JPS61180767A - ４−ヒドロキシインド−ル類の精製法 - Google Patents
４−ヒドロキシインド−ル類の精製法Info
- Publication number
- JPS61180767A JPS61180767A JP2133085A JP2133085A JPS61180767A JP S61180767 A JPS61180767 A JP S61180767A JP 2133085 A JP2133085 A JP 2133085A JP 2133085 A JP2133085 A JP 2133085A JP S61180767 A JPS61180767 A JP S61180767A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hydroxyindole
- oil layer
- temperature
- hydroxyindoles
- purification
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Indole Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は４−ヒドロキシインドール類（以下、４−Ｈ工
と記す、）の精展法−関し、さらに詳しくは、４−オキ
ソテトラヒドロインドール類（以下、４−０工と記す。
と記す、）の精展法−関し、さらに詳しくは、４−オキ
ソテトラヒドロインドール類（以下、４−０工と記す。
）の脱水！反応により得られる４−Ｈ工粗裂物から高純
度の４−Ｈ工を効率よく回収する方法に関する。
度の４−Ｈ工を効率よく回収する方法に関する。
（従来の技術）
４−”ＨＸは循環器系治療剤「ピンドロール」およ 、
びその類縁体の合成中間体として有用なことが知られて
いる。かかる４−Ｈ工の製造方法として、従。
びその類縁体の合成中間体として有用なことが知られて
いる。かかる４−Ｈ工の製造方法として、従。
来から４−ＯＸｆ中間体とし、次いでこれを酸イしする
方法が知られている。
方法が知られている。
ところで゛、この方法の場合、反応で得た４ −Ｈ工粗
製物は相当量の未反応原料や副生成物を不純物として含
んでおり、最終工程で精製する必要が有る。この精製法
として、再結晶法や吸着法等が採用されてきたが、精製
工程における収率はせいぜい６０４程度であり、純度を
高めようとすると収率は更に低下する。また４−ＨＸ粗
製物を１００Ｃ以上かつ４−０工の融点以下の温度で減
圧蒸留することにより４＝Ｈ工精製物を得る方法も提案
されているが（特開昭５８−１５５６６号）、この方法
の場合（は、蒸留操作時間が短かければ（例えば３０分
以内）高い収率と純度が得られるものの、蒸留操作時間
！延長すると（例えば１時間以上）４−Ｈ工の加熱劣化
による高沸点化合物の生成が著しく、収率も大幅に低下
するという欠点があり、工業的規模で実施することが困
難であった。
製物は相当量の未反応原料や副生成物を不純物として含
んでおり、最終工程で精製する必要が有る。この精製法
として、再結晶法や吸着法等が採用されてきたが、精製
工程における収率はせいぜい６０４程度であり、純度を
高めようとすると収率は更に低下する。また４−ＨＸ粗
製物を１００Ｃ以上かつ４−０工の融点以下の温度で減
圧蒸留することにより４＝Ｈ工精製物を得る方法も提案
されているが（特開昭５８−１５５６６号）、この方法
の場合（は、蒸留操作時間が短かければ（例えば３０分
以内）高い収率と純度が得られるものの、蒸留操作時間
！延長すると（例えば１時間以上）４−Ｈ工の加熱劣化
による高沸点化合物の生成が著しく、収率も大幅に低下
するという欠点があり、工業的規模で実施することが困
難であった。
（発明が解決し７ようとする問題点）
そこで本発明者らは従来技術にみられる前記欠点を解決
すべく鋭意研究の結果、４−Ｈｌの水分散液を調製する
と副生成物及び未反応原料が油層を形成することを見い
出し、この知見に基づいて本発明全完成するに到った。
すべく鋭意研究の結果、４−Ｈｌの水分散液を調製する
と副生成物及び未反応原料が油層を形成することを見い
出し、この知見に基づいて本発明全完成するに到った。
（問題点全解決するための手段）
