JPS61204A - アルフア−オレフイン重合用触媒組成物の製造方法 - Google Patents
アルフア−オレフイン重合用触媒組成物の製造方法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F10/00—Homopolymers and copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はアルファーオレフィンを特にエチレンホリマー
生成物へ重合する、ための触媒組成物を製造する方法に
関するものである。
生成物へ重合する、ための触媒組成物を製造する方法に
関するものである。
カロルらの米国特許第4.302566号は気相流動床
反応器中においていくつかの線状低密度ポリエチレンポ
リマーを製造する方法を記述している。
反応器中においていくつかの線状低密度ポリエチレンポ
リマーを製造する方法を記述している。
グラフの米国特許i 4.173.547号、スf−ブ
ンスらの米国特許第3.7 s 7.3 s 4号、ス
トロベルらの米国特許g 4.148.754号、およ
び故チーグラらの米国特許第4.063.009号は各
々、線状低密度ポリエチレンそのもめ以外のポリエチレ
ンの形を製造するのに適当である各種の重合方法を記述
している。
ンスらの米国特許第3.7 s 7.3 s 4号、ス
トロベルらの米国特許g 4.148.754号、およ
び故チーグラらの米国特許第4.063.009号は各
々、線状低密度ポリエチレンそのもめ以外のポリエチレ
ンの形を製造するのに適当である各種の重合方法を記述
している。
グラフの米国特許第4.173.547号は担体をオル
ガノアルミニウム化合物とオルガノマグネシウム化合物
の両者で以て処理し絖いてこの被処理担体を四価チタン
化合物と接触させることによって得られる担持触媒を記
述している。
ガノアルミニウム化合物とオルガノマグネシウム化合物
の両者で以て処理し絖いてこの被処理担体を四価チタン
化合物と接触させることによって得られる担持触媒を記
述している。
スチーメンスらの米国特許第3.787.384号およ
びストロベルらの米国特許第414a754号は担体(
例えば反応性ヒドロキシル基を含むシリカ)をオルガノ
マグネシウム化合物(例えばグリニア試薬)とまず反応
させ、次いでこの反応させた担体を四価チタン化合物と
組合わせることによってつくられる触媒を記述している
。これら両特許の教示によると、反応させた担体を四価
チタン化合物と接触させるときに未反応オルガノマグネ
シウム化合物が存在すると思われない。
びストロベルらの米国特許第414a754号は担体(
例えば反応性ヒドロキシル基を含むシリカ)をオルガノ
マグネシウム化合物(例えばグリニア試薬)とまず反応
させ、次いでこの反応させた担体を四価チタン化合物と
組合わせることによってつくられる触媒を記述している
。これら両特許の教示によると、反応させた担体を四価
チタン化合物と接触させるときに未反応オルガノマグネ
シウム化合物が存在すると思われない。
故チーグラらの米国特許第4.063. OO9号はオ
ルガノマグネシウム化合物(98えば、アルキルマグネ
シウムハライド9)と四価チタン化合物との反応生成物
である触媒を記述している。オルガノマグネシウム化合
物と四価チタン化合物との反応は担持物質の存在なしで
おこる。
ルガノマグネシウム化合物(98えば、アルキルマグネ
シウムハライド9)と四価チタン化合物との反応生成物
である触媒を記述している。オルガノマグネシウム化合
物と四価チタン化合物との反応は担持物質の存在なしで
おこる。
トリインブチルアルミニウムを一緒に助触媒として用い
るバナジウム含有触媒はW、L。カリツクら82巻、1
502頁(i960年)、および83巻、2654頁(
i961)において開示されている。
るバナジウム含有触媒はW、L。カリツクら82巻、1
502頁(i960年)、および83巻、2654頁(
i961)において開示されている。
オルガノマグネシウム化合物、四価チタニウム化合物お
よび/または四価バナジウム化合物をエチレンを単独か
あるいは1−オレフィン(アルファーオレフィンとして
も知られる)との組合せにおいて重合させるための触媒
を生成させるのに使用する上述諸特許の大部分は、担体
上のヒドロキシル(Of()基と反応させるのに必要で
あるような量のオルガノマグネシウム化合物だけを使用
することが必要である。ことを教えている。前記諸特許
の教示に従ってつくられる触媒は、比較的せまいメルト
フロー比(MF’R)値によって示されるとおり、比較
的せまい分子量分布をもつh61Jエチレンポリマーを
生ずる。
よび/または四価バナジウム化合物をエチレンを単独か
あるいは1−オレフィン(アルファーオレフィンとして
も知られる)との組合せにおいて重合させるための触媒
を生成させるのに使用する上述諸特許の大部分は、担体
上のヒドロキシル(Of()基と反応させるのに必要で
あるような量のオルガノマグネシウム化合物だけを使用
することが必要である。ことを教えている。前記諸特許
の教示に従ってつくられる触媒は、比較的せまいメルト
フロー比(MF’R)値によって示されるとおり、比較
的せまい分子量分布をもつh61Jエチレンポリマーを
生ずる。
従って、本発明の主目的は比較的広い分子量分布の生成
物を生ずるアルファーオレフィン重合用触媒をつくるこ
とである。
物を生ずるアルファーオレフィン重合用触媒をつくるこ
とである。
本発明はアルファーオレフィン重合反応においj
て使用するための担持触媒組成物を製造する方法
を提供するものであり、その方法は、 (i)反応性OH基をもつ固体多孔質担体を実験式%式
%() をもつ少くとも一つのオルガノマグネシウム組成物を含
む液体と接触させ、式中、RとR′は同種または異種で
ありかつそれらはR′がまたハロゲ゛ンであり得るとい
う条件でcl−c1□炭化水素基であり、nは0,1ま
たは2であり、上記オルガノマグネシウム組成物のモル
数が上記担体上のOH基のモル数より過剰であり、 (i1)工程(i)からの上記液体を除去してマグネシ
ウム含有担体を乾燥した自由流動性粉末の形で得、1i
i) 工程(i1)の上記粉末を液状媒体と少くとも
一つの四価バナジウム化合物から成る溶液と接触させ、
このバナジウム化合物が液状液体媒体中で可溶であり、
上記マグネシウム含有担体がこの液状媒体中で本質的に
不溶である、 諸工程から成り、この接触工程(iiflは上記担体上
へ上記液状媒体中で不溶であるバナジウム化合物を組入
れる。
て使用するための担持触媒組成物を製造する方法
を提供するものであり、その方法は、 (i)反応性OH基をもつ固体多孔質担体を実験式%式
%() をもつ少くとも一つのオルガノマグネシウム組成物を含
む液体と接触させ、式中、RとR′は同種または異種で
ありかつそれらはR′がまたハロゲ゛ンであり得るとい
う条件でcl−c1□炭化水素基であり、nは0,1ま
たは2であり、上記オルガノマグネシウム組成物のモル
数が上記担体上のOH基のモル数より過剰であり、 (i1)工程(i)からの上記液体を除去してマグネシ
ウム含有担体を乾燥した自由流動性粉末の形で得、1i
i) 工程(i1)の上記粉末を液状媒体と少くとも
一つの四価バナジウム化合物から成る溶液と接触させ、
このバナジウム化合物が液状液体媒体中で可溶であり、
上記マグネシウム含有担体がこの液状媒体中で本質的に
不溶である、 諸工程から成り、この接触工程(iiflは上記担体上
へ上記液状媒体中で不溶であるバナジウム化合物を組入
れる。
本発明はまた前節で述べた方法によってつくられる担持
触媒組成物とアルファーオレフィン重合反応におけるそ
れの使用に関するものである。
触媒組成物とアルファーオレフィン重合反応におけるそ
れの使用に関するものである。
触媒組成物はまた、四価バナジウム化合物のほかに四価
チタニウム(Ti )化合物から成るのが便利である。
チタニウム(Ti )化合物から成るのが便利である。
四価チタニウム化合物は、何らかの適当な手段により、
例えば、それの所望量を四価バナジウム化合物と工程(
fit)で用いる溶液の中″′C,混合して工程(i1
)の粉末と接触させることによって、触媒の中へ組入れ
られる。
例えば、それの所望量を四価バナジウム化合物と工程(
fit)で用いる溶液の中″′C,混合して工程(i1
)の粉末と接触させることによって、触媒の中へ組入れ
られる。
この方法においては、少くとも−っの四価バナジウム化
合物は適当な担体(あるいは支持体)上へ、この支持体
をオルガノマグネシウム化合物と接触させそしてこのよ
うにして得られるマグネシウム含有支持体を四価バナジ
ウム化合物と液状媒体中で反応させることによって組入
れられる。未反応バナジウムはこの液状媒体の中で可溶
であり、一方、反応したバナジウムとマグネシウム含有
支持体とはこの液状媒体中で不溶である。
合物は適当な担体(あるいは支持体)上へ、この支持体
をオルガノマグネシウム化合物と接触させそしてこのよ
うにして得られるマグネシウム含有支持体を四価バナジ
ウム化合物と液状媒体中で反応させることによって組入
れられる。未反応バナジウムはこの液状媒体の中で可溶
であり、一方、反応したバナジウムとマグネシウム含有
支持体とはこの液状媒体中で不溶である。
ここで用いる場合、物質を担体上へ組入れるという概念
は物質(例えばマグネシウム組成物、バナジウム組成物
および/またはチタニウム組成物)を担体上へ物理的ま
たは化学的手段によって組入れることを意味する積りで
ある。従って、組入れられた物質は必ずしも担体へ化学
的に結合されている必要はない。
は物質(例えばマグネシウム組成物、バナジウム組成物
および/またはチタニウム組成物)を担体上へ物理的ま
たは化学的手段によって組入れることを意味する積りで
ある。従って、組入れられた物質は必ずしも担体へ化学
的に結合されている必要はない。
本発明で使用するのに適する担体物質はシリカ、アルミ
ナおよびそれらの組合せのような、反応性OH基を含む
固体多孔質担体物質を含む。一般的には、担体物質は、
オルガノマグネシウム組成物を含む液体と接触するとき
、水をヒドロキシル(OH)基として表わして、担体物
質1gあたり01ミリモルまたはそれ以上のOf(基、
好ましくは担体IIあたり01から2.0ミリモル、最
も好ましくは担体1gあたり03から0.7ミリモルの
OH基の量で含有すべきである。このような担体物質は
その形は無定形または結晶質であってよい。適当な担体
物質の例はグラフの米国特許第4.173゜547号お
よびスチープンスらの米国特許第3、71 a 636
号に記載されている。
ナおよびそれらの組合せのような、反応性OH基を含む
固体多孔質担体物質を含む。一般的には、担体物質は、
オルガノマグネシウム組成物を含む液体と接触するとき
、水をヒドロキシル(OH)基として表わして、担体物
質1gあたり01ミリモルまたはそれ以上のOf(基、
好ましくは担体IIあたり01から2.0ミリモル、最
も好ましくは担体1gあたり03から0.7ミリモルの
OH基の量で含有すべきである。このような担体物質は
その形は無定形または結晶質であってよい。適当な担体
物質の例はグラフの米国特許第4.173゜547号お
よびスチープンスらの米国特許第3、71 a 636
号に記載されている。
担体物質は0.1ミクロンから200ミクロン、さらに
好ましくは10から150ミクロンの粒径をもつ粒子の
形であってよい。好ましくは、担体は球形粒子、例えば
噴霧乾燥シリカの形である。
好ましくは10から150ミクロンの粒径をもつ粒子の
形であってよい。好ましくは、担体は球形粒子、例えば
噴霧乾燥シリカの形である。
一般的には、担体の内部気孔率は0.2 cm 3/
9より大きく、好ましくは0.6 cnb 3/ 、j
9より大きくあるべきである。担体の比表面積は好まし
くは50m2/9より大きく、好ましくは150から1
500m2/gである。最も好ましい具体化においては
、担体は、窒素で以て流動化し800℃で16時間加熱
して0.4 ミ!Jモル/gの表面ヒト80キシル濃度
を達成させることによって脱水したシリカである。最も
好ましい具体化のシリカは高表面積無定形シリカ(表面
積−300m2/、9;細孔容積=1.65cm3/9
)であり−CW、R,グレー 7.771’ カン/”
ニーのデビソンケミカルデイビジョンによりデビンン9
52として市販されているものである。このシリカは例
えば噴霧乾燥法によって得られるような球形粒子の形態
にある。
9より大きく、好ましくは0.6 cnb 3/ 、j
9より大きくあるべきである。担体の比表面積は好まし
くは50m2/9より大きく、好ましくは150から1
500m2/gである。最も好ましい具体化においては
、担体は、窒素で以て流動化し800℃で16時間加熱
して0.4 ミ!Jモル/gの表面ヒト80キシル濃度
を達成させることによって脱水したシリカである。最も
好ましい具体化のシリカは高表面積無定形シリカ(表面
積−300m2/、9;細孔容積=1.65cm3/9
)であり−CW、R,グレー 7.771’ カン/”
ニーのデビソンケミカルデイビジョンによりデビンン9
52として市販されているものである。このシリカは例
えば噴霧乾燥法によって得られるような球形粒子の形態
にある。
この物質を水反応性のマグネシウム化合物と接触させる
前に担体物質から物理的結合水を除くことが望ましい。
前に担体物質から物理的結合水を除くことが望ましい。
この水除去は、100℃から状態変化または焼結がおこ
る温度によって表わされる上限温度に至る温度へ担体物
質を加熱することによって達成できる。適当な温度範囲
は100℃から1000℃、好ましくは150℃から8
50℃、さらに好ましくは750℃から850℃、最も
好ましくは800℃である。
る温度によって表わされる上限温度に至る温度へ担体物
質を加熱することによって達成できる。適当な温度範囲
は100℃から1000℃、好ましくは150℃から8
50℃、さらに好ましくは750℃から850℃、最も
好ましくは800℃である。
担体上に存在する過剰のOH基はまた、接触工程前に担
体な加熱することによって除くことができる。例えば、
比較的少数のOH基は150℃から250℃における十
分な加熱によって除くことができ、一方、比較的大量の
OH基は少くとも500または600℃、好ましくは7
50℃から850℃における十分な加熱によって除去で
きる。
体な加熱することによって除くことができる。例えば、
比較的少数のOH基は150℃から250℃における十
分な加熱によって除くことができ、一方、比較的大量の
OH基は少くとも500または600℃、好ましくは7
50℃から850℃における十分な加熱によって除去で
きる。
この加熱は約4から約16時間継続する。シリカ中のヒ
ト90キシル基の量はJ、 B、ベリおよびA、 L、
ヘンスリーJr、 によりJ、Phys、 Che
m、 、 72(87゜2926(i968)に開示
の方法に従って測定できる。
ト90キシル基の量はJ、 B、ベリおよびA、 L、
ヘンスリーJr、 によりJ、Phys、 Che
m、 、 72(87゜2926(i968)に開示
の方法に従って測定できる。
加熱がシリカのような多くの担体中に固有的に存在する
OH基を除(最も好まI−い手段であるが、0H基はま
た化学的手段のような他の手段によっても除き得る。例
えば、OH基の所望割合をヒドロキシル反応性のアルミ
ニウム化合物例えばトリエチルアルミニウムのような適
当な化学薬剤と反応させることができる。
OH基を除(最も好まI−い手段であるが、0H基はま
た化学的手段のような他の手段によっても除き得る。例
えば、OH基の所望割合をヒドロキシル反応性のアルミ
ニウム化合物例えばトリエチルアルミニウムのような適
当な化学薬剤と反応させることができる。
担体物質は四価バナジウム化合物と、そして便利にはま
た四価チタニウム化合物と反応することができる固体オ
ルガノマグネシウム組成物を含む液体で以て処理される
。オルガノマグネシウム組成物は式RnMgR’ (2
−n)をもち、この式において、RとR′は同種または
異種のC1−C12炭比水素基、好ましくはC】−04
アルカン基、さらに好ましくはC2−C4アルカン基で
あり、ただしR′はまたハロゲン、好ましくは臭素また
は塩素、最も好ましくは塩素であってもよく、nは0,
1または2である。好ましい具体化において、このよう
なオルガノマグネシウム組成物の溶液はグリニア試薬、
最も好ましくはエチルマグネシウムクロライド8であり
、担体物質をそれの溶液とボールミル磨砕なし第2版、
モリンンおよびボイド、第2版、15回印刷、1968
年5月、112−114および516゜−521頁に記
載されている、エチルマグネシウムクロライド9のグリ
ニア試薬はエチルマグネシウムクロライドゝ自体以外の
分子の混合物を含むことが認められている。例えば、特
に各種液体または溶剤系の影響下では、エチルマグネシ
ウムクロライドは不均化して主としてマグネシウムジク
ロライト9とジエチルマグネシウムとの混合物を形成し
得る。このような混合物は式RnMgR’ −の中に
含まれると考えている。従(2n) って、式RnMgR′(2−n)およびそれを代表する
組成物はこれらの組成物の分子式を示すというよりはこ
れらの組成物の総括的実験式を表わすものとここでは考
えている。
た四価チタニウム化合物と反応することができる固体オ
ルガノマグネシウム組成物を含む液体で以て処理される
。オルガノマグネシウム組成物は式RnMgR’ (2
−n)をもち、この式において、RとR′は同種または
異種のC1−C12炭比水素基、好ましくはC】−04
アルカン基、さらに好ましくはC2−C4アルカン基で
あり、ただしR′はまたハロゲン、好ましくは臭素また
は塩素、最も好ましくは塩素であってもよく、nは0,
1または2である。好ましい具体化において、このよう
なオルガノマグネシウム組成物の溶液はグリニア試薬、
最も好ましくはエチルマグネシウムクロライド8であり
、担体物質をそれの溶液とボールミル磨砕なし第2版、
モリンンおよびボイド、第2版、15回印刷、1968
年5月、112−114および516゜−521頁に記
載されている、エチルマグネシウムクロライド9のグリ
ニア試薬はエチルマグネシウムクロライドゝ自体以外の
分子の混合物を含むことが認められている。例えば、特
に各種液体または溶剤系の影響下では、エチルマグネシ
ウムクロライドは不均化して主としてマグネシウムジク
ロライト9とジエチルマグネシウムとの混合物を形成し
得る。このような混合物は式RnMgR’ −の中に
含まれると考えている。従(2n) って、式RnMgR′(2−n)およびそれを代表する
組成物はこれらの組成物の分子式を示すというよりはこ
れらの組成物の総括的実験式を表わすものとここでは考
えている。
担体は、処理完了後には担体上にマグネシウムが組入れ
られている。ような方式で、オルガノマグネシウム組成
物で以て処理される。この結果を達成する好ましい手段
は、多孔質担体をRnMgR’ < 2−n)の溶解し
たオルガノマグネシウム組成物を含む液状媒体−添加し
、との担体をこの液体と0.1から10、好ましくは0
5から5、最も好ましくは1.0から20時間の間、2
5から200℃、好ましくは50から100℃、最も好
ましくは60から80℃において接触させて保つことで
ある。この処理の結果として、マグネシウムは(i)オ
ルガノマグネシウム組成物と担体との化学反応、(2)
オルガノマグネシウム組成物から担体上へのマグネシウ
ムの沈澱、あるいは(3)この種の反応と沈澱との組合
せ、によって担体細孔中に組入れられるようになる。
られている。ような方式で、オルガノマグネシウム組成
物で以て処理される。この結果を達成する好ましい手段
は、多孔質担体をRnMgR’ < 2−n)の溶解し
たオルガノマグネシウム組成物を含む液状媒体−添加し
、との担体をこの液体と0.1から10、好ましくは0
5から5、最も好ましくは1.0から20時間の間、2
5から200℃、好ましくは50から100℃、最も好
ましくは60から80℃において接触させて保つことで
ある。この処理の結果として、マグネシウムは(i)オ
ルガノマグネシウム組成物と担体との化学反応、(2)
オルガノマグネシウム組成物から担体上へのマグネシウ
ムの沈澱、あるいは(3)この種の反応と沈澱との組合
せ、によって担体細孔中に組入れられるようになる。
グリニア試薬中で見出されるものに相当するオルガノマ
グネシウム組成物は式RMgXをもち、Rは前記定義の
とおりであり、Xは・・ハゲン(例えば01%Brまた
は工)であり、それらはエーテルに可溶である。適当な
エーテルは当業において知られており(例えば山口らの
米国特許第3,989,881、j 第4欄
、32−49行を参照)、脂肪族エーテル例工ばジエチ
ルエーテル、ジイソゾロピルエーテル、シフチルエーテ
ル、シフチルエーテルオヨびエチル−n−メチルエーテ
ル、並びに環状エーテル例えばテトラヒトゝロフランお
よびジオキサンを含む。エーテル(例えばジエチルエー
テル)は、マグネシウム原子がルイス酸として作用しそ
してルイス塩基として作用するエーテル性酸素からの少
くとも一つの電子対と会合する能力のために、この種の
オルガノマグネシウム組成物を溶解することができる。
グネシウム組成物は式RMgXをもち、Rは前記定義の
とおりであり、Xは・・ハゲン(例えば01%Brまた
は工)であり、それらはエーテルに可溶である。適当な
エーテルは当業において知られており(例えば山口らの
米国特許第3,989,881、j 第4欄
、32−49行を参照)、脂肪族エーテル例工ばジエチ
ルエーテル、ジイソゾロピルエーテル、シフチルエーテ
ル、シフチルエーテルオヨびエチル−n−メチルエーテ
ル、並びに環状エーテル例えばテトラヒトゝロフランお
よびジオキサンを含む。エーテル(例えばジエチルエー
テル)は、マグネシウム原子がルイス酸として作用しそ
してルイス塩基として作用するエーテル性酸素からの少
くとも一つの電子対と会合する能力のために、この種の
オルガノマグネシウム組成物を溶解することができる。
このような会合は次のとおりに表現される:
C2H5MgCl
このように、オルガノマグネシウム組成物を含む液状媒
体は通常はエーテル、好ましくはテトラヒトゝロフラン
である。しかし弐RMgXのオルガノマグネシウム化合
物はヘキサンのような非ルイス塩基溶剤の中で不溶であ
る傾向があるけれども、それらは、ルイス塩基溶剤の十
分な可溶化性の量が存在するかぎり、ヘキサン/テトラ
ヒト90フランのような混合溶剤系の中で完全に可溶で
ある。
体は通常はエーテル、好ましくはテトラヒトゝロフラン
である。しかし弐RMgXのオルガノマグネシウム化合
物はヘキサンのような非ルイス塩基溶剤の中で不溶であ
る傾向があるけれども、それらは、ルイス塩基溶剤の十
分な可溶化性の量が存在するかぎり、ヘキサン/テトラ
ヒト90フランのような混合溶剤系の中で完全に可溶で
ある。
従って、本発明の方法を実施する際には、担体を非ルイ
ス塩基補助溶剤の中でスラリー化させてよく、オルガノ
マグネシウム化合物のエーテル溶液。
ス塩基補助溶剤の中でスラリー化させてよく、オルガノ
マグネシウム化合物のエーテル溶液。
をそれへ添加してよい。適当な非ルイス塩基補助溶剤は
また当業において知られており、例えばグラフの米国特
許第4,173,547号、第6欄、61行から第7欄
、8行を参照されたい。これらの補助溶剤はブタン、は
ブタン、ヘキサン、ヘフタン、あるいはそれらの普通に
利用できる混合物例えばガソリン、ケロシン、ガス油あ
るいはその他の石油溜分、のような直鎖または分枝状の
飽和脂肪族炭化水素を含む。さらに、このような補助溶
剤は環状炭化水素例えばシクロペンタ/、シクロヘキサ
ン、メチルシクロヘキサン、並びに芳香放水(ヒ水素例
えばベンゼン、またはハロゲン−芳香族炭化水素例えば
クロロベンゼン、を含む。このような補助溶剤は好まし
くはオルガノマグネシウム組成物と反応性である基を含
むべきではないことが認められる。好ましい補助溶剤は
n−ヘキサンである。
また当業において知られており、例えばグラフの米国特
許第4,173,547号、第6欄、61行から第7欄
、8行を参照されたい。これらの補助溶剤はブタン、は
ブタン、ヘキサン、ヘフタン、あるいはそれらの普通に
利用できる混合物例えばガソリン、ケロシン、ガス油あ
るいはその他の石油溜分、のような直鎖または分枝状の
飽和脂肪族炭化水素を含む。さらに、このような補助溶
剤は環状炭化水素例えばシクロペンタ/、シクロヘキサ
ン、メチルシクロヘキサン、並びに芳香放水(ヒ水素例
えばベンゼン、またはハロゲン−芳香族炭化水素例えば
クロロベンゼン、を含む。このような補助溶剤は好まし
くはオルガノマグネシウム組成物と反応性である基を含
むべきではないことが認められる。好ましい補助溶剤は
n−ヘキサンである。
担体物質はまた、それをオルガノマグネシウム組成物な
部分溶解状態で含む液体と接触させることによって、オ
ルガノマグネシウム組成物を組入れてよい。さらに具体
的にいえば、担体物質はヘキサンのような上記例示の非
ルイス塩基補助溶剤の一つの中でスラリー化しそしてエ
ーテルのような液の中のオルガノマグネシウム組成物溶
液をそ ・れへ添加してよく、補助溶剤の量に相対的
な液体の量はオルガノマグネシウム組成物を部分的にの
み可溶化するのに十分なものである。しかし、オルガノ
マグネシウム組成物が液中で僅かしか□、例えば約1チ
またはそれ以下の程度にしか溶解しない場合には、担体
上の反応性部位によって消費される溶解オルガノマグネ
シウム組成物は質量作用効果による未溶解オルガノマグ
ネシウム組成物のその後の溶解によって置換えられるこ
とが認められるはずである。
部分溶解状態で含む液体と接触させることによって、オ
ルガノマグネシウム組成物を組入れてよい。さらに具体
的にいえば、担体物質はヘキサンのような上記例示の非
ルイス塩基補助溶剤の一つの中でスラリー化しそしてエ
ーテルのような液の中のオルガノマグネシウム組成物溶
液をそ ・れへ添加してよく、補助溶剤の量に相対的
な液体の量はオルガノマグネシウム組成物を部分的にの
み可溶化するのに十分なものである。しかし、オルガノ
マグネシウム組成物が液中で僅かしか□、例えば約1チ
またはそれ以下の程度にしか溶解しない場合には、担体
上の反応性部位によって消費される溶解オルガノマグネ
シウム組成物は質量作用効果による未溶解オルガノマグ
ネシウム組成物のその後の溶解によって置換えられるこ
とが認められるはずである。
担2体上ヘオルガノマグネシウム組成物を組入れるもう
一つの方法はエーテルのようなルイス塩基溶剤の中で担
体物質をスラリー化し、次いでこのスラリーへエーテル
中のオルガノマグネシウム組成物溶液を、便宜的には、
徐々に継続的に滴状でスラリーの液状媒体を環流条件下
で保ちながら添加することである。
一つの方法はエーテルのようなルイス塩基溶剤の中で担
体物質をスラリー化し、次いでこのスラリーへエーテル
中のオルガノマグネシウム組成物溶液を、便宜的には、
徐々に継続的に滴状でスラリーの液状媒体を環流条件下
で保ちながら添加することである。
オルガノマグネシウム組成物は、エチルマグネシウムク
ロライドゝに関して次のとおりに記述し得る反応に従っ
て 担体−OH+C2H5MgCl→担体−0Mg(J+C
2H6反応性表面OH基の部位において担体と反応する
ことができると信じられる。
ロライドゝに関して次のとおりに記述し得る反応に従っ
て 担体−OH+C2H5MgCl→担体−0Mg(J+C
2H6反応性表面OH基の部位において担体と反応する
ことができると信じられる。
マグネシウム組成物を担体上へ組入れる別の手段はマグ
ネシウム化合物をオルガノマグネシウム組成物から液体
溶剤中で担体上へ沈澱させることである。この沈澱は、
溶剤の冷却、初期スラIJ−中で十分に大量の非溶剤を
使用して担体内部にマグネシウム化合物を沈澱させる方
法、スラリーへ非溶剤を添加して担体内部にマグネシウ
ム化合物5つ の沈澱をおこさせる方
法、あるいは溶剤のス) IJツピンダ、を含めた任意
の慣用的手段によっておこり得る。液体溶剤が本質的に
エチルマグネシウムクロライドゝのヘキサン/テトラヒ
ドロフラン溶液である担体スラリーの場合には、溶剤の
蒸溜によって担体上へエチルマグネシウムクロライドゝ
を沈澱させることが好ましい。この観点において、テト
ラヒト80フランとヘキサンはほとんど等しい沸点をも
つことが認められる。従って、これらの溶剤の蒸溜工程
中において、液体状態のテトラヒト90フラン対ヘキサ
ンの比は本質上一定のままであることが期待される。一
方、補助溶剤の沸点がエーテル沸点より著しく高い場合
には、補助溶剤の相対的濃度の蒸溜が進行するにつれて
かなり増加する。このような場合には、存在し得るマグ
ネシウムハライド例えばマグネシウムジノヘライト9が
オルガノマグネシウムが沈澱する前に沈澱する傾向があ
るように、マグネシウム化合物の不均質沈澱がおこり得
る。
ネシウム化合物をオルガノマグネシウム組成物から液体
溶剤中で担体上へ沈澱させることである。この沈澱は、
溶剤の冷却、初期スラIJ−中で十分に大量の非溶剤を
使用して担体内部にマグネシウム化合物を沈澱させる方
法、スラリーへ非溶剤を添加して担体内部にマグネシウ
ム化合物5つ の沈澱をおこさせる方
法、あるいは溶剤のス) IJツピンダ、を含めた任意
の慣用的手段によっておこり得る。液体溶剤が本質的に
エチルマグネシウムクロライドゝのヘキサン/テトラヒ
ドロフラン溶液である担体スラリーの場合には、溶剤の
蒸溜によって担体上へエチルマグネシウムクロライドゝ
を沈澱させることが好ましい。この観点において、テト
ラヒト80フランとヘキサンはほとんど等しい沸点をも
つことが認められる。従って、これらの溶剤の蒸溜工程
中において、液体状態のテトラヒト90フラン対ヘキサ
ンの比は本質上一定のままであることが期待される。一
方、補助溶剤の沸点がエーテル沸点より著しく高い場合
には、補助溶剤の相対的濃度の蒸溜が進行するにつれて
かなり増加する。このような場合には、存在し得るマグ
ネシウムハライド例えばマグネシウムジノヘライト9が
オルガノマグネシウムが沈澱する前に沈澱する傾向があ
るように、マグネシウム化合物の不均質沈澱がおこり得
る。
従って、マグネシウム含有化合物は未反応の形あるいは
反応した形あるいは両方の形の組合せのいずれかで担体
上へ組入れてよい。しかし、マグネシウム含有化合物が
担体上へ組入れられる形態にかかわらず、担体と接触さ
せるのに使用する溶液の中のオルガノマグネシウム組成
物のモル数と担体上のOH基のモル数との比は1.0よ
り大きいことが重要である。好ましくは、この比は1.
1から35であり、最も好ましくは20から3.5であ
る。
反応した形あるいは両方の形の組合せのいずれかで担体
上へ組入れてよい。しかし、マグネシウム含有化合物が
担体上へ組入れられる形態にかかわらず、担体と接触さ
せるのに使用する溶液の中のオルガノマグネシウム組成
物のモル数と担体上のOH基のモル数との比は1.0よ
り大きいことが重要である。好ましくは、この比は1.
1から35であり、最も好ましくは20から3.5であ
る。
担体をオルガノマグネシウム組成物を含む液体と接触さ
せた後、その液体を、担体上に組入れられるマグネシウ
ム含有化合物の除去が最小化される方法で、例えば、含
浸担体と溶剤の混合物の蒸留、蒸発、傾瀉または遠心分
離によって除去する。
せた後、その液体を、担体上に組入れられるマグネシウ
ム含有化合物の除去が最小化される方法で、例えば、含
浸担体と溶剤の混合物の蒸留、蒸発、傾瀉または遠心分
離によって除去する。
液体の沸点付近での蒸発は液体除去の最も好ましい方法
である。担体のヒト90キシル(OH)基と反応しなか
ったマグネシウム含有化合物の過剰が担体上で保持され
るように、この段階において担体を洗滌しないことがま
た重要である。液体を除いたのちに、得られる生成物を
任意の慣用手段により、例えば、室温から80℃におい
て乾燥窒素気流中で12−16時間乾燥することによっ
て、流動性粉末を生成させる。好ましくは担体上へ組入
れたすべてのマグネシウム化合物の和と担体上にもども
とあるOH基とのモル比が1より太き(、好ましくは1
.1から3.5、最も好ましくは20から3.5である
。
である。担体のヒト90キシル(OH)基と反応しなか
ったマグネシウム含有化合物の過剰が担体上で保持され
るように、この段階において担体を洗滌しないことがま
た重要である。液体を除いたのちに、得られる生成物を
任意の慣用手段により、例えば、室温から80℃におい
て乾燥窒素気流中で12−16時間乾燥することによっ
て、流動性粉末を生成させる。好ましくは担体上へ組入
れたすべてのマグネシウム化合物の和と担体上にもども
とあるOH基とのモル比が1より太き(、好ましくは1
.1から3.5、最も好ましくは20から3.5である
。
マグネシウム含有化合物が担体との反応生成物の形にあ
っても、あるいは非反応沈澱の形にあっても、1個また
は1個より多(の電子供与剤(すなわちルイス塩基)と
の錯体の形にあってよい。
っても、あるいは非反応沈澱の形にあっても、1個また
は1個より多(の電子供与剤(すなわちルイス塩基)と
の錯体の形にあってよい。
例えばエチルマグネシウムクロライトゝをヘキサン/テ
トラヒドロフラン溶液から担体上へ沈澱させるときには
、沈澱したエチルマグネシウムクロライドはテトラヒト
80フランで以て錯化される。
トラヒドロフラン溶液から担体上へ沈澱させるときには
、沈澱したエチルマグネシウムクロライドはテトラヒト
80フランで以て錯化される。
担体上へ組入れられるマグネシウム含有化合物の量は、
あとで述べる方式で担体」−へ触媒的有効量のバナジウ
ム(および任意的にはチタニウム)を組入れるために、
四価バナジウムおよび任意的に、四価チタニウムと反応
するのに十分であるべきである。従って、処理された担
体は担体1gあたり0.1から50、好ましくは01か
ら5ミリモルから成るべきである(オルガノマグネシウ
ム組放物による担体の処理が完了した後に)。
あとで述べる方式で担体」−へ触媒的有効量のバナジウ
ム(および任意的にはチタニウム)を組入れるために、
四価バナジウムおよび任意的に、四価チタニウムと反応
するのに十分であるべきである。従って、処理された担
体は担体1gあたり0.1から50、好ましくは01か
ら5ミリモルから成るべきである(オルガノマグネシウ
ム組放物による担体の処理が完了した後に)。
担体上へ固体の反応性オルガノマグネシウム化合物を組
入れる上記例示方法が好ましいが、別の方法が利用でき
ることも理解される。例えば、ジアルキルマグネシウム
組成物を担体上へ本質上エーテルな含まない炭[ヒ水素
溶剤またはハロ炭[ヒ水素溶剤から沈澱させることが可
能である。また、担体と固体マグネシウム組成物とな溶
剤なしでボールミル磨砕装置のような機械的剪断によっ
て組合わせることも可能である。しかし、このようなボ
ールミル方式は、反応性マグネシウム化合物な担木細孔
中へ有効に組入れることができずそしてまた担体の粒径
と形態を乱す傾向があるので+待i+r1あまり好まし
くない。
入れる上記例示方法が好ましいが、別の方法が利用でき
ることも理解される。例えば、ジアルキルマグネシウム
組成物を担体上へ本質上エーテルな含まない炭[ヒ水素
溶剤またはハロ炭[ヒ水素溶剤から沈澱させることが可
能である。また、担体と固体マグネシウム組成物とな溶
剤なしでボールミル磨砕装置のような機械的剪断によっ
て組合わせることも可能である。しかし、このようなボ
ールミル方式は、反応性マグネシウム化合物な担木細孔
中へ有効に組入れることができずそしてまた担体の粒径
と形態を乱す傾向があるので+待i+r1あまり好まし
くない。
マグネシウム化合物を組入れた担体で構成される自由流
動性粉末を次に液状媒体中に溶かした少くとも一つの四
価バナジウム化合物と反応させる。
動性粉末を次に液状媒体中に溶かした少くとも一つの四
価バナジウム化合物と反応させる。
(バナジウム化合物はこの液状媒体中に可溶であり、一
方、マグネシウム含有化合物を含む処理された担体(す
なわち、自由流動性粉末)はこの液状反応媒体の中で不
溶である。別の具体化においては、この自由流動性粉末
を少(とも一つの四価バナジウム化合物と同じ液状媒体
中に溶解した少(とも一つの四価チタニウム化合物の混
合物と接触させる。この別の具体化においては、バナジ
ウムとチタニウムの固化合物を担体上へ組入れる。
方、マグネシウム含有化合物を含む処理された担体(す
なわち、自由流動性粉末)はこの液状反応媒体の中で不
溶である。別の具体化においては、この自由流動性粉末
を少(とも一つの四価バナジウム化合物と同じ液状媒体
中に溶解した少(とも一つの四価チタニウム化合物の混
合物と接触させる。この別の具体化においては、バナジ
ウムとチタニウムの固化合物を担体上へ組入れる。
適当な四価バナジウム化合物はオルガノ−バナジウムあ
るいはハロゲン含有バナジウム化合物であり、それらの
中でバナジウムは+3、+4あるいは+5の酸化状態に
あり、例えば、バナジウムハライドゝ例えば四基[ヒバ
ナジウム、■c14および口臭[ヒバナジウム、VBr
、アルコキサイド8部分が1個から20個、好ましくは
1個から6個の炭素原子の分枝状または非分枝状のアル
キル基をもつバナジウムアルコキサイド、並びにこのよ
うな化合物の混合物である。最も好ましいバナジウム化
合物は四基[ヒバナジウムである。
るいはハロゲン含有バナジウム化合物であり、それらの
中でバナジウムは+3、+4あるいは+5の酸化状態に
あり、例えば、バナジウムハライドゝ例えば四基[ヒバ
ナジウム、■c14および口臭[ヒバナジウム、VBr
、アルコキサイド8部分が1個から20個、好ましくは
1個から6個の炭素原子の分枝状または非分枝状のアル
キル基をもつバナジウムアルコキサイド、並びにこのよ
うな化合物の混合物である。最も好ましいバナジウム化
合物は四基[ヒバナジウムである。
適当な四価チタニウム化合物はチタニウムハライド例え
ば四基「ヒチタニウム、TiCA4、四塩化チタニウム
、TiBr4、アルコキサイド部分が1個がら20個好
ましくは1個から6個の炭素原子をもつチタニウムアル
コキサイド9、およびこのような化合物の混合物を含む
。最も好ましいバナジウム化合物は四塩化チタニウムで
ある。
ば四基「ヒチタニウム、TiCA4、四塩化チタニウム
、TiBr4、アルコキサイド部分が1個がら20個好
ましくは1個から6個の炭素原子をもつチタニウムアル
コキサイド9、およびこのような化合物の混合物を含む
。最も好ましいバナジウム化合物は四塩化チタニウムで
ある。
適当な液状媒体は四箇バナジウムおよび任意的には四価
チタニウム化合物が少くとも一部可溶でありかつ反応温
度に86いて液体である物質である。
チタニウム化合物が少くとも一部可溶でありかつ反応温
度に86いて液体である物質である。
好ましい媒体はヘキサン、n−ヘゾタン、オクタン、ノ
ナン、およびデカンのようなアルカンであり、ただし、
シクロヘキサンのようなシクロアルカン、ベンベンおよ
びエチルベンゼンのような芳香族、およびクロロベンゼ
ン、オルソ−ジクロロベンゼンのようなハロゲン化およ
び水素1ヒ芳香族、を含む各種の他の物質を使用するこ
ともできる。
ナン、およびデカンのようなアルカンであり、ただし、
シクロヘキサンのようなシクロアルカン、ベンベンおよ
びエチルベンゼンのような芳香族、およびクロロベンゼ
ン、オルソ−ジクロロベンゼンのようなハロゲン化およ
び水素1ヒ芳香族、を含む各種の他の物質を使用するこ
ともできる。
最も好ましい液状媒体はn−へブタンである。使用前に
、液状媒体はシリカゲルおよび/または分子篩による濾
過のような精製を行なって触媒活性に悪影響を及ぼし得
る痕跡の水、酸素、極性化合物およびその他の物質を除
くべきである。
、液状媒体はシリカゲルおよび/または分子篩による濾
過のような精製を行なって触媒活性に悪影響を及ぼし得
る痕跡の水、酸素、極性化合物およびその他の物質を除
くべきである。
マグネシウムを含む乾いた自由流動性粉末は一種または
一種以上の四価バナジウムおよび、任意的には、一種ま
たは一種以上の四価チタニウム化合物と固体触媒成分を
生成するのに十分な温度と時間において反応させる。こ
の反応が実施される温度は一40℃から250℃、好ま
しくは0℃から170℃、最も好ましくは25℃から1
00℃の範囲にあってよい。適当な反応時間は係から2
5時間の範囲にあり、捧から6時間が好ましい。
一種以上の四価バナジウムおよび、任意的には、一種ま
たは一種以上の四価チタニウム化合物と固体触媒成分を
生成するのに十分な温度と時間において反応させる。こ
の反応が実施される温度は一40℃から250℃、好ま
しくは0℃から170℃、最も好ましくは25℃から1
00℃の範囲にあってよい。適当な反応時間は係から2
5時間の範囲にあり、捧から6時間が好ましい。
液状媒体中の四価バナジウムとマグネシウム含有担体物
質との反応は便利には、混合物を例えば標準大気圧にお
けるその還流温度へ加熱しながら、四価バナジウム化合
物の溶液中で固体担体をスラリー化することによってお
こる。
質との反応は便利には、混合物を例えば標準大気圧にお
けるその還流温度へ加熱しながら、四価バナジウム化合
物の溶液中で固体担体をスラリー化することによってお
こる。
溶液中ではじめにスラリー化されたマグネシウム含有粉
末へ添加される四価バナジウム化合物の容積はこのよう
な担体1.!9あたり0.1から10vtlであってよ
い。バナジウム化合物溶液の濃度は例えば01から5モ
ルであってよい。しかし、溶液中の四価バナジウム化合
物のモル量は触媒合成第一段階において担体な処理する
のに用いるオルガノマグネシウム組成物のモル量より過
剰であることが重要である。このように、四価バナジウ
ム対オルガノマグネシウム組成物のモル比は1以上から
10、好ましくは3から6である。未反応バナジウムは
傾瀉、濾過および/または洗滌のような任意の適当な分
離法によって除き得る。
末へ添加される四価バナジウム化合物の容積はこのよう
な担体1.!9あたり0.1から10vtlであってよ
い。バナジウム化合物溶液の濃度は例えば01から5モ
ルであってよい。しかし、溶液中の四価バナジウム化合
物のモル量は触媒合成第一段階において担体な処理する
のに用いるオルガノマグネシウム組成物のモル量より過
剰であることが重要である。このように、四価バナジウ
ム対オルガノマグネシウム組成物のモル比は1以上から
10、好ましくは3から6である。未反応バナジウムは
傾瀉、濾過および/または洗滌のような任意の適当な分
離法によって除き得る。
もう一つの具体化においては、固体担体は少(とも一つ
の四価チタニウム化合物並びに少くとも一つのバナジウ
ム化合物を含む溶液で以てスラリー化される。
の四価チタニウム化合物並びに少くとも一つのバナジウ
ム化合物を含む溶液で以てスラリー化される。
四価チタニウム化合物をバナジウム化合物と一緒に使用
するとき、バナジウム化合物のみを含む溶液について述
べた容積割合とモル濃度はまた、バナジウムとチタニウ
ムの各化合物の量が両化合物の合計総量がその和のモル
濃度が上述のとおりすなわち01から5 モルであるよ
うな量であるような割合であるという理解のもとに、バ
ナジウ^ ム化合物とチタニウム化合物の両方を含む溶液へあては
まる。両化合物を含む溶液中のバナジウム対チタニウム
の相対的割合は最終の触媒組成物が001から990、
好ましくは0.1から10.0゜最も好ましくは0.2
から500モル比をもつような割合である。同様に、二
つの化合物、すなわち、バナジウムとチタニウムの量の
合計総量のモル量は触媒合成の第一段階において担体を
処理するのに用いるオルガノマグネシウム組成物のモル
数をこえるべきである。このように、四価バナジウム化
合物と四価チタニウム化合物との和と担体上のオルガノ
マグネシウム組成物のモル数とのモル比は1以上から1
0、好ましくは3から6である。
するとき、バナジウム化合物のみを含む溶液について述
べた容積割合とモル濃度はまた、バナジウムとチタニウ
ムの各化合物の量が両化合物の合計総量がその和のモル
濃度が上述のとおりすなわち01から5 モルであるよ
うな量であるような割合であるという理解のもとに、バ
ナジウ^ ム化合物とチタニウム化合物の両方を含む溶液へあては
まる。両化合物を含む溶液中のバナジウム対チタニウム
の相対的割合は最終の触媒組成物が001から990、
好ましくは0.1から10.0゜最も好ましくは0.2
から500モル比をもつような割合である。同様に、二
つの化合物、すなわち、バナジウムとチタニウムの量の
合計総量のモル量は触媒合成の第一段階において担体を
処理するのに用いるオルガノマグネシウム組成物のモル
数をこえるべきである。このように、四価バナジウム化
合物と四価チタニウム化合物との和と担体上のオルガノ
マグネシウム組成物のモル数とのモル比は1以上から1
0、好ましくは3から6である。
未反応チタニウムはバナジウムと同様、傾瀉、涙過およ
び/または洗滌のような任意の適当な分離法によって除
去することができる。
び/または洗滌のような任意の適当な分離法によって除
去することができる。
もう一つの別の具体化においては、バナジウム含有触媒
は上述の方式でつ(られ、四価チタニウム含有触媒は別
に、バナジウム含有触媒かつ(られるのと同じ方式でつ
くられる。この両触媒な次に適当な割合で組合わせ、バ
ナジウム対チタニウムのモル比が0.01から99.0
.好ましくはo、 iから100、最も好ましくは0.
2から5.0である触媒組成物を得る。
は上述の方式でつ(られ、四価チタニウム含有触媒は別
に、バナジウム含有触媒かつ(られるのと同じ方式でつ
くられる。この両触媒な次に適当な割合で組合わせ、バ
ナジウム対チタニウムのモル比が0.01から99.0
.好ましくはo、 iから100、最も好ましくは0.
2から5.0である触媒組成物を得る。
反応完了後、反応混合物によって形成されるスラリーを
濾過し、適当な洗滌剤例えばヘキサンのようなアルカン
で以て洗滌し、不活性雰囲気例えば窒素の中で乾燥する
。
濾過し、適当な洗滌剤例えばヘキサンのようなアルカン
で以て洗滌し、不活性雰囲気例えば窒素の中で乾燥する
。
上記のとおり、本発明の触媒製造法は水、酸素および他
の触媒毒が実質上存在しないところで実施される。この
ような触媒毎はいずれかの周知の方法、例えば窒素、ア
ルゴンあるいは他の不活性ガスの雰囲気下で製造な実施
することによって、触媒製造段階中に排除することがで
きる。
の触媒毒が実質上存在しないところで実施される。この
ような触媒毎はいずれかの周知の方法、例えば窒素、ア
ルゴンあるいは他の不活性ガスの雰囲気下で製造な実施
することによって、触媒製造段階中に排除することがで
きる。
得られた担持触媒は助触媒または触媒促進剤としてまた
知られる任意の適当な活性化剤で以て活性化することが
できる。このような活性化剤は当業において既知であり
、フィッシャー・サイエンティフィック・カンパニーの
カタログA3−702−10 において刊行されている
「元素周期率表」の第1B、]lA、IIB、l[B、
および■Bの化合物を含むオレフィン重合触媒用の促進
剤として普通に用いられる物質のいずれかを含む。適当
な促進剤の例は米国特許第3.787.384号および
同第4.148.754号に示されており、アルキルリ
チウム化合物、ジアルキル亜鉛化合物、トリアルキル硼
素化合物、トリアルキルアルミニウム化合物、アルキル
アルミニウムハライドゝおよびハイドライド、およびテ
トラアルキルゲルマニウム化合物、のような金属のアル
キル、ハイドライドルキルハイドゝライドおよびアルキ
ルハライド9を含む。有用な促進剤の特定例はn−ブチ
ルリチウム、ジエチル亜鉛、ジ−n−プロピル亜鉛、ト
リエチル硼素、トリエチルアルミニウム、トリインブチ
ルアルミニウム、トリーn−ヘキシルアルミニウム、エ
チルアルミニウムジクロライド、ジプロマイ1−゛およ
びシバイト9ライト9、インブチルアルミニウムジクロ
ライド、ジブロマイドおよびシバイドライト8、ジエチ
ルアルミニウムクロライド、ブロマイドゝおよびハイド
ライド、ジ−n−プロビルアルミニウムクロライド、ブ
ロマイドおよびハイド9ライビ、ジイソブチルアルミニ
ウムクロライド、ブロマイドおよびハイドライド、テト
ラメチルゲルマニウム、およびテトラエチルゲルマニウ
ムを含む。ここで使用するのへ好ましいオルガノ金属促
進剤はアルキル基あたり1個から20個の炭素原子をも
つ第11B族金属のアルキルおよびジアルキルハライド
である。さらに好ましくは、促進剤はアルキル基あたり
1個から6個の炭素原子をもつトリアルキルアルミニウ
ム化合物である。最も好ましいのは、促進剤はトリイソ
ジチルアルミニウムである。
知られる任意の適当な活性化剤で以て活性化することが
できる。このような活性化剤は当業において既知であり
、フィッシャー・サイエンティフィック・カンパニーの
カタログA3−702−10 において刊行されている
「元素周期率表」の第1B、]lA、IIB、l[B、
および■Bの化合物を含むオレフィン重合触媒用の促進
剤として普通に用いられる物質のいずれかを含む。適当
な促進剤の例は米国特許第3.787.384号および
同第4.148.754号に示されており、アルキルリ
チウム化合物、ジアルキル亜鉛化合物、トリアルキル硼
素化合物、トリアルキルアルミニウム化合物、アルキル
アルミニウムハライドゝおよびハイドライド、およびテ
トラアルキルゲルマニウム化合物、のような金属のアル
キル、ハイドライドルキルハイドゝライドおよびアルキ
ルハライド9を含む。有用な促進剤の特定例はn−ブチ
ルリチウム、ジエチル亜鉛、ジ−n−プロピル亜鉛、ト
リエチル硼素、トリエチルアルミニウム、トリインブチ
ルアルミニウム、トリーn−ヘキシルアルミニウム、エ
チルアルミニウムジクロライド、ジプロマイ1−゛およ
びシバイト9ライト9、インブチルアルミニウムジクロ
ライド、ジブロマイドおよびシバイドライト8、ジエチ
ルアルミニウムクロライド、ブロマイドゝおよびハイド
ライド、ジ−n−プロビルアルミニウムクロライド、ブ
ロマイドおよびハイド9ライビ、ジイソブチルアルミニ
ウムクロライド、ブロマイドおよびハイドライド、テト
ラメチルゲルマニウム、およびテトラエチルゲルマニウ
ムを含む。ここで使用するのへ好ましいオルガノ金属促
進剤はアルキル基あたり1個から20個の炭素原子をも
つ第11B族金属のアルキルおよびジアルキルハライド
である。さらに好ましくは、促進剤はアルキル基あたり
1個から6個の炭素原子をもつトリアルキルアルミニウ
ム化合物である。最も好ましいのは、促進剤はトリイソ
ジチルアルミニウムである。
好ましくは、少くとも3重量部の促進剤を固体触媒成分
の1重量部あたりに用いるが、ただし、10:1.25
:1.100:1あるいはそれ以上の高い比率も適当で
あってしばしばきわめて有利な結果を与える。触媒中の
バナジウム1グラム原子あたりの活性化剤のモル数は好
ましくは1から100であり、より好ましくは5から1
00でアル。チタニウムをバナジウムと一緒に用いると
4 きには、上記の割合はバナジウムとチタ
ニウムとのダラム原子合計総量に関して保たれる。
の1重量部あたりに用いるが、ただし、10:1.25
:1.100:1あるいはそれ以上の高い比率も適当で
あってしばしばきわめて有利な結果を与える。触媒中の
バナジウム1グラム原子あたりの活性化剤のモル数は好
ましくは1から100であり、より好ましくは5から1
00でアル。チタニウムをバナジウムと一緒に用いると
4 きには、上記の割合はバナジウムとチタ
ニウムとのダラム原子合計総量に関して保たれる。
触媒は活性化剤と触媒とを別々に重合媒体へ添加するこ
とによってその場において活性化されてよい。触媒と活
性化剤とを、それらを重合媒体中へ導入する前、例えば
、重合媒体中へそれらを一40℃から100℃の温度に
おいて導入する2時間までの前に組合わせることも可能
である。スラリー重合法において促進剤の一部を重合媒
体の前処理のために用いることができる。
とによってその場において活性化されてよい。触媒と活
性化剤とを、それらを重合媒体中へ導入する前、例えば
、重合媒体中へそれらを一40℃から100℃の温度に
おいて導入する2時間までの前に組合わせることも可能
である。スラリー重合法において促進剤の一部を重合媒
体の前処理のために用いることができる。
本発明の方法に従ってつくられる触媒は、以下詳述する
とおり、高水準の生産性とすぐれた安定性を示す。触媒
の安定性水準は従来法のバナジウムベース触媒の安定性
が比較的低水準であることな考えると驚くべきことであ
る。このような従来法のバナジウムベース触媒はそれら
の安定性の合理的水準を保つのに塩素[ヒ炭比水素変性
剤を必要とした。これらの変性剤は時間の関数として触
媒活性度、すなわち触媒安定性を改善したが、それらは
チタニウム含有(p合物の触媒活性を被毒させた。従っ
て、バナジウムとチタニウムの両方を含む触媒は可能性
がなかった。
とおり、高水準の生産性とすぐれた安定性を示す。触媒
の安定性水準は従来法のバナジウムベース触媒の安定性
が比較的低水準であることな考えると驚くべきことであ
る。このような従来法のバナジウムベース触媒はそれら
の安定性の合理的水準を保つのに塩素[ヒ炭比水素変性
剤を必要とした。これらの変性剤は時間の関数として触
媒活性度、すなわち触媒安定性を改善したが、それらは
チタニウム含有(p合物の触媒活性を被毒させた。従っ
て、バナジウムとチタニウムの両方を含む触媒は可能性
がなかった。
しかし本発明のバナジウム触媒は変性剤を使用すること
なく活性を保持するので、バナジウムとチタニウムとの
混合触媒をここでつくることができそして各種の生成物
を生成させる高度の伸縮性を以てオレフィン重合反応に
おいて用いることができる。例えば、ポリマー(コポリ
マー)の分子量分布はバナジウムとチタニウムの割合を
変えることによって制御できる。
なく活性を保持するので、バナジウムとチタニウムとの
混合触媒をここでつくることができそして各種の生成物
を生成させる高度の伸縮性を以てオレフィン重合反応に
おいて用いることができる。例えば、ポリマー(コポリ
マー)の分子量分布はバナジウムとチタニウムの割合を
変えることによって制御できる。
アルファーオレフィンは本発明の方法に従ってつ(られ
る触媒で以て懸濁重合、溶液重合および気相重合を含む
いずれかの適当な方法によって重合させることができる
。気相重合は、流動床反応器中で実施するときに特に、
好ましい。
る触媒で以て懸濁重合、溶液重合および気相重合を含む
いずれかの適当な方法によって重合させることができる
。気相重合は、流動床反応器中で実施するときに特に、
好ましい。
、]” +)マーの分子量は既知の方式で、例えば、水
素を使用することによって、制御できる。本発明の方法
に従ってつ(つた触媒の場合、分子量は比較的低温、例
えば30から105℃において重合な実施するときに水
素で以て適当に制御できる。
素を使用することによって、制御できる。本発明の方法
に従ってつ(つた触媒の場合、分子量は比較的低温、例
えば30から105℃において重合な実施するときに水
素で以て適当に制御できる。
この分子量制御は生成するポリマーの測定できる正のメ
ルトインデックスによって証明することができる。
ルトインデックスによって証明することができる。
メルトフロー比(MFR)値によって測定されるとおり
の、得られるポリマーの分子量分布は代表的には、0.
945から0970の密度と50から01の12メルト
インデツクスとをもつ高密度ポリエチレン(HDPE
)について60から150の範囲にあり、0.920か
ら0.940の密度と50から01の■2 メルトイン
デックスとをもつ線状低密度ポリエチレン(LLDPE
)については90がら240である。
の、得られるポリマーの分子量分布は代表的には、0.
945から0970の密度と50から01の12メルト
インデツクスとをもつ高密度ポリエチレン(HDPE
)について60から150の範囲にあり、0.920か
ら0.940の密度と50から01の■2 メルトイン
デックスとをもつ線状低密度ポリエチレン(LLDPE
)については90がら240である。
当業熟練者にとって知られているとおり、高いMF’R
値はポリマーの比較的広い部子量分布を示すものである
。
値はポリマーの比較的広い部子量分布を示すものである
。
本発明の方法に従ってつくられる触媒はきわめて活性で
あり、3時間でエチレン100pθ1(7に9/cWL
2)あたりで触媒1gあたりポリマー500−5,00
1の活性度をもつことができる。
あり、3時間でエチレン100pθ1(7に9/cWL
2)あたりで触媒1gあたりポリマー500−5,00
1の活性度をもつことができる。
本発明の触媒を使ってつくる線状低密度ポリエチレンポ
リマーはエチレンと1個または1個より多りのca−c
toアルファーオレフィンとのポリマーであることがで
きる。このように、二つのモノマ一単位をもつコポリマ
ーは、三つのモノマー単位をもつターボ1jマーととも
に、可能である。このようなポリマーの特定例はエチレ
ン/1−ブテンコポリマー、エチレン/1−ヘキセンコ
ポリマー、エチレン/4−メチル−1−ペンテンコポリ
マー、エチレン/1−7’テン/1−ヘキセンターポリ
マー、エチレン/ミロピレン/1−ヘキセンターポリマ
ー、および、エチレン/プロピレン/1−ブテンターポ
リマーを含む。プロピレンをコモノマーとして用いると
きには、得られる線状低密度ポリエチレンポリマーは少
くとも4個の炭素原子すもつ少くとも一つの他のアルフ
ァーオレフィンコモノマーをポリマーの少くとも1重量
%の量でもつことが好ましい。このように、エチレン/
プロピレンコポリマーは可能であるが、しかし好ましく
ない。最も好ましいコモノマーは1−ヘキセンであり、
ポリマーの重量で20チまでの量、] ”’!
L < &i 5−”%Ofi−g&t6・生成される
線状低密度ポリエチレンポリマーは好ましくはエチレン
単位を重量で少(とも80チ含む。
リマーはエチレンと1個または1個より多りのca−c
toアルファーオレフィンとのポリマーであることがで
きる。このように、二つのモノマ一単位をもつコポリマ
ーは、三つのモノマー単位をもつターボ1jマーととも
に、可能である。このようなポリマーの特定例はエチレ
ン/1−ブテンコポリマー、エチレン/1−ヘキセンコ
ポリマー、エチレン/4−メチル−1−ペンテンコポリ
マー、エチレン/1−7’テン/1−ヘキセンターポリ
マー、エチレン/ミロピレン/1−ヘキセンターポリマ
ー、および、エチレン/プロピレン/1−ブテンターポ
リマーを含む。プロピレンをコモノマーとして用いると
きには、得られる線状低密度ポリエチレンポリマーは少
くとも4個の炭素原子すもつ少くとも一つの他のアルフ
ァーオレフィンコモノマーをポリマーの少くとも1重量
%の量でもつことが好ましい。このように、エチレン/
プロピレンコポリマーは可能であるが、しかし好ましく
ない。最も好ましいコモノマーは1−ヘキセンであり、
ポリマーの重量で20チまでの量、] ”’!
L < &i 5−”%Ofi−g&t6・生成される
線状低密度ポリエチレンポリマーは好ましくはエチレン
単位を重量で少(とも80チ含む。
線状低密度ポリエチレンポリマーをつくるための特に望
ましい方法はレビンらによる米国特許第4、011.3
82号およびカロルらによる米国特許第4.30256
6号に記載されているような流動床反応器の中で行なわ
れる。
ましい方法はレビンらによる米国特許第4、011.3
82号およびカロルらによる米国特許第4.30256
6号に記載されているような流動床反応器の中で行なわ
れる。
本発明はここでさらに詳細に付属図面を参照して提示さ
れており、 第1図は線状低密度ポリエチレン(LLDPE) のよ
うなポリエチレン製造用の流動床法の線図的解説であり
、 第2図は二つの異なる助触媒をもつ本発明の触媒の安定
性を解説するグラフであり、 第3図は実施例4の触媒の活性度を時間の関数として描
くグラフであり、 第4図は本発明の触媒のMFR値と■2値との関係を描
くグラフであり、 第5図は各種触媒についてのMFR値対工2 メルl・
インデックス値の関係を比較するグラフであり、第6図
は本発明の触媒で以てつくったポリマーについての、密
度対ヘキサン/:r−チレン比の関係を描くグラフであ
り、 第7図は各種触媒について、密度なヘキセン/エチレン
比の関数とし、て比較するグラフである。
れており、 第1図は線状低密度ポリエチレン(LLDPE) のよ
うなポリエチレン製造用の流動床法の線図的解説であり
、 第2図は二つの異なる助触媒をもつ本発明の触媒の安定
性を解説するグラフであり、 第3図は実施例4の触媒の活性度を時間の関数として描
くグラフであり、 第4図は本発明の触媒のMFR値と■2値との関係を描
くグラフであり、 第5図は各種触媒についてのMFR値対工2 メルl・
インデックス値の関係を比較するグラフであり、第6図
は本発明の触媒で以てつくったポリマーについての、密
度対ヘキサン/:r−チレン比の関係を描くグラフであ
り、 第7図は各種触媒について、密度なヘキセン/エチレン
比の関数とし、て比較するグラフである。
第1図を参照すると、図示の方法は反応帯12と減速帯
14とから成る反応器10を利用している。反応帯12
は、補給原料供給物の形にある重合性で変性用のガス成
分と反応帯を通る循環ガスとの連続流によって流動化さ
れている、成長しつつあるポリマー粒子、形成されたポ
リマー粒子および少量の触媒粒子の床から成る。活力の
ある流動床を維持するためには、床を通るガスの質量流
速は流動化に必要とされる最小光以上、好ましくは15
から10倍のGmfで−あり、さらに好ましくは3から
6倍のGmfでなければならない。用語Gmfはここで
は流動化達成に必要とされる最小の質量ガス流について
の略号として容認された形で用いられる。C,Y。ウエ
ンおよびY、 H,ニーの「流動(i966)を参照さ
れたい。
14とから成る反応器10を利用している。反応帯12
は、補給原料供給物の形にある重合性で変性用のガス成
分と反応帯を通る循環ガスとの連続流によって流動化さ
れている、成長しつつあるポリマー粒子、形成されたポ
リマー粒子および少量の触媒粒子の床から成る。活力の
ある流動床を維持するためには、床を通るガスの質量流
速は流動化に必要とされる最小光以上、好ましくは15
から10倍のGmfで−あり、さらに好ましくは3から
6倍のGmfでなければならない。用語Gmfはここで
は流動化達成に必要とされる最小の質量ガス流について
の略号として容認された形で用いられる。C,Y。ウエ
ンおよびY、 H,ニーの「流動(i966)を参照さ
れたい。
床は、局在化「ホットスポット」の形成な妨げかつ反応
帯全体にわたって粒状触媒を保持分布するfうポリマー
粒子を常時含んでいることが重要である。始動時には、
反応帯は通常はガス流な開始させる前に粒状ポリマー粒
子のベースを装填する。このような粒子は形成されるべ
き粒子と性質が同じであってもよくあるいはそれと異っ
ていてもよい。それらが異なるときには、それらは希望
する形成ポリマー粒子と一緒に、はじめの生成物として
抜出される。実際には、所望ポリマー粒子の流動床が始
動床となる。
帯全体にわたって粒状触媒を保持分布するfうポリマー
粒子を常時含んでいることが重要である。始動時には、
反応帯は通常はガス流な開始させる前に粒状ポリマー粒
子のベースを装填する。このような粒子は形成されるべ
き粒子と性質が同じであってもよくあるいはそれと異っ
ていてもよい。それらが異なるときには、それらは希望
する形成ポリマー粒子と一緒に、はじめの生成物として
抜出される。実際には、所望ポリマー粒子の流動床が始
動床となる。
流動床中で使用する部分的または完全に活性化された触
媒は好ましくは、貯蔵物質に対して不活性である窒素ま
たはアルゴンのようなガスの雰囲気の下で、貯槽32の
中で、使用のために貯蔵される。
媒は好ましくは、貯蔵物質に対して不活性である窒素ま
たはアルゴンのようなガスの雰囲気の下で、貯槽32の
中で、使用のために貯蔵される。
流動化は、床へのそして床を通るガスリサイクルの高速
によって、代表的には補給ガスの供給速度の約50倍の
程度の高速によって達成される。
によって、代表的には補給ガスの供給速度の約50倍の
程度の高速によって達成される。
流動床は床中でのガスのしみ出しによってつくり出され
るとおりの可能な自由端の流れの状態の、放荷可能粒子
の濃厚体の外観なもっている。床中の圧力降下は床の質
量を断面積によって割ったものに等しいかやや大きい。
るとおりの可能な自由端の流れの状態の、放荷可能粒子
の濃厚体の外観なもっている。床中の圧力降下は床の質
量を断面積によって割ったものに等しいかやや大きい。
それは従って反応器の幾何形状に依存する。
補給用ガスは床へ、粒状ポリマー生成物が抜出される速
度に等しい速度で供給される。補給用ガスの組成は床の
上方に置いたガス分析器16によって測定される。ガス
分析器は循環されるガスの組成を測定し、補給用ガスの
組成はそれに従って反応帯内部で本質上定常状態ガス組
成を維持するように調節される。
度に等しい速度で供給される。補給用ガスの組成は床の
上方に置いたガス分析器16によって測定される。ガス
分析器は循環されるガスの組成を測定し、補給用ガスの
組成はそれに従って反応帯内部で本質上定常状態ガス組
成を維持するように調節される。
完全な流動化を保証するには、循環ガスおよびj
所望0場合に01′f′Ii給用−N 7−4
7)一部7゛′尾・6へ床0下方で点18において戻さ
れる。ガス分配板20はこの戻り点の上方に置かれて床
の流動化を助ける。
所望0場合に01′f′Ii給用−N 7−4
7)一部7゛′尾・6へ床0下方で点18において戻さ
れる。ガス分配板20はこの戻り点の上方に置かれて床
の流動化を助ける。
床内で反応しないガス流の部分は循環ガス流を構成し、
それは好ましくは、随伴粒子に床へ戻る機会を与える床
上方の減速帯14の中へ通すこと曵 によって、重合帯から取出される。粒子の戻りは減速帯
の部分であってもよくあるいはそれの外装物であっても
よいサイクロン22によって助けられてもよい。望まし
い場合には、循環ガスを次に小粒子を除くよう設計され
たフィルター24中に高ガス流速度で通過させて粉塵が
伝熱表面および一コンプレッサープレードと接触するこ
とを防ぐことができる。
それは好ましくは、随伴粒子に床へ戻る機会を与える床
上方の減速帯14の中へ通すこと曵 によって、重合帯から取出される。粒子の戻りは減速帯
の部分であってもよくあるいはそれの外装物であっても
よいサイクロン22によって助けられてもよい。望まし
い場合には、循環ガスを次に小粒子を除くよう設計され
たフィルター24中に高ガス流速度で通過させて粉塵が
伝熱表面および一コンプレッサープレードと接触するこ
とを防ぐことができる。
循環ガスは次にコンプレッサー25中で圧縮し、次いで
熱交換器26中を通過させ、その中で反応熱を除き、そ
の後、床へ戻す。反応熱を絶えず除くことにより、認め
るほどの温度勾配は床の上部内で存在するように見えな
い。床の底部において6から12インチ(i5’−30
cm)の層において、導入ガスの温度と床の残りの部分
の温度との間で、ある温度勾配は存在する。従って、床
は床帯域の底部層の上方で循環ガスの温度をほとんど直
ちに調節するよう作用してその温度を床の残りの部分の
温度と一致させ、それによって自らを本質上一定の温度
に定常状態下で維持することが観察されている。循環ガ
スは次に反応器へその基底18においてかつ流動床へ分
配板20を通して戻される。
熱交換器26中を通過させ、その中で反応熱を除き、そ
の後、床へ戻す。反応熱を絶えず除くことにより、認め
るほどの温度勾配は床の上部内で存在するように見えな
い。床の底部において6から12インチ(i5’−30
cm)の層において、導入ガスの温度と床の残りの部分
の温度との間で、ある温度勾配は存在する。従って、床
は床帯域の底部層の上方で循環ガスの温度をほとんど直
ちに調節するよう作用してその温度を床の残りの部分の
温度と一致させ、それによって自らを本質上一定の温度
に定常状態下で維持することが観察されている。循環ガ
スは次に反応器へその基底18においてかつ流動床へ分
配板20を通して戻される。
コンプレッサー25はまた熱交換器26の上流に置(こ
とができる。
とができる。
分配板20は反応器の運転において重要な役割を果たす
。流動床は成長中の粒子、形成された粒子並びに触媒粒
子を含む。ポリマー粒子が熱くそして恐らくは活性であ
るので、それらは沈降するのを妨げねばならない。なぜ
ならば、静止塊を存在させる場合にはその中に含まれる
活性触媒はすべて反応し続は溶融をひきおこすかもしれ
ない。
。流動床は成長中の粒子、形成された粒子並びに触媒粒
子を含む。ポリマー粒子が熱くそして恐らくは活性であ
るので、それらは沈降するのを妨げねばならない。なぜ
ならば、静止塊を存在させる場合にはその中に含まれる
活性触媒はすべて反応し続は溶融をひきおこすかもしれ
ない。
床の基底において流動化を維持するのに十分な速度で床
中に循環ガスを拡散させることが、それゆえ、重要であ
る。分配板20はこの目的に役立ち、スクリーン、溝切
り板、孔開き板、バブルキャップ型のプレート、あるい
は当業で既知のいずれかの類似のプレートであってよい
。プレートの要素はすべて静止状であってよく、あるい
は米国特許第3.29 s、 792号に開示の可動式
タイプのものでアラてもよい。プレートが如何なる設計
であっても、循環ガスを粒子中に床の基底において拡散
させて粒子を流動状態に保たねばならず、そしてまた反
応器が運転中でないときには樹脂粒子の静止床を支持す
るのにも役立つ。プレートの可動性要素はプレート中あ
るいはプレート上に捕捉されるホリマー粒子をすべて移
動させるのに使用できる。
中に循環ガスを拡散させることが、それゆえ、重要であ
る。分配板20はこの目的に役立ち、スクリーン、溝切
り板、孔開き板、バブルキャップ型のプレート、あるい
は当業で既知のいずれかの類似のプレートであってよい
。プレートの要素はすべて静止状であってよく、あるい
は米国特許第3.29 s、 792号に開示の可動式
タイプのものでアラてもよい。プレートが如何なる設計
であっても、循環ガスを粒子中に床の基底において拡散
させて粒子を流動状態に保たねばならず、そしてまた反
応器が運転中でないときには樹脂粒子の静止床を支持す
るのにも役立つ。プレートの可動性要素はプレート中あ
るいはプレート上に捕捉されるホリマー粒子をすべて移
動させるのに使用できる。
水素を重合反応における連鎖移動剤として使用してよい
。使用する水素/エチレンの比はガス流中のエチレンモ
ノマーのモルあたり水素がOから0、2モルの間で変り
得る。
。使用する水素/エチレンの比はガス流中のエチレンモ
ノマーのモルあたり水素がOから0、2モルの間で変り
得る。
触媒と反応剤に対して不活性であるガスはまたいずれも
ガス流中に存在することができる。活性剤化合物は反応
系へ通常は熱交換器26から下流にあるガスの、最も熱
い部分において添加するのが好ましい。従って、活性化
剤はガス循環系の中へ計量分配器27から配管27Aを
通して供給することができる。
ガス流中に存在することができる。活性剤化合物は反応
系へ通常は熱交換器26から下流にあるガスの、最も熱
い部分において添加するのが好ましい。従って、活性化
剤はガス循環系の中へ計量分配器27から配管27Aを
通して供給することができる。
構造Zn (Ra ) (Rb )の亜鉛(Zn)化合
物は、式中、RaとRbは同種または異種の01から0
14の脂肪層または芳香族炭化水素基であるが、分子量
調節剤または連鎖移動剤として、すなわち、製造される
コポリマーのメルトフローインデックス値を増すために
、水素と一緒に使用してよい。Oから50モル、好まし
くは20から30モルのZn 化合物を反応器中でガス
流としてチタニウムの1モルあたりに、そして/または
分配板20の上方で使用してよい。分配板上方の点にお
ける触媒の注入は分配板下方での注入が重合をその領域
において開始させ事実上分配板の閉塞をおこさせるので
、重) 要である。成育床中への注入は床
全体にわたってj 触媒を分配するのを
助け、「ホットスポット」の形成をもたらし得る局在的
高触媒濃度点を排除する傾向がある。
物は、式中、RaとRbは同種または異種の01から0
14の脂肪層または芳香族炭化水素基であるが、分子量
調節剤または連鎖移動剤として、すなわち、製造される
コポリマーのメルトフローインデックス値を増すために
、水素と一緒に使用してよい。Oから50モル、好まし
くは20から30モルのZn 化合物を反応器中でガス
流としてチタニウムの1モルあたりに、そして/または
分配板20の上方で使用してよい。分配板上方の点にお
ける触媒の注入は分配板下方での注入が重合をその領域
において開始させ事実上分配板の閉塞をおこさせるので
、重) 要である。成育床中への注入は床
全体にわたってj 触媒を分配するのを
助け、「ホットスポット」の形成をもたらし得る局在的
高触媒濃度点を排除する傾向がある。
窒素またはアルゴンのような触媒に対して不活性である
ガスを使用して部分的または完全に還元した前駆物質組
成物、および必要とされる追加の活性化剛化合物あるい
は非ガス状連鎖移動剤な床の中へ運びこませる。
ガスを使用して部分的または完全に還元した前駆物質組
成物、および必要とされる追加の活性化剛化合物あるい
は非ガス状連鎖移動剤な床の中へ運びこませる。
床の生産速度は触媒注入速度によって制御される。生産
速度は単純に触媒注入速度を増すことによって増大し、
触媒注入速度を減らすことによって減少する。
速度は単純に触媒注入速度を増すことによって増大し、
触媒注入速度を減らすことによって減少する。
触媒注入速度の変化は反応熱発生速度を変化させるので
、循環ガスの温度は熱発生速度の変化に順応するよう上
下に調節される。これは床中で本質上一定の温度を維持
することを保証する。流動床と循環ガス冷却系の両者の
完全計装化は運転者が循環ガス温の適切な調節を行なえ
るよう、床中の温度変化をすべて検出することが必要で
あることは当業熟練者にとって明らかである。
、循環ガスの温度は熱発生速度の変化に順応するよう上
下に調節される。これは床中で本質上一定の温度を維持
することを保証する。流動床と循環ガス冷却系の両者の
完全計装化は運転者が循環ガス温の適切な調節を行なえ
るよう、床中の温度変化をすべて検出することが必要で
あることは当業熟練者にとって明らかである。
与えられた組合せの操作条件の下で、流動床は床の一部
を製品として粒状ポリマー生成物の形成速度に等しい速
度で抜出すことによって、本質上一定の高さに保たれる
。熱発生速度は生成物形成に直接関係するので、反応器
中のガスの温度差(導入ガス温度と出口ガス温度との間
の差)は一定ガス速度における粒状ポリマー形成速度な
きめる。
を製品として粒状ポリマー生成物の形成速度に等しい速
度で抜出すことによって、本質上一定の高さに保たれる
。熱発生速度は生成物形成に直接関係するので、反応器
中のガスの温度差(導入ガス温度と出口ガス温度との間
の差)は一定ガス速度における粒状ポリマー形成速度な
きめる。
粒状、d +)マー生成物は点34においであるいは分
配板20の近くでかつ粒子が沈降する前に送られるガス
流の一部で以て懸濁させて連続的に抜出し、粒子が終局
的の捕集帯に到達するときにさらに重合し焼結するのを
妨げることが好ましい。この懸濁用ガスはまた一つの反
応器の生成物な別の反応器へ駆動するのに使用してよい
。
配板20の近くでかつ粒子が沈降する前に送られるガス
流の一部で以て懸濁させて連続的に抜出し、粒子が終局
的の捕集帯に到達するときにさらに重合し焼結するのを
妨げることが好ましい。この懸濁用ガスはまた一つの反
応器の生成物な別の反応器へ駆動するのに使用してよい
。
粒状ポリマー生成物は凝離帯4oを規定する一対のタイ
マー付きバルブ36と38の交互操作を通して便利かつ
好ましく抜出される。バルブ38を閉ぢている間、バル
ブ36は開放されてガスと生成物の栓をバルブ36との
間の帯域4oへ送り、バルブ36は次に閉ぢられる。バ
ルブ38ケ次に閉ぢて次の生成物回収操作を待つ。
マー付きバルブ36と38の交互操作を通して便利かつ
好ましく抜出される。バルブ38を閉ぢている間、バル
ブ36は開放されてガスと生成物の栓をバルブ36との
間の帯域4oへ送り、バルブ36は次に閉ぢられる。バ
ルブ38ケ次に閉ぢて次の生成物回収操作を待つ。
最後に、この流動床反応器には適切な排気系が備えられ
て始動中および運転停止中の排気を可能にする。
て始動中および運転停止中の排気を可能にする。
流動床生成物は0.005から0.0フインチ(0,0
1から0.18Cr/L)の間、好ましくは0.02か
ら004インチ(0,05か′らO,l0crrL)の
間の平均粒径をもつ。
1から0.18Cr/L)の間、好ましくは0.02か
ら004インチ(0,05か′らO,l0crrL)の
間の平均粒径をもつ。
ガス状モノマーの原料供給流は、不活性ガス稀釈剤の併
用まだは併用なしで、床容積1立方フィートあたり2か
も10ポンド/時(32から162に9/時/函3)の
空間時間速度で反応器中へ供給される。
用まだは併用なしで、床容積1立方フィートあたり2か
も10ポンド/時(32から162に9/時/函3)の
空間時間速度で反応器中へ供給される。
ここで用いるバージン樹脂またはポリマーという用語は
重合反応器から回収されたままの粒状形態のポリマーを
意味している。
重合反応器から回収されたままの粒状形態のポリマーを
意味している。
得られるポリマーはM6000テストについて10〇−
120の値によって暗示されるとおシ低いダイスエル特
性をもつ。”6000テストは溶融ポリマーをオリフィ
スを通して6000秒 の剪断速度で押等しく、d1ニ
オリフイス直径、d2=オリフィス後のポリマー直径で
ある。このようなポリマーは洗剤瓶、石鹸容器、および
有機液体貯蔵に使用するその他の容器のような家庭用お
よび工業用容器のだめの製品の製作に有用である。
120の値によって暗示されるとおシ低いダイスエル特
性をもつ。”6000テストは溶融ポリマーをオリフィ
スを通して6000秒 の剪断速度で押等しく、d1ニ
オリフイス直径、d2=オリフィス後のポリマー直径で
ある。このようなポリマーは洗剤瓶、石鹸容器、および
有機液体貯蔵に使用するその他の容器のような家庭用お
よび工業用容器のだめの製品の製作に有用である。
以下の実施例はさらに本発明を解説するものである。
実施例 1
工程はすべて予備乾燥窒素でパージした溶剤を使用して
精製窒素下でガラスまたは石英設備の中で実施した。
精製窒素下でガラスまたは石英設備の中で実施した。
触媒の製造
第一段階:
651gのデビンン・シリカゲル、銘柄952(米国、
バルテモアのW、 R,グレーズアンドカンパニーのデ
ビンン・ケミカル・ディビイジョンによって供給される
)を80CI’で乾燥窒素雰囲気J 中で
12時間加熱し、次いで3751nlの乾燥ヘキサンを
含む1ノの丸底フラスコの中に入れた。シリカ/ヘキサ
ンスラリーを還流状態とし、250m1のエチルマグネ
シウムクロライド(テトラヒドロフランTHF中で1.
94モル)を滴状で還流溶液へ添加した。還流を1時間
継続し、次いで溶剤を蒸溜によって除去して73.3g
の自由流動性粉末を得た。この自由流動性粉末は0.7
0ミリモル/gのマグネシウム(Mg )を含み、06
6ミリモル/gのMgの理論的計算値にかなシ良く匹敵
する。
バルテモアのW、 R,グレーズアンドカンパニーのデ
ビンン・ケミカル・ディビイジョンによって供給される
)を80CI’で乾燥窒素雰囲気J 中で
12時間加熱し、次いで3751nlの乾燥ヘキサンを
含む1ノの丸底フラスコの中に入れた。シリカ/ヘキサ
ンスラリーを還流状態とし、250m1のエチルマグネ
シウムクロライド(テトラヒドロフランTHF中で1.
94モル)を滴状で還流溶液へ添加した。還流を1時間
継続し、次いで溶剤を蒸溜によって除去して73.3g
の自由流動性粉末を得た。この自由流動性粉末は0.7
0ミリモル/gのマグネシウム(Mg )を含み、06
6ミリモル/gのMgの理論的計算値にかなシ良く匹敵
する。
第二段階:
四塩化バナジウム、V(J4(4,08g、21iミリ
モル)を150m1の乾燥へブタンへ添加し、溶液を5
00m1O丸底フラスコへ移しだ。6.95ミリモルの
Mgを含む第一段階の粉末製品の10.05μを室温で
VCl4./−Xブタン溶液へ添加した。粉末は暗褐色
に変シ、得られたスラリーを1時間還流させ、室温へ冷
却し、沖過し、500m1(i0個の50WLlアリコ
ート)の乾燥ヘキサンで以て洗滌し、窒素流で以て室温
で一晩乾燥した。生成物の10.985’が得られ、こ
れは次のとおりに分析された:Mg(理論値)−0,6
0ミリモル/!j0四塩化バナジウムはALFAプロダ
クツ、チオコール/ヘントロン・デイビジヨン(マサチ
ューセッツ州ダンパー、アンドバー ストリート、15
2)から入手のままで使用した。ヘキサンとへブタンは
す) IJウム上で乾燥し、使用前に新たに蒸溜した。
モル)を150m1の乾燥へブタンへ添加し、溶液を5
00m1O丸底フラスコへ移しだ。6.95ミリモルの
Mgを含む第一段階の粉末製品の10.05μを室温で
VCl4./−Xブタン溶液へ添加した。粉末は暗褐色
に変シ、得られたスラリーを1時間還流させ、室温へ冷
却し、沖過し、500m1(i0個の50WLlアリコ
ート)の乾燥ヘキサンで以て洗滌し、窒素流で以て室温
で一晩乾燥した。生成物の10.985’が得られ、こ
れは次のとおりに分析された:Mg(理論値)−0,6
0ミリモル/!j0四塩化バナジウムはALFAプロダ
クツ、チオコール/ヘントロン・デイビジヨン(マサチ
ューセッツ州ダンパー、アンドバー ストリート、15
2)から入手のままで使用した。ヘキサンとへブタンは
す) IJウム上で乾燥し、使用前に新たに蒸溜した。
テヒソン銘柄952のシリカのヒドロキシル含量は測定
しないが類似シリカの分析を基準に0.40−〇606
0モル/gの間にあることが推定された。
しないが類似シリカの分析を基準に0.40−〇606
0モル/gの間にあることが推定された。
実施例 2−5
追加の触媒を実施例1の手順に従ってつくったが、ただ
しV(J4/Mgモル比を変えた。シリカ中に含まれる
ヒドロキシル基の量、第二段階中の70147M8モル
比、および、最終触媒生成物中のMg計算量(生成物1
gあたりのミリモル数で表現)はそれぞれの実施例につ
いて、第1表にまとめた。
しV(J4/Mgモル比を変えた。シリカ中に含まれる
ヒドロキシル基の量、第二段階中の70147M8モル
比、および、最終触媒生成物中のMg計算量(生成物1
gあたりのミリモル数で表現)はそれぞれの実施例につ
いて、第1表にまとめた。
第1表
I ND”)! 3.0 0.
602 ND’ 3.4 1.00
3 0.40 4.8 0.53 4 0.40 7.0 0.64 5 ND” 3.1 0.58※
ND−測定せず 比較実施例 A カロルらの米国特許44,302,566の教示に実質
上従ってつくったいくつかの触媒をあとで示す実施例に
おいて論するとおシの比較試験において使用した。これ
らの触媒はU比較A」触媒あるいは単純にrAJ触媒吉
ここでょぶ。
602 ND’ 3.4 1.00
3 0.40 4.8 0.53 4 0.40 7.0 0.64 5 ND” 3.1 0.58※
ND−測定せず 比較実施例 A カロルらの米国特許44,302,566の教示に実質
上従ってつくったいくつかの触媒をあとで示す実施例に
おいて論するとおシの比較試験において使用した。これ
らの触媒はU比較A」触媒あるいは単純にrAJ触媒吉
ここでょぶ。
これらの触媒は次の代表的手順によってつくったものと
実質上等しい。
実質上等しい。
機械的攪拌器を備えた51のフラスコの中で、16、’
0J7(0,1613モル)の無水MgC4j2を85
0m1の純テトラヒドロフランと窒素下で混合する。
0J7(0,1613モル)の無水MgC4j2を85
0m1の純テトラヒドロフランと窒素下で混合する。
混合物を室温(25C)で攪拌し、その間1305g(
0,069モル)のT :L Cl 4を滴状で添加し
た。
0,069モル)のT :L Cl 4を滴状で添加し
た。
添加完了後、フラスコ内容物を加熱して半時間から1時
間還流させて固体を溶解する。系を室温へ冷却し、31
の純n−ヘキサンをゆっくりと半時間にわたって添加す
る。黄色固体が沈澱する。上澄液を傾瀉し固体を毎回1
1のn−ヘキサンで以て3回洗滌する。固体を濾過し、
回転蒸発フラノ゛ コ中で40t:’−600で乾燥し
て55gの固体前駆物質組成物が得られる。
間還流させて固体を溶解する。系を室温へ冷却し、31
の純n−ヘキサンをゆっくりと半時間にわたって添加す
る。黄色固体が沈澱する。上澄液を傾瀉し固体を毎回1
1のn−ヘキサンで以て3回洗滌する。固体を濾過し、
回転蒸発フラノ゛ コ中で40t:’−600で乾燥し
て55gの固体前駆物質組成物が得られる。
この前駆物質組成物をこの時点でMgとT1の含量につ
いて分析する。このMgおよび/またはTi化合物のい
くらかがこの前駆物質組成物の単離中に失われるかもし
れないからである。これらの前駆物質組成物を報告する
のにここで用いる実験式はMgとT1がそれらが電子供
与体化合物へまず添加される化合物の形で存在すること
、並びに、11 前駆物質組成物中のすべ
ての他の残留重量が電子供与体化合物に基づくこと、を
仮定することによって誘導される。
いて分析する。このMgおよび/またはTi化合物のい
くらかがこの前駆物質組成物の単離中に失われるかもし
れないからである。これらの前駆物質組成物を報告する
のにここで用いる実験式はMgとT1がそれらが電子供
与体化合物へまず添加される化合物の形で存在すること
、並びに、11 前駆物質組成物中のすべ
ての他の残留重量が電子供与体化合物に基づくこと、を
仮定することによって誘導される。
固体の分析は代表的には次の重量係を示す:Mg−6.
1%、Tl−4,9%。これはTiMg254C18,
9(THF ) 、o に相当し、ここにTHFはテ
トラヒドロフランを表わす。
1%、Tl−4,9%。これはTiMg254C18,
9(THF ) 、o に相当し、ここにTHFはテ
トラヒドロフランを表わす。
この前駆物質組成物は、これは比較A触媒の触媒部分を
構成するものであるが、不活性シリカ担体上に担持され
、カロルらの特許の教示に従って活性化される。
構成するものであるが、不活性シリカ担体上に担持され
、カロルらの特許の教示に従って活性化される。
比較実施例 B
本実施例においては、もう一つの比較触媒(ここで触媒
Bとよぶ)を実施例10手順と類似の方式でつくったが
、ただし、四塩化チタニウム(TIC14)を実施例1
で使用した四塩化バナジウムの代りに使用した。
Bとよぶ)を実施例10手順と類似の方式でつくったが
、ただし、四塩化チタニウム(TIC14)を実施例1
で使用した四塩化バナジウムの代りに使用した。
第一段階:
15、?のデビソンシリカゲル(200Uで4時間乾燥
)を滴下漏斗、水凝縮器、乾燥窒素配管、および頂部攪
拌器を備えたSOO*の四つ口反応フラスコの中へ入れ
だ。ゆるやがな窒素パージ下で、200m6の乾燥ヘキ
サンを攪拌しながらシリカへ添加した。シリカ/ヘキサ
ンスラリーを還流温度とし、THE” 中の2.0M
エチルマグネシウムクロライド’(EtMgCl/TI
F″)溶液の50m1を滴状で添加しく15分間)、還
流をさらに30分間続けた。この後、溶剤を黒部によっ
て除き、シリカゲルを窒素パージ下で80Cにおいて乾
燥した。
)を滴下漏斗、水凝縮器、乾燥窒素配管、および頂部攪
拌器を備えたSOO*の四つ口反応フラスコの中へ入れ
だ。ゆるやがな窒素パージ下で、200m6の乾燥ヘキ
サンを攪拌しながらシリカへ添加した。シリカ/ヘキサ
ンスラリーを還流温度とし、THE” 中の2.0M
エチルマグネシウムクロライド’(EtMgCl/TI
F″)溶液の50m1を滴状で添加しく15分間)、還
流をさらに30分間続けた。この後、溶剤を黒部によっ
て除き、シリカゲルを窒素パージ下で80Cにおいて乾
燥した。
合計収量=29.9;理論Mg含量345ミリモル/g
0第二段階: 15Fの第一段階反応生成物(517ミリモルのMg)
を50(IIlの反応フラスコ(上述のとおシの装置)
の中に入れた。10.01モル(91ミリモル)のTi
ck4を含む200m1のn−ヘゾタンを攪拌しながら
フラスコへ添加した。スラリーを45分間還流させた。
0第二段階: 15Fの第一段階反応生成物(517ミリモルのMg)
を50(IIlの反応フラスコ(上述のとおシの装置)
の中に入れた。10.01モル(91ミリモル)のTi
ck4を含む200m1のn−ヘゾタンを攪拌しながら
フラスコへ添加した。スラリーを45分間還流させた。
この後、スラリーを室温へ冷却し、フィルターフラスコ
(窒素下)へ移し、濾過し、ヘキサンの4個の100m
Aの部分で洗滌し、窒素パージ下で乾燥した。分析した
生成物は1.65ミリモル/ i LvM gと1,2
4ミリモ/lz / jiのT1を含んでいた。この分
析はMgの1ロアミリモル/gの計算量(理論)にかな
シ匹敵している。
(窒素下)へ移し、濾過し、ヘキサンの4個の100m
Aの部分で洗滌し、窒素パージ下で乾燥した。分析した
生成物は1.65ミリモル/ i LvM gと1,2
4ミリモ/lz / jiのT1を含んでいた。この分
析はMgの1ロアミリモル/gの計算量(理論)にかな
シ匹敵している。
比較実施例 C
本実施例の比較触媒Cは米国特許4,011,382に
記載のとおシの商業的に入手できる酸化クロム(Cr
Oa ) ハース触媒である。一般的には、この触媒は
適当なりロム、チタニウムおよび弗素の化合物を乾燥担
体上に沈着させ、次いで得られる組成物を空気中または
酸素中で300Cから900Cの温度において、好まし
くは700t:’から850Cの温度において5から1
5時間加熱することによって活性化することによって形
成される。
記載のとおシの商業的に入手できる酸化クロム(Cr
Oa ) ハース触媒である。一般的には、この触媒は
適当なりロム、チタニウムおよび弗素の化合物を乾燥担
体上に沈着させ、次いで得られる組成物を空気中または
酸素中で300Cから900Cの温度において、好まし
くは700t:’から850Cの温度において5から1
5時間加熱することによって活性化することによって形
成される。
次の代表的手順を使用して触媒Cの試料をつくった。
31の黒部水中の所望量のCrO3の溶液へ、70ミク
ロンの粒径と300 m2/gの表面積をもつ500g
の多孔質シリカ担体を添加した。担体、水およびCr
O3の混合物を攪拌し、15分間放置した。次に濾過し
て2200−2300mlの溶液を除去した。Cr O
3負荷シリカを次に窒素流下で4時間200Cで乾燥し
た。
ロンの粒径と300 m2/gの表面積をもつ500g
の多孔質シリカ担体を添加した。担体、水およびCr
O3の混合物を攪拌し、15分間放置した。次に濾過し
て2200−2300mlの溶液を除去した。Cr O
3負荷シリカを次に窒素流下で4時間200Cで乾燥し
た。
4、00 、?の相持CrO3を次に2000m1の乾
燥インシンタン中でスラリー化し、次に所望量のテトラ
イソプロピルチタニウムをスラリーへ添加した。系は次
に完全に混合し、次いでインベンクンを反応容器の加熱
によって乾燥した。
燥インシンタン中でスラリー化し、次に所望量のテトラ
イソプロピルチタニウムをスラリーへ添加した。系は次
に完全に混合し、次いでインベンクンを反応容器の加熱
によって乾燥した。
乾燥物質を次に活性化剤へ移しく容器を加熱して)、所
望量の(NH4)2SiF6 を添加して混合した。
望量の(NH4)2SiF6 を添加して混合した。
組成物を次いでN2下で50Cにおいて1時間、そして
次に150Cで1時間加熱し、インベンクンをすべて除
去することを保証し、そして火災の危険を避けるように
テトライソプロピルチタネートから有機残留物をゆつく
シと除去した。
次に150Cで1時間加熱し、インベンクンをすべて除
去することを保証し、そして火災の危険を避けるように
テトライソプロピルチタネートから有機残留物をゆつく
シと除去した。
N2気流を次いで乾燥空気の流れで以て置換え、触媒組
成物を300Cで2時間そして次に750Cまたは82
5Cにおいて8時間活性化した。活性化触媒を次に乾燥
空気(周辺温度の)で以て150tll’へ冷却し、次
いで150Cから室温へ、9 N2 (周
辺温度の)で以て冷却した。
成物を300Cで2時間そして次に750Cまたは82
5Cにおいて8時間活性化した。活性化触媒を次に乾燥
空気(周辺温度の)で以て150tll’へ冷却し、次
いで150Cから室温へ、9 N2 (周
辺温度の)で以て冷却した。
活性化触媒中に各要素の所望水準を提供するよう添加し
たクロム、チタニウムおよび弗素の化合物の量は次のと
おシである: 担体へ添加する 活性化触媒中の0.53
0.260.33
0.170.13 0.
0725 4.1 1.5 Q、70.6
Q、3 実施例 6−22 (HDPF生成物の製造) 実施例1−6の触媒の各々を、1.OA?のヘキサンを
室温で添加した1、6ノのオートクレーブスラリー反応
器の中でエチレンを重合させるのに使用した。0.04
7gの各触媒(0,06ミリモルのT1を含む)を50
m1のヘキサン中ヘスラ1.1−化シ、このヘキサンへ
40のA l/T i比を与える十分な量のトリエチル
アルミニウム(活性化剤)を添加した。この触媒スラリ
ーを僅かの窒素圧を使用して反応器へ移し、0.03モ
ルの水素を検量したホーン・ボンベを通して計量するこ
とによって添加した。
たクロム、チタニウムおよび弗素の化合物の量は次のと
おシである: 担体へ添加する 活性化触媒中の0.53
0.260.33
0.170.13 0.
0725 4.1 1.5 Q、70.6
Q、3 実施例 6−22 (HDPF生成物の製造) 実施例1−6の触媒の各々を、1.OA?のヘキサンを
室温で添加した1、6ノのオートクレーブスラリー反応
器の中でエチレンを重合させるのに使用した。0.04
7gの各触媒(0,06ミリモルのT1を含む)を50
m1のヘキサン中ヘスラ1.1−化シ、このヘキサンへ
40のA l/T i比を与える十分な量のトリエチル
アルミニウム(活性化剤)を添加した。この触媒スラリ
ーを僅かの窒素圧を使用して反応器へ移し、0.03モ
ルの水素を検量したホーン・ボンベを通して計量するこ
とによって添加した。
攪拌速度を100 Orpmへ調節し温度調節装置を8
0Cへ設定した。オートクレーブが40cに達したとき
にエチレンを導入し、合計の反応器圧を1151)Si
(8kg/Cn12)へ調節した。
0Cへ設定した。オートクレーブが40cに達したとき
にエチレンを導入し、合計の反応器圧を1151)Si
(8kg/Cn12)へ調節した。
重合は130−15(lのポリマーを生成させるために
25−35分間継続した。
25−35分間継続した。
4、 OQ ppmのイルガノックスI 07.6 (
チバガイギーコーポレーションによって製造される酸化
防止安定剤)をポリマー/ヘキサンスラリ〜へ添加しヘ
キサンをフード下で蒸発させた。生成物を真空浴中へ一
晩60Cで置き、残留ヘキサン及びモノマーを除去した
。
チバガイギーコーポレーションによって製造される酸化
防止安定剤)をポリマー/ヘキサンスラリ〜へ添加しヘ
キサンをフード下で蒸発させた。生成物を真空浴中へ一
晩60Cで置き、残留ヘキサン及びモノマーを除去した
。
多くの実施例において、■−ブテンと1−ヘキセンをモ
ノマーとして使用し、各々の場合に、事前秤量容器から
オートクレーブ中へ窒素の僅かな正圧を使用して導入し
た。結果を第■表にまとめた。
ノマーとして使用し、各々の場合に、事前秤量容器から
オートクレーブ中へ窒素の僅かな正圧を使用して導入し
た。結果を第■表にまとめた。
実施例 23−27
(LLDPE生成物の製造)
線状低密度ポリエチレン生成物を1.61のオートクレ
ーブ中で実施例1−4の触媒を使用してつくった。代表
的実験(第■表中の実施例24)において、オートクレ
ーブを窒素パージ下で9CIへ半時間加熱し次いで室温
へ冷却した。約900m1のへキサンと100&の1−
へキセノを90Orpmで攪拌しながら添加した。(ヘ
キセンとヘキセンとの合計容積は各実験において101
であった)。約0.2(lの所要触媒を乾燥窒素で蔽っ
た触媒添加フラスコへ添加し、約50m6の乾燥ヘキサ
ンとヘキサン中のトリインノチルアルミニウム(Tより
A) (25重量係のTIBA)の1.□rnlを触媒
添加フラスコへ添加して触媒を活性化した。触媒添加フ
ラスコ内容物を僅かの窒素圧で以てオートクレーブへ添
加した。オートクレーブを次に水素で以て充満して約2
0 ps i (0,14kg/cIrL2)の圧力を
与え、次にオートクレーブを約3r/分で加熱して80
Cとした。エチレンを60Cで導入し、作業圧を120
psi (7,8kg/cTL2)の全圧に維持した
。
ーブ中で実施例1−4の触媒を使用してつくった。代表
的実験(第■表中の実施例24)において、オートクレ
ーブを窒素パージ下で9CIへ半時間加熱し次いで室温
へ冷却した。約900m1のへキサンと100&の1−
へキセノを90Orpmで攪拌しながら添加した。(ヘ
キセンとヘキセンとの合計容積は各実験において101
であった)。約0.2(lの所要触媒を乾燥窒素で蔽っ
た触媒添加フラスコへ添加し、約50m6の乾燥ヘキサ
ンとヘキサン中のトリインノチルアルミニウム(Tより
A) (25重量係のTIBA)の1.□rnlを触媒
添加フラスコへ添加して触媒を活性化した。触媒添加フ
ラスコ内容物を僅かの窒素圧で以てオートクレーブへ添
加した。オートクレーブを次に水素で以て充満して約2
0 ps i (0,14kg/cIrL2)の圧力を
与え、次にオートクレーブを約3r/分で加熱して80
Cとした。エチレンを60Cで導入し、作業圧を120
psi (7,8kg/cTL2)の全圧に維持した
。
エチレンをストリップ・チャート・記録計とインターフ
ェースさせたベイスチング・マス・フローメーターNA
LL−50KG/CC−420を通して導入し、エチレ
ンの流れ(II/G)を時間(分)の関数として追跡し
た。
ェースさせたベイスチング・マス・フローメーターNA
LL−50KG/CC−420を通して導入し、エチレ
ンの流れ(II/G)を時間(分)の関数として追跡し
た。
約80分の重合時間の終シにおいて、オートクレーブを
室温へ冷却し、開放し、内容物を大容器中に入れた。約
300卿のイルガノックス1076をヘキサン溶液とし
て添加し、揮発物をフード下で蒸発させた。ポリマー収
量は約142Iであった。
室温へ冷却し、開放し、内容物を大容器中に入れた。約
300卿のイルガノックス1076をヘキサン溶液とし
て添加し、揮発物をフード下で蒸発させた。ポリマー収
量は約142Iであった。
第■表は重合条件と生成物の性質とをまとめた。
活性能の輪廓
慣用のバナジウム・ベースのチーグラ・ナツタ重合触媒
は通常は、トリエチルアルミニウム(TEAL) で
なくトリイソブチルアルミニウム(TIBA) を助
触媒として使用するときにより良好な生産性を示す。こ
れは本発明に従ってつくられる触媒にもそうであシ、そ
の効果は実施例2の触媒について第2図に描かれている
。第2図を検討すると、TEAL還元触媒は僅か0.5
g J !Jマー/分の活性能を示したことを示して
いるが、一方、TよりL還元触媒ははるかに良好な生産
性を示し、2、5 g 4 +Jマー/分の生産を示し
、劣化が比較的ゆつくシであることを示した。
は通常は、トリエチルアルミニウム(TEAL) で
なくトリイソブチルアルミニウム(TIBA) を助
触媒として使用するときにより良好な生産性を示す。こ
れは本発明に従ってつくられる触媒にもそうであシ、そ
の効果は実施例2の触媒について第2図に描かれている
。第2図を検討すると、TEAL還元触媒は僅か0.5
g J !Jマー/分の活性能を示したことを示して
いるが、一方、TよりL還元触媒ははるかに良好な生産
性を示し、2、5 g 4 +Jマー/分の生産を示し
、劣化が比較的ゆつくシであることを示した。
実施例4の触媒の安定度は第3図に示されている。この
すぐれた触媒安定性はこれらの特定のバナジウム・R−
ス触媒に独得の特性であり得る。
すぐれた触媒安定性はこれらの特定のバナジウム・R−
ス触媒に独得の特性であり得る。
一般的に、慣用のバナジウム・ベースのチークラ−・ナ
ツタ触媒は比較的迅速な活性能劣化を示し、これは塩素
化炭化水素変性剤を反応器へ添加することによって補う
ことができる。上記のとおシ、これらの変性剤は触媒の
生産性を改善するが、しかしチタニウム・ベース触媒と
相容性がない。しかし、本発明のバナジウム・ベース触
媒は塩素化炭化水素変性剤を必要としないので、それは
同じチタニウム・ベース触媒と相容性であってバナジウ
ム−およびヂタニウムーベースの触媒混合物で以て各種
の生成物を製造する際に高度の伸縮性゛を与えるもので
ある。
ツタ触媒は比較的迅速な活性能劣化を示し、これは塩素
化炭化水素変性剤を反応器へ添加することによって補う
ことができる。上記のとおシ、これらの変性剤は触媒の
生産性を改善するが、しかしチタニウム・ベース触媒と
相容性がない。しかし、本発明のバナジウム・ベース触
媒は塩素化炭化水素変性剤を必要としないので、それは
同じチタニウム・ベース触媒と相容性であってバナジウ
ム−およびヂタニウムーベースの触媒混合物で以て各種
の生成物を製造する際に高度の伸縮性゛を与えるもので
ある。
第4図はメルトフロー比(MFR=工2□A2)と特定
生成物の分子量尺度である工。メルトインデックスの対
数との間の相関関係を示す。メルトフロー比はメルトイ
ンデックスがそれぞれ0.3および0.4である生成物
について140および75であシ、分子量分布が比較的
高い分子量(よシ)低い工2メルトインデックス)をも
つ生成物についてはるかに広いことを示した。
生成物の分子量尺度である工。メルトインデックスの対
数との間の相関関係を示す。メルトフロー比はメルトイ
ンデックスがそれぞれ0.3および0.4である生成物
について140および75であシ、分子量分布が比較的
高い分子量(よシ)低い工2メルトインデックス)をも
つ生成物についてはるかに広いことを示した。
この効果は四塩化チタニウムは−スの比較触媒Bまたは
比較触媒Aについて観察されなかった。
比較触媒Aについて観察されなかった。
しかし、この効果は第5図に描くとおシ、クロムに−ス
の比較触媒Cについて観察される。
の比較触媒Cについて観察される。
ヘキセンの相対的混入
第6図および第7図は分子量効果を補正していないポリ
マー生成物密度と、実験室反応器のスラリー相中のヘキ
セン/エチレン比との間の相関関係を本発明の触媒につ
いて描くものであり、第7図の場合においてのみ、比較
触媒Aとマグネシウムを高度および低度に負荷させた比
較触媒Bについて描かれている。第7図において、高マ
グネシウム負荷触媒は0.901モル/gのMg含量を
もち、低マグネシウム負荷触媒は050ミリモル/gの
Mg含量をもっていた。第7図のデーターを検討すると
、本発明の触媒の共重合性質が触媒Aと触媒Bとの間の
中間であることを示している。
マー生成物密度と、実験室反応器のスラリー相中のヘキ
セン/エチレン比との間の相関関係を本発明の触媒につ
いて描くものであり、第7図の場合においてのみ、比較
触媒Aとマグネシウムを高度および低度に負荷させた比
較触媒Bについて描かれている。第7図において、高マ
グネシウム負荷触媒は0.901モル/gのMg含量を
もち、低マグネシウム負荷触媒は050ミリモル/gの
Mg含量をもっていた。第7図のデーターを検討すると
、本発明の触媒の共重合性質が触媒Aと触媒Bとの間の
中間であることを示している。
二つの触媒を、触媒調製の第二段階において四塩化バナ
ジウムと四塩化チタニウムの混合物を使“う
用することによってつくった。これらの調製段階は
すべて実施例1において示したのと同じであつた。二つ
の触媒を検討すると最終触媒のグラムあた’!:ro、
66および1.02 ミ!JモルのMgの、異なるマグ
ネシウム水準を含んでいた。これらの触媒の化学的組成
を第■表にまとめた。
ジウムと四塩化チタニウムの混合物を使“う
用することによってつくった。これらの調製段階は
すべて実施例1において示したのと同じであつた。二つ
の触媒を検討すると最終触媒のグラムあた’!:ro、
66および1.02 ミ!JモルのMgの、異なるマグ
ネシウム水準を含んでいた。これらの触媒の化学的組成
を第■表にまとめた。
第■表
28 1.02 1.0
29 0.66 4.2
※第二反応段階において使用したバナジウム/チタニウ
ム モル比。
ム モル比。
各々の触媒で以てつくった生成物を第7表にまとめた。
第7表に示される結果は、中間的なメルトフロー比生成
物を生成させるためには、助触媒としてトリエチルアル
ミニウム(TEAL) よシもトリイソブチルアルミ
ニウム(TよりA) を用いることが重要であること
を暗示している。このように、実施例31のデーターは
TEAL活性化のチタニウム/バナジウム混合触媒が比
較触媒Bに代表的なMFR値をもつ生成物を生成するこ
とを示している。一方、TIBA還元触媒は、実施例3
0゜32.33.34および35において、比較触媒B
とバナジウムのみをベースとする触媒例えば実施例1の
触媒の間の中間のMF’R値をもつポリマーを生成する
。このように、データーはTIBA活性化触媒が活性部
位としてバナジウム中心とチタニウム中心の両方をもつ
ことを示している。トリエチルアルミニウム(TFJA
L)還元触媒は比較B触媒で以てつくられるものと似た
メルトフロー比をもつ生成物を生成し、TEALがバナ
ジウム活性部位を不活性化してポリマーを生成するチタ
ニウム部位のみを残すことを暗示している。このデータ
ーはTIBAを還元剤として使用するときにのみ(第2
図)良好な生産性を示した本発明の触媒と一致する。
物を生成させるためには、助触媒としてトリエチルアル
ミニウム(TEAL) よシもトリイソブチルアルミ
ニウム(TよりA) を用いることが重要であること
を暗示している。このように、実施例31のデーターは
TEAL活性化のチタニウム/バナジウム混合触媒が比
較触媒Bに代表的なMFR値をもつ生成物を生成するこ
とを示している。一方、TIBA還元触媒は、実施例3
0゜32.33.34および35において、比較触媒B
とバナジウムのみをベースとする触媒例えば実施例1の
触媒の間の中間のMF’R値をもつポリマーを生成する
。このように、データーはTIBA活性化触媒が活性部
位としてバナジウム中心とチタニウム中心の両方をもつ
ことを示している。トリエチルアルミニウム(TFJA
L)還元触媒は比較B触媒で以てつくられるものと似た
メルトフロー比をもつ生成物を生成し、TEALがバナ
ジウム活性部位を不活性化してポリマーを生成するチタ
ニウム部位のみを残すことを暗示している。このデータ
ーはTIBAを還元剤として使用するときにのみ(第2
図)良好な生産性を示した本発明の触媒と一致する。
第V図のデーターは、メルト70−比が触媒調製におい
て使用するマグネシウム量に依存することをまた暗示し
ている。このように、実施例28の触媒(i02ミリモ
ルMg/、!i’)は実施例29の触媒(066ミリモ
ルMg/g)よりも高いMFRをもつ生成物を生成した
。
て使用するマグネシウム量に依存することをまた暗示し
ている。このように、実施例28の触媒(i02ミリモ
ルMg/、!i’)は実施例29の触媒(066ミリモ
ルMg/g)よりも高いMFRをもつ生成物を生成した
。
バナジウム触媒生成物のダイスエル
実施例1および3の触媒で以てつくったポリマーを、こ
れらの高MF’R生成物がH工Cプロー成型市場におい
て適当であるかどうかをきめるためにダイスエル測定に
ついてテストした。データーは第■表にまとめる。
れらの高MF’R生成物がH工Cプロー成型市場におい
て適当であるかどうかをきめるためにダイスエル測定に
ついてテストした。データーは第■表にまとめる。
実施例1の触媒は低ダイスエル特性を暗示するM600
0が100−120の範囲内に十分にある生成物を生成
する。実施例3の触媒は許容できないダイスエル挙動を
示し、生成物は120よシ大きいM6000 値をもっ
ていた。この理由は明らかではないが、しかし、データ
ーは、本発明の触媒がH工C市場に適するポリマーを生
成することを示している。
0が100−120の範囲内に十分にある生成物を生成
する。実施例3の触媒は許容できないダイスエル挙動を
示し、生成物は120よシ大きいM6000 値をもっ
ていた。この理由は明らかではないが、しかし、データ
ーは、本発明の触媒がH工C市場に適するポリマーを生
成することを示している。
第1図は線状低密度ポリエチレン(LLDPE)のよう
なポリエチレンを製造する流動床法の線図的解説ηあシ
、 第2図は二つの異なる助触媒をもつ本発明の触媒の安定
性を描くグラフであシ、 第3図は実施例4の触媒の活性能を時間の関数として描
くグラフであシ、 第4図は本発明の触媒のMF’R値と工。値との関係を
描くグラフであり、 第5図は各種の触媒について、MF’R値対工。メルト
インデックス値の関係を比較するグラフであシ、 第6図は本発明の触媒で以てつくったポリマーについて
、密度とヘキセン/エチレン比の関係ヲ描くグラフであ
り、 第7図は各種触媒について、ヘキセン/エチレン比の関
数として密度を比較するグラフである。 第■表 1 0.2529.6 1200.948 1061
0.1115.7 1440.95L 991 0.
3346.6 ’1400.958 ’ 1111 0
.2028.1 1440.957 1023 1.3
168 1290.965 1.333 0.3.43
.4 1450.962 1403 0.4149.7
1210.965.1313 1.8183 102
N’D l713 4.2354 84 ND
137ND−測定せず。しかし、これらの生成物はエ
チレンホモポリマ(HDPE)であった。 (外5名) 図面の浄書(内容に変更なし) FIG、 1 0 q Q 6
0 ’。 w a) の ゼ
ペ0 6 q OO−
−の ゼ oJ ロ
手続補正書(方式) 昭和30年 7月2日 昭和Q年衿−♀願第 フt?67 号ろ、補正をする
者 事件との関係 出 願 人 住所 名代(糊0)モービル中オイル11コーポレーション4
、代理人 5、補正命令の日付 昭和C0年 6月p日(発送日
)A−−
なポリエチレンを製造する流動床法の線図的解説ηあシ
、 第2図は二つの異なる助触媒をもつ本発明の触媒の安定
性を描くグラフであシ、 第3図は実施例4の触媒の活性能を時間の関数として描
くグラフであシ、 第4図は本発明の触媒のMF’R値と工。値との関係を
描くグラフであり、 第5図は各種の触媒について、MF’R値対工。メルト
インデックス値の関係を比較するグラフであシ、 第6図は本発明の触媒で以てつくったポリマーについて
、密度とヘキセン/エチレン比の関係ヲ描くグラフであ
り、 第7図は各種触媒について、ヘキセン/エチレン比の関
数として密度を比較するグラフである。 第■表 1 0.2529.6 1200.948 1061
0.1115.7 1440.95L 991 0.
3346.6 ’1400.958 ’ 1111 0
.2028.1 1440.957 1023 1.3
168 1290.965 1.333 0.3.43
.4 1450.962 1403 0.4149.7
1210.965.1313 1.8183 102
N’D l713 4.2354 84 ND
137ND−測定せず。しかし、これらの生成物はエ
チレンホモポリマ(HDPE)であった。 (外5名) 図面の浄書(内容に変更なし) FIG、 1 0 q Q 6
0 ’。 w a) の ゼ
ペ0 6 q OO−
−の ゼ oJ ロ
手続補正書(方式) 昭和30年 7月2日 昭和Q年衿−♀願第 フt?67 号ろ、補正をする
者 事件との関係 出 願 人 住所 名代(糊0)モービル中オイル11コーポレーション4
、代理人 5、補正命令の日付 昭和C0年 6月p日(発送日
)A−−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)アルファーオレフィン重合反応において使用する担
持触媒組成物の製造方法であつて; (i)反応性OH基をもつ固体の多孔質担体を、実験式 RnMgR′_(_2_−_n_)( I ) をもつ少くとも一つのオルガノマグネシウム組成物を含
む液体と接触させ、この式において、RとR′は同種ま
たは異種でありかつC_1−C_1_2炭化水素基であ
り、ただしR′はハロゲンであつてもよく、nは0、1
または2であり、上記オルガノマグネシウム組成物のモ
ル数が上記担体上のOH基のモル数をこえるものであり
、(ii)工程(i)からの上記液体を除いて乾いた自
由流動状粉末の形でマグネシウム含有担体を得、そして (iii)工程(ii)の上記粉末を、液状媒体と少く
とも一つの四価バナジウム化合物から成る溶液と接触さ
せ、このバナジウム化合物は上記液状媒体中に可溶であ
り、一方、上記のマグネシウム含有担体が上記液体媒体
にほぼ不溶性である、諸工程から成り; 上記接触工程(iii)が、上記液状媒体中で不溶であ
るバナジウム化合物を担体上に組入れる; 製造方法。 2)固体多孔質担体が、それと工程(i)における液体
との接触の前に、担体1gあたり0.3ないし0.7ミ
リモルのOH基を含む、特許請求の範囲第1項に記載の
方法。 3)RがC_1−C_4アルカン基であり、R′がハロ
ゲンである、特許請求の範囲第1項または第2項に記載
の方法。 4)上記の液体を工程(ii)において蒸発によつて除
く、特許請求の範囲第1項ないし第3項のいずれかに記
載の方法。 5)オルガノマグネシウム組成物と担体上のOH基のモ
ル数とのモル比が1.1ないし3.5である、特許請求
の範囲第1項ないし第4項のいずれかに記載の方法。 6)工程(iii)の上記溶液中に存在する上記バナジ
ウム化合物のモル数がそれの化学量論的量をこえている
、特許請求の範囲第1項ないし第5項のいずれかに記載
の方法。 7)四価バナジウム化合物とオルガノマグネシウム組成
物とのモル比が1ないし10である、特許請求の範囲第
6項に記載の方法。 8)四価バナジウム化合物とオルガノマグネシウム組成
物とのモル比が3ないし6である、特許請求の範囲第6
項に記載の方法。 9)四価バナジウム化合物がハロゲン化バナジウムであ
る、特許請求の範囲第1項ないし第8項に記載の方法。 10)工程(ii)の粉末を接触させるために工程(i
ii)において使用する溶液がさらに四価チタン化合物
を含む、特許請求の範囲第1項ないし第9項に記載の方
法。 11)四価バナジウム化合物と四価チタン化合物との和
とオルガノマグネシウム組成物とのモル比が1ないし1
0である、特許請求の範囲第10項に記載の方法。 12)四価バナジウム化合物と四価チタン化合物との和
とオルガノマグネシウム組成物とのモル比が3ないし6
である、特許請求の範囲第10項に記載の方法。 13)四価チタン化合物がハロゲン化チタンである、特
許請求の範囲第10項ないし第12項のいずれかに記載
の方法。 14)前記特許請求の範囲各項のいずれかに記載の方法
によつてつくつた担持触媒組成物。 15)特許請求の範囲第14項に記載の触媒の存在下に
おいて重合を実施することから成る、アルファーオレフ
ィン重合方法。 16)重合をテトライソブチルアルミニウムの助触媒が
さらに存在するところで実施する、特許請求の範囲第1
5項に記載の方法。
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