JPS6118554B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6118554B2
JPS6118554B2 JP52149156A JP14915677A JPS6118554B2 JP S6118554 B2 JPS6118554 B2 JP S6118554B2 JP 52149156 A JP52149156 A JP 52149156A JP 14915677 A JP14915677 A JP 14915677A JP S6118554 B2 JPS6118554 B2 JP S6118554B2
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JP
Japan
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formula
hydrogen
methyl
methoxy
lower alkyl
Prior art date
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Expired
Application number
JP52149156A
Other languages
English (en)
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JPS5373597A (en
Inventor
Ei Surusaachiku Uiriamu
Emu Goodon Eritsuku
Eitsuchi Kosutaa Uiriamu
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
ER Squibb and Sons LLC
Original Assignee
ER Squibb and Sons LLC
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Filing date
Publication date
Application filed by ER Squibb and Sons LLC filed Critical ER Squibb and Sons LLC
Publication of JPS5373597A publication Critical patent/JPS5373597A/ja
Publication of JPS6118554B2 publication Critical patent/JPS6118554B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D501/00Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • C07D501/14Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
    • C07D501/16Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
    • C07D501/207-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids
    • C07D501/247-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms or hetero rings, attached in position 3
    • C07D501/36Methylene radicals, substituted by sulfur atoms