かくして本発明によれば、４−オキソテトラヒドロ・「
ンドール類の脱水素反応により得られる粗４−ヒドロキ
シインドール類を水と混合したのち、静置して水層と油
層を形成せしめ、油層を除去したのち、冷却して４−ヒ
ドロキシインドール類を析出せしめることを特徴とする
４−ヒドロキシインドール類の精製法が提供される。
ンドール類の脱水素反応により得られる粗４−ヒドロキ
シインドール類を水と混合したのち、静置して水層と油
層を形成せしめ、油層を除去したのち、冷却して４−ヒ
ドロキシインドール類を析出せしめることを特徴とする
４−ヒドロキシインドール類の精製法が提供される。
本発明において処理の対象となる４−Ｈ工粗製物は、下
記一般式（「）で示される４−０工の脱水素反応により
得られる。下記一般式ＣＩ）で示される４−Ｈ［ｊ主成
分とする反応生成物である。かかる反応生成物は４−Ｈ
ｌの他に不純物として未反応原料である４−０工及び着
色した高沸点の副生成物を含有する。
記一般式（「）で示される４−０工の脱水素反応により
得られる。下記一般式ＣＩ）で示される４−Ｈ［ｊ主成
分とする反応生成物である。かかる反応生成物は４−Ｈ
ｌの他に不純物として未反応原料である４−０工及び着
色した高沸点の副生成物を含有する。
Ｈ
〔式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ５，Ｒ４、Ｒ５及ヒＲ６ハ各＃
水！原子または炭化水素残基を表わす。〕 炭炭化水素基は通常、炭素数２０以下、好ましくは１０
以下のものであシ、その具体的な例としては、例えばメ
チル、エチル、ｎ−プロピル、１ｓｏ−プロピル、ｎ−
ブチル、工ａｏ−ブチル、アミル、ヘキシル、ヘプチル
、オクチル、ステアリルナトのアルキル基、シクロプロ
ピル、シクロペンチル、シクロヘキフル、メチルフクロ
ヘキシル等の７クロアルキル基、フェニル、トリル、キ
シリル、ｐ−）チルフェニル等のア’Ｊ ｋ６、ｐ−
メチルベンジルなどのアラルキル基などを挙ける゛こと
ができる。
水！原子または炭化水素残基を表わす。〕 炭炭化水素基は通常、炭素数２０以下、好ましくは１０
以下のものであシ、その具体的な例としては、例えばメ
チル、エチル、ｎ−プロピル、１ｓｏ−プロピル、ｎ−
ブチル、工ａｏ−ブチル、アミル、ヘキシル、ヘプチル
、オクチル、ステアリルナトのアルキル基、シクロプロ
ピル、シクロペンチル、シクロヘキフル、メチルフクロ
ヘキシル等の７クロアルキル基、フェニル、トリル、キ
シリル、ｐ−）チルフェニル等のア’Ｊ ｋ６、ｐ−
メチルベンジルなどのアラルキル基などを挙ける゛こと
ができる。
４−０工の脱水素反応には、触媒として一般に水添に使
用される貴金属触媒が使用される。その具体例としては
、パラジウム、白金、ロジウム。
用される貴金属触媒が使用される。その具体例としては
、パラジウム、白金、ロジウム。
ルテニウム等を含む触媒があげられる。
反応ｄ媒は適宜選択しうるが、その具体例としてｐ−７
メン、メ７チレン等の芳香族炭化水素、アルキレングリ
コールのモノエーテルまたハシエーテル、ポリアルキレ
ングリコールのモノエーテルまたはジエーテル等が例示
される。また反応温度は、通常、１２０〜２５０℃で行
われる。 。
メン、メ７チレン等の芳香族炭化水素、アルキレングリ
コールのモノエーテルまたハシエーテル、ポリアルキレ
ングリコールのモノエーテルまたはジエーテル等が例示
される。また反応温度は、通常、１２０〜２５０℃で行
われる。 。
本発明においては、まず４−Ｈ工粗製物中の４−Ｈｌに
対して、通常、５〜２０重量倍、好ましくは７〜１５重
量倍の水１４−Ｈ工粗製物と混合して水分散液がｆＡ製
される。次にこの水分散液を静置し、水層と油層が形成
される。静置は混合時の温度と同一温度でもよいが、分
離効率を高めるうえで冷却しながら行うのが好ましい。
対して、通常、５〜２０重量倍、好ましくは７〜１５重
量倍の水１４−Ｈ工粗製物と混合して水分散液がｆＡ製
される。次にこの水分散液を静置し、水層と油層が形成
される。静置は混合時の温度と同一温度でもよいが、分
離効率を高めるうえで冷却しながら行うのが好ましい。
次いで析出した油層全分離除去した後、水層全冷却して
純度の高い４−Ｈ工’ｉ析出させる０ 油層を分離除去する方法としては所定の温度で一括して
