JPS61210177A - インライン型薄膜形成装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は基板にスパッタリングまたは蒸着によって薄膜
を被着させるインライン型薄膜形成装置に関する。

〔発明の背景〕

インライン型薄膜形成装置は、基板仕込み室、基板に薄
膜を被着させる被着源を有する被着室及び基板取り出し
室が順次隣接して設けられている。

このように、インライン型薄膜形成装置は、被着室が基
板仕込み室及び基板取り出し室と分離しているので、ス
ループットは向上する。しかし、スループットは被着室
に体積する付着物の剥離のために制限されてしまう。

そこで、被着中の異物を減少させる目的で、被着室の壁
に付着した付着物を時々剥離して除去する必要がある。

この壁に付着した付着物を剥離除去させるには、被着室
を大気にする必要があるので、その間製品を製作できな
い。また一度に数枚〜数十枚被着するバッチ式の薄膜形
成装置に比較すると、インライン型薄膜形成装置は毎葉
処理が多く、装置内部の付着物の量も多くなるので、バ
ッチ式より頻繁ｌこ被着室の付着物の剥離をする必要が
ある。

〔発明の目的〕

本発明の一つの目的は、被着室内部の清浄を簡便に行な
うことができ、清浄によるロスタイムの減少を図ること
ができるインライン型薄膜形成装置を提供することにあ
る。

本発明の他の目的は、スループットの向上を図ることが
できるインライン型薄膜形成装置を提供すること−こあ
る。

〔発明の概要〕

本発明の一実施例によれば、被着源を覆うようＩこ防着
板を配設し、しかも防着板を被着室外および被着室内に
搬送できるインライン型薄膜形成装置が提供され、これ
ｌこより被着室の清浄を簡単に行なうことができるとい
う効果が得られる。

〔発明の実施例〕

以下、本発明の一実施例を第１図により説明する。ｇｇ
１図はインライン型スパッタリング装置を示す。基板仕
込み室１と、被着室２と、基板取り出し室３とが順次隣
接して設けられ、各室１．２．３間にはバルブ４．５が
上下動可能に設けられている。前記被着室２には基板に
薄膜を被着させるターゲット６を有するスパッタ電極７
が設けられ。

このスパッタ電極７は第２図に示す円筒型の防着板８で
覆われている。防着板８は、自動的に基板仕込み室１の
２点鎖線の位置より被着室２の実線の位置に、また被着
室２の位置より基板取り出し室３の２点鎖線の位置に搬
送できるようＩこなっている。

次に作用について説明する。まず、基板仕込み室１（こ
清浄した防着板８を置く。そして基板仕込み室１を真空
引きした後、バルブ４を開き、防着板８を基板仕込み室
１より被着室２へ搬送した後、バルブ４を閉じる。

この状態で基板にスパッタ被着させる。この基板へのス
パッタ被着は、次の動作によって行なわれる。まず基板
を基板仕込み室１に設置する。そして基板仕込み室１を
真空引きして所定の真空度になったらバルブ４を開き、
基板を防着板８の上部穴の直上に搬送し、バルブ４を閉
じた後、スパッタ被着を行なう。被着後はバルブ５を開
け、基板を被着室２より基板取り出し室３に搬送する。

このようにして被着を重ね所定の回数になったら、防着
板８の取り出し作業を行なう。この防着板８の取り出し
は、バルブ５を開け、防着板８を被着室２より基板取り
出し室３の２点鎖線の位置に搬送し、その後バルブ５を
閉じる。次に基板取り出し室３をリークして防着板８を
堰り出す。そして被着室２には前記した操作によって清
浄された新しい防着板８を設置する。

このようｌこ、被着室２を清浄にするには、被着室２を
大気圧にすることなしに、防着板８を被着室２より基板
取り出し室３に搬送し、また新しい防着板８を基板仕込
み室１から被着室２に搬送することにより行なえるので
、清浄によるロスタイムが減少し、スループットが向上
する。

第３図は前記した防着板８の搬送および上下動機構の一
実施例を示す。防着板８には外周に搬送用のつば部８ａ
が形成されている。スパッタリング装置の両側壁１０に
は、それぞれ多数のピ／１１．１２が平行に横一列に回
転自在−こ設けられており、ピン１１．１２の側壁１０
内に突出した部分には、前記つば部８ａを支持するロー
ラ１３．１４゛が固定されている。防着板８を上下動さ
せる部分に対応したピン１１の側壁１０外の部分には、
ピン１１と共ｌこ回転可能で、かつピ／１１に対して軸
方向に摺動可能にスプロケット１５が挿着され、他のピ
ン１２の側壁１０外の部分１こは、スプロケット１６が
固定されており、これらスプロケット１５．１６には図
示しない駆動手段で駆動されるチェーン１７が掛は渡さ
れている。

前記ピン１１の端部ｌこは係合板１８が固定されており
、この係合板１８には図示しない駆動手段で矢印Ａ方向
に駆動されるローラ駆動板１９が係合している。またス
パッタリング装置の底板２０には、防着板８を上下動さ
せる部分に防着板８の底面を支持する支持リング２１が
配設されており、この支持リング２１は底板２０の外側
より図示しない駆動手段で上下動させる上下動板２２に
固定されている。

次に作用について説明する。防着板８を搬送する場合に
は、ローラ１３．１４は２点鎖線の状態にあり、防着板
８のつば部８ａがローラ１３，１４上に載置されている
。この状態でチェーン１７を駆動すると、スプロケット
１５．１６およびピン１１．１２を介してローラ１３．
１４が回転し、防着板８は左側より右側ｌこ搬送される
。そして。

防着板８が搬送されてローラ１３の所定の上下動位置に
位置すると、防着板８によって図示しないセ／すが作動
し、このセンサの検出信号によって上下動板２２が上昇
して防着板８の底面を支持する。この状態でローラ駆動
板１９が２点鎖線の位置より実線の位置に後退し、ロー
ラ１３は防着板８のつば部８ａの外側に位置する。次に
上下動板２２が下降して防着板８は実線の状態ｌこ位置
させられる。これにより、防着板８は第１図に示すスパ
ッタ電極７を覆うように配設される。

防着板８を被着室２より基板取出し室３に搬送するには
、まず前記と逆に上下動板２２を上昇させる。次にロー
ラ駆動板１９を前記と逆に作動させてローラ１３を防着
板８のつば部８ａの下方に位置させる。続いて上下動板
２２を下降させると、防着板８はローラ１３１こよって
支持される。この状態でチェーン１７を駆動すると、ロ
ーラ１３．１４が回転し、防着板８は左方向に搬送され
る。

なお、上記実施例においては、スパッタリング装置ζこ
ついて説明したが、蒸着装置でも同様な効果が得られる
。

〔発明の効果〕

以上の説明から明らかなように１本発明によれば、被着
室の清浄を簡便に行なうことができ、ロスタイムが減少
し、スループットは向上する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明になるインライン型薄膜形成装置の一実
施例を示す概略図、第２図は防着板を一部破断て示す斜
視図、第３図は防着板の搬送および上下動機構を示し、
＋ａ＋は平面断面図、ｉｂｌは縦断面図である。 １・・・基板仕込み室、　　　２・・・被着室、３・・
・基板取り出し室、　　　７・・・スパッタ電極、８・
・・防着板、　　　　　　　１１．１２・・・ピン、１
３．１４・・・ローラ、　　　１５．１６・・・スプロ
ケット、　　　１７・・・チェー／。 第１図 第２図 第３図 （ａ）

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 基板仕込み室、基板に薄膜を被着させる被着源を有する
   被着室及び基板取り出し室が順次隣接して設けられたイ
   ンライン型薄膜形成装置において、前記被着源を覆うよ
   うに前記被着室に配設された防着板と、この防着板を前
   記基板仕込み室から前記被着室及びこの被着室から前記
   基板取り出し室に搬送する搬送手段とを備えたことを特
   徴とするインライン型薄膜形成装置。