JPS6119783A - 無電解めつき用銅コロイド触媒液およびその製造方法 - Google Patents

無電解めつき用銅コロイド触媒液およびその製造方法

Info

Publication number
JPS6119783A
JPS6119783A JP13961984A JP13961984A JPS6119783A JP S6119783 A JPS6119783 A JP S6119783A JP 13961984 A JP13961984 A JP 13961984A JP 13961984 A JP13961984 A JP 13961984A JP S6119783 A JPS6119783 A JP S6119783A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
copper
solution
electroless plating
gelatin
metal particles
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP13961984A
Other languages
English (en)
Inventor
Takao Sato
高雄 佐藤
Kenji Kobayashi
健治 小林
Shinichi Mitsui
三井 真一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Nippon Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp, Nippon Electric Co Ltd filed Critical NEC Corp
Priority to JP13961984A priority Critical patent/JPS6119783A/ja
Publication of JPS6119783A publication Critical patent/JPS6119783A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/31Coating with metals
    • C23C18/38Coating with copper
    • C23C18/40Coating with copper using reducing agents

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (技術分野) 本発明は無電解めっき用銅コロイド触媒液およびその製
造方法に係わり、詳しくは電気絶縁物性特にプラスチッ
クを活性化して無電解めっきによる金属被覆工程の準備
を行なうための銅コロイド触媒液に関するものである。
(従来技術) 一般に電子工業においてはプラスチックを無N1解めっ
きにより金属被覆し導電化することが広く行なわnてい
る。例えば印刷配線板の製造においては、銅張りエポキ
シ樹脂積層板の表面の所望の位置に貫通孔を形成した後
貫通孔壁に無電解めっき用触媒を吸着させ次いで無電解
銅めっき等の無電解めっきにより貫通孔壁面に金属被覆
を行ない貫通孔壁面を導電化することが行なわれている
無電解めっき用触媒としてはパラジウム金属が、一般に
使用されておりパラジウム金属の貫通孔壁面への形成は
、貫通孔壁面を塩化第一錫と塩化パラジウムの混合コロ
イド水溶液に接触させた後水洗する。この貫通孔壁面へ
はパラジウム金属と錫化合物が同時に吸着する。無電解
めっきの触媒となるためにはパラジウム金属と同時に吸
着した錫化合物を塩酸溶液あるいはホウフッ化水素酸溶
液に浸漬して除去し、パラジウム金属が露出するように
しなければならない。しかし上記酸水溶液に浸漬する際
、錫化合物の除去と同時にパラジウム金属も除去される
場合がある。特に銅張りエポキシ樹脂積層板の貫通孔壁
のガラス表面からはパラジウム金属が除去されやすく、
シばしば貫通孔壁への無電解鋼めっき析出不良の原因と
なっていた。
(発明の目的) 本発明の目的は上記従来の無電解めっき用触媒液の欠点
を除去した新規な無電解めっき用触媒液およびその製造
方法を提供することにある。
(発明の構成) 本発明の無電解めっき用触媒液は、銅金属粒子の濃度が
0.3g/j!以上と銅金属粒子1g当りセラチン0.
8g以上と平均分子量1,o o o〜20,000の
ポリエチレングリコールを含むPH2〜4の銅コロイド
水溶液から成り、銅コロイド水溶液は2価の銅イオンと
平均分子量1,000〜20,000のポリエチレング
リコールと2価の銅イオンIg当り、前記ポリエチレン
グリコールの存在下でアルカリ熟成した。、sg以上の
ゼラチンを含むPH1〜2゜かつ液温40〜70℃の水
溶液に2価の銅イオン1g当り1.2g以上のジメチル
アミンボランを添加し、2価の銅イオンを金属銅に還元
した後、該水溶液のPHを2〜4に調整することから製
造される。
本発明の銅コロイド触媒液において、アルカリ熟成した
ゼラチンを使用すると銅コロイドの吸着性および安定性
が著しく向上することケ見い出した。銅コロイド触媒液
中のゼラチンの濃度は銅金属粒子1g当り08g以上が
必要であり、ゼラチンの!1度が08gより減少すると
銅金属粒子が凝集沈殿する。また本発明の銅コロイド触
媒液の製造において2価の銅イオン源としては、硫酸鋼
あるいは水酸化第2銅が使用でき、水溶液のPH調整に
は硫酸および木酸化ナトIJウムあるいは水酸化カリウ
ムが使用される。2価の銅イオンをジメチルアミンポラ
ンで還元する際、水素ガスの発生に伴い発泡するが水溶
液中の泡立ちを減少させ、2価の銅イオンの還元反応を
均一にするためにブチルアルコール等の消泡性のおるア
ルコールを使用してもよい。
本発明のポリエチレングリコールは、2価の銅イオンの
ジメチルアミンボランによる還元速度をコノトロールし
、微小鋼金属粒子の生成に寄与し、その添加量は2価の
銅イオン1g当t) 0.8 g以上が適当である。ポ
リエチレングリコールはゼラチンのアルカリ熟成の際添
加されるが、この場合ポリエチレングリコールはゼラチ
ンのアルカリによる熟成度(変性度)をコントロールす
る。ジメチルアミノボラ7により還元された2価の銅イ
オ/は銅金属粒子となり、ゼラチンにより保護されコロ
イド粒子(銅コロイド)を形成する。銅コロイドはPH
4以下で安定でありPHが4をこえると銅コロイドは凝
集沈殿してしまう。銅コロイドの銅張りエポキシ樹脂積
層板の貫通孔壁への吸着は銅コロイド触媒液のPHが2
〜4ですぐれており、また該貫通孔壁に吸着した銅コロ
イドのゼラチン保護膜(銅金属粒子を保護している膜)
は水洗により容易に除去され、銅金属粒子が該貫通孔壁
′に残り、無電解めっき用触媒として働く。なお銅コロ
イド触媒液中の銅金属粒子の濃度は0.3g//以上が
適当であり、0.3g//よりも減少すると銅コロイド
の吸着性が著しく減少する。
(実施例) 以下、本発明を実施例により詳細に説明する。
〔実施例−1〕 セラチン10gと平均分子量1,o o oのポリエチ
レングリコール10g1約700m/の純水に溶解し、
液温60℃に保持しながら28%(重量%)の水酸化ナ
トリウムを15mA!添加し、約1o分間アルカリ熟成
した。次いで60%(重量%)の硫酸水溶液t15m/
添加し、アルカリ土類金属ゼデチ7水溶液のPH’tl
、8に調整した後、硫酸銅(Cu804+ り1(2o
 ) t” 24.9 g溶解させ九人に濃度100g
#のジメチルアミ/ボラン水溶液を100m1添加し、
液温60℃で銅イオンを完全に金属銅に還元した。なお
消泡剤としてブチルアルコールt20ml添加した。水
溶液の温度を室温まで冷却し、水溶液の全量を純水を加
えて11とし、銅コロイド触媒液の濃縮液を製造した。
本液中の銅金属粒子の濃度は6.3g#、ゼラチンの濃
度は10g//、平均分子li1,000のポリエチレ
ングリコールの濃度はlOg/11である。
〔実施例−2〕 実施例−1における平均分子量1,0(10のポリエチ
レングリコールの代9に平均分子量2,000゜6.0
00.および2Q、000の3種のポリエチレングリコ
ールを使用し、実施例−1と同様な操作により3棟の銅
コロイド触媒液の濃縮液を製造した。
〔実施例−3〕 実施例−1および実施例−2で製造した銅コロイド触媒
液とそれらの10倍希釈液を準備し、硫酸水溶液でそれ
ぞれの銅コロイド触媒液のPH13,0に調整した。こ
れらの銅コロイド触媒液に貫通孔の形成された銅張りエ
ポキシ樹脂積層板を、液温40℃で1分間浸漬した後、
1分間流水で水洗し次いで液温25℃PH=13の無電
解銅めっき液に約10分間浸漬し、貫通孔壁への無電解
鋼めっきの析出性を調べた。以上、本発明により貫通孔
壁の断面観察により、全ての試料の貫通孔壁への無電解
銅めっきの被覆は完全であることが確認され本発明の実
用性が立証された。
ゝ・−二 =ζつ

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)銅金属粒子の濃度が0.3g/l以上と銅金属粒
    子1g当りゼラチン0.8g以上と平均分子量1,00
    0〜20,000のポリエチレングリコールを含むPH
    2〜4の水溶液から成る無電解めっき用銅コロイド触媒
    液。
  2. (2)2価の銅イオンと平均分子量1,000〜20,
    000のポリエチレングリコールと2価の銅イオン1g
    当り前記ポリエチレングリコールの存在下でアルカリ熟
    成した0.8g以上のゼラチンを含むPH1〜2、かつ
    液温40〜70℃の水溶液に2価の銅イオン1g当り1
    .2g以上のジメチルアミノボランを添加し、2価の銅
    イオンを金属銅に還元した後、該水溶液のPHを2〜4
    に調整する工程から成る無電解めっき用銅コロイド触媒
    液の製造方法。
JP13961984A 1984-07-05 1984-07-05 無電解めつき用銅コロイド触媒液およびその製造方法 Pending JPS6119783A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13961984A JPS6119783A (ja) 1984-07-05 1984-07-05 無電解めつき用銅コロイド触媒液およびその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13961984A JPS6119783A (ja) 1984-07-05 1984-07-05 無電解めつき用銅コロイド触媒液およびその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6119783A true JPS6119783A (ja) 1986-01-28

Family

ID=15249504

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP13961984A Pending JPS6119783A (ja) 1984-07-05 1984-07-05 無電解めつき用銅コロイド触媒液およびその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6119783A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62290879A (ja) * 1986-06-11 1987-12-17 Nec Corp 無電解めつき用銅コロイド触媒液およびその製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62290879A (ja) * 1986-06-11 1987-12-17 Nec Corp 無電解めつき用銅コロイド触媒液およびその製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
SU747437A3 (ru) Раствор дл активировани неметаллической поверхности перед химической металлизацией
CN108342718B (zh) 无电极铜电镀组合物
US5462628A (en) Method for bonding two surfaces together
CN101684554B (zh) 一种聚酰亚胺薄膜的化学镀铜液及其表面化学镀铜方法
CN104561947B (zh) 用包含碱性稳定吡嗪衍生物的催化剂化学镀金属化电介质
CN104250731B (zh) 含五元杂环氮化合物的化学镀金属化催化剂
US5203955A (en) Method for etching an organic polymeric material
TW583274B (en) Polyimide resin precursor solution, laminates for electronic components made by using the solution and process for production of the laminates
CN1910041B (zh) 聚酰亚胺-金属层压体和聚酰亚胺电路板
US9918389B2 (en) Electroless metallization of dielectrics with alkaline stable pyrazine derivative containing catalysts
CN102605360A (zh) 基于咪唑盐离子液体的化学镀银溶液及镀银方法
US5135779A (en) Method for conditioning an organic polymeric material
JPS6119783A (ja) 無電解めつき用銅コロイド触媒液およびその製造方法
JPS6123764A (ja) 無電解めつき用銅コロイド触媒液およびその製造方法
JPS6123762A (ja) 無電解めつき用銅コロイド触媒液およびその製造方法
JPS6119784A (ja) 無電解めつき用銅コロイド触媒液およびその製造方法
CN118957555A (zh) 一种基于低共熔溶剂的逆置换沉积液及其在于铜表面逆置换制备金属活化层中的应用
JPH0621157A (ja) 銅 ポ リ イ ミ ド 基 板 の 製 造 方 法
JPS6123763A (ja) 無電解めつき用銅コロイド触媒液およびその製造方法
JPS637380A (ja) 無電解めつき用銅コロイド触媒液およびその製造方法
JPS6119782A (ja) 無電解めつき用銅コロイド触媒液およびその製造方法
JP3093259B2 (ja) オリゴマーないしポリマーの特性を有する錯化合物
JPS6123765A (ja) 無電解めつき用銅コロイド触媒液およびその製造方法
JPS62290879A (ja) 無電解めつき用銅コロイド触媒液およびその製造方法
RU2041575C1 (ru) Способ подготовки комбинированной поверхности медь-полиимид к химической металлизации