分離除去してもよいが、高温域から順次温度を下げてい
き２回以上にわけて分離除去した方が４−Ｂ工の回収率
が向上するので有利である。
純度の高い４−Ｈ工’ｉ析出させる０ 油層を分離除去する方法としては所定の温度で一括して
分離除去してもよいが、高温域から順次温度を下げてい
き２回以上にわけて分離除去した方が４−Ｂ工の回収率
が向上するので有利である。
水分散液の調製温度は、通常、５０〜１００°Ｃであり
、最終的な油層の分離除去の温度は４−１’Ｉ工粗製物
の組成などによって必ずしも一様ではないが、通常、６
０℃以下であれば高純度の４−ＦＩ工が得られる。しか
し、４−ＨＩが析出する温度以下では意味がないので、
油層の分離除去温度としては４０〜６０℃が賞月される
。
、最終的な油層の分離除去の温度は４−１’Ｉ工粗製物
の組成などによって必ずしも一様ではないが、通常、６
０℃以下であれば高純度の４−ＦＩ工が得られる。しか
し、４−ＨＩが析出する温度以下では意味がないので、
油層の分離除去温度としては４０〜６０℃が賞月される
。
油層分離除去後の水層は、次いで４−Ｈｌを回収するた
めに冷却され、目的の４−Ｈｌは結晶として分離される
。結晶の析出は一般に３０〜３５℃程度で開始するが、
分離効率を高めるうえで０℃近（まで冷却することが好
ましい・ 冷却後、結晶化した４−Ｈｌは常法に従って回収される
。例えば濾過することによって容易に４−Ｈ工を回収す
ることができるＯまたＦ液中には一部の４−Ｈ工が溶解
しているか、この４−Ｈ工はＦ液をａ組したのち冷却し
て析出させることによって容易に回収できる。このよう
にしてｐ液中の４−）（工をも回収することによって回
収率を向上させることができる０ （発明の効果） か（して本発明によれば、従来法に比して簡単な操作で
収率良く高純匿の４−Ｈ工を得ることができる。
めに冷却され、目的の４−Ｈｌは結晶として分離される
。結晶の析出は一般に３０〜３５℃程度で開始するが、
分離効率を高めるうえで０℃近（まで冷却することが好
ましい・ 冷却後、結晶化した４−Ｈｌは常法に従って回収される
。例えば濾過することによって容易に４−Ｈ工を回収す
ることができるＯまたＦ液中には一部の４−Ｈ工が溶解
しているか、この４−Ｈ工はＦ液をａ組したのち冷却し
て析出させることによって容易に回収できる。このよう
にしてｐ液中の４−）（工をも回収することによって回
収率を向上させることができる０ （発明の効果） か（して本発明によれば、従来法に比して簡単な操作で
収率良く高純匿の４−Ｈ工を得ることができる。
（実施例）
以下に実施例會挙けて本発明をさらに具体的に説明する
。なお、実施例中の部及び俤はとくに断りのないかぎり
重を基準である０又、純度はガスクロマトグラフィー及
び液体クロマトグラフィーにより分析した。
。なお、実施例中の部及び俤はとくに断りのないかぎり
重を基準である０又、純度はガスクロマトグラフィー及
び液体クロマトグラフィーにより分析した。
実施例１
４−Ｈ工粗裏物（４−ヒドロキシインドール８７、１チ
、４−オキソ−４，５，６，７−チトラヒドロインドー
ル３．１％、その他高洲点不純物９８％）１１５部に水
１０００部を加え、８０℃に昇温して１時間攪拌したの
ち、５０℃に冷却し、５０℃で１時間静置後、下部に留
った油層を除去した。
、４−オキソ−４，５，６，７−チトラヒドロインドー
ル３．１％、その他高洲点不純物９８％）１１５部に水
１０００部を加え、８０℃に昇温して１時間攪拌したの
ち、５０℃に冷却し、５０℃で１時間静置後、下部に留
った油層を除去した。
その後、水層を０”Ｃまで冷却して結晶を析出させた。
結晶を戸別し乾燥したところ、融点９７〜９９℃の白色
の４−ヒドロキシインドール７４部を得た。その中に含
まれる４−オキソ−４，５，６，７−チトラヒドロイン
ドールおよびその他の不純物は各々０．２係及び０．１
％以下であった。又、Ｐ液は別途濃縮し０℃まで冷却し
て結晶全析出させた。
の４−ヒドロキシインドール７４部を得た。その中に含
まれる４−オキソ−４，５，６，７−チトラヒドロイン
ドールおよびその他の不純物は各々０．２係及び０．１
％以下であった。又、Ｐ液は別途濃縮し０℃まで冷却し
て結晶全析出させた。
結晶を戸別し乾燥したところ、融点９７〜１００”ＯＴ
ｈ持つ白色の４−ヒドロキシインドール１３部を得た。
ｈ持つ白色の４−ヒドロキシインドール１３部を得た。
その中に含まれる４−オキソ−４，５，６，７−チトラ
ヒドロインドールおよびその他の不純物は各々ｎ、ｏｓ
％及び０．１％以下であった。
ヒドロインドールおよびその他の不純物は各々ｎ、ｏｓ
％及び０．１％以下であった。
４−ヒドロキシインドールの全回収率は、４−ヒドロキ
シインドール基準で８７φであった。
シインドール基準で８７φであった。
実施例２
４−Ｈ工ｍ’ＪＪＱｋ （４−ヒドロキシインドール８
６．１％、４−オキンー４，５．へ７−チトラヒドロイ
ンドール２．５％、その他高那点不純物１１４％）１０
０都に水８６０部を加え８０℃に加温後、８０℃で１時
間攪拌し、１時間静置して下部に留った油層を除去した
。次に順次温度を下けていき６５℃、５０℃でそれぞれ
１時間静置し、析出した油層の除去を行った後、０℃ま
で冷却して結晶を析出させた。結晶全戸別し乾燥したと
ころ、融点９７〜９９℃の白色の４−ヒドロキシインド
ール７１部を得た。その中に含まれる４−オキンー４、
５．６．７−チトラヒドロインドールおよびその他の不
純物は各々０．６％及び０．１≠以下であった。
６．１％、４−オキンー４，５．へ７−チトラヒドロイ
ンドール２．５％、その他高那点不純物１１４％）１０
０都に水８６０部を加え８０℃に加温後、８０℃で１時
間攪拌し、１時間静置して下部に留った油層を除去した
。次に順次温度を下けていき６５℃、５０℃でそれぞれ
１時間静置し、析出した油層の除去を行った後、０℃ま
で冷却して結晶を析出させた。結晶全戸別し乾燥したと
ころ、融点９７〜９９℃の白色の４−ヒドロキシインド
ール７１部を得た。その中に含まれる４−オキンー４、
５．６．７−チトラヒドロインドールおよびその他の不
純物は各々０．６％及び０．１≠以下であった。
又、Ｐ液は別途濃縮し０℃まで冷却して結晶全析出させ
た。結晶’ｆｒＰ別し乾燥したところ、融点９７〜１０
０℃の白色の４−とドロキシインドール１０部ｔ−得た
。その中に含まれる４−オキソ−４、５，６，７−チト
ラヒドロインドールおよびその他の不純物は各々０．１
％以下であった。
た。結晶’ｆｒＰ別し乾燥したところ、融点９７〜１０
０℃の白色の４−とドロキシインドール１０部ｔ−得た
。その中に含まれる４−オキソ−４、５，６，７−チト
ラヒドロインドールおよびその他の不純物は各々０．１
％以下であった。
４−ヒドロキシインドールの全回収率は、４−ヒドロキ
シインドール基準で９４チであった。
シインドール基準で９４チであった。
Claims (1)
- １ ４−オキソテトラヒドロインドール類の脱水素反応
により得られる粗４−ヒドロキシインドール類を水と混
合したのち、静置して水層と油層を形成せしめ、油層を
除去したのち、冷却して４−ヒドロキシインドール類を
析出せしめることを特徴とする４−ヒドロキシインドー
ル類の精製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2133085A JPS61180767A (ja) | 1985-02-06 | 1985-02-06 | ４−ヒドロキシインド−ル類の精製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2133085A JPS61180767A (ja) | 1985-02-06 | 1985-02-06 | ４−ヒドロキシインド−ル類の精製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61180767A true JPS61180767A (ja) | 1986-08-13 |
| JPH0411540B2 JPH0411540B2 (ja) | 1992-02-28 |
Family
ID=12052124
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2133085A Granted JPS61180767A (ja) | 1985-02-06 | 1985-02-06 | ４−ヒドロキシインド−ル類の精製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61180767A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5419971A (en) * | 1977-07-13 | 1979-02-15 | Fujimoto Seiyaku Kk | Production of 44 hydroxyindole |
| JPS5927869A (ja) * | 1982-08-06 | 1984-02-14 | Sagami Chem Res Center | ４−オキソ−４，５，６，７−テトラヒドロインド−ルの製造方法 |
-
1985
- 1985-02-06 JP JP2133085A patent/JPS61180767A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5419971A (en) * | 1977-07-13 | 1979-02-15 | Fujimoto Seiyaku Kk | Production of 44 hydroxyindole |
| JPS5927869A (ja) * | 1982-08-06 | 1984-02-14 | Sagami Chem Res Center | ４−オキソ−４，５，６，７−テトラヒドロインド−ルの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0411540B2 (ja) | 1992-02-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4216563B2 (ja) | フルオレニリデンジアリルフェノールの精製方法 | |
| US4480139A (en) | Aldehyde adducts | |
| TW201345884A (zh) | 氧化聯苯酚之製造方法 | |
| JP3640319B2 (ja) | ベンズアミド誘導体の製造方法 | |
| US4940832A (en) | Process for separating 2,6-dimethylnaphthalene | |
| JPH0411540B2 (ja) | ||
| JPS6039275B2 (ja) | ２，２，６，６−テトラメチルテトラヒドロピラン−４−オ−ルの精製方法 | |
| JPS6244538B2 (ja) | ||
| JPS6036439B2 (ja) | トリエチレンジアミンの分離回収方法 | |
| US3359311A (en) | Process for color improvement of beta-vinyladipic acid | |
| JP4357608B2 (ja) | ベンゾチオフェンの精製方法 | |
| JPS6039345B2 (ja) | ベンゾインの製造方法 | |
| JPS6169736A (ja) | テトラリン誘導体の製法 | |
| JPH05294871A (ja) | ビスフェノールａの製造方法 | |
| JPS59137431A (ja) | トリメチロ−ルヘプタンの製造方法 | |
| CN116375563A (zh) | 一种邻苯基苯酚类化合物的生产方法 | |
| KR900008171B1 (ko) | 벤조디아제핀 아세테이트화합물의 제조방법 | |
| JPS61218534A (ja) | 粗２，３−ジメチルナフタレンの精製方法 | |
| JP2721247B2 (ja) | 精製インドールの製造方法 | |
| CN114685509A (zh) | 一种瑞德西韦中间体或其盐酸盐的制备方法 | |
| JP2501584B2 (ja) | ２，５−ジメチルフェノ−ルの回収方法 | |
| JPS6150942B2 (ja) | ||
| JPS621933B2 (ja) | ||
| JP3784331B2 (ja) | 金を含有するガリウムの精製方法、及び金を含有するガリウムからの金の採取方法 | |
| JPH0819020B2 (ja) | ３，３′，５，５′−テトラアルキル−４，４′−ビフエノ−ルの精製法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |