JPS611636A - ４−置換−５−アルキリデン−２−シクロペンテノン類およびその製法 - Google Patents
４−置換−５−アルキリデン−２−シクロペンテノン類およびその製法Info
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- JPS611636A JPS611636A JP59119828A JP11982884A JPS611636A JP S611636 A JPS611636 A JP S611636A JP 59119828 A JP59119828 A JP 59119828A JP 11982884 A JP11982884 A JP 11982884A JP S611636 A JPS611636 A JP S611636A
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- alkylidene
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Pyrane Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は４−置換−５−アルキリデン−２−シクロペン
テノン類およびその製法に関する。更に詳細には優れた
制ガン作用、抗ウィルス作用を有する新規な４−ｆ換−
５−アルキリデン−２−シクロペンテノン類およびその
製法に関する。
テノン類およびその製法に関する。更に詳細には優れた
制ガン作用、抗ウィルス作用を有する新規な４−ｆ換−
５−アルキリデン−２−シクロペンテノン類およびその
製法に関する。
〈従来技術〉
プロスタグランジン類の中では、その骨格構造の中でシ
クロペンタン環に２゛重結合を有するプロスタグランジ
ン類が知られており、これらが強い制ガン活性を呈する
ことが報告されている。例えばＰＧＤ、及びその脱水体
ＰＧＪ。
クロペンタン環に２゛重結合を有するプロスタグランジ
ン類が知られており、これらが強い制ガン活性を呈する
ことが報告されている。例えばＰＧＤ、及びその脱水体
ＰＧＪ。
類は１０−５〜１０−６モル程度の濃度で白血病細胞（
Ｌ１２１０）の増殖を強く抑制することが知られている
。（福島ら、特開昭５８−１２４７１８ ；若塚ら特開
昭５９−５１５５；５９−１４６３参照）。
Ｌ１２１０）の増殖を強く抑制することが知られている
。（福島ら、特開昭５８−１２４７１８ ；若塚ら特開
昭５９−５１５５；５９−１４６３参照）。
またＰＧＡ、やΔ’−ＰＧＡ、類（福島ら、Ｍｔｅｒｎ
ｒｔｉｏｎＭｅｅｔｉｒｙ ｏｎ Ｉｃｏｇａｍｏｉｄ
ｓ ａｎｄ Ｃａｎｃｅｒ、Ｉｌｅ ｄｅＢｅｎｄｏｒ
、Ｆｒａｎｃｅ、Ｓａｐｔｅｍｈｅｒ ２３へ２５．１
９８３参照）やＰＧＡ、類（福島、病態生ＩＪ ２（８
１，８１１（１９８３） ；癌と化学療法１０（９１，
１９３０（１９８３）参照）Ｋも同様の活性が認められ
、これらは１ｎｖｉｖｏ においても強い制ガン活性
を示すことが知られている。また最近これらの類縁体で
ある４置換−５−アルキリデン−２−シクロペンテノン
類の中で海産プロスタグランジン類であるクラプロン、
タラビリデノン類Ｈ，Ｋｉｋｕｃｈｉら。
ｒｔｉｏｎＭｅｅｔｉｒｙ ｏｎ Ｉｃｏｇａｍｏｉｄ
ｓ ａｎｄ Ｃａｎｃｅｒ、Ｉｌｅ ｄｅＢｅｎｄｏｒ
、Ｆｒａｎｃｅ、Ｓａｐｔｅｍｈｅｒ ２３へ２５．１
９８３参照）やＰＧＡ、類（福島、病態生ＩＪ ２（８
１，８１１（１９８３） ；癌と化学療法１０（９１，
１９３０（１９８３）参照）Ｋも同様の活性が認められ
、これらは１ｎｖｉｖｏ においても強い制ガン活性
を示すことが知られている。また最近これらの類縁体で
ある４置換−５−アルキリデン−２−シクロペンテノン
類の中で海産プロスタグランジン類であるクラプロン、
タラビリデノン類Ｈ，Ｋｉｋｕｃｈｉら。
Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ ｈｅｔｔ、、２３．５］７１
（１９８２）、２４，１５４９（１９８３）；２４．４
４３３（１９８３）；Ｍ、Ｋｏｂａｙａｓｈｉら。
（１９８２）、２４，１５４９（１９８３）；２４．４
４３３（１９８３）；Ｍ、Ｋｏｂａｙａｓｈｉら。
Ｔｅｔｒａｋｅｄｒｏｎ ｈ＠ｔｔ、、２３．５３３１
（１９８２）＋Ｃｈｅｍ。
（１９８２）＋Ｃｈｅｍ。
Ｐｈａｒｍ Ｂｕｌｌ、、３１．１４４０（−１９８３
）参照）にも同様の活性を示す（福島ら、第４２回日本
療学会要旨集８５６（１９８３）参照）ことが知られて
いる。
）参照）にも同様の活性を示す（福島ら、第４２回日本
療学会要旨集８５６（１９８３）参照）ことが知られて
いる。
さらにＰＧＪ を類似化合物にも同様の活性（若塚ら、
４？開昭５８−２１６１５５．５９−５１５４参照）が
知られるようになった。
４？開昭５８−２１６１５５．５９−５１５４参照）が
知られるようになった。
〈発明のρ的〉
本発明者らはかかる事実に注目し、天然物クラブロン、
タラビリデノンの類稼体として新規な４−置換−５−ア
ルキリデン−２−シクロペンテノン類を得るべく鋭意研
究し本発明に至った。本発明の目的は従来の４−置換−
５−アルキリデン−２−シクロペンテノン類とは異なる
新規な構造の４−置換−５−アルキリデン−２−シクロ
ペンテノンａ及びその製法を提供することにある。
タラビリデノンの類稼体として新規な４−置換−５−ア
ルキリデン−２−シクロペンテノン類を得るべく鋭意研
究し本発明に至った。本発明の目的は従来の４−置換−
５−アルキリデン−２−シクロペンテノン類とは異なる
新規な構造の４−置換−５−アルキリデン−２−シクロ
ペンテノンａ及びその製法を提供することにある。
〈発明の構成及び効果〉
本発明の４−置換−５−アルキリデン−２−シクロペン
テノン類は下記式［１） ％式％ 上記式（１）においてＲ１は炭素数１〜１０のアルキル
基、エステル基、もしくはカルボキシル基またはその塩
を表わす。アルキル基としては例えばメチル、エチル、
ｎ−プロピル。
テノン類は下記式［１） ％式％ 上記式（１）においてＲ１は炭素数１〜１０のアルキル
基、エステル基、もしくはカルボキシル基またはその塩
を表わす。アルキル基としては例えばメチル、エチル、
ｎ−プロピル。
ｎ−ヘキシル、ｎ−デシル等の直鎖状または分岐状のも
のをあげることが出来る。エステル基としてはメトキシ
カルボニル、エトキシカルボニル、ｎ−プロピルオキシ
カルボニル。
のをあげることが出来る。エステル基としてはメトキシ
カルボニル、エトキシカルボニル、ｎ−プロピルオキシ
カルボニル。
ｎ−ヘキシルオキシカルボニル、フェノキシカルボニル
、アセトキシメチル、プロピオニルオキシメチル、ペン
プイルオキシメチル等をあげることが出来る。またカル
ボン酸塩としては１当量のカチオンの塩をあげることが
出来る。−当量のカチオンとしては、例えばＮＨ，”、
テトラメチルアンモニウム、モノメチルアンモニウム、
ジメチルアンモニウム、トリメチルアンモニウム、ベン
ジルアンモニウム、フェネチルアンモニウム、モルホリ
ニウムカチオン、モノエタノールアンモニウム。
、アセトキシメチル、プロピオニルオキシメチル、ペン
プイルオキシメチル等をあげることが出来る。またカル
ボン酸塩としては１当量のカチオンの塩をあげることが
出来る。−当量のカチオンとしては、例えばＮＨ，”、
テトラメチルアンモニウム、モノメチルアンモニウム、
ジメチルアンモニウム、トリメチルアンモニウム、ベン
ジルアンモニウム、フェネチルアンモニウム、モルホリ
ニウムカチオン、モノエタノールアンモニウム。
ピペリジニウムカチオンなど°のアンモニウムカチオン
、＋ Ｎ！１”、Ｋ“ などのアルカリ金属カチオン；
１／２Ｃａ” 、１／２Ｍｇ”、 １／２Ｚｎ” 、
１／３Ａｊ”などの２価もしくは３価の金属カチオン
等を挙げることができる。Ｖは炭素数１〜１ｏの置換も
しくは非置換のフルキル基を表わす。
、＋ Ｎ！１”、Ｋ“ などのアルカリ金属カチオン；
１／２Ｃａ” 、１／２Ｍｇ”、 １／２Ｚｎ” 、
１／３Ａｊ”などの２価もしくは３価の金属カチオン
等を挙げることができる。Ｖは炭素数１〜１ｏの置換も
しくは非置換のフルキル基を表わす。
非置換の炭素数１〜ｌＯのフルキル基としては、例えば
、メチル、エチル、ｎ−プロピル、 １ｓｏ−プロピ
ル、ｎ−ブチル、 ５ｅｅ−ブチル＊ ｔａｒｔ−
ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、
ｎ−オクチル、 ｎ −ノニルおよびｎ−デシル等の
直鎖状又は分岐状のものを挙げることができる。
、メチル、エチル、ｎ−プロピル、 １ｓｏ−プロピ
ル、ｎ−ブチル、 ５ｅｅ−ブチル＊ ｔａｒｔ−
ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、
ｎ−オクチル、 ｎ −ノニルおよびｎ−デシル等の
直鎖状又は分岐状のものを挙げることができる。
かかる非置換の炭素数１〜１０のアルキル基の貴換基と
しては、シクロアルキル基１例エバシクロプロビル、シ
クロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、アルケ
ニル基例えばプルベニル、インブテニル、ブテニル。
しては、シクロアルキル基１例エバシクロプロビル、シ
クロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、アルケ
ニル基例えばプルベニル、インブテニル、ブテニル。
プレニル、等を挙げることが出来る。また−Ｃ（１０）
Ｒ’ （ここでＲ４は水素原子、炭素数１〜１０のアル
キル基又は−当量のカチオンを表わす。）水酸基、フェ
ニル基、炭素数１〜６のフルコキシ基、炭素数１〜７の
アシルオキン基２等を挙げることが出来る。
Ｒ’ （ここでＲ４は水素原子、炭素数１〜１０のアル
キル基又は−当量のカチオンを表わす。）水酸基、フェ
ニル基、炭素数１〜６のフルコキシ基、炭素数１〜７の
アシルオキン基２等を挙げることが出来る。
かかる−Ｃ（１０）Ｒ’のＲ４としては水素原子、炭素
数１〜１０のアルキル基、−当量のカチオンをあげるこ
とができ、炭素数１〜１０のアルキル基としては上記し
たと同様のアルキル基、−当量のカチオンをあげること
ができる。
数１〜１０のアルキル基、−当量のカチオンをあげるこ
とができ、炭素数１〜１０のアルキル基としては上記し
たと同様のアルキル基、−当量のカチオンをあげること
ができる。
炭素数１〜６のフルコキシ基としては、例えばメトキシ
、エトキン、ｎ−プロポキシ。
、エトキン、ｎ−プロポキシ。
１ｓｏ−プロポキシ、ｎ−ブトキシ、クロロメトキシ、
ジクロロメトキシ、トリフルオロメトキシ、テトラヒド
ロピラニルオキシ、α−エチルオキシエトキシ、メトキ
ンメトキシ等を好ましいものとして挙げることができる
。
ジクロロメトキシ、トリフルオロメトキシ、テトラヒド
ロピラニルオキシ、α−エチルオキシエトキシ、メトキ
ンメトキシ等を好ましいものとして挙げることができる
。
炭素数１〜７の７シルオキシ基としては、例えばアセト
キシ、プロピオニルオキシ、ｎ−ブチリルオキシ、
１ｓｏ−ブチリルオキシ。
キシ、プロピオニルオキシ、ｎ−ブチリルオキシ、
１ｓｏ−ブチリルオキシ。
ｎ−バレリルオキシ、 １ｓｏ−バレリルオキシ。
１ｓｏ−バレリルオキソ、カプロイルオキシ。
エナンチルオキシ又はベンゾイルオキシを挙げることが
できる。
できる。
かかる４−置換−５−アルキリデン−２−シクロペンテ
ノン類の具体例としては例えば１）４−（２−オクテニ
ル）−５−（６−カルボニルオキシへキシリデン）−２
−シクロパンテノン ２）４−（２−へキゼニル）−５−（６−カルボニルオ
キシへキシリチン）−２−ンクｐぺ／テノン ３）４−（２−ブテニル）−５−（６−カルボニルオキ
シへキシリデン）−２−シクロペンテノン ４）４−（８−メチル−２−ノネニル）−５−（６−カ
ルボニルオキシへキシリデン）−２−シクロペンテノン ５）４−（７−メチル−２−オクテニル）−５−（６−
カルボニルオキシへキシリデン）−２−シクロペンテノ
ン ６）４−（５−メチル−２−オクテニル）−５−（６−
カルボニルオキシへキシリデン）−２−シクロペンテノ
ン ７）４−（５−シクロへキシル−２−ペンテニル）−５
−（６−カルボニルオキシへキシリデン）−２−シクロ
ペンテノン ８）４−（４−シクロペンチルー２−ブテニル）−５−
（６−カルボニルオキシへキシリデン）−２−シクロペ
ンテノン ９）４−（４−フェニル−２−ブテニル）−５−（６−
カルボニルオキシへキシリチン）−２−シクロペンテノ
ン ｔｏ）４−（６−メチル−２，５−一〜ブタジェニル）
−５−（６−カルボニルオキシへキシリデン）−２−シ
クロペンテノン １１） ４−（６，１ｍ−−ジメチル−２，９−ウン
デカジェニル）−５−（６−カルボニルオキシへキシリ
デン）−２−シクロペンテノン１２）４−（５−エトキ
シ−２−ペンテニル）−５−（６−カルボニルオキシへ
キシリデン）−２−シクロペンテノン １３）４−（７−テトラヒドロビラニルオキシ−２−ヘ
フテニル）−５−へ７’ ｆ ！Ｉ ｆ ｙ −２−シ
クロペンテノン １．４）４−（２−オクテニル）−５−ヘプチリデ／−
２−シクロペンテノン １５）４−（７−テトラヒドロビラニルオキシ−２−ヘ
プテニル）−５−（６−カルボニルオキシへキシリデン
）−２−シクロペンテノン １６）４−（６−カルポニルオキシー２−ヘキセニル）
−５−ヘプチリデンー２−シクロペンテノン １７）４−（７−７セトキシー２−へブテニル）−５−
へブチリデン−２−シクロペンテノン １８）４−（７−ヒドロキシ−２−へブテニル）−，５
−ヘア’チリデンー２−シクロペンテノン １９）４−（７−ペンゾイルオキシー２−へブテニル）
−５−へブチＩＩデンー２−シクロペンテノン ２０）４−（６−カルボニルオキシ−２−へキセニル）
−５−オクチリデン−２−シクロペンテノン ２１）４−（６−カルポニルオキシー２−へキセニル）
−５−（７−メチルオクチリデン）−２−シクロペンテ
ノン ２４）化合物１）〜１２） １５） １６） ２０）
２１）のメチルエステル ２５）化合物１）へ１２） １５） １６） ２０）
２１）のエチルニスチル ２６）化合物】）〜１２） １５） １６） ２０）
２１）のナトリウム塩 などが挙げられる。
ノン類の具体例としては例えば１）４−（２−オクテニ
ル）−５−（６−カルボニルオキシへキシリデン）−２
−シクロパンテノン ２）４−（２−へキゼニル）−５−（６−カルボニルオ
キシへキシリチン）−２−ンクｐぺ／テノン ３）４−（２−ブテニル）−５−（６−カルボニルオキ
シへキシリデン）−２−シクロペンテノン ４）４−（８−メチル−２−ノネニル）−５−（６−カ
ルボニルオキシへキシリデン）−２−シクロペンテノン ５）４−（７−メチル−２−オクテニル）−５−（６−
カルボニルオキシへキシリデン）−２−シクロペンテノ
ン ６）４−（５−メチル−２−オクテニル）−５−（６−
カルボニルオキシへキシリデン）−２−シクロペンテノ
ン ７）４−（５−シクロへキシル−２−ペンテニル）−５
−（６−カルボニルオキシへキシリデン）−２−シクロ
ペンテノン ８）４−（４−シクロペンチルー２−ブテニル）−５−
（６−カルボニルオキシへキシリデン）−２−シクロペ
ンテノン ９）４−（４−フェニル−２−ブテニル）−５−（６−
カルボニルオキシへキシリチン）−２−シクロペンテノ
ン ｔｏ）４−（６−メチル−２，５−一〜ブタジェニル）
−５−（６−カルボニルオキシへキシリデン）−２−シ
クロペンテノン １１） ４−（６，１ｍ−−ジメチル−２，９−ウン
デカジェニル）−５−（６−カルボニルオキシへキシリ
デン）−２−シクロペンテノン１２）４−（５−エトキ
シ−２−ペンテニル）−５−（６−カルボニルオキシへ
キシリデン）−２−シクロペンテノン １３）４−（７−テトラヒドロビラニルオキシ−２−ヘ
フテニル）−５−へ７’ ｆ ！Ｉ ｆ ｙ −２−シ
クロペンテノン １．４）４−（２−オクテニル）−５−ヘプチリデ／−
２−シクロペンテノン １５）４−（７−テトラヒドロビラニルオキシ−２−ヘ
プテニル）−５−（６−カルボニルオキシへキシリデン
）−２−シクロペンテノン １６）４−（６−カルポニルオキシー２−ヘキセニル）
−５−ヘプチリデンー２−シクロペンテノン １７）４−（７−７セトキシー２−へブテニル）−５−
へブチリデン−２−シクロペンテノン １８）４−（７−ヒドロキシ−２−へブテニル）−，５
−ヘア’チリデンー２−シクロペンテノン １９）４−（７−ペンゾイルオキシー２−へブテニル）
−５−へブチＩＩデンー２−シクロペンテノン ２０）４−（６−カルボニルオキシ−２−へキセニル）
−５−オクチリデン−２−シクロペンテノン ２１）４−（６−カルポニルオキシー２−へキセニル）
−５−（７−メチルオクチリデン）−２−シクロペンテ
ノン ２４）化合物１）〜１２） １５） １６） ２０）
２１）のメチルエステル ２５）化合物１）へ１２） １５） １６） ２０）
２１）のエチルニスチル ２６）化合物】）〜１２） １５） １６） ２０）
２１）のナトリウム塩 などが挙げられる。
本発明の４−置換−５−アルキリデン−２−シクロペン
テノン類は下記式（ＩＩ）で表わされるスルホキシド類
を出発１料にしてこれよりｐｈｓＯ基を還元的に脱離さ
せ、下記式ｒｉｌｌ） ＯＨ （式中象゛・Ｒ′・竺”＆家上記定義に同じ）で表わさ
れるシクロペンタノン類とし、これを２種の脱離反応に
付し、下記式〔ｖ〕または〔■〕 。
テノン類は下記式（ＩＩ）で表わされるスルホキシド類
を出発１料にしてこれよりｐｈｓＯ基を還元的に脱離さ
せ、下記式ｒｉｌｌ） ＯＨ （式中象゛・Ｒ′・竺”＆家上記定義に同じ）で表わさ
れるシクロペンタノン類とし、これを２種の脱離反応に
付し、下記式〔ｖ〕または〔■〕 。
Ｒ”０
（式中Ｒ１１、Ｒ１、Ｈ＠は上記定義に同じ）（式中Ｒ
１１、１１は上記定義に同じ）で表わされるそれぞれ３
，４−ジ置換−５−フルキリテンシクロペンタノン類ま
たは４−置換−５−（１−ヒトｐギシ４アルキル）二２
−シクロペンテノン類を経由して製造される。
１１、１１は上記定義に同じ）で表わされるそれぞれ３
，４−ジ置換−５−フルキリテンシクロペンタノン類ま
たは４−置換−５−（１−ヒトｐギシ４アルキル）二２
−シクロペンテノン類を経由して製造される。
上記式〔ｌｌ）においてＲ１１は炭素数１〜１０のフル
キル基もしくはエステル基を表わし上記式（１）で挙げ
たものと同様のものが例示されＲ１も同様である。
キル基もしくはエステル基を表わし上記式（１）で挙げ
たものと同様のものが例示されＲ１も同様である。
上記式１’ｌｌ）［Ｉ［）（Ｖ）において、Ｒ３は水酸
基の保護基を表わす。水酸基の保護基としてはト！ｌ（
Ｃ，％Ｃ？）炭化水素−シリル基又は水酸基の酸素原子
と共にアセクール結合を形成する基等を挙げることがで
きる。
基の保護基を表わす。水酸基の保護基としてはト！ｌ（
Ｃ，％Ｃ？）炭化水素−シリル基又は水酸基の酸素原子
と共にアセクール結合を形成する基等を挙げることがで
きる。
トリ（ｃ＋−ｃ７）脚化水累シリル基としては、例えば
トリメチルシリル、トリエチルシリル。
トリメチルシリル、トリエチルシリル。
ｔ−ブチルジメチルシリル基の如きトリ（ＣＩ−Ｃ，）
フルキルシリル、ｔ−プ°チルジ７工二ルシリル基の如
きジフェニル°（ＣＩ Ｃ４）フルキルシリル又はト
リベンジルシリル基等を好ましいものとして挙げること
ができる。
フルキルシリル、ｔ−プ°チルジ７工二ルシリル基の如
きジフェニル°（ＣＩ Ｃ４）フルキルシリル又はト
リベンジルシリル基等を好ましいものとして挙げること
ができる。
水酸基の酸素原子と共にアセタール結合を形成する基と
しては、例えばメトキシメチル。
しては、例えばメトキシメチル。
ｌ−エトキシエチル、２−メトキシ−２−プロピル、２
−エトキシ−２−プロピル、（２−メトキシエトキシ）
メチル、ベンジルオキシメチル、２−テトラヒドロピラ
ニル、２−テトラヒドロフラニル又は６，６−シメチル
ー３−オキサ−２−オキソ−ビシクロ［’３．ｌ、ｏ）
へキス−４−イル基を挙げることができる。
−エトキシ−２−プロピル、（２−メトキシエトキシ）
メチル、ベンジルオキシメチル、２−テトラヒドロピラ
ニル、２−テトラヒドロフラニル又は６，６−シメチル
ー３−オキサ−２−オキソ−ビシクロ［’３．ｌ、ｏ）
へキス−４−イル基を挙げることができる。
出発原料ｒｌｌ］のスルホキシド類は下記の合成経路で
容易に製造される。
容易に製造される。
ｈｓＯ
すなわち保護された４−ヒドロキシシクロベンテノンに
フェニルスルホキシドより発生させたカルバニオン（Ｋ
、に、ＰｉｖｎｉｔｓｋｙらＪ。
フェニルスルホキシドより発生させたカルバニオン（Ｋ
、に、ＰｉｖｎｉｔｓｋｙらＪ。
ｏｆ Ｇｅｎｅｒａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ（ＵＳＳＲ
）５２．２６５１（１９８２）参照）を共役付加させ、
次にアルデヒド（ＯＨＣ＼／ν′！′Ｒｌ ｌ ＞を
加えると一挙にスルホキシド類［１１）が製造される。
）５２．２６５１（１９８２）参照）を共役付加させ、
次にアルデヒド（ＯＨＣ＼／ν′！′Ｒｌ ｌ ＞を
加えると一挙にスルホキシド類［１１）が製造される。
上記カルバニオンがフェニルスルフィニル基に関してγ
位の炭素で共役付加することは既に知られており（Ｊ、
Ｎａｋａｍｉら＋ Ｂｕｌｌ、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ ｎ
、５５．３０４３ｐ − （１９８２）参照）１本発明者らは、反応で生成するエ
ルートをアルデヒドで捕捉して目的とする出発原料を一
挙に得たものである。
位の炭素で共役付加することは既に知られており（Ｊ、
Ｎａｋａｍｉら＋ Ｂｕｌｌ、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ ｎ
、５５．３０４３ｐ − （１９８２）参照）１本発明者らは、反応で生成するエ
ルートをアルデヒドで捕捉して目的とする出発原料を一
挙に得たものである。
上記式〔■）のスルホキシド類よりフェニルスルフィニ
ル基を還元的脱離反応に付す際に用いられる還元剤とし
ては例えばラネーニッケル、アルミニウムアマルガム等
があげられなかでもラネーニッケルが特に好ましい。用
いられる還元剤の量はスルホキシド類に対して２〜２０
当量、特に好ましくは５〜１０当量を用いる。反応溶媒
はテトラヒドロフラン。
ル基を還元的脱離反応に付す際に用いられる還元剤とし
ては例えばラネーニッケル、アルミニウムアマルガム等
があげられなかでもラネーニッケルが特に好ましい。用
いられる還元剤の量はスルホキシド類に対して２〜２０
当量、特に好ましくは５〜１０当量を用いる。反応溶媒
はテトラヒドロフラン。
ジオキザン、ジメトキシエタン、ジエチルエーテル等の
エーテル類；メタノール、エタノール等のアルコール類
；ンメチルスルホキシド、ジメナルホルムアミド、ヘキ
サメチルホスホリックトリアミド、水等をそれら任意の
組合わせで用いる。
エーテル類；メタノール、エタノール等のアルコール類
；ンメチルスルホキシド、ジメナルホルムアミド、ヘキ
サメチルホスホリックトリアミド、水等をそれら任意の
組合わせで用いる。
反応温度は好ましくは０〜８０℃、特に好ましくは１０
〜５０℃の範囲である。
〜５０℃の範囲である。
反応時間は使用する原料化合物、還元剤。
反応溶媒によって異なるが通常ｌＯ分〜１０日間の範囲
で行なわれ、好ましくは２０分〜５日間の範囲である。
で行なわれ、好ましくは２０分〜５日間の範囲である。
反応の後に、目的化合物は、例えばシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー、シリカゲル薄層りｐマドグラフィー
。
ロマトグラフィー、シリカゲル薄層りｐマドグラフィー
。
フロリジルカラムクロマトグラフィー、高速液体クロマ
トグラフィーなどの手段により叫離精裂することができ
、上記式ｒＩ［Ｉ）で表わされるシクロペンタノン類と
して得ることが出来る。
トグラフィーなどの手段により叫離精裂することができ
、上記式ｒＩ［Ｉ）で表わされるシクロペンタノン類と
して得ることが出来る。
次に上記式〔■〕のシクロペンタノン類を脱離反応に付
す。方−の脱離反応は上記式〔■〕をメタンスルホニル
化し下記式［ＩＶ）（式中Ｒ１１、Ｒ１、Ｒ３は上記定
義に同じ）で表わされるメシレート体を系内で発生させ
、これを塩基で処理し上記式ＣＶ）の３，４−ジ償換−
５−フルキリデ／シクロペンタノンａＫ導びかれる。用
いられるメタンスルホニルクロリドは原料である上記式
〔■〕に対して０．５〜１０当量、特に好ましくは２〜
３当量を用いろ。ここで用いられる塩基性化合物として
は、アミン類が好ましく、かかるアミン類としては例え
ば、４，４−ジメチル−７ミノビリジン、ピリジントリ
エチルアミン、ジイソプロビルシクロヘキンルアミン、
インプロピ、ルジメチルアミン、ジイソプロピルエチル
アミンなどが挙げられ、なかでも特に４，４−ジメチル
アミノピリジン、ピリジンが好ましい。
す。方−の脱離反応は上記式〔■〕をメタンスルホニル
化し下記式［ＩＶ）（式中Ｒ１１、Ｒ１、Ｒ３は上記定
義に同じ）で表わされるメシレート体を系内で発生させ
、これを塩基で処理し上記式ＣＶ）の３，４−ジ償換−
５−フルキリデ／シクロペンタノンａＫ導びかれる。用
いられるメタンスルホニルクロリドは原料である上記式
〔■〕に対して０．５〜１０当量、特に好ましくは２〜
３当量を用いろ。ここで用いられる塩基性化合物として
は、アミン類が好ましく、かかるアミン類としては例え
ば、４，４−ジメチル−７ミノビリジン、ピリジントリ
エチルアミン、ジイソプロビルシクロヘキンルアミン、
インプロピ、ルジメチルアミン、ジイソプロピルエチル
アミンなどが挙げられ、なかでも特に４，４−ジメチル
アミノピリジン、ピリジンが好ましい。
この塩基性化合物は１〜１０当量、好ましくは４〜６当
量の範囲で用いられる。
量の範囲で用いられる。
ダシ温度は０〜５０℃で、好ましくは１０〜４０℃であ
り、原料化合物が消失するのを薄層りｐマドグラフィー
等で追跡することにより反応の終点を確認することがで
きる。反応時間は通常は、０．５〜１０時間である。反
応をスムーズに進行させる九めに溶媒を用（・ても良い
。かかる溶媒としては、例えば、ジクｇロメタン、クロ
ロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素；エーテ
ル、テトラヒドロフラン等のエーテル類；ベンゼン、ト
ルｚ ７ 、 ヘアタン、ヘキサン、シフ−ヘキサン等
の炭化水素類が用いられ、好ましくはジクｐロメタンが
用いられる。反応生成物は反応混合物を通常の手段で、
例えば抽出、水洗。
り、原料化合物が消失するのを薄層りｐマドグラフィー
等で追跡することにより反応の終点を確認することがで
きる。反応時間は通常は、０．５〜１０時間である。反
応をスムーズに進行させる九めに溶媒を用（・ても良い
。かかる溶媒としては、例えば、ジクｇロメタン、クロ
ロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素；エーテ
ル、テトラヒドロフラン等のエーテル類；ベンゼン、ト
ルｚ ７ 、 ヘアタン、ヘキサン、シフ−ヘキサン等
の炭化水素類が用いられ、好ましくはジクｐロメタンが
用いられる。反応生成物は反応混合物を通常の手段で、
例えば抽出、水洗。
乾、クロマトグラフィー等で精製取することが出来る。
かくして上記式〔■〕が得られ、これは酸と処理するこ
とより第２の脱離反応に付される。
とより第２の脱離反応に付される。
この反応では上記式〔■〕において３位の水酸基の保護
基の除去と脱水反応とをそのまま引き続き行なうことに
よって達成される。保護基の除去は、保護基が水酸基の
酸−原子と共に７セタ一ル結合を形成する基の場合には
、例えば酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸のピリジニウム
塩又は陽イオン交換樹脂岬な触媒とし、例えば永、テト
ラヒドクフラン、エチルエーテル、ジオキサン、アセト
ン、７セトニトリル等を反応溶蝋とすることにより好適
に実施される。反応は通常−７８℃〜＋１００℃の温度
範囲で１０分〜３日間程度行なわれる。また、保護基が
） リ（Ｃ，−Ｃ，）炭化水素−シリル基の場合には、
例えば酢酸の存在下に、上記した如き反応溶媒中で同様
の温度で同様の時間実施される。
基の除去と脱水反応とをそのまま引き続き行なうことに
よって達成される。保護基の除去は、保護基が水酸基の
酸−原子と共に７セタ一ル結合を形成する基の場合には
、例えば酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸のピリジニウム
塩又は陽イオン交換樹脂岬な触媒とし、例えば永、テト
ラヒドクフラン、エチルエーテル、ジオキサン、アセト
ン、７セトニトリル等を反応溶蝋とすることにより好適
に実施される。反応は通常−７８℃〜＋１００℃の温度
範囲で１０分〜３日間程度行なわれる。また、保護基が
） リ（Ｃ，−Ｃ，）炭化水素−シリル基の場合には、
例えば酢酸の存在下に、上記した如き反応溶媒中で同様
の温度で同様の時間実施される。
かくして下記式（Ｉ−８＞
゛ ０
（式中Ｒ１１、１１は上記定義に同じ）で表わされる目
的の４−置換−５−アルキリデン−２−シクロベ２フフ
フ体が得られる。
的の４−置換−５−アルキリデン−２−シクロベ２フフ
フ体が得られる。
目的化合物中にエステル基がある場合、これを加水分解
に付すことができ、例えばリパーゼ等の酵素を用い、水
又は水を含む溶媒中で一１０℃〜＋６０℃の温度範囲で
１０分〜２４時間程度行なわれる。
に付すことができ、例えばリパーゼ等の酵素を用い、水
又は水を含む溶媒中で一１０℃〜＋６０℃の温度範囲で
１０分〜２４時間程度行なわれる。
目的化合物の分子内にカルボキシル基を有する場合、次
いで必要により更に塩生成反応に付され相当するカルボ
ン酸塩を得ることができる。塩生成反応はそれ自体公知
であり、カルボン酸とほば等量の水酸化ナトリウム。
いで必要により更に塩生成反応に付され相当するカルボ
ン酸塩を得ることができる。塩生成反応はそれ自体公知
であり、カルボン酸とほば等量の水酸化ナトリウム。
水酸化力シウム、炭酸ナトリウムなどの塩基性化合物、
あるいはアンモニア、トリメチルアミン、モノエタノー
ルアミン、モルホリンなどと通常の方法で中和反応せし
めることにより行なわれる。
あるいはアンモニア、トリメチルアミン、モノエタノー
ルアミン、モルホリンなどと通常の方法で中和反応せし
めることにより行なわれる。
かくして上記式〔Ｉ〕の４−置換−５−アルキリデン−
２−シクロペンテノン類が製造される。
２−シクロペンテノン類が製造される。
また目的化合物［１，、ａ）は別の方法でも製造される
。すなわち上記式〔■〕を最初に前述した第２の脱離反
応に付し上記式Ｃ■）で表わさトル４−置換−５−（１
−ヒドロキシアルキル）−２−シクロペンテノン類ζし
、これを前述した第一の親御反応に付し目的とする（１
−ａ）を得ることも可能である。こ゛の製造方法におい
て初めの第２の脱離反応において酸を用いて脱離させる
方法の他に塩基を用いる方法もある。用いられる塩基と
しては１．５−ジ７ザビシクＲ〔５＋４＊０ ）ランブ
レン−５（ＤＢＵ） １．５−ジアザビシクロ（４，３
，ｏ ） １ネンー５ （ＤＢＮ）等の強塩基が挙げら
れる。反応は強塩基を原料のｒｌ）に対して０．５〜２
：０ 画量好ましくは０．８〜１．２当量用いて一１Ｏ
℃〜４０℃で、好ましくは一５℃〜＋５℃で処理するこ
とにより達成され、中間体の〔■〕を容易に得ることが
出来る。これは第一の脱離反応に付し目的とするｒｌｍ
）に導くことが出来る。この除算−の脱離反応の代り忙
中量体の〔■〕を直接脱水して目的物０−ａ）Ｋするこ
とも可能である。すなわち脱水剤としてはＮ、Ｎ’−ジ
シクロへキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）が好ましく用
いられ、原料に対して１〜６当量、好ましくは１〜３当
量用いて１０゜〜４０℃で、不活性の乾燥溶媒中で処理
して行なわれる。またこの時反応助剤として塩化第１銅
、臭化第２銅を原料に対して１〜６当量、好ましくは１
〜３当量用いると反応はスムーズに進行する。
。すなわち上記式〔■〕を最初に前述した第２の脱離反
応に付し上記式Ｃ■）で表わさトル４−置換−５−（１
−ヒドロキシアルキル）−２−シクロペンテノン類ζし
、これを前述した第一の親御反応に付し目的とする（１
−ａ）を得ることも可能である。こ゛の製造方法におい
て初めの第２の脱離反応において酸を用いて脱離させる
方法の他に塩基を用いる方法もある。用いられる塩基と
しては１．５−ジ７ザビシクＲ〔５＋４＊０ ）ランブ
レン−５（ＤＢＵ） １．５−ジアザビシクロ（４，３
，ｏ ） １ネンー５ （ＤＢＮ）等の強塩基が挙げら
れる。反応は強塩基を原料のｒｌ）に対して０．５〜２
：０ 画量好ましくは０．８〜１．２当量用いて一１Ｏ
℃〜４０℃で、好ましくは一５℃〜＋５℃で処理するこ
とにより達成され、中間体の〔■〕を容易に得ることが
出来る。これは第一の脱離反応に付し目的とするｒｌｍ
）に導くことが出来る。この除算−の脱離反応の代り忙
中量体の〔■〕を直接脱水して目的物０−ａ）Ｋするこ
とも可能である。すなわち脱水剤としてはＮ、Ｎ’−ジ
シクロへキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）が好ましく用
いられ、原料に対して１〜６当量、好ましくは１〜３当
量用いて１０゜〜４０℃で、不活性の乾燥溶媒中で処理
して行なわれる。またこの時反応助剤として塩化第１銅
、臭化第２銅を原料に対して１〜６当量、好ましくは１
〜３当量用いると反応はスムーズに進行する。
本発明の４−置換−５−アルキリデン−２−シクロペン
テノ／類は、特Ｋ Ｌ１２１０ 白血病細胞に対して
極めて低濃度（ＩＣ，。０．４〜１μＩ／ｍｌ）で強力
な抗ガン作用を示し、制癌剤として極めて有用である。
テノ／類は、特Ｋ Ｌ１２１０ 白血病細胞に対して
極めて低濃度（ＩＣ，。０．４〜１μＩ／ｍｌ）で強力
な抗ガン作用を示し、制癌剤として極めて有用である。
また抗ウィルス活性を有する化合物としても期待される
有用な化合物である。
有用な化合物である。
また本発明で提供される４−置換−５−アルキリデン−
２−シクロペンテノンの製造法は医薬として有用な新規
化合物を提供するばかりでなく、既に知られている強い
制ガン活性を示す天然物クラブロン、クラビリデノンの
合成中間体を提供するものとして有用である。
２−シクロペンテノンの製造法は医薬として有用な新規
化合物を提供するばかりでなく、既に知られている強い
制ガン活性を示す天然物クラブロン、クラビリデノンの
合成中間体を提供するものとして有用である。
実施例１
化合物２ １１０ Ｑ （０，１８ｍｍｏＡ！ ）を
エタノール２ｍｌに溶解し、これにラネーニッケル４０
１１１ｇ（Ｗ−１型）を加え、加熱還流した。反応をＴ
ＬＣで追跡し、終了を確認した後、反応液をテ遇した。
エタノール２ｍｌに溶解し、これにラネーニッケル４０
１１１ｇ（Ｗ−１型）を加え、加熱還流した。反応をＴ
ＬＣで追跡し、終了を確認した後、反応液をテ遇した。
Ｐ液及び洗液を一緒にして常法により処理し、粗生成物
を得、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ａ
ＣＯＥｔ ：ヘキサン＝１＝８）にて精製し 目的物４
５ｏｆｆＩｇ（取高５７％）を得た。
を得、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ａ
ＣＯＥｔ ：ヘキサン＝１＝８）にて精製し 目的物４
５ｏｆｆＩｇ（取高５７％）を得た。
ＴＬＣ（ＡＣＯＥｔ ：ヘキサン＝１ ： ４ ） ；
Ｒｆ＝０．６５ＩＲ（ｎｅａｔ、ｃａ＝）；３５００
．１７３０’Ｈｎｒｎｒ （ＣＤＣＡ！ ｓ 、δ、ｐ
ｐ）；ｏ、８８〜０．９０（９Ｈ＋３Ｈ，ρ、ｔ。
Ｒｆ＝０．６５ＩＲ（ｎｅａｔ、ｃａ＝）；３５００
．１７３０’Ｈｎｒｎｒ （ＣＤＣＡ！ ｓ 、δ、ｐ
ｐ）；ｏ、８８〜０．９０（９Ｈ＋３Ｈ，ρ、ｔ。
Ｊ＝７Ｈ１） 、 １．０〜２．８０（２４Ｈ）、３．
６６（３Ｈ，ρ）、３．８１（ＩＨ，ｍ）’、４．１７
（ＩＨ，ｍ） 、５．４５（２Ｈ，ｍ） 。
６６（３Ｈ，ρ）、３．８１（ＩＨ，ｍ）’、４．１７
（ＩＨ，ｍ） 、５．４５（２Ｈ，ｍ） 。
ｍａｓｓ（ｍｌｅ）；４６４（Ｍ” １８）、４０７（
Ｍ”−５７−１８）。
Ｍ”−５７−１８）。
なおこのものは”Ｃｎｍｒより１２６．６６と１３４．
２７９ＩＩＩ及び１２６．２８と１３２．９２解に吸収
を観測したことから１４△ について８体と２体との混
合物であると判定した。
２７９ＩＩＩ及び１２６．２８と１３２．９２解に吸収
を観測したことから１４△ について８体と２体との混
合物であると判定した。
実施例２
化合物４ ２２２ｍｇ（０，４６ｍｍｏＪ ）をエー
テル１０ｒｒ＋／：に溶解し、これにトリエチルアミン
０．０９０ｍノ（０，６４ｍｍｏＪ） 、次いでメタン
スルホニルクロリド０．０４３ｍＡ’（０，５５ｍｍｏ
Ａりを室温にて滴下した。反応液を３５分間攪拌後、水
を加えて反応を停させ、エーテルにて３回抽出した。抽
出液を常法により処理し、粗生成物２５８ｒＩ＠を得た
。
テル１０ｒｒ＋／：に溶解し、これにトリエチルアミン
０．０９０ｍノ（０，６４ｍｍｏＪ） 、次いでメタン
スルホニルクロリド０．０４３ｍＡ’（０，５５ｍｍｏ
Ａりを室温にて滴下した。反応液を３５分間攪拌後、水
を加えて反応を停させ、エーテルにて３回抽出した。抽
出液を常法により処理し、粗生成物２５８ｒＩ＠を得た
。
このものをＣＨｔＣ１２０，５ｍｇに溶解し、室温にて
４−ジメチル７ミノビリジｙ １６９ ｍ＠ （１，３
８ｍｍｏ／）／ＣＨ２ｃｌ ｔ １ ｍｌを加え、６時
間攪拌した。反応後酒石酸にて糸を弱酸性にし、水洗２
回、ＣＨ，Ｃ１２抽出２回を行った。抽出液を常法によ
り処理し、粗生成物を得、これをシリカゲルカラムクロ
マトグラフィ−（ＡＣＯＥｔ ：ヘキサン＝１：２０）
で精製し、目的物７１５１■（収率７１係）を得た。
４−ジメチル７ミノビリジｙ １６９ ｍ＠ （１，３
８ｍｍｏ／）／ＣＨ２ｃｌ ｔ １ ｍｌを加え、６時
間攪拌した。反応後酒石酸にて糸を弱酸性にし、水洗２
回、ＣＨ，Ｃ１２抽出２回を行った。抽出液を常法によ
り処理し、粗生成物を得、これをシリカゲルカラムクロ
マトグラフィ−（ＡＣＯＥｔ ：ヘキサン＝１：２０）
で精製し、目的物７１５１■（収率７１係）を得た。
ＴＬＣ（ＡＣＯＥｉ ：ヘキサンー１ ： ４ ）；
Ｒｆ＝０．７０ＩＲ（ｎｅａｔ、ｃ＋＋ｔ−’）；１７
３０，１６４５゜’Ｈ−ｎｍｒ （ＣＤＣｊ！ｍ ＋δ
Ｉｆ）；０．８〜０．９（９Ｈ＋３Ｂ、ρ、 ｔ）＋１
．０（１−３，００（２１Ｈ）、３．６７（３Ｈ，ρ）
、４．２５（ＩＨ，ｍ）。
Ｒｆ＝０．７０ＩＲ（ｎｅａｔ、ｃ＋＋ｔ−’）；１７
３０，１６４５゜’Ｈ−ｎｍｒ （ＣＤＣｊ！ｍ ＋δ
Ｉｆ）；０．８〜０．９（９Ｈ＋３Ｂ、ρ、 ｔ）＋１
．０（１−３，００（２１Ｈ）、３．６７（３Ｈ，ρ）
、４．２５（ＩＨ，ｍ）。
５．４３（２Ｈ，ｍ）、６．６１（ＩＨ，ｔ、 Ｊ−７
Ｈ，） −Ｍａｓｓ（ｍｌｅ）；４０７（Ｍ”−５７）
このものは”Ｃｎｍｒで１２６．７３と１３３．０１１
１Ｐと１２６．１７と１３２．４５ ｐＩＩｍに吸収が
観測されることから１４Δ Ｋついて８体と２体との混
合物と推定した。
Ｈ，） −Ｍａｓｓ（ｍｌｅ）；４０７（Ｍ”−５７）
このものは”Ｃｎｍｒで１２６．７３と１３３．０１１
１Ｐと１２６．１７と１３２．４５ ｐＩＩｍに吸収が
観測されることから１４Δ Ｋついて８体と２体との混
合物と推定した。
実施例３
化合物７ ０．１５１１ （０，３２５ｍｍｏｊ！ ）
を酢酸：ＴＨＦ ：水＝２’：１：１ ２ｍｌに入れ７
０℃で７時間攪拌した。混合物より酢酸、ＴＨＦを減圧
で溜去し、残漬にＮａＨＣＯ３水溶液を加えて中和後、
酢酸エチルで抽出した。抽出液を常法により処理し粗生
成物を得、このものをシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（酢酸エチル：ヘキサン−１：ｌＯ）で精製し、目
的物８０．０７６１（収率７０憾）を得た。
を酢酸：ＴＨＦ ：水＝２’：１：１ ２ｍｌに入れ７
０℃で７時間攪拌した。混合物より酢酸、ＴＨＦを減圧
で溜去し、残漬にＮａＨＣＯ３水溶液を加えて中和後、
酢酸エチルで抽出した。抽出液を常法により処理し粗生
成物を得、このものをシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（酢酸エチル：ヘキサン−１：ｌＯ）で精製し、目
的物８０．０７６１（収率７０憾）を得た。
ＴＬＣ（ＡＣＯＥｔ ：ヘキサン＝１ ： ４ ） ；
Ｒｆｏ、４０ＩＲ（ｎｅａｔ 、ｔｘ−” ） ；１７
３５．１７Ｇ０ 、１６５５ 。
Ｒｆｏ、４０ＩＲ（ｎｅａｔ 、ｔｘ−” ） ；１７
３５．１７Ｇ０ 、１６５５ 。
’ Ｈ−ｎｒｒｔｒ （ＣＤＣ）８．δ＋ＩＰ） ；０
．８８ （３Ｈ＋ ｔ ＃ Ｊ＝７ＨＪ１．００〜２．
７０（２０１）、３．４５＜１１．ｍ）、３．６７（３
Ｈ，ρ）。
．８８ （３Ｈ＋ ｔ ＃ Ｊ＝７ＨＪ１．００〜２．
７０（２０１）、３．４５＜１１．ｍ）、３．６７（３
Ｈ，ρ）。
５．２〜５．５（２Ｂ）、６．３１（ＩＨ，ｄｄ’）、
６．５５（ＩＨ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｔ ） 、 ７ 、５３
（ＩＨ９ｍ）Ｍａ ｓ ｓ （ｍ／ｅ ） ： ３３
２ （Ｍ” ）このものはＩｓＣ−ｎｍｒより△１４の
２重結合について１２５．１１と１３４．０３四１２４
．６４と１３２．８６−の吸収を示すことからそれぞれ
８体、２体の混合物であると推定された。なお主生成物
よりさらに低極性Ｒｆ０．４２の成分も少量（１０’１
．）−離されたが、このものはＩＲ，’Ｈｎｍｒ、”Ｃ
ｎｍｒより△７ の２重結合の異性体であり、主生成物
が８体に対して、このものは２体であると推定された。
６．５５（ＩＨ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｔ ） 、 ７ 、５３
（ＩＨ９ｍ）Ｍａ ｓ ｓ （ｍ／ｅ ） ： ３３
２ （Ｍ” ）このものはＩｓＣ−ｎｍｒより△１４の
２重結合について１２５．１１と１３４．０３四１２４
．６４と１３２．８６−の吸収を示すことからそれぞれ
８体、２体の混合物であると推定された。なお主生成物
よりさらに低極性Ｒｆ０．４２の成分も少量（１０’１
．）−離されたが、このものはＩＲ，’Ｈｎｍｒ、”Ｃ
ｎｍｒより△７ の２重結合の異性体であり、主生成物
が８体に対して、このものは２体であると推定された。
混合物（９＋１０） ７７１＋１ｒ（粗製）（ＣａＯ
，１５ｍｍｏｊ）のＣＨ，Ｃ１＊溶液１ｍｇに４−ジメ
チルアミンピリジン５５■（０，４５ｍｍｏＡｌ）のＣ
Ｈ２ＣＪｔ溶液１ｍｄ溶液１忙ｄ加え、６時間反応させ
た。反応液を酒石酸を加えて弱酸にし、水を加え、ＣＢ
、Ｃｊ、を□、１１ 用いて抽出した。抽出液を常法により処理し、目的物（
１１＋１２ ） ３６■（収率５７％）を得た。
，１５ｍｍｏｊ）のＣＨ，Ｃ１＊溶液１ｍｇに４−ジメ
チルアミンピリジン５５■（０，４５ｍｍｏＡｌ）のＣ
Ｈ２ＣＪｔ溶液１ｍｄ溶液１忙ｄ加え、６時間反応させ
た。反応液を酒石酸を加えて弱酸にし、水を加え、ＣＢ
、Ｃｊ、を□、１１ 用いて抽出した。抽出液を常法により処理し、目的物（
１１＋１２ ） ３６■（収率５７％）を得た。
ＴＬＣ（ＡＣＯＥｔ ：ヘキサン＝１ ： ５ ）；Ｒ
ｆ＝０．６５ＩＲ（ｎｅａｔ、ａｍ−１）；１７３０，
１６ｌ６４−５ｎ （ＣＤＣｊ、 、δ＋１１１ｍ）；
０．０５ａｎｄ０．０６（ｅａｃｈ Ｓ＋６Ｈ）＋０．
８４ａｎｄ０．８５（ｅａｃｈ Ｓ、９Ｈ）、１．２５
（ｂｒ）ａｎｄｌ、’６２．７（ｍ）（２２Ｈ）、２．
９０（ｍ）ａｎｄ３．３６（ｍ）（ＩＢ）。
ｆ＝０．６５ＩＲ（ｎｅａｔ、ａｍ−１）；１７３０，
１６ｌ６４−５ｎ （ＣＤＣｊ、 、δ＋１１１ｍ）；
０．０５ａｎｄ０．０６（ｅａｃｈ Ｓ＋６Ｈ）＋０．
８４ａｎｄ０．８５（ｅａｃｈ Ｓ、９Ｈ）、１．２５
（ｂｒ）ａｎｄｌ、’６２．７（ｍ）（２２Ｈ）、２．
９０（ｍ）ａｎｄ３．３６（ｍ）（ＩＢ）。
４．１５（ｍ、ＩＨ）、５．４１（ｍ、２Ｂ）、６．７
２（ｄｔ、Ｊ＝２ｉｎ’ｄ８Ｈｚ 、 ＩＨ） ２重結合異性体混合物（１１＋１２） ２２■。
２（ｄｔ、Ｊ＝２ｉｎ’ｄ８Ｈｚ 、 ＩＨ） ２重結合異性体混合物（１１＋１２） ２２■。
（０，０５２ｍｍｏｊ ）を酢酸：ＴＨＦ：水＝２：１
：１ １．５ｍｌ＋に溶解し、７０℃で７時間加熱攪拌
した。反応液より溶媒を減圧で溜去し、残漬にＮａＨＣ
Ｏｓ水溶液を加えて中和し、酢酸エチルで抽出した。抽
出液を常法により処理し粗生成物を得、これをシリカゲ
ルクロストグラフィー（ＡＣＯＥｔ ： ヘキｔｙ＝１
：２０）で精製し、目的物（１３＋１４ ） ９■（収
率６０％）を得た。
：１ １．５ｍｌ＋に溶解し、７０℃で７時間加熱攪拌
した。反応液より溶媒を減圧で溜去し、残漬にＮａＨＣ
Ｏｓ水溶液を加えて中和し、酢酸エチルで抽出した。抽
出液を常法により処理し粗生成物を得、これをシリカゲ
ルクロストグラフィー（ＡＣＯＥｔ ： ヘキｔｙ＝１
：２０）で精製し、目的物（１３＋１４ ） ９■（収
率６０％）を得た。
−ｖ−−−
ＴＬＣ（ＡＣＯＥｔ ：ヘキサ７＝ １ ： ５ ）
： Ｒｆ Ｏ，４！ｈｏ、５０ＩＲ（ｎｅａｔ、ｃＩｌ
−’ ）；１７００ｓ１６５０゜ｎｍｒ（ＣＤＣら、δ
、Ｐ１ｍ）；０．８８（ｂｒ ｔ、６Ｈ）、１．２７（
ｂｒ）ａｎｄｌ、８−２．５（ｍ）（３０Ｈ）、３．５
（ｍ）、３．９６（ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ）、ａｎｄ３．５（
ｍ）（６Ｂ）、５．１５（ｄｄ、Ｊ＝７ａｎｄ１５）１
ｇ）。
： Ｒｆ Ｏ，４！ｈｏ、５０ＩＲ（ｎｅａｔ、ｃＩｌ
−’ ）；１７００ｓ１６５０゜ｎｍｒ（ＣＤＣら、δ
、Ｐ１ｍ）；０．８８（ｂｒ ｔ、６Ｈ）、１．２７（
ｂｒ）ａｎｄｌ、８−２．５（ｍ）（３０Ｈ）、３．５
（ｍ）、３．９６（ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ）、ａｎｄ３．５（
ｍ）（６Ｂ）、５．１５（ｄｄ、Ｊ＝７ａｎｄ１５）１
ｇ）。
５．４０（ｍ）ａｎｄ５．６５（ｄｔ、Ｊ＝６ａｎｄ１
５Ｈｚ）（２Ｈ）、６．３０（ｄｄ 、 Ｊ＝２ａｎｄ
６Ｈｚ 、 ＩＢ） 、 ７ 、３４（ｍ、 ＩＨ）方
法１ 化合物４ （１９５ｍｇ、 ０．４ｍｍｏｌ）に酢酸。
５Ｈｚ）（２Ｈ）、６．３０（ｄｄ 、 Ｊ＝２ａｎｄ
６Ｈｚ 、 ＩＢ） 、 ７ 、３４（ｍ、 ＩＨ）方
法１ 化合物４ （１９５ｍｇ、 ０．４ｍｍｏｌ）に酢酸。
ＴＨＦ、水の混合液（２： １ ： １ ） ２ｍｇを
加え６５℃に加熱する。約７時開俵酢酸、ＴＨＦを除去
し酢酸エチルで抽出し、抽出液を重ンウ水。
加え６５℃に加熱する。約７時開俵酢酸、ＴＨＦを除去
し酢酸エチルで抽出し、抽出液を重ンウ水。
水で洗う。以下常法によって得られる油状物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（酢エチ／ヘキサン−１／
４）で精製すると１５が７７ｍｇ得られた。（５４壬） 方法２ 化合物４ （５１Ｑ 、 ０．１ｍｍｏｌ）をエチルエ
ーテル１０ｍＪに溶かし、０℃に冷却する。この溶液に
ＤＢｊＪ（０，０２４ｍ１）を滴下し、１時間攪拌する
。この反応液を酒石酸水溶液で中和し、２回水洗する。
ルカラムクロマトグラフィー（酢エチ／ヘキサン−１／
４）で精製すると１５が７７ｍｇ得られた。（５４壬） 方法２ 化合物４ （５１Ｑ 、 ０．１ｍｍｏｌ）をエチルエ
ーテル１０ｍＪに溶かし、０℃に冷却する。この溶液に
ＤＢｊＪ（０，０２４ｍ１）を滴下し、１時間攪拌する
。この反応液を酒石酸水溶液で中和し、２回水洗する。
以下方法１と同様に精製すると１５が３０”１ｇ（８１
係）得られた。
係）得られた。
ＩＲ（ｎｅａｔ、ｍ、 ’ ）、３５００．１７３５，
１７００．１６９０’ Ｈｎｍｒ （ＣＤＣＩ、、δＪ
ＸＤ） ：０．８１（ｔ 、 Ｊ＝１６Ｈｚ、３Ｈ）、
１．０−２．８（２３Ｈ）、３．５８（ｓ、３Ｈ）、３
．８０（ｍ、ＩＨ）、５．３７（ｍ。
１７００．１６９０’ Ｈｎｍｒ （ＣＤＣＩ、、δＪ
ＸＤ） ：０．８１（ｔ 、 Ｊ＝１６Ｈｚ、３Ｈ）、
１．０−２．８（２３Ｈ）、３．５８（ｓ、３Ｈ）、３
．８０（ｍ、ＩＨ）、５．３７（ｍ。
２Ｈ） 、 ６．０７（ｄ 、 Ｊ＝６Ｈｚ、 ＩＨ）
、 ７．５８（ｄｄ 、 Ｊ＝２ａ’ｎｄ６Ｈｚ 、
ＩＨ）実施例７ 化合物１５ ６７ ＩＩｌｇ（０，１９ｍｍｏＪ）を乾
燥ベンゼン帆５ｍｌに溶かした。これに塙化第−・＠４
２ｒｎｇ（０，３８＋ｎｍｏｌ）を加えた。この混合物
を攪拌しながら、これにＤＣＣ２００１１１Ｋ（０，９
６ｍｍｏｌ）を乾燥ベンゼン０．５ｍ／に溶かして加え
た。反応混合物を３０℃で６時間攪拌したのち濾過し、
Ｆ液に酢酸エチルｌ０ｍ１を加え、２回水洗し、た。常
法によりて得られた油状粗生成物をソリカゲルクｐマド
グラフィー酢酸エチル；ヘキサン＝ 】、： １Ｏを用
いて精製すると、８ ５７ｎｙ、（８９φ）が得られた
。
、 ７．５８（ｄｄ 、 Ｊ＝２ａ’ｎｄ６Ｈｚ 、
ＩＨ）実施例７ 化合物１５ ６７ ＩＩｌｇ（０，１９ｍｍｏＪ）を乾
燥ベンゼン帆５ｍｌに溶かした。これに塙化第−・＠４
２ｒｎｇ（０，３８＋ｎｍｏｌ）を加えた。この混合物
を攪拌しながら、これにＤＣＣ２００１１１Ｋ（０，９
６ｍｍｏｌ）を乾燥ベンゼン０．５ｍ／に溶かして加え
た。反応混合物を３０℃で６時間攪拌したのち濾過し、
Ｆ液に酢酸エチルｌ０ｍ１を加え、２回水洗し、た。常
法によりて得られた油状粗生成物をソリカゲルクｐマド
グラフィー酢酸エチル；ヘキサン＝ 】、： １Ｏを用
いて精製すると、８ ５７ｎｙ、（８９φ）が得られた
。
”ＣＮＭＲより△” Ｅ／Ｚ二１／】の混合物と判定し
た。
た。
実施例８
ＣｓａＨｅｏＯｅＳＳ １（６４９，１０） Ｃ
３ｏ）１！ａＯｓＳｉ（５２４，９４）化合物１６ １
８５１１１ｇ （０，２８５ｍｍｏＡ！ ）をエタノー
ル１ｍｌに溶かし、これにラネーニッケル（Ｗ−１）約
１００■を加えエタノールを還流させた。ＴＬＣで原料
がなくなるのを確認しく約１時間）たのちシリカゲル（
ワコーゲルＣ−２００）約２Ｉを直径１．５閑のカラム
に充填したカラムを通し酢酸エチル１０ｍＪを用いて濾
過した。ｐ液を濃縮し再びシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー、酢酸エチル：ヘキサン＝に８を用いて精製し
て目的物１７を得た（取高４０係）。
３ｏ）１！ａＯｓＳｉ（５２４，９４）化合物１６ １
８５１１１ｇ （０，２８５ｍｍｏＡ！ ）をエタノー
ル１ｍｌに溶かし、これにラネーニッケル（Ｗ−１）約
１００■を加えエタノールを還流させた。ＴＬＣで原料
がなくなるのを確認しく約１時間）たのちシリカゲル（
ワコーゲルＣ−２００）約２Ｉを直径１．５閑のカラム
に充填したカラムを通し酢酸エチル１０ｍＪを用いて濾
過した。ｐ液を濃縮し再びシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー、酢酸エチル：ヘキサン＝に８を用いて精製し
て目的物１７を得た（取高４０係）。
ＴＬＣ酢酸エチル：ヘキサン−１： ３ 、 Ｒｔｏ、
４６ＩＲ（ｎｅａｔ、ａ＋＋ ’ ）：３５００．１７
４０’ ）ｌｎｍｙ （ＣＤＣら、δ、Ｐ）；（１，０
７，０，０９（それぞれｓ、６）１）。
４６ＩＲ（ｎｅａｔ、ａ＋＋ ’ ）：３５００．１７
４０’ ）ｌｎｍｙ （ＣＤＣら、δ、Ｐ）；（１，０
７，０，０９（それぞれｓ、６）１）。
０．８９（４，９Ｈ＋３Ｈ）、１．１−２．７（２８Ｈ
）、３．２−４．０（７Ｈ）。
）、３．２−４．０（７Ｈ）。
４、ｊ３（ｍ、ＩＢ）、４．５５（ｍ、ＩＨ）、５．４
４（ｍ、２Ｈ）実施例９ ＋ＳｉＯＣ５ｏＨｓａ０５Ｓｌ（５２４，９４）
Ｃ２４Ｈ４゜０４ （３９２，６４）化合物１７６０■
（０，１１４ｍｍｏｌ）をエチルエーテル２０ｍ１に溶
かした。これを０℃に冷却しＤＢＵｏ、０２６ｍ／ （
約０ 、１７ ｍｍｏ ｉ ）を加え１時間攪拌した。
４（ｍ、２Ｈ）実施例９ ＋ＳｉＯＣ５ｏＨｓａ０５Ｓｌ（５２４，９４）
Ｃ２４Ｈ４゜０４ （３９２，６４）化合物１７６０■
（０，１１４ｍｍｏｌ）をエチルエーテル２０ｍ１に溶
かした。これを０℃に冷却しＤＢＵｏ、０２６ｍ／ （
約０ 、１７ ｍｍｏ ｉ ）を加え１時間攪拌した。
それから酒石酸水溶液で中和し、２回水洗した。水層は
酢酸エチル］Ｏｍｌを用いて抽出した。有機層を合わせ
て乾燥、濃縮したのちシリカゲルクロマトグラフィー、
酢酸エチル：ヘキサン＝１：４を用いて精製した。１８
の収量は３９ｍｇ（８７チ）。
酢酸エチル］Ｏｍｌを用いて抽出した。有機層を合わせ
て乾燥、濃縮したのちシリカゲルクロマトグラフィー、
酢酸エチル：ヘキサン＝１：４を用いて精製した。１８
の収量は３９ｍｇ（８７チ）。
ＴＬＣ酢酸エチル：ヘキサン＝２ ／ ３ 、 Ｒｆ
Ｏ，５０ＩＲ（ｎｅａｔ、ｃｓａ ’ ）；３５００，
１７００．１５９０’ Ｈｎｍ７ （ＣＤＣｊ ｊ＋δ
１９）；０．８１（ｂｒｔ、Ｊ＝６Ｈ１，３Ｂ）、１．
０−２．２（２４Ｈ） 、 ２．６２（ｍ、 ＩＨ）、
３．２−４．０ （７Ｈ） 。
Ｏ，５０ＩＲ（ｎｅａｔ、ｃｓａ ’ ）；３５００，
１７００．１５９０’ Ｈｎｍ７ （ＣＤＣｊ ｊ＋δ
１９）；０．８１（ｂｒｔ、Ｊ＝６Ｈ１，３Ｂ）、１．
０−２．２（２４Ｈ） 、 ２．６２（ｍ、 ＩＨ）、
３．２−４．０ （７Ｈ） 。
４．４９（ｍ、ＩＨ）、５．４８（ｍ、２Ｈ）、６．０
８（ｄｄ、Ｊ＝１ａｎｄ６Ｈｚ、ＩＨ）、７．５８（ｄ
ｄ、Ｊ＝２ａｎｄ６Ｈｚ、ＩＨ）実施例１０ Ｃｅ＜Ｈ４゜０４ （３９２−６４） Ｃｕ
Ｈｓ＊Ｏｓ （３７４，６２）化合物１８ ３５ ｑ
（０，０８９ｍｍｏｊ ）を乾燥ベンゼン０．３ｍｌに
溶かし、これに塩化第一銅２０■（０，１７８ｍｍｏＡ
Ｉ ）を加えて攪拌した。この混合物中にＤＣＣ９３■
（０，４４６ｍｍｏ））を乾燥べ／イン０ 、５ ｍＪ
に溶かして滴下した。この反応混合物を３０℃に保ち１
０時間攪拌したのち濾過し、Ｆ液を２回水洗した。常法
により得られる油状粗生成物をシクカゲルクｐマドグラ
フィー酢酸エチル；ヘキサン＝１：２で精製し、１９２
８■（８５ｑｂ）を得た。
８（ｄｄ、Ｊ＝１ａｎｄ６Ｈｚ、ＩＨ）、７．５８（ｄ
ｄ、Ｊ＝２ａｎｄ６Ｈｚ、ＩＨ）実施例１０ Ｃｅ＜Ｈ４゜０４ （３９２−６４） Ｃｕ
Ｈｓ＊Ｏｓ （３７４，６２）化合物１８ ３５ ｑ
（０，０８９ｍｍｏｊ ）を乾燥ベンゼン０．３ｍｌに
溶かし、これに塩化第一銅２０■（０，１７８ｍｍｏＡ
Ｉ ）を加えて攪拌した。この混合物中にＤＣＣ９３■
（０，４４６ｍｍｏ））を乾燥べ／イン０ 、５ ｍＪ
に溶かして滴下した。この反応混合物を３０℃に保ち１
０時間攪拌したのち濾過し、Ｆ液を２回水洗した。常法
により得られる油状粗生成物をシクカゲルクｐマドグラ
フィー酢酸エチル；ヘキサン＝１：２で精製し、１９２
８■（８５ｑｂ）を得た。
ＴＬＣ酢酸エチル：ヘキサン＝ｌ ： ２ 、 Ｒｔｏ
、５ｘＩＲ（ｎｅａｔ＋” ’ ）；１７０５ｓ１６５
０嘗Ｈｎｍｒ （ＣＤＣｊｌ ＊ Ｊ、 １コ１！■
−１） ；ｏ −８９（ｂｒ ｔ ＊ Ｊ＝６Ｈｚ 、
３Ｂ） ＋１．０−２．７（２３Ｈ）、３．２−４．
０．（５Ｈ）、４．５５（ｍ、ＩＨ）。
、５ｘＩＲ（ｎｅａｔ＋” ’ ）；１７０５ｓ１６５
０嘗Ｈｎｍｒ （ＣＤＣｊｌ ＊ Ｊ、 １コ１！■
−１） ；ｏ −８９（ｂｒ ｔ ＊ Ｊ＝６Ｈｚ 、
３Ｂ） ＋１．０−２．７（２３Ｈ）、３．２−４．
０．（５Ｈ）、４．５５（ｍ、ＩＨ）。
５．４２ （ｒｒｒ 、２Ｈ） −６，３２（ｄ 、Ｊ
＝ｓ Ｈｚ 、２１４ ） 、６−５７ （ｔ ｒ Ｊ
＝８Ｈｚ、１Ｂ）、７．５１（ｄｄ、Ｊ＝２ａｎｄ６Ｈ
ｚ、ＩＢ）Ｒ１１ＷＣ＋４Ｈ？０Ｏ５（２３６，４０）
ＭｗＣｓｓＨｓ＋０ｓＳＳｉ（６０７，０１）ｌ
ａ ２ジイソプロピル
アミン０．１０３ｍｊ（０，７３５ｍｍｏｊ）のＴＨＦ
ＨＦ溶液３忙ｊ３０〜−５０℃でｎ−ブチルリチウム溶
液（０，４３４ｍｊ＝０．６８ｍｍｏｊ）を加え、これ
を−７６℃に冷却し、化合物１ａ １６０■（０，６８
ｍｍｏＡりのＴＨＦ溶液０ 、５ ｍｊを滴下し九。１
５分間攪拌した後に４−”ｔ−ブチ！レジメチｌレシリ
ルオキシシクロベント−２−エン−１−オン１２０ ｍ
ｇ （０，５６５ｍｍｏｊ）のＴＨＦ溶液０ 、５ ｍ
ｌをすばやく加えた。１０分間攪拌した優に６−メドキ
シカルポニルヘキサナール８９■（０，５６５ｍｍｏｊ
）を反応液に加えた。３０分間攪拌した後飽和塩化アン
モ；ウム水溶＠、 ２ ｍｌを加えた後反応液の温度を
室温にまで戻し、酒石酸水溶液で系を中和後した。反応
液にエーテルを加えて抽出し、水洗（３回）し、抽出液
を常法により処理し粗生成物を得た。このものとシリカ
ゲルト力うムクロマトダラフイー（ＡＣＯＥｔ ：ヘキ
７ン＝１：ａ）で精製し、目的物２ ２ｏ２ｖｇ（取高
５９係）を得た。
＝ｓ Ｈｚ 、２１４ ） 、６−５７ （ｔ ｒ Ｊ
＝８Ｈｚ、１Ｂ）、７．５１（ｄｄ、Ｊ＝２ａｎｄ６Ｈ
ｚ、ＩＢ）Ｒ１１ＷＣ＋４Ｈ？０Ｏ５（２３６，４０）
ＭｗＣｓｓＨｓ＋０ｓＳＳｉ（６０７，０１）ｌ
ａ ２ジイソプロピル
アミン０．１０３ｍｊ（０，７３５ｍｍｏｊ）のＴＨＦ
ＨＦ溶液３忙ｊ３０〜−５０℃でｎ−ブチルリチウム溶
液（０，４３４ｍｊ＝０．６８ｍｍｏｊ）を加え、これ
を−７６℃に冷却し、化合物１ａ １６０■（０，６８
ｍｍｏＡりのＴＨＦ溶液０ 、５ ｍｊを滴下し九。１
５分間攪拌した後に４−”ｔ−ブチ！レジメチｌレシリ
ルオキシシクロベント−２−エン−１−オン１２０ ｍ
ｇ （０，５６５ｍｍｏｊ）のＴＨＦ溶液０ 、５ ｍ
ｌをすばやく加えた。１０分間攪拌した優に６−メドキ
シカルポニルヘキサナール８９■（０，５６５ｍｍｏｊ
）を反応液に加えた。３０分間攪拌した後飽和塩化アン
モ；ウム水溶＠、 ２ ｍｌを加えた後反応液の温度を
室温にまで戻し、酒石酸水溶液で系を中和後した。反応
液にエーテルを加えて抽出し、水洗（３回）し、抽出液
を常法により処理し粗生成物を得た。このものとシリカ
ゲルト力うムクロマトダラフイー（ＡＣＯＥｔ ：ヘキ
７ン＝１：ａ）で精製し、目的物２ ２ｏ２ｖｇ（取高
５９係）を得た。
ＴＬＣ（ＡＣＯＥｔ ：ヘキサン＝ １ ： １ ）
； Ｒｆ ＝０．３５ＩＲ（ｎｅａｔ、ＣＲ−’ ）：
３４５０，１７３５’Ｈｎｍｒ（ＣＤＣＪａ＋δ＋ｐｐ
）；０．９（ｃ＋Ｈ±３Ｈ、Ｉ ＋ ｔ ＋ Ｊ＝７Ｈ
ｔ−）１．０〜２．９（２４１） 、３．６５（３Ｂ、
ρ） 、３．７２（ＩＨ，ｍ） 。
； Ｒｆ ＝０．３５ＩＲ（ｎｅａｔ、ＣＲ−’ ）：
３４５０，１７３５’Ｈｎｍｒ（ＣＤＣＪａ＋δ＋ｐｐ
）；０．９（ｃ＋Ｈ±３Ｈ、Ｉ ＋ ｔ ＋ Ｊ＝７Ｈ
ｔ−）１．０〜２．９（２４１） 、３．６５（３Ｂ、
ρ） 、３．７２（ＩＨ，ｍ） 。
４．１４（ＩＨ，ｍ）、６．５２（１Ｂ、ｔ、Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、７．５０（５Ｂ）ｌｓＣｎｍｒ（ＣＤＣｊｌ ｌ
ａ、ｐＰ）；１４５．４９（Ｃ−１３）、１３２．３９
（Ｃ−１４）、７０．８０（Ｃ−１１）、６９．６３（
Ｃ−７）、５７．６５（Ｃ−８ン、４８．１４（Ｃ−１
０）、４７．８５（Ｃ−１２＞。
ｚ）、７．５０（５Ｂ）ｌｓＣｎｍｒ（ＣＤＣｊｌ ｌ
ａ、ｐＰ）；１４５．４９（Ｃ−１３）、１３２．３９
（Ｃ−１４）、７０．８０（Ｃ−１１）、６９．６３（
Ｃ−７）、５７．６５（Ｃ−８ン、４８．１４（Ｃ−１
０）、４７．８５（Ｃ−１２＞。
ジイソプロピルアミン０．１７４ｍｊ（１，２４ｍｍｏ
ｊ）のＴＨＦＨＦ溶液５忙ｊ℃でｎ−ブチルリチウム溶
液（０、７９ｍ／６１ 、２４ｍ＋ｎｏｊ ）を加え、
これな−７６℃に冷却し、化合物１ｂ ３６６ Ｑ
（１，１３５ｍｍｏｊ）のＴＨＦＨＦ溶液１シｊえた。
ｊ）のＴＨＦＨＦ溶液５忙ｊ℃でｎ−ブチルリチウム溶
液（０、７９ｍ／６１ 、２４ｍ＋ｎｏｊ ）を加え、
これな−７６℃に冷却し、化合物１ｂ ３６６ Ｑ
（１，１３５ｍｍｏｊ）のＴＨＦＨＦ溶液１シｊえた。
１５分間攪拌した後に、４−ｔ−プチルジメチルシリル
オキシシ〃ロベント−２−エン−１−オン２１９■（３
，０３２ｍｍｏ ｌ ）のＴＨＦ溶液０．６ｍｇをすば
やく加えた０１０分間攪拌した後に、ｎ−ヘプタナール
０ 、１５６ｍｇ（１、１３５ｙｍｎｏ／ ）を滴下し
た。２０分間攪拌した後、飽和塩化７ンモニウム水溶液
３ｍｊを加え、反応液の温度を室温まで戻し、酒石酸水
溶液で中和しミ酢酸エチルを加えて抽出し、抽出液を３
回水洗した。抽出液は常法により処理しｍ／４＝成物を
得た。このものをシリカゲルクロマトグラフィー（ＡＣ
ＯＥｔ ：ヘキサンー１：３）で精製し目的物１６５０
１■（収＄７５係）を得た。
オキシシ〃ロベント−２−エン−１−オン２１９■（３
，０３２ｍｍｏ ｌ ）のＴＨＦ溶液０．６ｍｇをすば
やく加えた０１０分間攪拌した後に、ｎ−ヘプタナール
０ 、１５６ｍｇ（１、１３５ｙｍｎｏ／ ）を滴下し
た。２０分間攪拌した後、飽和塩化７ンモニウム水溶液
３ｍｊを加え、反応液の温度を室温まで戻し、酒石酸水
溶液で中和しミ酢酸エチルを加えて抽出し、抽出液を３
回水洗した。抽出液は常法により処理しｍ／４＝成物を
得た。このものをシリカゲルクロマトグラフィー（ＡＣ
ＯＥｔ ：ヘキサンー１：３）で精製し目的物１６５０
１■（収＄７５係）を得た。
Claims (14)
- （１）下記式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・・
