JPS6122062A - アミノナフト−ルのo−スルホネ−トの製法 - Google Patents
アミノナフト−ルのo−スルホネ−トの製法Info
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Classifications
-
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- C07C309/63—Esters of sulfonic acids
- C07C309/72—Esters of sulfonic acids having sulfur atoms of esterified sulfo groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、アミノナフトール又はアミノナフトールスル
ホン酸のO−スルホネートの製造法に関する。
ホン酸のO−スルホネートの製造法に関する。
アミノナフトール又はアミノナフトールスルホン酸のO
−スルホネートは、長い間染料の中間体としての用途が
公知であった。
−スルホネートは、長い間染料の中間体としての用途が
公知であった。
それらは、「反応の完結に至る苛性アルカリ条件下に保
たれたアミノナフトール又はそのスルホン酸の1つの溶
液にスルホン酸クロライドを作用させる」ことによって
製造される(ドイツ帝国特許第202116号; Fr
dl、、9.388>。
たれたアミノナフトール又はそのスルホン酸の1つの溶
液にスルホン酸クロライドを作用させる」ことによって
製造される(ドイツ帝国特許第202116号; Fr
dl、、9.388>。
この方法はエステル化が該条件下に選択的でないという
欠点を有している。生成物は常にアミノ基がアシル化さ
れたものを、−ある量で含み、これは収率を低下させφ
ばかりでなく、不一な染料を生成する。
欠点を有している。生成物は常にアミノ基がアシル化さ
れたものを、−ある量で含み、これは収率を低下させφ
ばかりでなく、不一な染料を生成する。
本発明は、式
カリ金属カチオン、
R=アルキル、アラルキル又はアリール、及n=1又は
2] のエステルの製造に際して、先ず第1に式のアミノナフ
トールを式 式 %式%) 1式中、Y−ハロゲン、好ましくはCI]のスルホン酸
ハライドと反応させて化合物ごとを特徴とする式(I>
の該エステルの製造法に関する。
2] のエステルの製造に際して、先ず第1に式のアミノナフ
トールを式 式 %式%) 1式中、Y−ハロゲン、好ましくはCI]のスルホン酸
ハライドと反応させて化合物ごとを特徴とする式(I>
の該エステルの製造法に関する。
全反応は水性媒体中で起こり、好ましくは単一容器法で
、即ち中間体を分離しないで1テなわれる。
、即ち中間体を分離しないで1テなわれる。
アミン基はpH3〜11、好ましくはI)H5〜9でア
シル化される。
シル化される。
と、ドロキシル基はpH7〜12、好ましくはpH7〜
10でエステル化される。N−アシル化及び〇−エステ
ル化は0〜80℃、好ましくは10〜60℃、特に、好
ましくは20〜40℃の温度範囲内で起こる。N−アシ
ル基は鉱酸条件すなわちl)H< 2及び約50〜10
0℃の温度で、好ましくはI)H<1及び60〜100
℃の温度で開裂される。
10でエステル化される。N−アシル化及び〇−エステ
ル化は0〜80℃、好ましくは10〜60℃、特に、好
ましくは20〜40℃の温度範囲内で起こる。N−アシ
ル基は鉱酸条件すなわちl)H< 2及び約50〜10
0℃の温度で、好ましくはI)H<1及び60〜100
℃の温度で開裂される。
適当な基Rの例は随時置換された、例えば塩素置換され
たCs〜C4アルキル基、及び随時置換されたフェニル
及びフェニル−C1〜C4アルキル基である。
たCs〜C4アルキル基、及び随時置換されたフェニル
及びフェニル−C1〜C4アルキル基である。
適当なカチオンは特にナトリウムカチオンである。
可能な出発化合物■の例は、8−アミノ−1−ナフトー
ル−3,6−ジスルホン酸、8−アミノ−1−ナフトー
ル−3,5−ジスルホン酸、8−アミノ−1−ナフトー
ル−5−スルホン酸、6−アミノ−1−ナフトール−4
,8−ジスルホン酸、6−アミノ−1−ナフトール−3
−スルホン酸、7−アミノ−1−ナフトール−3−スル
ホン酸、8−アミノ−1−ナフトール−3−スルホン酸
、5−アミノ−1−ナフトール−3−スルホン酸、6−
アミノ−2−ナフトール−4−スルホン酸及び8−アミ
ノ−2−ナフトール−6−スルホン酸である。
ル−3,6−ジスルホン酸、8−アミノ−1−ナフトー
ル−3,5−ジスルホン酸、8−アミノ−1−ナフトー
ル−5−スルホン酸、6−アミノ−1−ナフトール−4
,8−ジスルホン酸、6−アミノ−1−ナフトール−3
−スルホン酸、7−アミノ−1−ナフトール−3−スル
ホン酸、8−アミノ−1−ナフトール−3−スルホン酸
、5−アミノ−1−ナフトール−3−スルホン酸、6−
アミノ−2−ナフトール−4−スルホン酸及び8−アミ
ノ−2−ナフトール−6−スルホン酸である。
アミン基の一時的な保護に適当なアシル化剤は、脂肪族
又は芳香族モノカルボン酸又はポリカルボン酸のハライ
ド又は無水物及び複素環族酸のいずれかのハライドであ
る。
又は芳香族モノカルボン酸又はポリカルボン酸のハライ
ド又は無水物及び複素環族酸のいずれかのハライドであ
る。
次のものは例として言及しうる:ベンゾイルクロライド
、無水安息香酸、2−13−又は4−り0ルベンゾイル
クロライド、2,5−ジクロルベンゾイルクロライド、
3−又は4−ニトロペンゾイルクロライド、0−lm−
又はp−トリルクロライド、フタロイル、イソフタロイ
ル又はテレフタロイルクロライド、無水コハク酸、無水
グルタル酸、無水マレイン酸、ジクロルマレイン酸無水
物、無水フタル酸、無水ナフタレン酸、アセチルクロラ
イド、クロルアセチルクロライド、無水酢酸、ジクロル
アセチルクロライド、ブロムアセチルブロマイド、プロ
ピオニルクロライド、無水プロピオン酸、3−クロルプ
ロピオニルクロライド、ブチリルクロライド、無水醋酸
、4−クロルブチリルクロライド、イソバレリルクロラ
イド、ステアロイルクロライド、メタクリロイルクロラ
イド、オレイルクロライド、オキサリルクロライド、サ
クシニルクロライド、セパジノイルクロライド、ホスゲ
ン、シアヌル酸クロライド、テトラクロルピリミジン及
びジクロルキノキサリン。
、無水安息香酸、2−13−又は4−り0ルベンゾイル
クロライド、2,5−ジクロルベンゾイルクロライド、
3−又は4−ニトロペンゾイルクロライド、0−lm−
又はp−トリルクロライド、フタロイル、イソフタロイ
ル又はテレフタロイルクロライド、無水コハク酸、無水
グルタル酸、無水マレイン酸、ジクロルマレイン酸無水
物、無水フタル酸、無水ナフタレン酸、アセチルクロラ
イド、クロルアセチルクロライド、無水酢酸、ジクロル
アセチルクロライド、ブロムアセチルブロマイド、プロ
ピオニルクロライド、無水プロピオン酸、3−クロルプ
ロピオニルクロライド、ブチリルクロライド、無水醋酸
、4−クロルブチリルクロライド、イソバレリルクロラ
イド、ステアロイルクロライド、メタクリロイルクロラ
イド、オレイルクロライド、オキサリルクロライド、サ
クシニルクロライド、セパジノイルクロライド、ホスゲ
ン、シアヌル酸クロライド、テトラクロルピリミジン及
びジクロルキノキサリン。
好適なアシル化剤は二塩性酸の無水物、特に脂肪族又は
芳香族ジカルボン酸の環状無水物、例えば無水マレイン
酸、ジクロルマレイン酸無水物、無水コハク酸、メチル
コハク酸無水物、シトラコン酸無水物、無水フタル酸又
はナフタレン酸無水物である。
芳香族ジカルボン酸の環状無水物、例えば無水マレイン
酸、ジクロルマレイン酸無水物、無水コハク酸、メチル
コハク酸無水物、シトラコン酸無水物、無水フタル酸又
はナフタレン酸無水物である。
ヒドロキシル基をエステル化するために適当なスルホン
酸ハライドの例は、メシルクロライド、2−クロルエタ
ンスルホニルクロライド、ブタン−1−スル、小ニルク
ロライド、4−クロルブタン−1−スルホニルクロライ
ド、ベンゼンスルホニルクロライド、3−又は4−クロ
ルベンゼンスルホニルクロライド、2−13−又は4−
ニトロベンゼンスルホニルクロライド、〇−又は−p−
トルエンスルボニルクロライド、1.3−ベンゼンジス
ルホニルジクロライド及びアセトアニリド−4−スルホ
ニルクロライドである。
酸ハライドの例は、メシルクロライド、2−クロルエタ
ンスルホニルクロライド、ブタン−1−スル、小ニルク
ロライド、4−クロルブタン−1−スルホニルクロライ
ド、ベンゼンスルホニルクロライド、3−又は4−クロ
ルベンゼンスルホニルクロライド、2−13−又は4−
ニトロベンゼンスルホニルクロライド、〇−又は−p−
トルエンスルボニルクロライド、1.3−ベンゼンジス
ルホニルジクロライド及びアセトアニリド−4−スルホ
ニルクロライドである。
メシルクロライド、ベンゼンスルホニルクロライド及び
p−トルエンスルホニルクロライドは好適である。
p−トルエンスルホニルクロライドは好適である。
実施例 1
8−アミノ−1−ナフトール−3,6−ジスルホン酸4
94gをアルカリ条件下に水約10001に溶解し、こ
の溶液に無水マレイン酸180gを添加した。同時に4
0%水酸化ナトリウム溶液約300m1でpHをアルカ
リ性にした。約2時間後にクロマトグラフィーで監視し
て、N−アシル化が完結した。得られた溶液にベンゼン
スルホニルクロライド約220m1をゆっくりした。同
時に、40%水酸化ナトリウムを更に1301用いてp
Hを常に弱アルカリ性に保った。温度が僅かに上昇した
。得られた溶液に30%塩酸約700m1を添加し、混
合物を90℃で約1時間攪拌した。
94gをアルカリ条件下に水約10001に溶解し、こ
の溶液に無水マレイン酸180gを添加した。同時に4
0%水酸化ナトリウム溶液約300m1でpHをアルカ
リ性にした。約2時間後にクロマトグラフィーで監視し
て、N−アシル化が完結した。得られた溶液にベンゼン
スルホニルクロライド約220m1をゆっくりした。同
時に、40%水酸化ナトリウムを更に1301用いてp
Hを常に弱アルカリ性に保った。温度が僅かに上昇した
。得られた溶液に30%塩酸約700m1を添加し、混
合物を90℃で約1時間攪拌した。
この結果、約3200m1の容量中8−アミノー1−ベ
ンゼンスルホニロキシナフタレン−3,6−ジスルホン
酸の懸濁液を、非常に高純度で及び約95%の収率で得
た。この懸濁液は更なる染料の合成に対して直接使用す
ることができた。
ンゼンスルホニロキシナフタレン−3,6−ジスルホン
酸の懸濁液を、非常に高純度で及び約95%の収率で得
た。この懸濁液は更なる染料の合成に対して直接使用す
ることができた。
実施例1の8−アミノ−1−ナフトール−3゜6−ジス
ルホン酸の代りに第1表の遊離物を用い、実施例1の無
水マレイン酸を第1表の対応するアシル化剤を用い、そ
して他の点に関しては実施例1の方法を繰返した場合、
同様に有用な染料の中間体である第1表の対応する生成
物が高収率及び高純度で得られた。
ルホン酸の代りに第1表の遊離物を用い、実施例1の無
水マレイン酸を第1表の対応するアシル化剤を用い、そ
して他の点に関しては実施例1の方法を繰返した場合、
同様に有用な染料の中間体である第1表の対応する生成
物が高収率及び高純度で得られた。
箇 ■ 表
N−アシル スルホニル
′=之圧例 出発物質′MrlAl物 止剤
クロライド 最終生成物8−アミノ
ー1−ナフト−無水酢酸 メシル 8−アミ
ン−1−メチルスルルー3.6−ジスルホン酸
クロライド 小ニロキシナフタレンー3,
6−ジスルボン酸 8−アミノ−1−す71−一 無水マレ ベンゼ
ン 8−アミノ−1−ベンゼンスルー3.5−ジス
ルホン酸 イン酸 スルホニル スルホニロ
キシナフタレクロライド シー3,5−ジスルホン酸
8−アミノ−1−ナフト−無水フタ ベンゼン
8−アミノ−1−ベンゼンルー3.5−ジスルホン酸
ル酸 スルホニル スルホニロキシナフ
タレクロライド シー3,5−ジスルホン酸8−アミ
ノ−1−ナフト−ベンゾイル ベンゼン 8−ア
ミノ−1−ベンゼンルー5−スルホン酸 クロラ
イド スルホニル スルホニロキシナフタレクロラ
イド シー5−ジスルホン酸 6−アミノ−1−ナフト−無水マレ ベンゼン
6−アミノ−1−ベンゼンルー4,8−ジスルホン酸
イン酸 スルホニル スルホニロキシナフ
タレクロライド シー4.8−ジスルホン酸6−アミ
ノ−1−ナフト−無水酢酸 ベンゼン 6−ア
ミノ−1−ベンゼンルー4.8−ジスルホン酸
スルホニル スルホニロキシナフタレクロ
ライド シー4.8−ジスルホン酸6−アミノ−1−
ナフト−無水マレ ベンゼン 6−アミノ−1
−ベンゼンスルー3−ジスルホン酸 イン酸
スルボニル スルホニロキシナフタレクロライド
シー3−スルホン酸 6−アミノ−1−デフ1−一 ホスゲン ベンゼ
ン 6−アミノ−1−ベンゼンルー3−ジスルホン
酸 スルホニル スルホニロキシ
ナフタレクロライド シー3−スルホン酸 6−アミノ−1−ナフト−ホスケン メシル
6−アミノ−1−メチルスルルー3−ジスルホンII
賞 クロライド ホニロキシナ
フタレンー3−スルホン酸
クロライド 最終生成物8−アミノ
ー1−ナフト−無水酢酸 メシル 8−アミ
ン−1−メチルスルルー3.6−ジスルホン酸
クロライド 小ニロキシナフタレンー3,
6−ジスルボン酸 8−アミノ−1−す71−一 無水マレ ベンゼ
ン 8−アミノ−1−ベンゼンスルー3.5−ジス
ルホン酸 イン酸 スルホニル スルホニロ
キシナフタレクロライド シー3,5−ジスルホン酸
8−アミノ−1−ナフト−無水フタ ベンゼン
8−アミノ−1−ベンゼンルー3.5−ジスルホン酸
ル酸 スルホニル スルホニロキシナフ
タレクロライド シー3,5−ジスルホン酸8−アミ
ノ−1−ナフト−ベンゾイル ベンゼン 8−ア
ミノ−1−ベンゼンルー5−スルホン酸 クロラ
イド スルホニル スルホニロキシナフタレクロラ
イド シー5−ジスルホン酸 6−アミノ−1−ナフト−無水マレ ベンゼン
6−アミノ−1−ベンゼンルー4,8−ジスルホン酸
イン酸 スルホニル スルホニロキシナフ
タレクロライド シー4.8−ジスルホン酸6−アミ
ノ−1−ナフト−無水酢酸 ベンゼン 6−ア
ミノ−1−ベンゼンルー4.8−ジスルホン酸
スルホニル スルホニロキシナフタレクロ
ライド シー4.8−ジスルホン酸6−アミノ−1−
ナフト−無水マレ ベンゼン 6−アミノ−1
−ベンゼンスルー3−ジスルホン酸 イン酸
スルボニル スルホニロキシナフタレクロライド
シー3−スルホン酸 6−アミノ−1−デフ1−一 ホスゲン ベンゼ
ン 6−アミノ−1−ベンゼンルー3−ジスルホン
酸 スルホニル スルホニロキシ
ナフタレクロライド シー3−スルホン酸 6−アミノ−1−ナフト−ホスケン メシル
6−アミノ−1−メチルスルルー3−ジスルホンII
賞 クロライド ホニロキシナ
フタレンー3−スルホン酸
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [式中、X=H又は1価のカチオン、 R=アルキル、アラルキル又はアリール、及び n=1又は2] のエステルの製造に際して、先ず第1に式 ▲数式、化学式、表等があります▼ のアミノナフトールを式 ▲数式、化学式、表等があります▼ のN−アシルアミノ化合物に変え、次いでこれをRSO
_2Y [式中、Y=ハロゲン、好ましくはCl] のスルホン酸ハライドと反応させて化合物 ▲数式、化学式、表等があります▼ を製造し、そしてN−アシル基を開裂させる、ことを特
徴とする式( I )の該エステルの製造法。 2、N−アシル化を二塩基性脂肪族又は芳香族カルボン
酸の無水物を用いて行なう特許請求の範囲第1項記載の
方法。 3、中間体を分離しないで行なう特許請求の範囲第1項
又は第2項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3316984.5 | 1983-05-10 | ||
| DE19833316984 DE3316984A1 (de) | 1983-05-10 | 1983-05-10 | Verfahren zur herstellung von o-sulfonsaeureestern gegebenenfalls substituierter aminonaphthole |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6122062A true JPS6122062A (ja) | 1986-01-30 |
| JPH0150697B2 JPH0150697B2 (ja) | 1989-10-31 |
Family
ID=6198595
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59089605A Granted JPS6122062A (ja) | 1983-05-10 | 1984-05-07 | アミノナフト−ルのo−スルホネ−トの製法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0124831B1 (ja) |
| JP (1) | JPS6122062A (ja) |
| DE (2) | DE3316984A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0253961A (ja) * | 1988-08-16 | 1990-02-22 | Supaado Raseeri | ドライ染み抜き法 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0808343B1 (de) * | 1995-02-07 | 1999-05-26 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von reaktivazofarbstoffen |
| KR100779750B1 (ko) * | 2005-05-19 | 2007-11-26 | 노키아 코포레이션 | 제어가능한 안테나 장치 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE254715C (ja) * | ||||
| DE193099C (ja) * | ||||
| DE202116C (ja) | 1907-06-27 | |||
| US2518023A (en) * | 1946-10-31 | 1950-08-08 | Geigy Ag J R | Azo dyestuffs |
-
1983
- 1983-05-10 DE DE19833316984 patent/DE3316984A1/de not_active Withdrawn
-
1984
- 1984-04-27 DE DE8484104731T patent/DE3460969D1/de not_active Expired
- 1984-04-27 EP EP84104731A patent/EP0124831B1/de not_active Expired
- 1984-05-07 JP JP59089605A patent/JPS6122062A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0253961A (ja) * | 1988-08-16 | 1990-02-22 | Supaado Raseeri | ドライ染み抜き法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0124831A1 (de) | 1984-11-14 |
| DE3316984A1 (de) | 1984-11-15 |
| JPH0150697B2 (ja) | 1989-10-31 |
| EP0124831B1 (de) | 1986-10-15 |
| DE3460969D1 (en) | 1986-11-20 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |