量部 を混合溶解させた。
このようにして得られた磁性塗料をポリエステルフィル
ムI−にグラビアコートを行い、配向処理を行った後、
遠赤外線ランプまたは熱風により溶剤を乾燥させ表面平
滑化処理をした。
ムI−にグラビアコートを行い、配向処理を行った後、
遠赤外線ランプまたは熱風により溶剤を乾燥させ表面平
滑化処理をした。
その後、ESI社製エレクトロンカーテンタイプ電子線
加速装置を使用して加速電圧150KeV、電極電流2
0mA、全照射皐5M r a dの条件ドでN2雰囲
気下にて電r−線を開用し、塗膜を硬化させた。 硬化
後の塗膜(磁性層)のffさは2gtaであった。 な
お、この膜厚の測定は電子マイクロメーターで行った。
加速装置を使用して加速電圧150KeV、電極電流2
0mA、全照射皐5M r a dの条件ドでN2雰囲
気下にて電r−線を開用し、塗膜を硬化させた。 硬化
後の塗膜(磁性層)のffさは2gtaであった。 な
お、この膜厚の測定は電子マイクロメーターで行った。
なお、上記磁性粒子は下記表1に示されるように、少な
くとも表面がFenCである粉末(以下FenC粉末と
する)、あるいはこれとCO被着酸化鉄粉末(以下 Co−γFe2O3粉末とする)との混合割合(重量部
)を変えた混合物である。
くとも表面がFenCである粉末(以下FenC粉末と
する)、あるいはこれとCO被着酸化鉄粉末(以下 Co−γFe2O3粉末とする)との混合割合(重量部
)を変えた混合物である。
表 1
No、 粉 末 粉
末l(比較) 100 02(比
較) 95 5 ここで、金1状Fe nC粉末は、31状α−Fe00
Hを電気炉にて、COとH2の混合ガス(混合比率3ニ
ア)雰囲気中で、350℃、5時間加熱して得られたも
のである。
末l(比較) 100 02(比
較) 95 5 ここで、金1状Fe nC粉末は、31状α−Fe00
Hを電気炉にて、COとH2の混合ガス(混合比率3ニ
ア)雰囲気中で、350℃、5時間加熱して得られたも
のである。
111られたものはX線回析によりFe5CとFeの混
晶であることが確認された。 このものは、保磁力Hc
=900〜9100e、飽和磁化σ3=82emu/g
の粉末である。
晶であることが確認された。 このものは、保磁力Hc
=900〜9100e、飽和磁化σ3=82emu/g
の粉末である。
Co−yFe203粉末は、7−Fe2O3粒子の表面
から数10人以内のごく薄い層にCo2+を拡散させた
ものである。 このものは保磁力Hc=750 0eの
粉末である。
から数10人以内のごく薄い層にCo2+を拡散させた
ものである。 このものは保磁力Hc=750 0eの
粉末である。
これを鏡面什−1−げの後、ビデオテープ寸法の磁気テ
ープを作製した。
ープを作製した。
さらに比較のため、−1−記における磁性塗料中、磁性
粒子を表2のように変更した以外は上記と同一にしてビ
デオテープを作成した。
粒子を表2のように変更した以外は上記と同一にしてビ
デオテープを作成した。
表 2
No、 粉 末 粉 末
粉 末6(比較) −100− 7(比較) −−100 なお、−1−記鉗状Fe粉末は、釘状α−FeOOHを
水素還元して得られたもので、平均粒子長0.27t+
i、軸比8、保磁力)1c=9000e、飽和磁化c
s = 155 eIlu/gの粉末である。
粉 末6(比較) −100− 7(比較) −−100 なお、−1−記鉗状Fe粉末は、釘状α−FeOOHを
水素還元して得られたもので、平均粒子長0.27t+
i、軸比8、保磁力)1c=9000e、飽和磁化c
s = 155 eIlu/gの粉末である。
また、磁性粒子N006.7においては、磁性粒子12
0重量部に対し、平均粒径20mpのカーボンブラック
を30重置部添加した。
0重量部に対し、平均粒径20mpのカーボンブラック
を30重置部添加した。
このようにして作製したビデオテープについて下記の特
性を測定した。
性を測定した。
l)磁気特性
保磁力He、最大飽和磁化Ms、角形比Br/ B m
は振動試料磁束計で測定した。
は振動試料磁束計で測定した。
2)RF出力
センダスi・ヘッド(ギャップ:0.28ILm、巻線
:20ターン、]・ラックIll : 26pm)を搭
載したVTRデツキを使用し、ヘッドテー−プ相対速度
3.75m/秒にて、5MHzの出力を測定した。
:20ターン、]・ラックIll : 26pm)を搭
載したVTRデツキを使用し、ヘッドテー−プ相対速度
3.75m/秒にて、5MHzの出力を測定した。
3)クロマ出力
2)と同様のヘッドを用い、ヘッドテープ相対速度:3
.75m/秒にて0.75MHzのクロマ出力を測定し
た。
.75m/秒にて0.75MHzのクロマ出力を測定し
た。
4)ヘッド摩耗量
2)と同様のヘッドを使用したソニー■製CCDV8デ
ツキで100時間実験室内で磁気テープを走行させた後
