JPS6119624A - 硬化性組成物 - Google Patents
硬化性組成物Info
- Publication number
- JPS6119624A JPS6119624A JP14028684A JP14028684A JPS6119624A JP S6119624 A JPS6119624 A JP S6119624A JP 14028684 A JP14028684 A JP 14028684A JP 14028684 A JP14028684 A JP 14028684A JP S6119624 A JPS6119624 A JP S6119624A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- peroxide
- parts
- weight
- epoxy resin
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0755—Non-macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Organic Insulating Materials (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用〕
本発明は改良された硬化性を有する硬化性組成物に関し
、さらに詳しくは、光硬化可能な改良された硬化性を有
する硬化性組成物に関するものである。
、さらに詳しくは、光硬化可能な改良された硬化性を有
する硬化性組成物に関するものである。
近年、省エネルギーや作業性に関連して、光によって樹
脂を硬化させるプロセスに関心がもたれている。その中
でも、エポキシ樹脂を光硬化させるプロセスは応用範囲
が広く、重要である。現在、エポキシ樹脂を光硬化させ
るために用いられているプロセスとしては、2種類ある
。
脂を硬化させるプロセスに関心がもたれている。その中
でも、エポキシ樹脂を光硬化させるプロセスは応用範囲
が広く、重要である。現在、エポキシ樹脂を光硬化させ
るために用いられているプロセスとしては、2種類ある
。
その一つは、エポキシ樹脂を、光重合性を有するアクリ
ル化合物などのビニル基含有化合物で変成し、このビニ
ル基を介して光重合させるものである。しかし、このエ
ポキシ樹脂の変成物はエポキシ樹脂自体よりも耐熱性が
かなり劣る。
ル化合物などのビニル基含有化合物で変成し、このビニ
ル基を介して光重合させるものである。しかし、このエ
ポキシ樹脂の変成物はエポキシ樹脂自体よりも耐熱性が
かなり劣る。
他の一つは、エポキシ樹脂自体を光分解型の触媒で硬化
させるものである。このときに用いる触媒としては、次
式: %式% (式中、Arはフェニル基のようなアリール基、Xはヨ
ウ素原子、イオウ原子、ジアゾ基等、Yは、BF4 、
PF6 、 ASF6 、 SbF6等を表す。)で
示される錯体を挙げることができる〔マクロモレキュー
シス、第10巻、1307頁、1977年(Macro
molecules、 10.1307(1977))
; ジャーナル・オブ・ラジエーション・キユアリン
グ。
させるものである。このときに用いる触媒としては、次
式: %式% (式中、Arはフェニル基のようなアリール基、Xはヨ
ウ素原子、イオウ原子、ジアゾ基等、Yは、BF4 、
PF6 、 ASF6 、 SbF6等を表す。)で
示される錯体を挙げることができる〔マクロモレキュー
シス、第10巻、1307頁、1977年(Macro
molecules、 10.1307(1977))
; ジャーナル・オブ・ラジエーション・キユアリン
グ。
第5巻、2頁、1978年(Journal of R
adiationCuring、 5 、 2 (19
7B) ) ;ジャーナル・オブ・・ポリマー・サイ
エンス・ポリマー・ケミストリー・エディジョン、第1
7巻、2877頁。
adiationCuring、 5 、 2 (19
7B) ) ;ジャーナル・オブ・・ポリマー・サイ
エンス・ポリマー・ケミストリー・エディジョン、第1
7巻、2877頁。
1979年(Journal of Polymer
5cience Poly−mer Chemistr
y Edition、 17 、2877 (1979
) ) ;同上、第17巻、1047頁、197!It
年(同上、 17 、’1047 (1979))
;ジャーナル・オブ・ポリマー・サイエンス・ポリマー
・レターズ・エディジョン、第17巻、759頁、19
79年(Journal of Polymer 5c
ience PolymerLetters Edit
ion、 17 、759 (1979) ) i特
開昭55−6521.9号明細書;米国特許第4069
