JPH0373640B2 - - Google Patents
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- JPH0373640B2 JPH0373640B2 JP8513586A JP8513586A JPH0373640B2 JP H0373640 B2 JPH0373640 B2 JP H0373640B2 JP 8513586 A JP8513586 A JP 8513586A JP 8513586 A JP8513586 A JP 8513586A JP H0373640 B2 JPH0373640 B2 JP H0373640B2
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- Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Description
（発明の目的）
本発明はカラー受像管に用いるシヤドウマスク
用薄板材に関する。 （従来の技術及び問題点） 従来、カラー受像管用シヤドウマスクには、低
炭素リムド冷延鋼板や低炭素Alキルド冷延鋼板
といつた軟鋼板が用いられているが、これらの材
料より低熱膨張特性を有するFe−Ni系合金、例
えば36Ni−Feアンバーなどの使用が検討されて
いる。 一般にカラー受像管を作動させた場合、シヤド
ウマスクの開孔を通過する電子ビームは全体の1/
３以下であり、残りの電子ビームはシヤドウマス
クに射突するので、シヤドウマスクは時として80
℃にも達する程加熱される。この際、シヤドウマ
スクが熱により膨張し該シヤドウマスクと蛍光面
の距離が変化して色純度の低下が生じるわけであ
るが、Fe−Ni系アンバー合金の使用によりこの
熱膨張が軽減されるというものである。しかし、
このFe−Ni系アンバー合金は従来の軟鋼に比べ
多数の細孔を開けるためのエツチング性に問題が
ある。 前記アンバー合金の場合、レジストの密着性や
エツチング液に対する腐食性が軟鋼と異なるた
め、従来のエツチング穿孔法では孔径や孔形状の
ばらつきが大きくなり、その結果、該エツチング
により穿孔した細孔部に光を透過させるとマスク
にもやがかつたようなむらが生じる。特に、近年
急速に増加しているピツチ及び孔径の小さい高精
細度マスクにおいては、孔径や孔形状のわずかな
乱れによつてもむらが生じてしまい、カラー受像
管の品位を著しく低下させてしまう。これを防ぐ
ため、エツチング液温を低くし、エツチング速度
を低下させる方法も検討されているが、この方法
では生産性が極端に低下して、経済的に適合しな
い。 このため生産効率がよく、かつ高品位のシヤド
ウマスクを得ることができるNi−Fe系合金のシ
ヤドウマスク用薄板材が待ち望まれていた。 （発明の構成） 本発明はかかる点に鑑みてなされたもので、シ
ヤドウマスクの孔径や孔形状のばらつきを小さく
し、むらの発生しない高品位のシヤドウマスクを
生産効率よく製造できるシヤドウマスク用薄板材
を提供するものである。すなわち、本発明はエツ
チングにより電子ビーム透過孔を形成するための
Fe及びNiを主成分とするFe−Ni系合金シヤドウ
マスク用薄板材が下記の表面粗さRa及び表面粗
さの凸凹の平均間隔Smを有することを特徴とす
る前記シヤドウマスク用薄板材 Ra 0.2〜0.7μｍ Sm 100μｍ以下 （但し、RaはJIS Ｂ 0601の表面粗さ、Smは基
準長さ内における表面粗さを示す断面曲線の凸凹
の間隔の平均値である。）及びエツチングにより
電子ビーム透過孔を形成するためのFe及びNiを
主成分とするFe−Ni系合金シヤドウマスク用薄
板材が下記の表面粗さRa及び表面粗さの凸凹の
平均間隔Smを有し、かつ結晶粒度が粒度番号で
8.0以上であることを特徴とする前記シヤドウマ
スク用薄板材 Ra 0.2〜0.7μｍ Sm 100μｍ以下 （但し、RaはJIS Ｂ 0601の表面粗さ、Smは基
準長さ内における表面粗さを示す断面曲線の凸凹
の間隔の平均値である。）に関する。 （発明の具体的説明） 次に本発明のシヤドウマスク用薄板材の各条件
の限定について述べる。 まず、表面粗さであるが、表面粗さはレジスト
の密着性に大きく影響を与える。レジストの密着
性が適切でないと孔形状の乱れがおこり、開孔の
精度が低下する。特に、高精細度マスクではレジ
ストの密着性のわずかな差による孔形状の乱れが
致命的な欠陥となる。そこで、表面粗さは次のよ
うに厳しく規定する必要がある。表面粗さRaが
0.2μｍより小さいとレジストの密着性が弱すぎる
ためサイドエツチングが進みすぎ、精度良く開孔
できない。また、0.7μｍより大きいと密着性が強
すぎるため現象後に穿孔されるべき部分にもレジ
ストが残存することがあり好ましくない。また、
生産性を高めるためにはエツチング温度を高くし
なければならないが、その場合、腐食反応が激し
くなるため、より一層表面粗さを厳しくコントロ
ールして良好なレジストの密着性を得る必要があ
る。Raのさらに好ましい範囲は0.4超〜0.6μｍで
ある。 しかしながら、また上記のRaだけでは適切な
細孔を得るための十分なエツチング穿孔ができな
い。そこで種々検討されたのがＳｍである。Sm
は第１図に示すように基準長さ内における表面粗
さを示す断面曲線の凸凹の間隔の平均値 Sm＝Sm1＋Sm2＋…＋Smn／ｎ を表すものであり、Smが大きすぎると孔形状が
悪くなる。この様子を第２図に示す。第２図ａは
Smが大きすぎる場合を概念的に示したもので粗
さのピツチが大きいため局部的にレジストの密着
性が弱くなり、その部分で図の点線４に示すよう
にサイドエツチング（側壁方向へのエツチング）
が過度に進むため孔形状が乱れる。第２図ｂは
Smが適度に小さい場合を概念的に示したもので
レジストの密着性が孔のどの部分のも均一なため
孔形状は乱れない。このようにSmはレジストの
密着性の重要な因子であり、100μｍを超えると
孔形状の乱れを生ずるので、本発明のようにSm
を100μｍ以下とする必要がある。 特に高温でエツチングする場合や孔径が小さい
孔精細マスクの場合は、Sm50μｍ以下とするこ
とが望ましい。 次に結晶粒であるが、粒度番号で8.0未満の粗
粒であると、結晶面によつてエツチング性に差異
があるので孔の縁がギザギザになり孔形状が悪く
なるという傾向がある。したがつて、より孔精度
を良好にするためには結晶粒度を粒度番号で8.0
以上とするのが望ましい。 このようにエツチングによる細孔の精度を上げ
るためには、Ra、Smさらには結晶粒度を本願発
明の条件に厳密に調節する必要がある。 次に実施例について説明する。 （実施例） シヤドウマスク用金属薄板材として36Ni−Fe
合金いわゆるアンバーを用いた。この材料を圧延
により板厚を0.2mmとし、ダル仕上げにより表面
粗さを調整した。また、結晶粒度は最終圧延の前
の焼鈍により調整した。 まず、圧延油及び防錆油を取除くため脱脂を行
い、その後マスク材の両面に牛乳カゼイン酸アル
カリと重クロム酸アンモニウムとからなる感光液
を塗布して所定のレジスト膜を形成する。次に両
面の感光膜に大小マスク孔のネガ像を有するパタ
ーンを密着配置し、超高圧水銀ランプで露光する
ことによりマスク孔の像を得る。その後、現像、
乾燥、バーニングを経てエツチング工程に進む。
エツチング工程では、エツチング液として塩化第
２鉄を用いた。 このようにして製造したシヤドウマスクを暗室
内で透過光により観察しむら品位を評価した。 以上の実験によつて得た本発明及び比較例を第
１表に示す。 本発明例１〜５はRa、Sm、結晶粒度の全てが
適切なためむら品位の高い良好なマスクが得られ
ている。特に、本発明例１、２はRa、Smがさら
に好ましい範囲にあるためむらの全くない特に良
好なマスクが得られている。 本発明例６、７は結晶粒度が粒度番号8.0未満
なためむらが少しあるが実用上は問題ないレベル
である。 比較例８〜11はRa、Smに本発明範囲を外れる
ものがあるため、むらが強く実用不可である。
用薄板材に関する。 （従来の技術及び問題点） 従来、カラー受像管用シヤドウマスクには、低
炭素リムド冷延鋼板や低炭素Alキルド冷延鋼板
といつた軟鋼板が用いられているが、これらの材
料より低熱膨張特性を有するFe−Ni系合金、例
えば36Ni−Feアンバーなどの使用が検討されて
いる。 一般にカラー受像管を作動させた場合、シヤド
ウマスクの開孔を通過する電子ビームは全体の1/
３以下であり、残りの電子ビームはシヤドウマス
クに射突するので、シヤドウマスクは時として80
℃にも達する程加熱される。この際、シヤドウマ
スクが熱により膨張し該シヤドウマスクと蛍光面
の距離が変化して色純度の低下が生じるわけであ
るが、Fe−Ni系アンバー合金の使用によりこの
熱膨張が軽減されるというものである。しかし、
このFe−Ni系アンバー合金は従来の軟鋼に比べ
多数の細孔を開けるためのエツチング性に問題が
ある。 前記アンバー合金の場合、レジストの密着性や
エツチング液に対する腐食性が軟鋼と異なるた
め、従来のエツチング穿孔法では孔径や孔形状の
ばらつきが大きくなり、その結果、該エツチング
により穿孔した細孔部に光を透過させるとマスク
にもやがかつたようなむらが生じる。特に、近年
急速に増加しているピツチ及び孔径の小さい高精
細度マスクにおいては、孔径や孔形状のわずかな
乱れによつてもむらが生じてしまい、カラー受像
管の品位を著しく低下させてしまう。これを防ぐ
ため、エツチング液温を低くし、エツチング速度
を低下させる方法も検討されているが、この方法
では生産性が極端に低下して、経済的に適合しな
い。 このため生産効率がよく、かつ高品位のシヤド
ウマスクを得ることができるNi−Fe系合金のシ
ヤドウマスク用薄板材が待ち望まれていた。 （発明の構成） 本発明はかかる点に鑑みてなされたもので、シ
ヤドウマスクの孔径や孔形状のばらつきを小さく
し、むらの発生しない高品位のシヤドウマスクを
生産効率よく製造できるシヤドウマスク用薄板材
を提供するものである。すなわち、本発明はエツ
チングにより電子ビーム透過孔を形成するための
Fe及びNiを主成分とするFe−Ni系合金シヤドウ
マスク用薄板材が下記の表面粗さRa及び表面粗
さの凸凹の平均間隔Smを有することを特徴とす
る前記シヤドウマスク用薄板材 Ra 0.2〜0.7μｍ Sm 100μｍ以下 （但し、RaはJIS Ｂ 0601の表面粗さ、Smは基
準長さ内における表面粗さを示す断面曲線の凸凹
の間隔の平均値である。）及びエツチングにより
電子ビーム透過孔を形成するためのFe及びNiを
主成分とするFe−Ni系合金シヤドウマスク用薄
板材が下記の表面粗さRa及び表面粗さの凸凹の
平均間隔Smを有し、かつ結晶粒度が粒度番号で
8.0以上であることを特徴とする前記シヤドウマ
スク用薄板材 Ra 0.2〜0.7μｍ Sm 100μｍ以下 （但し、RaはJIS Ｂ 0601の表面粗さ、Smは基
準長さ内における表面粗さを示す断面曲線の凸凹
の間隔の平均値である。）に関する。 （発明の具体的説明） 次に本発明のシヤドウマスク用薄板材の各条件
の限定について述べる。 まず、表面粗さであるが、表面粗さはレジスト
の密着性に大きく影響を与える。レジストの密着
性が適切でないと孔形状の乱れがおこり、開孔の
精度が低下する。特に、高精細度マスクではレジ
ストの密着性のわずかな差による孔形状の乱れが
致命的な欠陥となる。そこで、表面粗さは次のよ
うに厳しく規定する必要がある。表面粗さRaが
0.2μｍより小さいとレジストの密着性が弱すぎる
ためサイドエツチングが進みすぎ、精度良く開孔
できない。また、0.7μｍより大きいと密着性が強
すぎるため現象後に穿孔されるべき部分にもレジ
ストが残存することがあり好ましくない。また、
生産性を高めるためにはエツチング温度を高くし
なければならないが、その場合、腐食反応が激し
くなるため、より一層表面粗さを厳しくコントロ
ールして良好なレジストの密着性を得る必要があ
る。Raのさらに好ましい範囲は0.4超〜0.6μｍで
ある。 しかしながら、また上記のRaだけでは適切な
細孔を得るための十分なエツチング穿孔ができな
い。そこで種々検討されたのがＳｍである。Sm
は第１図に示すように基準長さ内における表面粗
さを示す断面曲線の凸凹の間隔の平均値 Sm＝Sm1＋Sm2＋…＋Smn／ｎ を表すものであり、Smが大きすぎると孔形状が
悪くなる。この様子を第２図に示す。第２図ａは
Smが大きすぎる場合を概念的に示したもので粗
さのピツチが大きいため局部的にレジストの密着
性が弱くなり、その部分で図の点線４に示すよう
にサイドエツチング（側壁方向へのエツチング）
が過度に進むため孔形状が乱れる。第２図ｂは
Smが適度に小さい場合を概念的に示したもので
レジストの密着性が孔のどの部分のも均一なため
孔形状は乱れない。このようにSmはレジストの
密着性の重要な因子であり、100μｍを超えると
孔形状の乱れを生ずるので、本発明のようにSm
を100μｍ以下とする必要がある。 特に高温でエツチングする場合や孔径が小さい
孔精細マスクの場合は、Sm50μｍ以下とするこ
とが望ましい。 次に結晶粒であるが、粒度番号で8.0未満の粗
粒であると、結晶面によつてエツチング性に差異
があるので孔の縁がギザギザになり孔形状が悪く
なるという傾向がある。したがつて、より孔精度
を良好にするためには結晶粒度を粒度番号で8.0
以上とするのが望ましい。 このようにエツチングによる細孔の精度を上げ
るためには、Ra、Smさらには結晶粒度を本願発
明の条件に厳密に調節する必要がある。 次に実施例について説明する。 （実施例） シヤドウマスク用金属薄板材として36Ni−Fe
合金いわゆるアンバーを用いた。この材料を圧延
により板厚を0.2mmとし、ダル仕上げにより表面
粗さを調整した。また、結晶粒度は最終圧延の前
の焼鈍により調整した。 まず、圧延油及び防錆油を取除くため脱脂を行
い、その後マスク材の両面に牛乳カゼイン酸アル
カリと重クロム酸アンモニウムとからなる感光液
を塗布して所定のレジスト膜を形成する。次に両
面の感光膜に大小マスク孔のネガ像を有するパタ
ーンを密着配置し、超高圧水銀ランプで露光する
ことによりマスク孔の像を得る。その後、現像、
乾燥、バーニングを経てエツチング工程に進む。
エツチング工程では、エツチング液として塩化第
２鉄を用いた。 このようにして製造したシヤドウマスクを暗室
内で透過光により観察しむら品位を評価した。 以上の実験によつて得た本発明及び比較例を第
１表に示す。 本発明例１〜５はRa、Sm、結晶粒度の全てが
適切なためむら品位の高い良好なマスクが得られ
ている。特に、本発明例１、２はRa、Smがさら
に好ましい範囲にあるためむらの全くない特に良
好なマスクが得られている。 本発明例６、７は結晶粒度が粒度番号8.0未満
なためむらが少しあるが実用上は問題ないレベル
である。 比較例８〜11はRa、Smに本発明範囲を外れる
ものがあるため、むらが強く実用不可である。
【表】
また、以上の実施例ではシヤドウマスク用素材
として36Ni−Fe合金を用いたが、本発明はこれ
に限るものでなく、42Ni−Fe合金、36Ni−4Cr
−Fe合金、32Ni−5Co−Fe合金、32Ni−4Co−
2Cr−Fe合金等のFe及びNiを主成分とする合金
であれば同様に適用できることは言うまでもな
い。 （発明の効果） 以上のように本発明によれば孔径や孔形状のは
らつきの小さく、むらのない高品位のシヤドウマ
スクが得られる。
として36Ni−Fe合金を用いたが、本発明はこれ
に限るものでなく、42Ni−Fe合金、36Ni−4Cr
−Fe合金、32Ni−5Co−Fe合金、32Ni−4Co−
2Cr−Fe合金等のFe及びNiを主成分とする合金
であれば同様に適用できることは言うまでもな
い。 （発明の効果） 以上のように本発明によれば孔径や孔形状のは
らつきの小さく、むらのない高品位のシヤドウマ
スクが得られる。
第１図は表面粗さSmの説明図、第２図ａ及び
第２図ｂはSmの孔形状に及ぼす影響を概念的に
説明するための説明図である。 ｌ：平均線、Sm1，Sm2：…凸凹の間隔、１：
粗さのあらい凸部、２：粗さの密な凸部、３：
孔、４：サイドエツチングが進み孔形状が点線の
ように膨らんだ部位。
第２図ｂはSmの孔形状に及ぼす影響を概念的に
説明するための説明図である。 ｌ：平均線、Sm1，Sm2：…凸凹の間隔、１：
粗さのあらい凸部、２：粗さの密な凸部、３：
孔、４：サイドエツチングが進み孔形状が点線の
ように膨らんだ部位。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ エツチングにより電子ビーム透過孔を形成す
るためのFe及びNiを主成分とするFe−Ni系合金
シヤドウマスク用薄板材が下記の表面粗さRa及
び表面粗さの凸凹の平均間隔Smを有することを
特徴とする前記シヤドウマスク用薄板材 Ra 0.2〜0.7μｍ Sm 100μｍ以下 （但し、RaはJIS Ｂ 0601の表面粗さ、Smは基
準長さ内における表面粗さを示す断面曲線の凸凹
の間隔の平均値である）。 ２ エツチングにより電子ビーム透過孔を形成す
るためのFe及びNiを主成分とするFe−Ni系合金
シヤドウマスク用薄板材が下記の表面粗さRa及
び表面粗さの凸凹の平均間隔Smを有し、かつ結
晶粒度が粒度番号で8.0以上であることを特徴と
する前記シヤドウマスク用薄板材 Ra 0.2〜0.7μｍ Sm 100μｍ以下 （但し、RaはJIS Ｂ 0601の表面粗さ、Smは基
準長さ内における表面粗さを示す断面曲線の凸凹
の間隔の平均値である）。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8513586A JPS62243780A (ja) | 1986-04-15 | 1986-04-15 | シヤドウマスク用薄板材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8513586A JPS62243780A (ja) | 1986-04-15 | 1986-04-15 | シヤドウマスク用薄板材 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62243780A JPS62243780A (ja) | 1987-10-24 |
| JPH0373640B2 true JPH0373640B2 (ja) | 1991-11-22 |
Family
ID=13850206
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8513586A Granted JPS62243780A (ja) | 1986-04-15 | 1986-04-15 | シヤドウマスク用薄板材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62243780A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0468059B1 (en) * | 1990-02-15 | 1997-05-28 | Nkk Corporation | Thin sheet of iron-nickel alloy for shadow mask and production thereof |
| US5127965A (en) * | 1990-07-17 | 1992-07-07 | Nkk Corporation | Fe-ni alloy sheet for shadow mask and method for manufacturing same |
| JP2596210B2 (ja) * | 1990-10-31 | 1997-04-02 | 日本鋼管株式会社 | 焼鈍時の密着焼付き防止法、ガス放散性に優れたシャドウマスク用Ｆｅ―Ｎｉ合金およびその製造法 |
-
1986
- 1986-04-15 JP JP8513586A patent/JPS62243780A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62243780A (ja) | 1987-10-24 |
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