のヘッド摩耗量を測定した。
ツキで100時間実験室内で磁気テープを走行させた後
のヘッド摩耗量を測定した。
5)電気抵抗(Ω/cI62)
サンプル巾100m+i、長さ100m腸の大きさに切
断し、超絶縁抵抗器により、主電極外径50mm、ガー
ド電極外径80mm、内径70rsmの測定部に、温度
20±2℃、相対湿度65±5%の大気中で直1& 5
00 Vの印加電圧により測定した。
断し、超絶縁抵抗器により、主電極外径50mm、ガー
ド電極外径80mm、内径70rsmの測定部に、温度
20±2℃、相対湿度65±5%の大気中で直1& 5
00 Vの印加電圧により測定した。
6)ドロップアウト増加率
100パス後の1分間あたりのドロップアウト個数と2
00パス後の1分間あたりのドロップアウト個数を測定
し、その増加比率を算出した。
00パス後の1分間あたりのドロップアウト個数を測定
し、その増加比率を算出した。
7)耐酸化性
磁気テープを湿度98%、温度60℃に711間保持し
た後磁気測定を行い、最初の状態から残留磁束密度Br
の減少率ΔBrで示した。
た後磁気測定を行い、最初の状態から残留磁束密度Br
の減少率ΔBrで示した。
8)ヘッド焼き+jさ
ヘッド焼きイ・jきは、アモルファス磁気ヘッドを使用
したVHSデツキで20時間実験室内で磁気テープを走
行(相対速度5 、8 m/sec )させた後、顕微
鏡により観察した。 そし評価は次の通りである。
したVHSデツキで20時間実験室内で磁気テープを走
行(相対速度5 、8 m/sec )させた後、顕微
鏡により観察した。 そし評価は次の通りである。
ヘッド焼き旧き O変色部分無し△ 一部変色
× 全面変色
この結果を表3に示す。
すなわち、本発明のサンプルはΔBrが3%未満で、き
わめて良好な耐醇化性を示す。 また、RF出力100
gVp−P以上、クロマ出力400.Vp−p以上を示
し、実用1−良好な出力を示す。 そして、ヘッド焼イ
・1きもない。
わめて良好な耐醇化性を示す。 また、RF出力100
gVp−P以上、クロマ出力400.Vp−p以上を示
し、実用1−良好な出力を示す。 そして、ヘッド焼イ
・1きもない。
さらにはヘッド摩耗星も少ない。 そして、電気抵抗は
1xlO10Ω/Cff12以下であり、多数使用によ
るドロップアウト増加もきわめて少ない。
1xlO10Ω/Cff12以下であり、多数使用によ
るドロップアウト増加もきわめて少ない。
これに対し比較用のサンプルでは、いずれかの特性にお
いて、実用レベルを満足しないものである。
いて、実用レベルを満足しないものである。
実施例2
実施例1において、下記バインダー2を用いた磁性塗料
を用い、これを塗布し、乾燥条件は80℃、48時間と
したものを用いた。 この場合、磁性層厚は27zmで
あった。
を用い、これを塗布し、乾燥条件は80℃、48時間と
したものを用いた。 この場合、磁性層厚は27zmで
あった。
バインダー2
塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体(
ユニオンカーバイド社製UCARMAG 5 2 8
) 15重縫部(固型分換算)、 ウレタン([1本ポリウレタン社製ニッポラン3022
) 15重品部(固型分換算)、溶剤(MEK
/シクロヘキサノン; 70/30) 200重量部、高級脂
肪酸変性シリコーンオイル3重量部、および ミリスチン酸ブチル3重量部 を混合溶解させた。
ユニオンカーバイド社製UCARMAG 5 2 8
) 15重縫部(固型分換算)、 ウレタン([1本ポリウレタン社製ニッポラン3022
) 15重品部(固型分換算)、溶剤(MEK
/シクロヘキサノン; 70/30) 200重量部、高級脂
肪酸変性シリコーンオイル3重量部、および ミリスチン酸ブチル3重量部 を混合溶解させた。
ただし、分散後、磁性塗料中にインシアネート化合物(
日本ポリウレタン社製コロネートL)を5重量部(固型
分換算)を加えた。
日本ポリウレタン社製コロネートL)を5重量部(固型
分換算)を加えた。
この結果は上記と同等であった。
これらの結果より本発明の効果は明らかである。
Claims (2)
- (1)支持体上に、磁性粒子とバインダーとを含む記録
層を有する磁気記録媒体において、磁性粒子が、少なく
とも表面が炭化鉄である粒子と酸化物系粒子とを含み、
磁性粒子中の炭化鉄含有量が5〜90重量%であること
を特徴とする磁気記録媒体。 - (2)少なくとも表面が炭化鉄である粒子の炭化鉄がF
enC(nは2以上)の組成をもつ特許請求の範囲第1
項に記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60225673A JPS6285403A (ja) | 1985-10-09 | 1985-10-09 | 磁気記録媒体 |
| GB8624128A GB2181445B (en) | 1985-10-09 | 1986-10-08 | Magnetic recording medium |
| DE3634487A DE3634487C2 (de) | 1985-10-09 | 1986-10-09 | Magnetischer Aufzeichnungsträger |
| US06/917,224 US4794042A (en) | 1985-10-09 | 1986-10-09 | Magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60225673A JPS6285403A (ja) | 1985-10-09 | 1985-10-09 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6285403A true JPS6285403A (ja) | 1987-04-18 |
Family
ID=16832986
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60225673A Pending JPS6285403A (ja) | 1985-10-09 | 1985-10-09 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6285403A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1995001637A1 (en) * | 1993-06-30 | 1995-01-12 | Tdk Corporation | Magnetic recording medium and process for producing the same |
| US5618637A (en) * | 1991-11-25 | 1997-04-08 | Tdk Corporation | Magnetic recording medium |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6071509A (ja) * | 1983-09-17 | 1985-04-23 | Daikin Ind Ltd | 炭化鉄を含有する針状粒子 |
| JPS60122712A (ja) * | 1983-12-07 | 1985-07-01 | Daikin Ind Ltd | 表面処理を施した炭化鉄を含有する針状粒子及びこれから成る磁性塗料用材料 |
| JPS60124023A (ja) * | 1983-12-07 | 1985-07-02 | Daikin Ind Ltd | 磁気記録媒体 |
-
1985
- 1985-10-09 JP JP60225673A patent/JPS6285403A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6071509A (ja) * | 1983-09-17 | 1985-04-23 | Daikin Ind Ltd | 炭化鉄を含有する針状粒子 |
| JPS60122712A (ja) * | 1983-12-07 | 1985-07-01 | Daikin Ind Ltd | 表面処理を施した炭化鉄を含有する針状粒子及びこれから成る磁性塗料用材料 |
| JPS60124023A (ja) * | 1983-12-07 | 1985-07-02 | Daikin Ind Ltd | 磁気記録媒体 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5618637A (en) * | 1991-11-25 | 1997-04-08 | Tdk Corporation | Magnetic recording medium |
| WO1995001637A1 (en) * | 1993-06-30 | 1995-01-12 | Tdk Corporation | Magnetic recording medium and process for producing the same |
| US5514465A (en) * | 1993-06-30 | 1996-05-07 | Tdk Corporation | Magnetic recording medium comprising a magnetic layer containing magnetic powder, an organic dye and a binder having an amino group or ammonium salt group |
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