054号明細書;英国特許第1516511号明細書;
英国特許第1518141号明細書等参照〕。
5cience Poly−mer Chemistr
y Edition、 17 、2877 (1979
) ) ;同上、第17巻、1047頁、197!It
年(同上、 17 、’1047 (1979))
;ジャーナル・オブ・ポリマー・サイエンス・ポリマー
・レターズ・エディジョン、第17巻、759頁、19
79年(Journal of Polymer 5c
ience PolymerLetters Edit
ion、 17 、759 (1979) ) i特
開昭55−6521.9号明細書;米国特許第4069
054号明細書;英国特許第1516511号明細書;
英国特許第1518141号明細書等参照〕。
しかし、エポキシ樹脂をこれらの触媒成分によって硬化
させた鳩舎、得られた硬化物は、良好な機械的特性およ
び耐熱性を有する反面、触媒成分がイオン性不純物とな
るため、この硬化物を電気機器に用いた場合、電気絶縁
性が劣下するといった電気的特性の劣下及び腐食現象を
生ずるおそれがある。
させた鳩舎、得られた硬化物は、良好な機械的特性およ
び耐熱性を有する反面、触媒成分がイオン性不純物とな
るため、この硬化物を電気機器に用いた場合、電気絶縁
性が劣下するといった電気的特性の劣下及び腐食現象を
生ずるおそれがある。
本発明は、従来の技術の上記の如き問題点を解決し、光
硬化性が良好で、しかも得られた硬化物が電気的特性に
優れたエポキシ樹脂系の光重合組成物を提供することを
目的とするものである。
硬化性が良好で、しかも得られた硬化物が電気的特性に
優れたエポキシ樹脂系の光重合組成物を提供することを
目的とするものである。
本発明は、
(八)エポキシ樹脂100重量部、
(B)アルミニウム化合物0.001〜10重量部、(
C)ペルオキシシリル基を有するケイ素化合物0.1〜
20重曹部、 (D)分子中にケイ素原子を含まない過酸化物0.1〜
20重量部、 から成る特定の硬化性組成物により、上記の如き従来の
問題点を′解決してその目的を達成するものである。
C)ペルオキシシリル基を有するケイ素化合物0.1〜
20重曹部、 (D)分子中にケイ素原子を含まない過酸化物0.1〜
20重量部、 から成る特定の硬化性組成物により、上記の如き従来の
問題点を′解決してその目的を達成するものである。
本発明において用い゛られる(A)のエポキシ樹脂は、
通常、エポキシ樹脂組成物として用いられるものであれ
ばいかなるものでも良く、具体例としては、ビスフェノ
ールA型エポキシ樹脂;ビスフェノールF型エポキシ樹
脂;フェノールノボラック型エポキシ樹脂;脂環式エポ
キシ樹脂;トリグリシジルイソシアネートやヒダントイ
ンエポキシのようなi素環を含むコーホキシ樹脂;水添
ビスフェノールA型エポキシ樹脂;プロピレングリコー
ルジグリシジルエーテルやペンタエリスリトールポリグ
リシジルエーテルなどの脂肪族系エポキシ樹脂;芳香族
、脂肪族もしくは脂環式のカルボン酸とエピクロルヒド
リンとの反応によって得られるエポキシ樹脂;スピロ環
含有エポキシ樹脂;0−アリルフェノールノボラック化
合物とエピクロルヒドリンとの反応生成物であるグリシ
ジルエーテル型エポキシ樹脂;ビスフェノールAのそれ
ぞれの水酸基のオルト位にアリル基を有するジアリルビ
スフェノール化合物とエピクロルヒドリンとの反応生成
物であるグリシジルエーテル型工余キシ樹脂などが挙げ
られる。
通常、エポキシ樹脂組成物として用いられるものであれ
ばいかなるものでも良く、具体例としては、ビスフェノ
ールA型エポキシ樹脂;ビスフェノールF型エポキシ樹
脂;フェノールノボラック型エポキシ樹脂;脂環式エポ
キシ樹脂;トリグリシジルイソシアネートやヒダントイ
ンエポキシのようなi素環を含むコーホキシ樹脂;水添
ビスフェノールA型エポキシ樹脂;プロピレングリコー
ルジグリシジルエーテルやペンタエリスリトールポリグ
リシジルエーテルなどの脂肪族系エポキシ樹脂;芳香族
、脂肪族もしくは脂環式のカルボン酸とエピクロルヒド
リンとの反応によって得られるエポキシ樹脂;スピロ環
含有エポキシ樹脂;0−アリルフェノールノボラック化
合物とエピクロルヒドリンとの反応生成物であるグリシ
ジルエーテル型エポキシ樹脂;ビスフェノールAのそれ
ぞれの水酸基のオルト位にアリル基を有するジアリルビ
スフェノール化合物とエピクロルヒドリンとの反応生成
物であるグリシジルエーテル型工余キシ樹脂などが挙げ
られる。
(B)のアルミニウム化合物は、アルキル基、フェニル
基、ハロアルキル基、アルコキシ基、フェノキシ基、ア
シルオキシ基、β−゛ジケトナト基、〇−カルボニルフ
ェノラド基などの群から選択された有機基を結合して成
る化合物である。
基、ハロアルキル基、アルコキシ基、フェノキシ基、ア
シルオキシ基、β−゛ジケトナト基、〇−カルボニルフ
ェノラド基などの群から選択された有機基を結合して成
る化合物である。
上記有機基中、アルキル基としては、メチル基、エチル
基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、
5ec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基が挙
げられ;フ豊ニル基としては、フェニル基、p−メトキ
シフェニル基、0−メトキシフェニル基、p−エトキシ
フェニル基が例示され;ハロアルキル基としては、クロ
ルメチル基、クロルエチル基、クロルプロピル基が例示
され;アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基
、イソプロポキシ基、ブトキシ基、ペントオキシ基が例
示され;フェノキシ基としては、フェノキシ基、0−メ
チルフェノキシ基、0−メトキシフェノキシ基、O−ニ
トロフェノキシ基、2.6−ジメ子ルフエノキシ基が例
示され;アシルオキシ基としては、アセタト基、プロピ
オナト基、イソプロピオナト基、ブチラド基、ステアラ
ド基、エチルアセドアセクト基、プロピルアセドアセク
ト基、ブチルアセドアセクト基、ジエチルマロラド、ジ
ピバロイルメタナト基が例示され;β−ジケトナト基と
しては、アセチルアセトナト基、トリフルオロアセチル
アセトナト基、ヘギザフルオロアセチルアセトナト基、 0−カルボキシフェノラド基としては、サリチルアルデ
ヒダトが例示される。
基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、
5ec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基が挙
げられ;フ豊ニル基としては、フェニル基、p−メトキ
シフェニル基、0−メトキシフェニル基、p−エトキシ
フェニル基が例示され;ハロアルキル基としては、クロ
ルメチル基、クロルエチル基、クロルプロピル基が例示
され;アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基
、イソプロポキシ基、ブトキシ基、ペントオキシ基が例
示され;フェノキシ基としては、フェノキシ基、0−メ
チルフェノキシ基、0−メトキシフェノキシ基、O−ニ
トロフェノキシ基、2.6−ジメ子ルフエノキシ基が例
示され;アシルオキシ基としては、アセタト基、プロピ
オナト基、イソプロピオナト基、ブチラド基、ステアラ
ド基、エチルアセドアセクト基、プロピルアセドアセク
ト基、ブチルアセドアセクト基、ジエチルマロラド、ジ
ピバロイルメタナト基が例示され;β−ジケトナト基と
しては、アセチルアセトナト基、トリフルオロアセチル
アセトナト基、ヘギザフルオロアセチルアセトナト基、 0−カルボキシフェノラド基としては、サリチルアルデ
ヒダトが例示される。
アルミニウム化合物の具体例としては、トリメトキシア
ルミニウム、トリエトキシアルミニウム、トリイソプロ
ポキシアルミニウム、トリフエノキシアルミニウム、ト
リ (p−メチルフェノキシ)アルミニウム、イソプロ
ポキシジェトキシアルミニウム、トリブトキシアルミニ
ウム、トリアセトキシアルミニウム、トリステアラドア
ルミニウム、トリブチラドアルミニウム、トリプロピオ
ナトアルミニウム、トリイソプロピオナトアルミニウム
、トリス(アセチルアセトナト)アルミニウム、トリス
(トリフルオロアセチルアセ、トナト)アルミニウム、
トリス(ペンタフルオロアセチルアセトナト)アルミニ
ウム、トリス(エチルアセドアセクト)アルミニウム、
エチルアセドアセクトジイソプロポキシアルミニウム、
トリス(サリチルアルデヒダト)アルミニウム、トリス
(ジエチルマロラド)アルミニウム、トリス(プロピル
アセドアセクト)アルミニウム、トリス(ブチルアセド
アセクト)アルミニウム、トリス(イソプロピルアセド
アセクト)アルミニウム、トリス(ジピバロイルメタナ
ト)アルミニウム、ジアセチルアセトナトジピバロイル
メタナトアルミニウム、エチルアセドアセクトジイソプ
ロポキシアルミニウム、 などが挙げられる。これらのうち、触媒活性、反応速度
の点で、トリス(エチルアセドアセクト)アルミニウム
が好ましい。
ルミニウム、トリエトキシアルミニウム、トリイソプロ
ポキシアルミニウム、トリフエノキシアルミニウム、ト
リ (p−メチルフェノキシ)アルミニウム、イソプロ
ポキシジェトキシアルミニウム、トリブトキシアルミニ
ウム、トリアセトキシアルミニウム、トリステアラドア
ルミニウム、トリブチラドアルミニウム、トリプロピオ
ナトアルミニウム、トリイソプロピオナトアルミニウム
、トリス(アセチルアセトナト)アルミニウム、トリス
(トリフルオロアセチルアセ、トナト)アルミニウム、
トリス(ペンタフルオロアセチルアセトナト)アルミニ
ウム、トリス(エチルアセドアセクト)アルミニウム、
エチルアセドアセクトジイソプロポキシアルミニウム、
トリス(サリチルアルデヒダト)アルミニウム、トリス
(ジエチルマロラド)アルミニウム、トリス(プロピル
アセドアセクト)アルミニウム、トリス(ブチルアセド
アセクト)アルミニウム、トリス(イソプロピルアセド
アセクト)アルミニウム、トリス(ジピバロイルメタナ
ト)アルミニウム、ジアセチルアセトナトジピバロイル
メタナトアルミニウム、エチルアセドアセクトジイソプ
ロポキシアルミニウム、 などが挙げられる。これらのうち、触媒活性、反応速度
の点で、トリス(エチルアセドアセクト)アルミニウム
が好ましい。
これらのアルミニウム化合物は、1、種もしくは2種以
上の混合系を用いてもよく、その添加配合量は、エポキ
シ樹脂100重量部に対し0.001〜10重量部、好
ましくは1〜5重量部の範囲である。配合量が0.00
1重量%に満たない場合は、充分な硬化特性が得られず
、また、10重量%を超えると、コスト高や電気的特性
悪化の原因となる。
上の混合系を用いてもよく、その添加配合量は、エポキ
シ樹脂100重量部に対し0.001〜10重量部、好
ましくは1〜5重量部の範囲である。配合量が0.00
1重量%に満たない場合は、充分な硬化特性が得られず
、また、10重量%を超えると、コスト高や電気的特性
悪化の原因となる。
(C)のペルオキシシリル基を有するケイ素化合物は、
次式; %式% (式中、R+、 R2は同一であっても異なっていても
よく、それぞれ水素原子または置換または非置換の炭化
水素基を表し、nはO〜3の数を表す。)で示される。
次式; %式% (式中、R+、 R2は同一であっても異なっていても
よく、それぞれ水素原子または置換または非置換の炭化
水素基を表し、nはO〜3の数を表す。)で示される。
上記式中の置換または非置換の炭化水素基としては、メ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基
、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ウ
ンデシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシ
ル基などのアルキル基;フェニル基、ナフチル基、チン
ドラニル基、メチルフェニル基、キシリル基、ドデシル
フェニル基などの了り−ル基;ベンジル基、フェニルエ
チル基、α−メチルスチリル基、クミル基などのアラア
リール基;シクロヘキシル基、シクロオクチル基などの
シクロアルキル基;ビニル基、アリル基、シクロへキセ
ニル基などのアルケニル基;またはこれらの基の水素原
子の一部または全部をハロゲン原子などで置
I換した基、例えば、クロルメチル基、β−シ
アノエチル基、p−クロロフェニル基、m−クロロフェ
ニル基、0−クロロフェニル基、p−トリフルオロメチ
ルフェニル基、m−トリフルオロメチルフェニル基、〇
−トリフルオロメチルフェニル基、3.3.3 ”−)
リフルオロプロピル基、ペンタフルオロフェニル基、ク
ロロメチルフェニル基などが例示される。
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基
、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ウ
ンデシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシ
ル基などのアルキル基;フェニル基、ナフチル基、チン
ドラニル基、メチルフェニル基、キシリル基、ドデシル
フェニル基などの了り−ル基;ベンジル基、フェニルエ
チル基、α−メチルスチリル基、クミル基などのアラア
リール基;シクロヘキシル基、シクロオクチル基などの
シクロアルキル基;ビニル基、アリル基、シクロへキセ
ニル基などのアルケニル基;またはこれらの基の水素原
子の一部または全部をハロゲン原子などで置
I換した基、例えば、クロルメチル基、β−シ
アノエチル基、p−クロロフェニル基、m−クロロフェ
ニル基、0−クロロフェニル基、p−トリフルオロメチ
ルフェニル基、m−トリフルオロメチルフェニル基、〇
−トリフルオロメチルフェニル基、3.3.3 ”−)
リフルオロプロピル基、ペンタフルオロフェニル基、ク
ロロメチルフェニル基などが例示される。
ペルオキシシリル基を有するケイ素化合物の具体例とし
ては、次式; %式% 〉 111I CH2CH2 で示される化合物等が例示される。これらのうち、触媒
活性の強さから、t−ブチルペルオキシトリフェニルシ
ランおよびクミルペルオキシトリフェニルシランが好ま
しい。
ては、次式; %式% 〉 111I CH2CH2 で示される化合物等が例示される。これらのうち、触媒
活性の強さから、t−ブチルペルオキシトリフェニルシ
ランおよびクミルペルオキシトリフェニルシランが好ま
しい。
これらのケイ素化合物の添加配合量は、エポキシ樹脂1
00重量部に対して0.1〜20重量部、好ましくは1
〜10重量部の範囲である。
00重量部に対して0.1〜20重量部、好ましくは1
〜10重量部の範囲である。
配合量が0.1重量部に満たない場合には、充分な硬化
特性が得られず、また、20重量部を超えて用いること
は可能であるが、コスト高や触媒成分の分解生成物が問
題になる場合がある。
特性が得られず、また、20重量部を超えて用いること
は可能であるが、コスト高や触媒成分の分解生成物が問
題になる場合がある。
(D)の分子中にケイ素原子を含まない過酸化物は、過
酸化水素のほか、通常用いられる有機過酸化物であれば
何でもよく、具体例としては次の様なものが挙げられる
。
酸化水素のほか、通常用いられる有機過酸化物であれば
何でもよく、具体例としては次の様なものが挙げられる
。
過酸化水素;
C11゜
などのケトンペルオキシド;
1.1−ビス(t−ブチルペルオキシ) 3,3.5−
トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(を−ブチル
ペルオキシ)シクロヘキサン、n−グラチル−4,4−
ビス(1−ブチルペルオキシ)バレレート、2..2−
ビス(t−ブチルペルオキシ)ブタンなどのペルオキシ
ケタール;t−ブチルヒドロペルオキシド、クメンヒド
ロペルオキシド、ジイソプロピルベンゼンヒドロベルオ
キシド、p−メンクンヒドロペルオキシド、2゜5−ジ
メチルヘキサン−2,5−ジヒドロペルオキシド、1.
L3,3−テトラメチルブチルヒドロペルオキシドなど
のヒドロペルオキシド;ジ−t−ブチルペルオキシド、
t−ブチルクミルペルオキシド、ジクミルペルオキシド
、α、α゛−ビス(t−ブチルペルオキシイソプロピル
)ベンゼン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチ
ルペルオキシ)ヘキサン、2.5−ジメチル−2,5−
ジ(t−ブチルペルオキシ)ヘキシン−3などのジアル
キルペルオキシド;アセチルペルオキシド、イソブチリ
ルペルオキシド、オクタノイルペルオキシド、デカノイ
ルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、3,5.5
− )リメチルヘキサノイルペルオキシド、コハク酸ペ
ルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、2.4−ジクロ
ロベンゾイルペルオキシド、m−)リオイルペルオキシ
ドなどのジアシルペルオキシド;ジイソプロビルペルオ
キシジカルボナート、ジー2−エチルヘキシルペルオキ
シジカルボナート、ジ−n−プロビルペルオキレジカル
ボナート、ジー2−エトキシエチルペルオキシジカルボ
ナート、ジメトキシイソプロビルペルオキシジカルボナ
ート、ジ(3−メチル−3−メトキシブチル)ベルオキ
シジカルポナート、アセチルシクロへキシルスルホニル
ペルオキシドなどのベルオキシジカルポナート;t−ブ
チルペルオキシアセタート、t−プチルペルオキシイソ
ブチラート、t−プチルペルオキシピバラート、t−ブ
チルペルオキシネオーデカノエート、クミルペルオキシ
ネオデカノエート、t−ブチルペルオキシ−2−エチル
ヘキサノエート、t−ブチルペルオキシ−3,5,5−
トリメチルヘキサノエート、t−ブチルペルオキシラウ
レート、t−プチルペルオキシヘンゾエート、ジーを一
プチルジペルオキシイソフタラト、、2.5−ジメチル
−2,5−ジ(ベンゾイルペルオキシ)ヘキサン、t〜
プチルペルオ上クシマレイン酸1−プチルベルオキシイ
ソプロピルカルホナートなどのペルオキシエステルなど
が例示される。これらのうち、触媒活性の強さから、ヒ
ドロペルオキシドが好ましく、とくにクメンヒドロペル
オキシドおよびメチルエチルケI・ンペルオキシドが好
ましい。
トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(を−ブチル
ペルオキシ)シクロヘキサン、n−グラチル−4,4−
ビス(1−ブチルペルオキシ)バレレート、2..2−
ビス(t−ブチルペルオキシ)ブタンなどのペルオキシ
ケタール;t−ブチルヒドロペルオキシド、クメンヒド
ロペルオキシド、ジイソプロピルベンゼンヒドロベルオ
キシド、p−メンクンヒドロペルオキシド、2゜5−ジ
メチルヘキサン−2,5−ジヒドロペルオキシド、1.
L3,3−テトラメチルブチルヒドロペルオキシドなど
のヒドロペルオキシド;ジ−t−ブチルペルオキシド、
t−ブチルクミルペルオキシド、ジクミルペルオキシド
、α、α゛−ビス(t−ブチルペルオキシイソプロピル
)ベンゼン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチ
ルペルオキシ)ヘキサン、2.5−ジメチル−2,5−
ジ(t−ブチルペルオキシ)ヘキシン−3などのジアル
キルペルオキシド;アセチルペルオキシド、イソブチリ
ルペルオキシド、オクタノイルペルオキシド、デカノイ
ルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、3,5.5
− )リメチルヘキサノイルペルオキシド、コハク酸ペ
ルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、2.4−ジクロ
ロベンゾイルペルオキシド、m−)リオイルペルオキシ
ドなどのジアシルペルオキシド;ジイソプロビルペルオ
キシジカルボナート、ジー2−エチルヘキシルペルオキ
シジカルボナート、ジ−n−プロビルペルオキレジカル
ボナート、ジー2−エトキシエチルペルオキシジカルボ
ナート、ジメトキシイソプロビルペルオキシジカルボナ
ート、ジ(3−メチル−3−メトキシブチル)ベルオキ
シジカルポナート、アセチルシクロへキシルスルホニル
ペルオキシドなどのベルオキシジカルポナート;t−ブ
チルペルオキシアセタート、t−プチルペルオキシイソ
ブチラート、t−プチルペルオキシピバラート、t−ブ
チルペルオキシネオーデカノエート、クミルペルオキシ
ネオデカノエート、t−ブチルペルオキシ−2−エチル
ヘキサノエート、t−ブチルペルオキシ−3,5,5−
トリメチルヘキサノエート、t−ブチルペルオキシラウ
レート、t−プチルペルオキシヘンゾエート、ジーを一
プチルジペルオキシイソフタラト、、2.5−ジメチル
−2,5−ジ(ベンゾイルペルオキシ)ヘキサン、t〜
プチルペルオ上クシマレイン酸1−プチルベルオキシイ
ソプロピルカルホナートなどのペルオキシエステルなど
が例示される。これらのうち、触媒活性の強さから、ヒ
ドロペルオキシドが好ましく、とくにクメンヒドロペル
オキシドおよびメチルエチルケI・ンペルオキシドが好
ましい。
これらの過酸化物の添加量は、(八)のエポキシ樹脂1
00重量部に対して0.1〜20重量部、好ましくは0
.1〜10重量部である。配合量が0.1重量部に満た
ない場合は充分な硬化促進効果が得られず、また20重
量部を越えた場合には、硬化後のエポキシ樹脂に触媒成
分の分解生成物が残存して、樹脂の電気特性や熱安定性
に影響を及ぼすことがある。これらの過酸化物のうち、
硬化促進効果の大きさ、組成物の安定性などから、ヒド
ロペルオキシ基を含むものが好ましい。
00重量部に対して0.1〜20重量部、好ましくは0
.1〜10重量部である。配合量が0.1重量部に満た
ない場合は充分な硬化促進効果が得られず、また20重
量部を越えた場合には、硬化後のエポキシ樹脂に触媒成
分の分解生成物が残存して、樹脂の電気特性や熱安定性
に影響を及ぼすことがある。これらの過酸化物のうち、
硬化促進効果の大きさ、組成物の安定性などから、ヒド
ロペルオキシ基を含むものが好ましい。
本発明の硬化性組成物は、常温光硬化、加熱光硬化、光
硬化後アフターキュアなどの方法により、硬化させて実
用に供される。光硬化に必要な光の波長は、組成物の成
分によって異なるが、通常180〜6()Onm、好ま
しくは200〜400nmである。
硬化後アフターキュアなどの方法により、硬化させて実
用に供される。光硬化に必要な光の波長は、組成物の成
分によって異なるが、通常180〜6()Onm、好ま
しくは200〜400nmである。
光源としては、高圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、低圧
水銀ランプ、カーボンアークランプ、キセノンランプ、
アルゴングロー放電管メタルハライドランプ等を使用で
きる。また光硬化後アフターキュアは、エポキシ樹脂の
物性を安定化させるのに有効な手段であるが、用途に応
じ行っても行わなくてもよい。アフターキュアを行う場
合は通常50〜200℃、好ましくは100〜180℃
にて4時間以内の時間で行うのが好ましい。加熱光硬化
する場合の加熱温度は、エポキシ樹脂の組成および触媒
の種類によって異なるが、通常20〜200℃、好まし
くは40〜100℃である。
水銀ランプ、カーボンアークランプ、キセノンランプ、
アルゴングロー放電管メタルハライドランプ等を使用で
きる。また光硬化後アフターキュアは、エポキシ樹脂の
物性を安定化させるのに有効な手段であるが、用途に応
じ行っても行わなくてもよい。アフターキュアを行う場
合は通常50〜200℃、好ましくは100〜180℃
にて4時間以内の時間で行うのが好ましい。加熱光硬化
する場合の加熱温度は、エポキシ樹脂の組成および触媒
の種類によって異なるが、通常20〜200℃、好まし
くは40〜100℃である。
本発明の組成物に機械的強度を向上させるために、煙霧
質シリカ、湿式シリカ、シラン処理シリカ、石英微粉末
、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、タルクなどの
充填剤、また着色染、顔料、酸化防止剤などを加えても
差し支えな”い。
質シリカ、湿式シリカ、シラン処理シリカ、石英微粉末
、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、タルクなどの
充填剤、また着色染、顔料、酸化防止剤などを加えても
差し支えな”い。
本発明の硬化性組成物は触媒成分としてアルミニウム化
合物およびペルオキシシラン基を有するケイ素化合物を
用い、ペルオキシシラン基の分解の助触媒として過酸化
物を用いているため、光照射による硬化時間を著しく短
縮することができる。したがって硬化時間の短縮に伴う
省エネルギーの効果は極めて大なるものである。
合物およびペルオキシシラン基を有するケイ素化合物を
用い、ペルオキシシラン基の分解の助触媒として過酸化
物を用いているため、光照射による硬化時間を著しく短
縮することができる。したがって硬化時間の短縮に伴う
省エネルギーの効果は極めて大なるものである。
本発明の組成物は、電気機器の絶縁材料、半導体の保護
層、フォトレジストなど、種々の用途に用いることが出
来る。
層、フォトレジストなど、種々の用途に用いることが出
来る。
以下、本発明を実施例によって説明する。実施例中、部
は全て重量部を表す。
は全て重量部を表す。
実施例1
エポキシ樹脂としてF、RL4221 (商品名、U
CC社製;下式(1)の化合物、エポキシ当量130、
分子量260)100部に1リス(エチルアセトアセタ
ト)アルミニウム1部およびt−ブチルペルオキシトリ
フェニルシラン4部を溶解させ、ベースレジン組成物1
1を得た。
CC社製;下式(1)の化合物、エポキシ当量130、
分子量260)100部に1リス(エチルアセトアセタ
ト)アルミニウム1部およびt−ブチルペルオキシトリ
フェニルシラン4部を溶解させ、ベースレジン組成物1
1を得た。
このベースレジン組成物に表1に示すペルオキシド1部
を添加して本発明の組成物12〜18を得た。これらの
組成物を厚さ0.3 mmのアルミニウム板に10μの
厚さに均一に塗布し、“ 6.5 c+wの距離
より80 W/c+wの高圧水銀灯で光照射し、硬化時
間および鉛筆硬度を測定した結果を表1に示す。
を添加して本発明の組成物12〜18を得た。これらの
組成物を厚さ0.3 mmのアルミニウム板に10μの
厚さに均一に塗布し、“ 6.5 c+wの距離
より80 W/c+wの高圧水銀灯で光照射し、硬化時
間および鉛筆硬度を測定した結果を表1に示す。
表 1
実施例2
エポキシ樹脂としてjツソノソクス206−(商品名、
チッソ■製;下式(2)の化合物、エポキシ当量70、
分子量139)100部にトリス(イソブチルアセドア
セクト)アルミニウム0.5部およびクミルペルオキシ
トリフェニルシラン2.0部を完全に溶解させベースレ
ジン21、を得た。
チッソ■製;下式(2)の化合物、エポキシ当量70、
分子量139)100部にトリス(イソブチルアセドア
セクト)アルミニウム0.5部およびクミルペルオキシ
トリフェニルシラン2.0部を完全に溶解させベースレ
ジン21、を得た。
このベースレジンにパーメックN (商品名、日本油脂
特製、主成分メチルエチルケトンペルオキシド、活性酸
素量10%以上)2..0部を添加し、組成物22を得
た。これらの組成物を0.3 amの厚さの鋼板に5μ
の厚さに均一に塗布して800 H/c+wのメタルハ
ライドランプ(4kW)を用いて10cmの距離より、
光照射することにより、硬化皮膜を得た。硬化時間およ
び鉛筆硬度を測定して、表2の結果を得た。
特製、主成分メチルエチルケトンペルオキシド、活性酸
素量10%以上)2..0部を添加し、組成物22を得
た。これらの組成物を0.3 amの厚さの鋼板に5μ
の厚さに均一に塗布して800 H/c+wのメタルハ
ライドランプ(4kW)を用いて10cmの距離より、
光照射することにより、硬化皮膜を得た。硬化時間およ
び鉛筆硬度を測定して、表2の結果を得た。
表2
実施例3
エポキシ樹脂としてエピコート828 (商品名、シェ
ル化学社製;ビスフェノールA型、エポキシ当量190
〜210、分子量380)100部にトリス(エチルア
セドアセクト)アルミニウム2部、t−ブチルペルオキ
シトリ(4−クロロフェニル)シラン8部を完全に溶解
させて組成物31を得た。
ル化学社製;ビスフェノールA型、エポキシ当量190
〜210、分子量380)100部にトリス(エチルア
セドアセクト)アルミニウム2部、t−ブチルペルオキ
シトリ(4−クロロフェニル)シラン8部を完全に溶解
させて組成物31を得た。
この組成物にクメンヒドロペルオキシド5部を添加して
本発明の組成物32を得た。これらの組成物を1III
IIlの厚さのアルミニウム板に30μの厚さに塗布し
、160 h/cmの高圧水銀ランプ(8kW)を用い
て10c+nの距離より光照射して硬化時間および鉛筆
硬度を測定した。結果を表3に示す。
本発明の組成物32を得た。これらの組成物を1III
IIlの厚さのアルミニウム板に30μの厚さに塗布し
、160 h/cmの高圧水銀ランプ(8kW)を用い
て10c+nの距離より光照射して硬化時間および鉛筆
硬度を測定した。結果を表3に示す。
表3
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1(A)エポキシ樹脂100重量部、 (B)アルミニウム化合物0.001〜10重量部、 (C)ペルオキシシリル基を有するケイ素化合物0.1
〜20重量部、および (D)分子中にケイ素原子を含まない過酸化物0.1〜
20重量部から成ることを特徴とする硬化性組成物。 2(B)のアルミニウム化合物がトリス(エチルアセト
アセタト)アルミニウムである特許請求の範囲第1項記
載の組成物。 3(B)のアルミニウム化合物の量が1〜5重量部であ
る特許請求の範囲第1項記載の組成物。 4(C)のペルオキシシリル基を有するケイ素化合物が
t−ブチルペルオキシトリフェニルシラン又はクミルペ
ルオキシトリフェニルシランである特許請求の範囲第1
項記載の組成物。 5(C)のペルオキシシリル基を有するケイ素化合物の
量が1〜10重量部である特許請求の範囲第1項記載の
組成物。 6(D)の過酸化物がヒドロペルオキシ基を含む過酸化
物である特許請求の範囲第1項記載の組成物。 7(D)の過酸化物がクメンヒドロペルオキシドである
特許請求の範囲第6項記載の組成物。 8(D)の過酸化物がメチルエチルケトンペルオキシド
である特許請求の範囲第6項記載の組成物。 9(D)の過酸化物の量が0.1〜10重量部である特
許請求の範囲第1項記載の組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14028684A JPS6119624A (ja) | 1984-07-06 | 1984-07-06 | 硬化性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14028684A JPS6119624A (ja) | 1984-07-06 | 1984-07-06 | 硬化性組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6119624A true JPS6119624A (ja) | 1986-01-28 |
Family
ID=15265245
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14028684A Pending JPS6119624A (ja) | 1984-07-06 | 1984-07-06 | 硬化性組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6119624A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0819714A1 (en) * | 1996-07-17 | 1998-01-21 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Photosensitive resin composition for photo-cast-molding |
-
1984
- 1984-07-06 JP JP14028684A patent/JPS6119624A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0819714A1 (en) * | 1996-07-17 | 1998-01-21 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Photosensitive resin composition for photo-cast-molding |
| EP0957120A1 (en) * | 1996-07-17 | 1999-11-17 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Process of manufacture of a photo-cast molding |
| US5990190A (en) * | 1996-07-17 | 1999-11-23 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Photosensitive resin composition for photo-cast-molding |
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