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Cephalosporin Compounds (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】
本発明は−ヘテロチオメチルセフアロスポリ
ン類の補法、曎に詳しくは抗菌掻性を有するセフ
アロスポリン類の䞭間䜓ずしお有甚なる−ヘテ
ロチオメチルセフアロスポリン類の新芏補造法に
関する。 本発明目的化合物は匏 で瀺される−ヘテロチオメチルセフアロスポラ
ン酞゚ステル類を包含する。 本発明は匏 で瀺される−メチレンセフアロスポリンを塩基
の存圚䞋、匏 hetero−−−hetero 〔〕 たたは −−hetero 〔〕 で瀺される化合物で凊理するこずから成る−ヘ
テロチオメチルセフアロスポラン酞゚ステル類
〔〕の補造法を提䟛するものである。 本発明における−ヘテロチオセフアロスポリ
ン゚ステル類〔〕はこれを垞法に埓぀お凊理
し、その゚ステル保護基を離脱せしめるこずによ
り抗菌掻性を有する察応する遊離酞を埗るこずが
できるので、かかる抗菌掻性物質補造のために有
甚なる䞭間䜓である。 前蚘匏䞭の各蚘号により衚わされる皮々の基は
本明现曞を通じお䞋蚘の意矩を有する。 は容易に離脱せしめ埗る゚ステル基たずえ
ば−ブチル、ゞプニルメチル、トリメチルシ
リル、−ブチルゞメチルシリル、ベンゞル、
−メトキシベンゞル、−ニトロベンシルたたは
−トリクロロ゚チルを衚わす。 R1はα−配眮の氎玠たたはメトキシを包含す
る。 heteroは異項環基を衚わす。異項環基を䟋瀺す
れば次のずおりである
【匏】
【匏】
【匏】
【匏】
【匏】
【匏】
【匏】
【匏】
【匏】 R2は氎玠たたは炭玠数〜の䜎玚アルキル
奜たしくはメチルたたぱチルを包含する。 acylはセフアロスポリン類においお通垞知られ
たアシル偎鎖であ぀お、出発物質〔〕たたは
〔〕ずの反応の圱響を受けるこずなく、か぀セ
フアロスポリン栞ず結合しお通垞の抗菌掻性物質
を圢成し埗るかたたはかかる掻性物質に容易に化
孊凊理し埗る偎鎖であるか、もしくはこれを容易
に開裂しお察応するβ−アミノ−α−メトキ
シたたはデスメトキシ−−ヘテロチオメチ
ルセフアロスポラン酞゚ステルを圢成せしめるこ
ずが可胜な偎鎖を衚わす。 acylの䟋ずしお、䜎玚アルキル
【匏】
【匏】
【匏】
【匏】
【匏】
【匏】などが挙げられる。䞊 蚘基䞭、R3は氎玠、ハロゲン奜たしくはクロ
ロもしくはブロモ、䜎玚アルキル奜たしくは
メチルもしくぱチルたたは䜎玚アルキル奜
たしくはメトキシもしくぱトキシR4は氎
玠、ハロゲン奜たしくはクロロもしくはブロ
モたたは䜎玚アルキル奜たしくはメチルもし
くぱチルR5は氎玠、−NH−R6で瀺される
保護アミノたたは−−R7で瀺される保護ヒド
ロキシを衚わす。ここにR6は−ブチルオキシ
カルボニル、ベンゞルオキシカルボニル、眮換ベ
ンゞルオキシカルボニルプニル環状の眮換基
はメチル、メトキシ、ニトロ、ハロゲン奜たし
くはブロモもしくはクロロ、トリクロロ゚チル
オキシカルボニル、アダマンチルオキシカルボニ
ル、トリフルオロアセチル、クロロアセチル、ス
クシニル、フタロむルたたはホルミル奜たしく
は−ブチルオキシカルボニル、非眮換もしくは
眮換ベンゞルオキシカルボニルたたはトリクロロ
゚チルオキシカルボニルR7はトリメチルシ
リル、ゞクロロアセチルたたはその他の通垞䜿甚
する保護基を衚わす。 はハロゲンブロモ、クロロ、フルオロもし
くはペヌドを包含し、これらの内ブロモもしくは
クロロが奜たしい。䜎玚アルコキシカルボニル
チオ奜たしくはメトキシカルボニルチオ、フ
タルむミド、スクシンむミドたたは
【匏】で 瀺されるスルホニルここには䜎玚アルキル、
プニルたたは眮換プニルメチル、メトキ
シ、ニトロ、ハロゲン奜たしくはブロモもしく
はクロロで眮換されたプニルである。を
衚わす。 本明现曞を通じお、䜎玚アルキルは炭玠数〜
の盎鎖もしくは分枝状炭化氎玠基たずえばメ
チル、゚チル、−プロピル、む゜プロピル、
−ブチルなど、䜎玚アルコシキは酞玠に結合し
た䞊蚘同様の䜎玚アルキルたずえばメトキシ、
゚トキシ、プロポキシなどを包含する。 本発明方法における−メチレン化合物〔〕
ずチオヌル化化合物〔〕たたは〔〕の反応は
䞡反応詊剀を䞍掻性有機溶媒䞭、アルカリ金属塩
基もしくは有機塩基〜圓量の存圚䞋、玄−80
〜20℃で玄分ないし玄時間凊理するこずに
より行なうこずができる。奜たしくはこの反応は
窒玠たたはアルゎンのような䞍掻性雰囲気䞭で達
成するこずができる。 䞊蚘反応においお䜿甚する適圓な䞍掻性有機溶
媒はテトラヒドロフラン、゚チル゚ヌテル、ゞオ
キサン、アセトニトリル、ゞメトキシ゚タン、ゞ
メチルホルムアミド、ゞメチルスルホキシド、ゞ
メチルアセトアミドなどを包含する。 適圓なアルカリ金属塩基の䟋ずしお、カリりム
−ブトキシド、リチりムゞ゚チルアミド、リチ
りムゞむ゜プロピルアミド、リチりム−シクロ
ヘキシルむ゜プロピルアミドたたはリチりムヘキ
サメチルゞシラザン、適圓な有機塩基の䟋ずし
お、−ゞアザビシクロ〔5.4.0〕りンデセ
−゚ンたたは−ゞアザビシクロ
〔4.3.0〕ノネ−−゚ンが挙げられる。 本発明方法により補せられる−ヘテロチオメ
チルセフアロスポラン酞゚ステル類〔〕はこれ
を数皮の方法で凊理するこずにより、有甚な抗菌
掻性化合物を埗るこずができる。たずえば本発明
化合物〔〕のアシル偎鎖が抗菌掻性化合物の偎
鎖ずしお奜たしいアシル偎鎖たずえばこのアシ
ルがプニルアセチル、−チ゚ニルアセチ
ルなどであるずき、この化合物を単に酞加氎分
解たたは塩基加氎分解しおそのカルボン酞゚ステ
ル保護基を離脱せしめるだけで所望の抗菌掻性化
合物を埗るこずができる。 本発明化合物〔〕のアシル偎鎖が保護された
アミノ眮換基たたは保護されたヒドロキシ眮換基
を有するずき、曎にこの保護基を離脱せしめる凊
理およびカルボン酞゚ステル保護基を離脱せしめ
る凊理を行なえばよい保護基を離脱せしめる方
法に぀いおたずえば米囜特蚱第3641021号、第
3796801号および第3932393号参照。たたたずえ
ば、埗られた化合物がα−アミノ化合物であるず
き、これを米囜特蚱第3978051号および第3989697
号の凊理方法に埓぀おシアン酞アルカリ金属たた
はシアン酞アルカリ土類金属ず反応さおお察応す
るα−りレむド化合物を埗るか、もしくは米囜特
蚱第3925368号たたは第3956292号に埓぀お凊理す
るこずにより察応する皮々のα−アシル化りレむ
ド化合物を埗るこずができる。 䞊蚘以倖の堎合、たずえば本発明化合物〔〕
のアシル基がアルキル−CO−であるずき、垞
套の方法に埓぀おこの化合物を脱アシル化しお察
応するβ−アミノ−α−メトキシたたはデ
スメトキシ−−ヘテロチオメチルセフアロス
ポラン酞゚ステルを埗るのが奜たしく、たたこの
゚ステル䜓を曎にアシル化をしおβ䜍に異なる
偎鎖を有する抗菌掻性化合物を埗るこずができ
る。 次に実斜䟋を挙げ、本発明における奜たしい補
造法に぀いお詳述する。 実斜䟋  −〔〔−メチル−1H−テトラゟヌル−−
むルチオ〕メチル〕−−オキ゜−β−〔フ
゚ニルアセチルアミノ〕−−チア−−アザ
ビシクロ〔4.2.0〕オクト−−゚ン−−カル
ボン酞の補造− 窒玠雰囲気䞭、−メチレン−−オキ゜−
β−〔プニルアセチルアミノ〕−−チア−
−アザビシクロ〔4.2.0〕オクト−−゚ン−
−カルボン酞166mg0.5ミリモルの也燥テト
ラヒドロフラン10ml溶液℃を撹拌しなが
ら、これにビストリメチルシリルアセトアミ
ド149Ό0.6ミリモルを加える。混合物を℃
で15分間撹拌した埌、−メチル−lH−テトラ
ゟヌル−−むルゞスルフむド230mgミリ
モルを加える。これを−70℃に冷やし、
−ゞアゟビシクロ〔5.4.0〕りンデセ−−゚ン
83Ό0.5ミリモルを加える。この混合物を
−70℃で時間撹拌した埌、30分を芁しお℃た
で加枩する。酢酞゚チルず氎を加え、炭酞氎玠ナ
トリりム氎溶液を添加するこずによりPH7.5に調
節する。氎局を酢酞゚チルで回以䞊抜出し、曎
に新鮮な酢酞゚チルで抜出する。1N塩酞を添加
しおPH2.0に調節し、酢酞゚チルで反埩抜出した
埌、酢酞゚チル抜出物酞性を合しお硫酞ナト
リりムで也燥埌、蒞発させ、残枣ずしお粗−
〔〔−メチル−1H−テトラゟヌル−−むル
チオ〕メチル〕−−オキ゜−β−〔プニル
アセチルアミノ〕−−チア−−アザビシク
ロ〔4.2.0〕オクト−−゚ン−−カルボン酞
277mgを埗た。垞磁性共鳎吞収分析DCCl3−
CD3OD結果、Ύ3.622HAr−CH2−、
3.702H−、3.973H−
CH3、4.372H−3′、5.031H
5Hz−、5.731H5Hz
−および7.335Hz芳銙族。 この残枣をアセトン−酢酞16系におけ
る20cm×20cm×mmのシリカゲル枚薄局ク
ロマトグラフむ凊理し、Rf0.6に盞圓するバンド
をアセトン−メタノヌルで溶出し、溶
媒を陀いお粟補し、残留物を酢酞゚チル−氎に溶
解し、炭酞氎玠ナトリりム氎溶液を加えおPH7.5
ずし、抜出液、氎局に新鮮な酢酞゚チルを加え、
IN塩酞でPHに調節する。酢酞゚チルで反埩抜
出した埌、酢酞゚チル抜出物酞性を合し、硫
酞ナトリりムで也燥埌、蒞発させお−〔〔−
メチル−1H−テトラゟヌル−−むルチオ〕
メチル〕−−オキ゜−β−〔プニルアセチ
ルアミノ〕−−チア−−アザビシクロ
〔4.2.0〕オクト−−゚ン−−カルボン酞88mg
を埗た。垞磁性共鳎吞収分析結果DC−Cl3
ÎŽ3.652Hs.Ar−CH2−、3.702H
−、3.833H−CH3、4.322H
広い−3′、4.971H5Hz
−、5.901H5Hz8Hz
−、6.971H
【匏】お よび7.3315H広い芳銙族 実斜䟋  −〔〔−メチル−1H−テトラゟヌル−−
むル〕チオ〕メチル〕−−オキ゜−β−〔フ
゚ニルアセチルアミノ〕−−チア−−アザ
ビシクロ〔4.2.0〕オクト−−゚ン−−カル
ボン酞ゞプニルメチル゚ステルの補造−リチ
りム−シクロヘキシルプロピルアミドの溶液
−ブチルリチりムのヘキサン溶液2.4M
0.36mlおよび−シクロヘキシルむ゜プロピルア
ミン0.147mlずテトラヒドロフランmlの混合物
から補せられる。を窒玠雰囲気䞋、−70℃で撹拌
しながら、これに−メチレン−−オキ゜−
β−〔プニルアセチルアミノ〕−−チア−
−アザビシクロ〔4.2.0〕オクト−−゚ン−
−カルボン酞ゞプニルメチル゚ステル200mg
0.4ミリモルのテトラヒドロフランml溶液を
加え、15秒以内に曎に−メチル−1H−テト
ラゟヌル−−むルゞスルフむド184mg0.8ミ
リモルのテトラヒドロフランml溶液を加え
る。混合物を−70℃で30分間撹拌した埌、リン酞
塩−酢酞゚チル緩衝液PH6.6に泚ぐ。酢酞゚
チルで反埩抜出した埌、酢酞゚チル抜出物を合
し、垌塩酞、氎および飜和塩化ナトリりム溶液で
順次掗浄する。硫酞マグネシりムで也燥埌、この
酢酞゚チル抜出物を枛圧䞋に蒞発させお粗生成物
278mgを埗る。この粗生成物をシリカゲル䞊、ク
ロロホルム−酢酞゚チル系における薄
局クロマトグラフむで粟補し、−〔〔−メチ
ル−1H−テトラゟヌル−−むルチオ〕メチ
ル〕−−オキ゜−β−〔プニルアセチル
アミノ〕−−チア−−アザビシクロ〔4.2.0〕
オクト−−゚ン−−カルボン酞ゞプニルメ
チル゚ステル39mgを埗た。 実斜䟋  −〔〔−メチル−1H−テトラゟヌル−−
むルチオ〕メチル〕−−オキ゜−β−〔フ
゚ニルアセチルアミノ〕−−チア−−アザ
ビシクロ〔4.2.0〕オクト−−゚ン−−カル
ボン酞ゞプニルメチル゚ステルの補造−−
メチレン−−オキ゜−β−〔プニルアセチ
ルアミノ〕−−チア−−アザビシクロ
〔4.2.0〕オクト−−゚ン−−カルボン酞ゞフ
゚ニルメチル゚ステル0.5ミリモルず−メチ
ル−lH−テトラゟヌル−−むルゞスルフむ
ドミリモルの也燥テトラヒドロフラン10ml溶液
を窒玠雰囲気䞭、−75℃で撹拌しながら、これに
−ゞアザビシクロ〔5.4.0〕りンデセ−
−゚ン0.5ミリモルを加える。混合物を−75℃で
時間撹拌した埌、℃に昇枩させる。酢酞0.3
ml、次いで酢酞゚チルおよび氎を添加する。1N
塩酞を加えおPHに調節し、酢酞゚チル局を氎お
よび垌炭酞氎玠ナトリりムPHに䞀臎する溶
液で掗浄する。酢酞゚チル局を硫酞ナトリりム
で也燥し、枛圧䞋に蒞発さお、残枣ずしお粗生成
物265mgを埗る。この残枣をシリカゲル䞊、クロ
ロホルム−酢酞゚チル系による薄局ク
ロマトグラフむで粟補し、−〔〔−メチル−
1H−テトラゟヌル−−むルチオ〕メチル〕−
−オキ゜−β−〔プニルアセチルアミ
ノ〕−−チア−−アザビシクロ〔4.2.0〕オク
ト−−゚ン−−カルボン酞ゞプニルメチル
゚ステルの玔品を埗た。 実斜䟋  −〔〔−メチル−1H−テトラゟヌル−−
むルチオ〕メチル〕−−オキ゜−β−〔フ
゚ニルアセチルアミノ〕−−チア−−アザ
ビシクロ〔4.2.0〕オクト−−゚ン−−カル
ボン酞ゞプニルメチル゚ステルの補造− リチりム−シクロヘキシルむ゜プロピルアミ
ンミリモルのテトラヒドロフラン30ml溶液を窒
玠雰囲気䞭、−70℃で撹拌しながら、これに−
メチレン−−オキ゜−β−〔プニルアセチ
ルアミノ〕−−チア−−アザビシクロ
〔4.2.0〕オクト−−゚ン−−カルボン酞ゞフ
゚ニルメチル゚ステルミリモルのテトラヒドロ
フラン15ml溶液を加え、15秒以内に−メチル
−lH−テトラゟヌル−−むルチオトシレヌ
トミリモルずテトラヒドロフラン15mlの混合物
を加える。これを−70℃で30分間撹拌し、リン酞
塩ず酢酞゚チルの緩衝液PH6.6䞭に泚ぐ。酢
酞゚チルで反埩抜出埌、酢酞゚チル抜出物を合
し、垌塩酞、氎および飜和塩化ナトリりム溶液で
順次掗浄する。硫酞マグネシりムで也燥埌、酢酞
゚チル抜出物を枛圧䞋に蒞発させお粗生成物342
mgを埗る。これをシリカゲル䞊、クロロホルム−
酢酞゚チル系による薄局クロマトグラ
フむ粟補し、−〔〔−メチル−1H−テトラゟ
ヌル−−むルチオ〕メチル〕−−オキ゜−
β−〔プニルアセチルアミノ〕−−チア
−−アザビシクロ〔4.2.0〕オクト−−゚ン
−−カルボン酞ゞプニルメチル゚ステル玔品
を埗た。 実斜䟋 〜36 䞋蚘−メチレンセフアロスポリン゚ステル
〔〕およびゞスルフむド䜓〔〕たたは化合物
〔〕を甚い、実斜䟋〜ず同様の凊理を行な
぀おそれぞれに䞋蚘−ヘテロチオセフアロスポ
リン゚ステル〔〕を埗た匏䞭の各眮換基を第
衚に瀺す。ただし、実斜䟋12212228およ
び33においお、シリル゚ステル䜓〔〕すなわ
ち、がシリル゚ステルである出発物質を凊理
しお抜出する間にその゚ステル基が加氎分解しお
離脱するため、単離した生成物〔〕は実斜䟋
ず同様、察応する遊離酞すなわちが氎玠であ
る化合物の圢で埗られる。
【衚】
【衚】
【衚】
【衚】
【衚】
【衚】
【衚】

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  匏 で瀺される−メチレン化合物ず 匏hetero−−−hetero で瀺されるゞスルフむドもしくは 匏−−hetero で瀺される化合物を反応させお 匏 で瀺される化合物を埗るこずを特城ずする−ヘ
    テロチオメチルセフアロスポリン類の補造法〔匏
    䞭、は容易に離脱せしめ埗る゚ステル基R1
    はα−配眮の氎玠たたはメトキシheteroは 【匏】【匏】 【匏】【匏】 【匏】 【匏】【匏】 【匏】および【匏】 から遞ばれる基基䞭、R2は氎玠たたは炭玠数
    〜の䜎玚アルキルacylは 䜎玚アルキル【匏】 【匏】 【匏】 【匏】 【匏】 【匏】および 【匏】から遞ばれる基基 䞭、R3は氎玠、ハロゲン、䜎玚アルキルたたは
    䜎玚アルコキシ、R4は氎玠、ハロゲンたたは䜎
    玚アルキル、R5は氎玠、保護されたアミノたた
    は保護されたヒドロキシはハロゲン、䜎玚
    アルコキシカルボニルチオ、フタルむミド、スク
    シンむミドたたは【匏】基䞭、は䜎玚ア ルキル、プニルたたは眮換プニルここに眮
    換基はメチル、メトキシ、ニトロたたはハロゲ
    ンを衚わす。〕。  䞍掻性有機溶媒䞭、アルカル金属塩基たたは
    有機塩基の存圚䞋、玄−80〜20℃で玄分ない
    し玄時間反応操䜜を行なうこずから成る特蚱請
    求の範囲第項蚘茉の補法。  が−ブチル、ベンゞル、−ニトロベン
    ゞル、−メトキシベンゞル、ゞプニルメチ
    ル、トリメチルシリル、−ブチルゞメチルシリ
    ルたたは−トリクロロ゚チルR2が
    氎玠、メチルたたぱチルR3が氎玠、クロ
    ロ、ブロモ、メチル、゚チル、メトキシたたぱ
    トキシR4が氎玠、クロロ、ブロモ、メチルた
    たぱチルR5が氎玠、−NH−R6で瀺される保
    護されたアミノたたは−−R7で瀺される保護
    されたヒドロキシここにR6は−ブチルオキ
    シカルボニル、ベンゞルオキシカルボニルこの
    プニル環䞊に眮換分ずしお氎玠、メチル、メト
    キシ、ニトロ、ブロモたたはクロロを有するこず
    もある。たたはトリクロロ゚チルオキシカルボ
    ニル、R7はトリメチルシリルたたはゞクロロア
    セチルを衚わす。である特蚱請求の範囲第項
    蚘茉の補法。  䞍掻性有機溶媒がテトラヒドロフラン、゚チ
    ル゚ヌテル、ゞオキサン、アセトニトリル、ゞメ
    トキシ゚タン、ゞメチルホルムアミド、ゞメチル
    スルホキシドたたはゞメチルアセトアミドアル
    カリ金属塩基がカリりム−ブトキシド、リチり
    ムゞ゚チルアミド、リチりムゞむ゜プロピルアミ
    ド、リチりム−シクロヘキシルむ゜プロピルア
    ミド、たたはリチりムヘキサメチルゞシラザン
    有機塩基が−ゞアゟビシクロ〔5.4.0〕り
    ンデセ−−゚ンたたは−ゞアゟビシクロ
    〔4.3.0〕ノネ−−゚ンである特蚱請求の範囲第
    項蚘茉の補法。  acylが【匏】 【匏】たたは 【匏】【匏】 が氎玠、−NH−R6たたは−−R7R6が−ブ
    チルオキシカルボニル、ベンゞルオキシカルボニ
    ル、−メトキシベンゞルオキシカルボニルたた
    はトリクロロ゚チルオキシカルボニル、R7がト
    リメチルシリルたたはゞクロアセチルである特
    蚱請求の範囲第項蚘茉の補造法。  塩基が−ゞアゟビシクロ〔5.4.0〕り
    ンデセ−−゚ンたたはリチりム−シクロヘキ
    シルむ゜プロピルアミンである特蚱請求の範囲第
    項蚘茉の補造法。  heteroが【匏】である特蚱請求の範囲 第項蚘茉の補造法。  R1が氎玠である特蚱請求の範囲第項蚘茉
    の補造法。  acylが【匏】がゞプ ニルメチルである特蚱請求の範囲第項蚘茉の補
    造法。  acylが【匏】がトリ メチルシリルである特蚱請求の範囲第項蚘茉の
    補造法。  R1がメトキシである特蚱請求の範囲第
    項蚘茉の補造法。
JP14915677A 1976-12-08 1977-12-08 Process for preparing 33heterothiomethylcepualospolines Granted JPS5373597A (en)

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CH (1) CH626089A5 (ja)
DE (1) DE2754742C2 (ja)
FR (1) FR2373549A1 (ja)
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