JPS61194609A - 複合磁気ヘツド - Google Patents

複合磁気ヘツド

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JPS61194609A
JPS61194609A JP3352885A JP3352885A JPS61194609A JP S61194609 A JPS61194609 A JP S61194609A JP 3352885 A JP3352885 A JP 3352885A JP 3352885 A JP3352885 A JP 3352885A JP S61194609 A JPS61194609 A JP S61194609A
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JP
Japan
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magnetic
amorphous
flux density
alloy
corrosion resistance
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JP3352885A
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English (en)
Inventor
Taizo Suzuki
鈴木 耐三
Kanemasa Kudou
工藤 謙真
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、例えば非晶質磁性合金により磁気ギャップを
形成するとともに上記非晶質合金を酸化物磁性材料で挟
み付けた、いわゆる複合磁気ヘッドに関するものである
〔従来の技術〕
例えばVTR(ビデオテープレコーダ)等の磁気記録再
生装置においては、記録信号の高密度化や高周波数化等
が進められており、この高密度記録に対応して、磁気記
録媒体として、磁性粉にFe、Co、Ni等の強磁性金
属の粉末を用いた、いわゆるメタルテープや、強磁性金
属材料を蒸着等の真空薄膜形成技術によってベースフィ
ルム上に被着した、いわゆる蒸着テープ等の高い抗磁力
Hcを有する磁気記録媒体が用いられるようになってい
る。
したがって、記録再生に使用する磁気ヘッドの素材に要
求される磁気特性としては、磁束密度Bや透磁率μが優
れていることが挙げられ、従来多用されているフェライ
ト材では磁束密度の不足が問題となっている。
このため、例えばセンダストやパーマロイ等の磁束密度
Bの高い金属磁性材料をヘッド材料として使用すること
が考えられているが、この種の金属磁性材料は、渦電流
損失による高周波領域での透磁率の低下や耐摩耗性の悪
さ等、実用上大きな欠点を有している。
そこでさらに従来、上記ヘッド材として、例えば液体急
冷法や真空蒸着技術により形成した非晶質磁性合金(ア
モルファス合金)が注目を集めており、この非晶質磁性
合金薄膜により磁気ギャップ部を構成するとともに、コ
ア部をフェライト材により形成し、上記非晶質磁性合金
F!#膜を上記コア部で挟み付けた複合磁気ヘッドが提
案されている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
ところで、上記磁気ヘッドが記録専用、あるいは再生専
用であれば、ヘッド材は磁束密度Bまたは透磁率μのい
ずれか一方の特性が優れていればよいが、一般にビデオ
ヘッド等においては、自己録再方式により記録・再生兼
用タイプとして使用される場合が多く、したがってヘッ
ド材にも磁束密度Bと透磁率μの双方が優れていること
が要求される。特に、高品質な画質を得るためには、磁
束密度Bを向上することが重要なポイントとなっている
一方、上述のように非晶質磁性合金薄膜と酸化物磁性材
料とを接合して構成される磁気ヘッドにあっては、上記
非晶質磁性合金が錆易く、著しく腐食する傾向にあるの
で、耐蝕性の改善が大きな課題となっている。
しかしながら、上述の複合磁気ヘッドに使用される非晶
質磁性合金では、耐蝕性、透磁率μと磁束密度Bは、前
者を向上させると後者が劣化し、。
後者を向上させると前者が劣化するというような相反す
る性質を有している。すなわち、複合磁気ヘッドの耐蝕
性を向上するために、非晶質磁性合金に添加元素を加え
ることが試みられているが、この場合には磁束密度Bが
低下し、磁気特性を確保することが難しくなる。
このように、磁束密度Bと透磁率μが共に大きく、かつ
耐蝕性に優れた複合磁気ヘッドは未だ実現されておらず
、なお一層の改善が要望されている。
そこで本発明は、ビデオ帯域のような高周波領域での記
録・再生に対応し、磁束密度Bや透磁率μができるだけ
大きく、かつ耐蝕性に優れた非晶質合金を提供し、これ
によって記録飽和が無く再生効率の良好な複合磁気ヘッ
ドを提供することを目的とする。
c問題点を解決するための手段〕 本発明は、上述の目的を達成するために、酸化物磁性材
料と非晶質磁性合金よりなる複合磁気ヘッドであって、
前記非晶質磁性合金が Ma S ib Bc Crd (ただし、MはCo、Ni、Feのうち1種または2種
以上を表す。) なる組成式で表され、その組成範囲が原子%で19≦b
+c+d≦26 4≦c≦9.5 1.5≦d≦5 a+b+C+d−100 であることを特徴とするものである。
本発明に係る複合磁気ヘッドを構成する非晶質磁性合金
は、金属元素としてCo、Ni、Feのうちの1種また
は2種以上を含有し、半金属元素としてSi、Bを含有
するとともに、Crを含有してなるものであって、これ
らCrやB、Siの添加量を制御することによって、透
磁率μや耐蝕性を確保したまま磁束密度Bを向上するこ
とができる。
すなわち、上記非晶質磁性合金においては、特にSt、
B、Crの割合が重要であって、これら各元素の割合が
多すぎたり少なすぎたりすると、磁気特性と耐蝕性の両
者を改善することは難しい。
例えば、Crの含有量が5原子%を越えると、得られる
非晶質磁性合金は高透磁率μで高耐蝕性となるが、磁束
密度が低下し、またCrの含有量が1.5原子%未満と
なると、透磁率μや耐蝕性が低下する。
また、Bの含有量が9.5原子%を越えると耐蝕性が低
下し、逆にBの含有量が4原子%未溝になると、非晶質
磁性合金の作成が難しくなる。
さらに、Si、B及びCrの合計量が19原子%未満で
は非晶質磁性合金の製造が困難であり、またこれらの合
計量が26原子%を越えると磁束密度を確保することが
難しくなる。
一方、金属元素は□、Co、Ni、Feのなかから1種
または2種以上を選択して用いられるが、この場合、磁
歪が小さくなるように選択して用いることが好ましい。
このように、本発明の複合磁気ヘッドに使用される非晶
質磁性合金の特徴は、適量のクロムCrの添加と、同時
にボロンBの添加を抑えることにより耐蝕性の改善を図
るとともに、シリコンS1とクロムCrをある程度以上
の量を加え、透磁率μを確保し、金属元素の量をできる
だけ多くして磁束密度を向上したことにある。
そして、本発明の複合磁気ヘッドは、上述の磁性合金材
料を通常の手法、例えば液体急冷法によす 丸非晶質化することにより非晶質磁性合金薄帯を作成し
、この非晶質磁性合金薄帯を酸化物磁性体で挟み込むこ
とにより作成される。
本発明に係る複合磁気ヘッドの構成としては、例えば第
1図に示すように、非晶質磁性合金薄帯(1)の磁気ギ
ヤツブg近傍部をチタン酸カルシウム(Ti−Ca系セ
ラミックス)、酸化物ガラス。
チタニア(T i OX) 、アルミナ(/lj!20
3)等の高耐摩耗性非磁性材料からなるガード材(2)
 、 (2)で挟み付け、バックギャップ側をMn−Z
n系フェライト等の酸化物磁性材(3) 、 (3)で
挟み付けたものや、第2図に示すように、非晶質磁性合
金薄帯(11)をM n −Z n系フェライト等の酸
化物磁性材(12) 、 (12)で挟み付け、さらに
上記酸化物磁性材(12) 、 (12)の磁気ギヤツ
ブg近傍部にトラック幅規制のための切り欠きを設け、
この切り欠き内に高硬度ガラス等の非磁性ガード材(1
3) 、 (13)を充填したもの等が挙げられる。
〔作用〕
上述のように、複合磁気ヘッドの磁気ギャップを構成す
る非晶質磁性合金として、Cr、B、Siを所定量含有
する非晶質磁性合金を使用することにより、耐蝕性や透
磁率μが確保され、磁束密度が向上する。
〔実施例〕
以下、本発明の具体的な実施例について説明するが、本
発明がこれら実施例に限定されるものでないことは言う
までもない。
先ず、第1表に示すように、(CoFe)aSib B
c Crdなる組成を有する合金材料により非晶質磁性
合金薄帯を作製し、得られた各合金薄帯について、それ
ぞれ磁束密度Bおよび透磁率μを調べた。結果を第1表
に示す。なお、上記磁束密度Bは、磁場20エルステツ
ドの時の磁束密度をB2゜とじて表し、透磁率μは、周
波数IMHzで測定したものである。
(以下余白) 第1表 この第1表より、非晶質磁性合金の磁束密度Bは、金泥
成分(Co、Fe)が多いほど大きくなることが試料3
と比較試料3のデータから確認された。また、試料9と
試料10の比較から、Crが増すと磁束密度Bが低下し
、各試料のデータから、ボロンBを減らしていくと磁束
密度が若干低下することがわかった。さらに、透磁率μ
は、SiおよびCrがある程度含有されていれば確保で
きることがわかる。
さらに、上記第1表に示す各試料及び比較試料の耐蝕性
を調べるために、陽極分極曲線を測定した。各試料及び
比較試料の陽極分極曲線を第3図に並列して示す。
一般に、各種材料の耐蝕性は、酸等(ここでは0.5%
塩化ナトリウム溶液)中で陽極分極曲線を調べることに
よって、定性的、定量的に知ることができる。すなわち
、陽極にセントされた材料の陽極的熔解によって電流が
流れはじめる電位が高いものの方が耐蝕性が良い。
そこで第3図に着目すると、ボロンBが減ってくると陽
極電流の流れ出すポイントが遅れてくることから、各試
料においては、耐蝕性が改善されていることがわかる。
特に、試料3と試料8を比較することにより、ボロンB
を減らす効果がわかる。また、試料3と試料9を比較す
ることにより、クロムCr添加の効果も明確である。
このように作製した非晶質磁性合金薄帯のうち、試料8
を用いて第1図に示すような複合磁気へラドを作り、実
施例とした。
同様に、比較試料3を用いて第1図に示すような複合磁
気ヘッドを作り、比較例とした。
上記実施例及び比較例について、磁気ギャップ幅を変え
て、自己録再による再生出力を測定した。
結果を第4図に示す。なお、この再生出力の測定は、周
波数750KHzで行った。
この第4図より、本実施例の複合磁気ヘッドは、比較例
に較べて高出力となる傾向にあり、特に磁気ギャップ幅
が狭小化するほど上記傾向が強くなることがわかる。こ
の傾向は、磁気ギャップを構成する非晶質磁性合金の磁
束密度Bが大きいことに起因しているものと考えられる
したがって、本実施例の複合磁気ヘッドは、磁気ギャッ
プの狭小化に通することから、記録信号の高密度化や高
周波数化に有用な磁気ヘッドであると言える。
さらに、本実施例の複合磁気ヘッドでは、クロマ信号の
出力が従来のものに較べて2〜3dB高く、画質の向上
にも有効であることがわかった。
〔発明の効果〕 以上の説明からも明らかなように、本発明の複合磁気ヘ
ッドにおいては、磁気ギヤツブを構成する非晶質磁性合
金として金属(Co、Ni、Fe)−半金属(Si、B
)系非晶質磁性合金のSt。
Bの一部を所定範囲のCrで置換したものを使用してい
るので、磁束密度が向上し、透磁率や耐蝕性も確保され
る。したがって、本発明に係る複合磁気ヘッドは、記録
飽和が無く、再生出力の高いものとなり、また、磁気ギ
ャップの狭小化によっても高い出力を得ることができる
ので、記録信号の高密度化や高周波数化に対応すること
が可能である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の複合磁気ヘッドの構成例を示す概略的
な斜視図であり、第2図は本発明の他の構成例を示す概
略的な斜視図である。 第3図は非晶質磁性合金試料の陽極分極曲線を並列的に
示す特性図である。 第4図は本発明の一実施例と比較例について磁気ギャッ
プ幅を変えたときの再生出力の変化を示す特性図である
。 1.11・・・非晶質磁性合金薄帯 3、12・・・酸化物磁性材

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 酸化物磁性材料と非晶質磁性合金よりなる複合磁気ヘッ
    ドであって、前記非晶質磁性合金がMaSibBcCr
    d (ただし、MはCo、Ni、Feのうち1種または2種
    以上を表す。) なる組成式で表され、その組成範囲が原子%で19≦b
    +c+d≦26 4≦c≦9.5 1.5≦d≦5 a+b+c+d=100 であることを特徴とする複合磁気ヘッド。
JP3352885A 1985-02-21 1985-02-21 複合磁気ヘツド Pending JPS61194609A (ja)

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