JPS61190023A - シヤドウマスク用素材の製造方法 - Google Patents
シヤドウマスク用素材の製造方法Info
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- JPS61190023A JPS61190023A JP60029970A JP2997085A JPS61190023A JP S61190023 A JPS61190023 A JP S61190023A JP 60029970 A JP60029970 A JP 60029970A JP 2997085 A JP2997085 A JP 2997085A JP S61190023 A JPS61190023 A JP S61190023A
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- JP
- Japan
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- shadow mask
- alloy
- etched surface
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D8/00—Modifying the physical properties of ferrous metals or ferrous alloys by deformation combined with, or followed by, heat treatment
- C21D8/02—Modifying the physical properties of ferrous metals or ferrous alloys by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of plates or strips
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- Heat Treatment Of Sheet Steel (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はシャドウマスク用素材の製造方法に関する。
通常、シャドウマスク素材としてはアルミギルド鋼が用
いられているが、最近カラーブラウン管が種々な０ＡＩ
ＩＩＩ器のディスプレイ、コンビの用途では静止画像が
多く、このため電子ビームによってシャドウマスクが局
部的に加熱され、熱膨張によってシャドウマスクの一部
がドーム状に膨れ上がるいわゆるドーミング現象を起こ
し、画像が乱れるという問題を発生している。
いられているが、最近カラーブラウン管が種々な０ＡＩ
ＩＩＩ器のディスプレイ、コンビの用途では静止画像が
多く、このため電子ビームによってシャドウマスクが局
部的に加熱され、熱膨張によってシャドウマスクの一部
がドーム状に膨れ上がるいわゆるドーミング現象を起こ
し、画像が乱れるという問題を発生している。
この問題を解消するには、シャドウマスクの材質な熱膨
張率の小さいものと丁ればよく、また低熱膨張率の材料
としてはニッケル−鉄合金であるアンバー型合金（以下
アンバー材という）が知られているので、シャドウマス
ク用素材としてアンバー材を用いればよいと考えられる
。
張率の小さいものと丁ればよく、また低熱膨張率の材料
としてはニッケル−鉄合金であるアンバー型合金（以下
アンバー材という）が知られているので、シャドウマス
ク用素材としてアンバー材を用いればよいと考えられる
。
ところが市販のアンバー材は普通Ｏ〈１１％、血くα５
％を含むもので、穿孔性が悪く、また、鉄とニッケルの
腐蝕速度が異なることもあって、エツチング面が滑らか
にならないという現象を起こし、このために良好な孔形
状が得られずシャドウマスク全体のムラレベルを低下さ
せている。
％を含むもので、穿孔性が悪く、また、鉄とニッケルの
腐蝕速度が異なることもあって、エツチング面が滑らか
にならないという現象を起こし、このために良好な孔形
状が得られずシャドウマスク全体のムラレベルを低下さ
せている。
そこで本発明が解決しようとする問題点はフらかなエツ
チング面を得ることができる、ンヤドウマスク用ニッケ
ル−鉄合金素材を提供すること奮；ある。
チング面を得ることができる、ンヤドウマスク用ニッケ
ル−鉄合金素材を提供すること奮；ある。
し、且つ冷間圧延工程での最終圧下率を４０〜７０％に
規制することで、フォトエツチング適性を改善し、フォ
トエツチングにより良好な孔を形成でき、滑らかなエツ
チング面を得ることができ、シャドウマスク全体のムラ
レベルを向上させることができることを見いだし、かか
る知見にもとづいて本発明を完成したものである。
規制することで、フォトエツチング適性を改善し、フォ
トエツチングにより良好な孔を形成でき、滑らかなエツ
チング面を得ることができ、シャドウマスク全体のムラ
レベルを向上させることができることを見いだし、かか
る知見にもとづいて本発明を完成したものである。
即ち、本発明の要旨は鉄ニツケル合金を素材とする熱延
ｌ１１坂に１回以上の冷間圧延と焼鈍を施して所定板厚
とする鉄及びニッケルを主成分とする。シャドウマスク
用素材の製造方法において、Ｃ含有量を０．０１〜０．
００１重１％に規制し、且つ冷間圧延工程での最終圧下
率を４０〜７０％に規制することを特徴とするシャドウ
マスク用素材の製造方法である。
ｌ１１坂に１回以上の冷間圧延と焼鈍を施して所定板厚
とする鉄及びニッケルを主成分とする。シャドウマスク
用素材の製造方法において、Ｃ含有量を０．０１〜０．
００１重１％に規制し、且つ冷間圧延工程での最終圧下
率を４０〜７０％に規制することを特徴とするシャドウ
マスク用素材の製造方法である。
る。
ニッケル−鉄合金は、転炉溶製後真空脱ガス装置によっ
て脱炭処理を行うが、真空度、溶鋼温度、処理時間等の
各種処理条件を選択しＣ含有量を０．０１〜０．００１
ｗｔ％に調整する。溶鋼を鋳型に鋳込み熱間圧延によっ
て熱延鋼帯（板）としだ後１回以上の冷間圧延と焼鈍を
施して所定板厚とするが、冷間圧延工程において最終圧
下率を４０〜７０％に規制する。Ｃ含有量を０．０１〜
０００１％に規制したのは、α０１％以上のＣ含有量で
は素材中の炭化物が増加しフォトエツチング時エツチン
グ面の結晶粒界に析出してエツチング面が凹凸となって
しまうためであり０．００１％以下のＣ含有量では合金
中の酸素量が高くなり、酸化物系介在物の量がフォトエ
ツチング時に穿孔性を損なうほどの世になるためである
。最終圧下率を４０〜７０％に規制したのは、４０％以
下の圧下率では結晶粒径が大々いためフォトエツチング
時エツチング面に結晶粒界が顕著に曳れ、エツチング面
が凹凸となってしまうためであり、７０％以上の圧下率
では板形状を均一にすることがむずかしくなが得られな
いためである。
て脱炭処理を行うが、真空度、溶鋼温度、処理時間等の
各種処理条件を選択しＣ含有量を０．０１〜０．００１
ｗｔ％に調整する。溶鋼を鋳型に鋳込み熱間圧延によっ
て熱延鋼帯（板）としだ後１回以上の冷間圧延と焼鈍を
施して所定板厚とするが、冷間圧延工程において最終圧
下率を４０〜７０％に規制する。Ｃ含有量を０．０１〜
０００１％に規制したのは、α０１％以上のＣ含有量で
は素材中の炭化物が増加しフォトエツチング時エツチン
グ面の結晶粒界に析出してエツチング面が凹凸となって
しまうためであり０．００１％以下のＣ含有量では合金
中の酸素量が高くなり、酸化物系介在物の量がフォトエ
ツチング時に穿孔性を損なうほどの世になるためである
。最終圧下率を４０〜７０％に規制したのは、４０％以
下の圧下率では結晶粒径が大々いためフォトエツチング
時エツチング面に結晶粒界が顕著に曳れ、エツチング面
が凹凸となってしまうためであり、７０％以上の圧下率
では板形状を均一にすることがむずかしくなが得られな
いためである。
本発明ではニッケル−鉄合金のＣ含有量を０．０１〜Ｏ
，００１ｗｔ％に規制することでフォトエツチング時穿
孔性に有害となる炭化物を少なくすることが可能となり
、また最終圧下率を４０〜７０％に規制することで結晶
粒径が小さくなり、工゛Ｉチング面に結晶粒界が顕著に
現れることが解消され、エツチング面が滑らかとなる。
，００１ｗｔ％に規制することでフォトエツチング時穿
孔性に有害となる炭化物を少なくすることが可能となり
、また最終圧下率を４０〜７０％に規制することで結晶
粒径が小さくなり、工゛Ｉチング面に結晶粒界が顕著に
現れることが解消され、エツチング面が滑らかとなる。
これによって形状の良好な孔が形成され、シャドウマス
ク全体のムラレベルが向上する。
ク全体のムラレベルが向上する。
次に本発明の詳細な説明する。
Ｃ含有量及び最終圧下率の異なる２種類のニッケル−鉄
合金を、同一条件にてフォトエッチみた。２種類のサン
プルの成分、最終圧下率等は表１に示す。サンプル１は
Ｃ含有ｔｏ、ｏ１ａｖｔ％、最終圧下率２０％であるが
、供試サンプルのエツチング面を走査電子顕微鏡で観察
した結果エツチング面において結晶粒界がはっきりと現
れ、エツチング面が凹凸となってしまっていることが判
明した。このため、シャドウマスクのム゛ラレベルは悪
くなっている。これ１：対して本発明の実施例であるサ
ンプル２は、Ｃ含有量α００４ｗｔ％、最終圧下率５５
％であるが、エツチング面が滑らかとなっており、・シ
ャドウマスクのムラレベルも良くなっている。
合金を、同一条件にてフォトエッチみた。２種類のサン
プルの成分、最終圧下率等は表１に示す。サンプル１は
Ｃ含有ｔｏ、ｏ１ａｖｔ％、最終圧下率２０％であるが
、供試サンプルのエツチング面を走査電子顕微鏡で観察
した結果エツチング面において結晶粒界がはっきりと現
れ、エツチング面が凹凸となってしまっていることが判
明した。このため、シャドウマスクのム゛ラレベルは悪
くなっている。これ１：対して本発明の実施例であるサ
ンプル２は、Ｃ含有量α００４ｗｔ％、最終圧下率５５
％であるが、エツチング面が滑らかとなっており、・シ
ャドウマスクのムラレベルも良くなっている。
表 １
（エツチング条件）
０、２５ ｍピッチで配列された多数の大円ドツト状開
口部（直径０．１５０ｇ１１）を有する′！ＪＩＬ／シ
ストパターンを設け、他方の面に０．２５１１１１ピツ
チで配列された多数の小円ドツト状開口部（直径０．０
９０鵡）を有する第２レジストバダーンを設け、液温６
０℃の４６°Ｂｅ ’ Ｆｅ（Ｊ５腐蝕液を用い、２０
ＫＰ／６ＩＩのスプレィ圧で両面からスプレィエツチン
グして大孔部の口径０．２２０謡、小孔部の口径ｃＬ１
１０騙の開孔を多数エツチング加工し、製品を得た。
口部（直径０．１５０ｇ１１）を有する′！ＪＩＬ／シ
ストパターンを設け、他方の面に０．２５１１１１ピツ