・・・・・・〔 I 〕〔式中Ｒ＿１は炭素数１〜１０の
アルキル基、エステル基もしくはカルボキシル基また はその塩を表わし、Ｒ＿２は炭素数１〜１０の置換もし
くは非置換のアルキル基、ア ルケニル基を表わす。〕 で表わされる４−置換−５−アルキリデン−２−シクロ
ペンテノン類。 - （２）Ｒ＿１がメチル基もしくはメトキシカルボニル基
である、特許請求の範囲第１項記載の４−置換−５−ア
ルキリデン−２−シクロペンテノン類。 - （３）Ｒ＿２がペンチル基である、特許請求の範囲第１
項又は２項記載の４−置換−５−アルキリデン−２−シ
クロペンテノン類。 - （４）Ｒ＿２がω−テトラヒドロビラニルオキシブチル
基である、特許請求の範囲第１又は２項記載の４−置換
−５−アルキリデン−２−シクロペンテノン類。 - （５）下記式〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・・
・・・・・・・・・〔II〕〔式中Ｒ＾１＾１は炭素数１
〜１０のアルキル基もしくはエステル基を表わし、Ｒ＾
２は上記定義に同じであり、Ｒ＾３は水酸基の保護基を
表わす。〕 で表わされるスルホキシド類を、還元脱離反応に付し。 下記式〔III〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・〔III〕（式中Ｒ＾１＾１、
Ｒ＾２、Ｒ＾３は上記定義に同じ）で表わされるシクロ
ペンタノン類とし、これをメタンスルホニル化し、下記
式〔IV〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・〔IV〕（式中Ｒ＾１＾１、Ｒ
＾２、Ｒ＾３は上記定義に同じ）で表わされるメシレー
ト体とし、これを第１の脱離反応に付し、下記式〔Ｖ〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・〔Ｖ〕（式中Ｒ＾１＾１、Ｒ
＾２、Ｒ＾３は上記定義に同じ）で表わされる３，４−
ジ置換−５−アルキリデンシクロペンタノン類とし、こ
れを第２の脱離反応に付し、必要に応じて加水分解、塩
生成反応に付すことを特徴とする、下記式〔 I 〕▲数
式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・〔 I 〕（式中Ｒ＾１、Ｒ＾２は
上記定義に同じ） で表わされる４−置換−５−アルキリデン−２−シクロ
ペンテノン類の製法。 - （６）上記式〔III〕を第２の脱離反応に付し、下記式
〔VI〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・〔VII〕（式中Ｒ＾１＾１、
Ｒ＾２は上記定義に同じ）で表わされる４，５−ジ置換
シクロペンテノン類とし、これをメタンスルホニル化し
、下記式〔VII〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・・
・・・・・・〔VII〕（式中Ｒ＾１＾１、Ｒ＾２は上記
定義に同じ）で表わされるタンレート体とした後、第１
の脱離反応に付し、必要に応じて加水分解、塩生成反応
に付すことを特徴とする、特許請求の範囲第５項記載の
４−置換−５−アルキリデン−２−シクロペンテノン類
の製法。 - （７）上記式〔VI〕と脱水することを特徴とする、特許
請求の範囲第５項記載の４置換−５−アルキリデン−２
−シクロペンテノン類の製法。 - （８）還元脱離反応をテネーニツケルを用いて行なう、
特許請求の範囲第５項記載の４−置換−５−アルキリデ
ン−２−シクロペンテノン類の製法。 - （９）第１の脱離反応を塩基の存在下に行なう、特許請
求の範囲第５項又は６項記載の４−置換−５−アルキリ
デン−２−シクロペンテノン類の製法。 - （１０）第２の脱離反応を酸の存在下に行なう、特許請
求の範囲第５項、６項、８項のうちいずれか１項記載の
４−置換−５−アルキリデン−２−シクロペンテノン類
の製法。 - （１１）第２の脱離反応を塩基の存在下に行なう、特許
請求の範囲第５項、６項、８項のうちいずれか１項記載
の４−置換−５−アルキリデン−２−シクロペンテノン
類の製法。 - （１２）脱水反応を塩化第一銅とＮ，Ｎ′−ジシクロヘ
キシルカルボジイミド存在下に行なう、特許請求の範囲
第７項記載の４−置換−５−アルキリデン−２−シクロ
ペンテノン類の製法。 - （１３）第１の脱離反応の塩基がアミン類、第２の脱離
反応の酸が低級カルボン酸である特許請求の範囲第５項
、６項、８項、９項、１０項、１１項のうちいずれか１
項記載の４−置換−５−アルキリデン−２−シクロペン
テノン類の製法。 - （１４）第２の脱離反応の塩基が１，５−ジアザビシク
ロ〔５，４，０〕ウンデセン−５である、特許請求の範
囲第１１項記載の４−置換−５−アルキリデン−２−シ
クロペンテノン類の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59119828A JPH062704B2 (ja) | 1984-06-13 | 1984-06-13 | ４−置換−５−アルキリデン−２−シクロペンテノン類およびその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59119828A JPH062704B2 (ja) | 1984-06-13 | 1984-06-13 | ４−置換−５−アルキリデン−２−シクロペンテノン類およびその製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS611636A true JPS611636A (ja) | 1986-01-07 |
| JPH062704B2 JPH062704B2 (ja) | 1994-01-12 |
Family
ID=14771267
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59119828A Expired - Lifetime JPH062704B2 (ja) | 1984-06-13 | 1984-06-13 | ４−置換−５−アルキリデン−２−シクロペンテノン類およびその製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH062704B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998056745A1 (en) * | 1997-06-13 | 1998-12-17 | Takara Shuzo Co., Ltd. | Hydroxycyclopentanone |
| EP1188923A2 (en) | 2000-09-18 | 2002-03-20 | Kabushiki Kaisha Toyota Jidoshokki | Coating for a swash plate of a swash plate compressor |
| CN114573439A (zh) * | 2022-03-17 | 2022-06-03 | 格林生物科技股份有限公司 | 一种烯酮类化合物的制备方法 |
-
1984
- 1984-06-13 JP JP59119828A patent/JPH062704B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998056745A1 (en) * | 1997-06-13 | 1998-12-17 | Takara Shuzo Co., Ltd. | Hydroxycyclopentanone |
| US6166091A (en) * | 1997-06-13 | 2000-12-26 | Takara Shuzo Co., Ltd. | 2,3,4-trihydroxycyclopentanone |
| EP1188923A2 (en) | 2000-09-18 | 2002-03-20 | Kabushiki Kaisha Toyota Jidoshokki | Coating for a swash plate of a swash plate compressor |
| CN114573439A (zh) * | 2022-03-17 | 2022-06-03 | 格林生物科技股份有限公司 | 一种烯酮类化合物的制备方法 |
| CN114573439B (zh) * | 2022-03-17 | 2024-08-06 | 格林生物科技股份有限公司 | 一种烯酮类化合物的制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH062704B2 (ja) | 1994-01-12 |
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