JPS61199238A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、たとえはコバルト、コバルト合金。

鉄、鉄合金、ニッケル、ニッケル合金などの金属強磁性
体よりなる磁性層、あるいは酸化鉄、酸化クロムなどの
金属酸化物強磁性体よりなる磁性層を有フる磁気記録媒
体に関するものである。

〔従来の技術〕

近年、コンピュータ・システムにおける磁気ディスク等
の外部配憶装置の重要性が増大し、高記録密度化に対す
る要求はま丁まず高まっている。

磁気記録装置は記録再生ヘッドおよび磁気ディスクの主
構成部から構成され、磁気ディスクは高速で回転し記録
再生ヘッドは磁気ディスクより微小間隔浮上し又いる。

磁気記録装置の高性能化に伴い、この浮上間隔を小さく
するために記録再生ヘッドの荷重を小さくするとともに
接触始動・停止（コンタクト−スタート・ストップ：　
Ｃ８Ｓ　）型ヘッド４物システムが採用きれて（・る。

磁気ディスク丁なわち磁気記録媒体の高記録密度化、高
性能化を図るためｅこは、記録媒体の薄層化、均−一様
化、磁気特性の改良（保磁力、角形比の向上）。

および低浮上量における安定したヘッド浮揚状態を確保
しヘッドとディスクの衝突（ヘッド・クラッシュ）を防
止するためのディスク表面精度の向上、耐ヘッドクラツ
シユ性等の向上が必要である。

それに伴い磁性媒体層を支持する基板の品質の向上が重
要となっている。

高密度記録に適する基板の条件としては機械的平坦性お
よび表面粗さが良好であり、欠陥が小さくその数も少な
いことが挙げられる。さらに、記録媒体の薄層化に伴い
基板の十分な硬度も必要とされてさた。すなわち、基板
が軟かいと磁気ヘッドが磁気ディスクに接続した際に陥
没などの変形を起こし、磁気ヘッドの安定した浮揚状態
が得られないばかりか、磁気記録装置の信頼性を表すコ
ンタクトスタートストップ（ａＳＳ　）回数が小さくな
るという問題がある。

従来、磁気ディスクの基板にはアルミ合金が使われてい
るが２表面硬化や表面精度をだすため。

その上に硬化層を被覆している。この硬化層は研磨性の
良好なＮ１−Ｐめつき膜やアルマイト膜が用（・られて
ぎた（たとえば、電電公社研究実用化報告第３１巻第９
号１７３１〜１γ４４貞、先行技術特願昭５９−８８６
３３号、特願昭５９−１１１４６８号明細臀）。このＰ
を形成した後２機械加工を行い表面精度をあげ、磁性媒
体層を形成する。この磁性媒体層の磁気特性と結晶配向
性には密接な関係があり、結晶配向性は磁性媒体層の下
地膜の種類に影響されることがわかっている（たとえば
、太田ら、第８回日本応用磁気学会学術講演ａ費集、１
５ｐＢ−［１（１９８４））。たとえば、　　ｒ−Ｆｅ
２０３薄膜の場合は（１１１）配向、　ＣＯおよび００
合金薄膜の場合はＣ軸配向した場合が磁気特性が良好で
あることがわかっている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかし２種々の硬化層を形成し磁性媒体層を形成すると
、けとんどの場合望ましい結晶配向性になりに＜＜、そ
の結果磁什曲線から求められる角形比Ｓが悪化するなど
磁気特性が良くならないと（・う問題点があった。

この発明は上記のような問題点を解決するためになされ
たもので、結晶配向性すなわち磁気特性が良好でａＳＳ
回数が増大する信頼性の高い磁気記録媒体を得ることを
目的とする。

〔問題点を解決するだめの手段〕

この発明の磁気記録媒体は、非磁性硬化層と磁性媒体層
の間に、　　ＴｉＢ、ＴｉＢ２．ＨｆＮ、ＨｆＯ，Ｍｎ
３Ｎ２゜ＭｏＳ２　、　ＴｈＮ２　、　ＺｒＢ　、およ
びＺｒＳ２のうちの（・ずれか１棟よりなる非磁性下地
＃に全形成したものである。

〔作用〕

この発明に係るＴｉＢ　、　ＴｉＢ２　、　ＨｆＮ　、
　ＨｆＣ、Ｍｎ３Ｎ２゜ＭＯ８２、ＴｈＮ２　、　Ｚｒ
Ｂ　、およびｚｒｓ２のうちの（・ずれか１種より成る
非磁性下地層の形成により、非磁性硬化層の悪影響を防
止し、磁性媒体層の結晶配向性を良（することができ、
非磁性硬化層の硬く表面精度の良好な特性を減すること
がない。

〔大施例〕

以下、この発明の一実施例を図について説明する。第１
図において、（１）は非磁性基板であるアルミニウム合
金基鈑、（２）は非磁性硬化層、（３）はＭＯ８２非磁
性下地層、（４）は磁性媒体層である。

以■、具体的夾施例によりこの発明をより詳細に説明す
るが、この発明はこれに限定されるものではない。

実施例 ディスク状アルミニウム合金基板（１）上に非磁性硬化
層（２）としてアルマイト膜を４μｍ被覆した。アルマ
イト膜を鏡面仕上げした後、非磁性下地層（３）として
ＭＯ８２膜を反応スパッタ法により形成した。

さらに、磁性媒体層（４）としてｒ　−ｐｅ２ｏ５薄膜
を形成した。ＭＯ８２膜の膜厚を変えた試料を作嗜し。

種々の測定を行い、結果を表にまとめた。結晶配向性に
つ（・では、Ｘ線回り１法により測定し、ｒ−？ｅ２０
５（スピネル型）の２２２方向のピークエ（２２２）と
３１１方向のビークエ（３１１）の比によって表現した
。角案 形孔Ｓは磁化曲線よシ求めた。

さらに、非磁性Ｆ地層の膜厚と各特性餉の変化を、非磁
性Ｆ地層がＭＯ８２の場合の例を第２図に。

非磁性下地層がＺｒＢの場合の例を第３図にそれぞれ示
す。図中１曲線１１は工（２２２）／工（３１１）の変
化１曲ｇ　ｔ　２　ｒｉｓパの変化２曲線１３はａｓｓ
回数の片の変化を表す。

注）　　ＭｏＳ２膜厚がＯＡ（形成しない）の時のａＳ
Ｓ回数を１として比で表した。

表および第２図より明らかなように、　　Ｍｏ８２の米 膜厚が５ＯＡを越えると、結晶配向性および８の１１＃
が向上していく。一方、　　ＭＯ８２の膜厚が２４０Ｏ
Ａを越え３（＋（ＩＯＡ以上になると、　　ａＳＳ回数
の悪化がみられた◎ＭｏＳ２の膜厚が厚すぎると、非磁
性硬化層の効果が薄れてしまい、　　ａＳＳ回数の悪化
につながったと考えられる。また、　３０ＧＯＡ以上だ
と熱膨張係数の違（・から、クラックがはいることが多
く。

３０００　Ａ以上は望ましくない。

上記実施例でに、　　ＭｏＥ＋２膜の場合について説明
したが、　　ＴｉＥ、ＴｉＢ２．ＨｆＮ、ＨｆＣ，Ｍｎ
５Ｎ２．ＴｈＮ２゜ＺｒＢ　、　ＺｒＢ２の場合であっ
ても同様の結果が得られ。

上記実施例と同様の効果を奏する。

〔発明の効果〕

以上のように、この発明によれは、非磁性基板と、この
非磁性基板に被覆された非磁性硬化層と。

この非磁性硬化層に被覆されたＴｉＢ　、　ＴｉＢ２　
、　ＨｆＮ　。

ＨｆＯ、Ｍｎ３Ｎ２　、　ＭｏＥＪ２　、　ＴｈＮ２　
、　ＺｒＢ、およびＺｒＳ２のうちのいずれが１柚より
なる非磁性下地層と、この非磁性下地層に扱咎された磁
性媒体層を備えたので、結晶配向性および磁気特性が向
上し、　　ａＳＳ回数が増大し、信頼性の高い磁気記録
媒体が得られる効果がある□ ｆｆ（、ＴｉＢ、ＴｉＢ２　、ＨｆＮ、ＨｆＣ，Ｍｎ５
Ｎ２　、ＭＯ８２。

’ｒｈＮ２　、　ＺｒＢ　、およびＺｒＳ２　）うちの
いずれが１種よりなる非磁性下地層の厚さを５０〜２４
ｏｏＸの範囲にすると、一層上述の効果が増大する。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例にょ夛得られた磁気記録媒
体を示す断面図でめシ、第２図および第３図は非磁性下
地層の膜厚と各特性値の変化を示す特性図である。 （υ・・・非磁性基板、＋２）・・・非磁性硬化層、（
３）・・・Ｍ　ＯＢ　２非磁性下地層、（４）・・・磁
性媒体層。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）非磁性基板と、この非磁性基板に被覆された非磁
   性硬化層と、この非磁性硬化層に被覆されたＴｉＢ、Ｔ
   ｉＢ＿２、ＨｆＮ、ＢｆＣ、Ｍｎ＿３Ｎ＿２、ＭｏＳ＿
   ２、ＴｈＮ＿２、ＺｒＢ、およびＺｒＳ＿２のうちのい
   ずれか１種よりなる非磁性下地層と、この非磁性下地層
   に被覆された磁性媒体層を備えた磁気記録媒体。
2. （２）ＴｉＢ、ＴｉＢ＿２、ＨｆＮ、ＨｆＣ、Ｍｎ＿３
   Ｎ＿２、ＭｏＳ＿２、ＴｈＮ＿２、ＺｒＢ、およびＺｒ
   Ｓ＿２のうちいずれか１種より形成された非磁性下地層
   の膜厚を５０〜２４００Åの範囲にしたことを特徴とす
   る特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体。