チで配列された多数の小円ドツト状開口部（直径０．０
９０鵡）を有する第２レジストバダーンを設け、液温６
０℃の４６°Ｂｅ ’ Ｆｅ（Ｊ５腐蝕液を用い、２０
ＫＰ／６ＩＩのスプレィ圧で両面からスプレィエツチン
グして大孔部の口径０．２２０謡、小孔部の口径ｃＬ１
１０騙の開孔を多数エツチング加工し、製品を得た。
以上、詳Ｃした通り、本発明の製造方法によればフォト
エツチングにより良好な孔を形成でき、滑らかなエツチ
ング面を得ることができるンヤドウマスク用ニッケル−
鉄合金素材を提供でき、それによってシャドウマスク全
体のムラレベルを向上させることができる。
エツチングにより良好な孔を形成でき、滑らかなエツチ
ング面を得ることができるンヤドウマスク用ニッケル−
鉄合金素材を提供でき、それによってシャドウマスク全
体のムラレベルを向上させることができる。
Claims (1)
- ニッケル−鉄合金を素材とする熱延鋼板に１回以上の冷
間圧延と焼鈍を施して所定板厚とするニッケル−鉄合金
を主成分とする、シャドウマスク用素材の製造方法にお
いて、Ｃ含有量を０．０１〜０．００１重量％に規制し
、且つ冷間圧延工程での最終圧下率を４０〜７０％に規
制することを特徴とするシャドウマスク用素材の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60029970A JPH07811B2 (ja) | 1985-02-18 | 1985-02-18 | シャドウマスク用素材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60029970A JPH07811B2 (ja) | 1985-02-18 | 1985-02-18 | シャドウマスク用素材の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61190023A true JPS61190023A (ja) | 1986-08-23 |
| JPH07811B2 JPH07811B2 (ja) | 1995-01-11 |
Family
ID=12290819
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60029970A Expired - Lifetime JPH07811B2 (ja) | 1985-02-18 | 1985-02-18 | シャドウマスク用素材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07811B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6452022A (en) * | 1987-08-19 | 1989-02-28 | Nippon Mining Co | Production of shadow mask material |
| US5396146A (en) * | 1992-04-27 | 1995-03-07 | Hitachi Metals, Ltd. | Shadow mask sheet, method of producing same and cathode ray tube provided therewith |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59200721A (ja) * | 1983-04-27 | 1984-11-14 | Toshiba Corp | シヤドウマスクの製造方法 |
| JPS6021331A (ja) * | 1983-07-14 | 1985-02-02 | Nippon Steel Corp | Ｆｅ−Ｎｉ系低熱膨張合金板の製造方法 |
-
1985
- 1985-02-18 JP JP60029970A patent/JPH07811B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59200721A (ja) * | 1983-04-27 | 1984-11-14 | Toshiba Corp | シヤドウマスクの製造方法 |
| JPS6021331A (ja) * | 1983-07-14 | 1985-02-02 | Nippon Steel Corp | Ｆｅ−Ｎｉ系低熱膨張合金板の製造方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6452022A (en) * | 1987-08-19 | 1989-02-28 | Nippon Mining Co | Production of shadow mask material |
| US5396146A (en) * | 1992-04-27 | 1995-03-07 | Hitachi Metals, Ltd. | Shadow mask sheet, method of producing same and cathode ray tube provided therewith |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07811B2 (ja) | 1995-01-11 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |