JPS61222011A - 磁気ヘツド製造用複合材 - Google Patents
磁気ヘツド製造用複合材Info
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- JPS61222011A JPS61222011A JP6476285A JP6476285A JPS61222011A JP S61222011 A JPS61222011 A JP S61222011A JP 6476285 A JP6476285 A JP 6476285A JP 6476285 A JP6476285 A JP 6476285A JP S61222011 A JPS61222011 A JP S61222011A
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- Pending
Links
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
-
- G—PHYSICS
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気へ・・ド製造に用いる材料の構造に関する
。
。
本発明は、磁気へヴド製造用の材料において。
軟磁性薄膜と非磁性基板が交互に積層し几構造をとるこ
とにより、公知のフェライトへ9ド製造工穆と同様の工
程によりて狭トラヴク磁気ヘッドが製造できるようにし
友ものである。
とにより、公知のフェライトへ9ド製造工穆と同様の工
程によりて狭トラヴク磁気ヘッドが製造できるようにし
友ものである。
従来、磁気ヘッドの製造には、特公昭59−31772
号公報のように、材料としてフェライトを用V1,2つ
のフェライトウェハーに所定の形状加工を施した後に1
両ウェハーを薄膜を介して衝合することにより磁気ギャ
ップを形成したブロックとし、該ブロックをスライスし
て磁気へッドチリブを得て−た。ところが近年8tm
V T Rの商品化等により、メタルテープ等の高保磁
力記録媒体が使用されるようになり、磁気ヘダド材もフ
ェライトよりも透磁率の高いセンダスト・アモルファス
合金へと移行し、形状的にも高密度配置のために狭トラ
噌り化がされてき友。IF5図は狭トラツクへ噌ドの構
造を示す斜視図であるが、10〜20μmの狭トラダク
を形成する磁気へラドコア材4の両側を非磁性基板5.
6により補強する複合構造をとるため、従来の単一材料
からなるフェライトヘッドの製造工程を適要するととh
tできなくなった。
号公報のように、材料としてフェライトを用V1,2つ
のフェライトウェハーに所定の形状加工を施した後に1
両ウェハーを薄膜を介して衝合することにより磁気ギャ
ップを形成したブロックとし、該ブロックをスライスし
て磁気へッドチリブを得て−た。ところが近年8tm
V T Rの商品化等により、メタルテープ等の高保磁
力記録媒体が使用されるようになり、磁気ヘダド材もフ
ェライトよりも透磁率の高いセンダスト・アモルファス
合金へと移行し、形状的にも高密度配置のために狭トラ
噌り化がされてき友。IF5図は狭トラツクへ噌ドの構
造を示す斜視図であるが、10〜20μmの狭トラダク
を形成する磁気へラドコア材4の両側を非磁性基板5.
6により補強する複合構造をとるため、従来の単一材料
からなるフェライトヘッドの製造工程を適要するととh
tできなくなった。
第3図は、このような複合型の狭トラ9クヘッドの製造
工程の一例を示すものであり、AKおり1て非磁性基板
上にセンダスト等の軟磁性薄膜をスパッタリングにより
形成し、さら経補強板を重ねて接着して%Bのようなラ
ミネート構造のブロックとする。該ブロックをCのよう
に細長い短冊状コアに切断して、片側のコアに巻線窓を
形成する溝を入れる。両コアの磁気ギャップ形成面を鏡
面研摩し之後に、磁気ギヤ9ブ形成部に所要ギヤ9プ長
のイの8i 0x膜をそれぞれスパッタリングにより形
成する。次に両コアを、軟磁性薄膜による狭トラツクh
’−正しく合っ友状態で衝合・接着し念ものがDであり
、これを切断して磁気ヘッドチップの大きさにしたもの
がE、テープ走行面の円筒研削を施し、厚2Lを落とし
九完成品の磁気ヘーIトチ・Iプb−Fである。
工程の一例を示すものであり、AKおり1て非磁性基板
上にセンダスト等の軟磁性薄膜をスパッタリングにより
形成し、さら経補強板を重ねて接着して%Bのようなラ
ミネート構造のブロックとする。該ブロックをCのよう
に細長い短冊状コアに切断して、片側のコアに巻線窓を
形成する溝を入れる。両コアの磁気ギャップ形成面を鏡
面研摩し之後に、磁気ギヤ9ブ形成部に所要ギヤ9プ長
のイの8i 0x膜をそれぞれスパッタリングにより形
成する。次に両コアを、軟磁性薄膜による狭トラツクh
’−正しく合っ友状態で衝合・接着し念ものがDであり
、これを切断して磁気ヘッドチップの大きさにしたもの
がE、テープ走行面の円筒研削を施し、厚2Lを落とし
九完成品の磁気ヘーIトチ・Iプb−Fである。
〔発明が解決しようとする問題点及び目的〕しかじな6
”−ら、前記のようなa遣工程では、コアl(:I?け
るへヴドチップの配列が平面的であり、1組のコアから
数個種度の磁気ヘッドチップしか得られないという、■
産、ヒの問題を有する。ま次軟磁性薄11Kによる狭ト
ラツクを衝合する際も、トラックずれの状態はコアの両
端にあ几る2ケ所の入でしか確認することができない。
”−ら、前記のようなa遣工程では、コアl(:I?け
るへヴドチップの配列が平面的であり、1組のコアから
数個種度の磁気ヘッドチップしか得られないという、■
産、ヒの問題を有する。ま次軟磁性薄11Kによる狭ト
ラツクを衝合する際も、トラックずれの状態はコアの両
端にあ几る2ケ所の入でしか確認することができない。
さらに最終工程の円筒研削及び厚入出しを行なう時点の
ワークの大きさけ2〜3u角であり、扱いが非常に困難
であることが問題点として挙げられる。そこで本発明は
このような問題点を解決するもので、その目的とすると
ころは、センダストやアモルファス合金等の軟磁性薄膜
を形成した非磁性基板を積層してブロック化し、核ブロ
ックを磁気ヘッド製造の際のコア材として用いることに
より、狭トラツク型のヘッドを従来のフェライトへ・ノ
ドと同穆度の量産性と工程の容易さを備えた製造工程に
より製造できる手段を提供するところにある。
ワークの大きさけ2〜3u角であり、扱いが非常に困難
であることが問題点として挙げられる。そこで本発明は
このような問題点を解決するもので、その目的とすると
ころは、センダストやアモルファス合金等の軟磁性薄膜
を形成した非磁性基板を積層してブロック化し、核ブロ
ックを磁気ヘッド製造の際のコア材として用いることに
より、狭トラツク型のヘッドを従来のフェライトへ・ノ
ドと同穆度の量産性と工程の容易さを備えた製造工程に
より製造できる手段を提供するところにある。
本発明の磁気へリド製造用複合材は、複数枚の非磁性基
板上に軟磁性薄膜を形成し、前記基板を重ね合わせてガ
ラス融着等の手段を用いて一体化することにより、軟磁
性薄膜と非磁性基板を交互に積層させていることを特徴
とする。
板上に軟磁性薄膜を形成し、前記基板を重ね合わせてガ
ラス融着等の手段を用いて一体化することにより、軟磁
性薄膜と非磁性基板を交互に積層させていることを特徴
とする。
11E1図は本発明の実施例における複合材の構造を示
す断面図であり、第4図は該複合材を使用し次狭トラッ
クヘッドの製造法の工程図である。
す断面図であり、第4図は該複合材を使用し次狭トラッ
クヘッドの製造法の工程図である。
以下、この2図を用いて本発明の詳細な説明する。まず
第1図において1け非磁性基板であり後の熱工程を考慮
して、形成する軟磁性薄l!J2に熱膨張係数を合わせ
念ものを使用する。前記非磁性基板1の片面を鏡面仕上
げし、スパッタリングや蒸着等の薄噂形成手段により、
センダストやアモルファス合金等の軟磁性薄l!2を所
要のトラック幅に至るまで形成する。ここで形成されt
軟磁性薄膜2け熱処理を加えることにより、磁気特性h
Z改善される。次に軟磁性薄膜2上に前記熱処理温度よ
りも低融点の融着ガラス3をスパッタリングにより積′
層する。ここで前記工程まで終え友複数枚の基板を重ね
合わせて治具に挾持し、圧力を加えながら高温炉に入れ
て、融着ガラス3を溶融させること忙より、積層され几
複合材のプロ9りを得る。
第1図において1け非磁性基板であり後の熱工程を考慮
して、形成する軟磁性薄l!J2に熱膨張係数を合わせ
念ものを使用する。前記非磁性基板1の片面を鏡面仕上
げし、スパッタリングや蒸着等の薄噂形成手段により、
センダストやアモルファス合金等の軟磁性薄l!2を所
要のトラック幅に至るまで形成する。ここで形成されt
軟磁性薄膜2け熱処理を加えることにより、磁気特性h
Z改善される。次に軟磁性薄膜2上に前記熱処理温度よ
りも低融点の融着ガラス3をスパッタリングにより積′
層する。ここで前記工程まで終え友複数枚の基板を重ね
合わせて治具に挾持し、圧力を加えながら高温炉に入れ
て、融着ガラス3を溶融させること忙より、積層され几
複合材のプロ9りを得る。
前記複合材を用い之場合の磁気ヘッド製造工程例として
は、第4図の工程が考えられる。まずαに示し几複合材
をスライサーによりOBNま几はダイヤモンド砥石を用
いて切断し、bのようにトラックを形成する軟磁性薄膜
層hzアジマス角θだけ傾く形でコアブロックのペアを
得る。従来のフェライトヘッド製造工程の場合次工程で
ダイサーを用いてトラック形成用の溝を入れていff−
4z、ダイサーの累積ピッチ誤差の影響により、磁気ギ
ヤ9プ形成のための衝合時に、コアブロックの片端にお
けるトラックを衝合させると、他端においてトラックず
れを生じていた。しかしながら本工程では、トラック形
成のための機械加工が不要で前記の問題は生じない定め
、この点ではフェライトへリド製造工程よりも優れてい
ると言える。次にOK示すように1片側のコアブロック
の磁気ギャップ形成面にスライサーにより、巻線窓用の
溝を入れ、両コアブロックの磁気ギャップ形成面に。
は、第4図の工程が考えられる。まずαに示し几複合材
をスライサーによりOBNま几はダイヤモンド砥石を用
いて切断し、bのようにトラックを形成する軟磁性薄膜
層hzアジマス角θだけ傾く形でコアブロックのペアを
得る。従来のフェライトヘッド製造工程の場合次工程で
ダイサーを用いてトラック形成用の溝を入れていff−
4z、ダイサーの累積ピッチ誤差の影響により、磁気ギ
ヤ9プ形成のための衝合時に、コアブロックの片端にお
けるトラックを衝合させると、他端においてトラックず
れを生じていた。しかしながら本工程では、トラック形
成のための機械加工が不要で前記の問題は生じない定め
、この点ではフェライトへリド製造工程よりも優れてい
ると言える。次にOK示すように1片側のコアブロック
の磁気ギャップ形成面にスライサーにより、巻線窓用の
溝を入れ、両コアブロックの磁気ギャップ形成面に。
所要ギャップ長の%ずつスパッタリングにより形成する
。得られた前記コアブロックのペアは、トラリフとなる
軟磁性薄膜層を正しく合わせた後、パックギャップ部を
接着し、dYt示すコアブロックとする。該コアブロッ
クの上面は研削砥石により円筒研削し、最後にグイサー
によりトラリフとし、磁気へラドチップfを得る。
。得られた前記コアブロックのペアは、トラリフとなる
軟磁性薄膜層を正しく合わせた後、パックギャップ部を
接着し、dYt示すコアブロックとする。該コアブロッ
クの上面は研削砥石により円筒研削し、最後にグイサー
によりトラリフとし、磁気へラドチップfを得る。
以上述べたように本発明を磁気ヘッドの製造に用い之場
合、非磁性基板と軟磁性薄膜が積層され一体化された複
合材であることによ^、量産性・工程の難易度ともにフ
ェライトヘッド製造工程並に優れた狭トラツクへヴド製
造工程を採用することができるという効果を有する。
合、非磁性基板と軟磁性薄膜が積層され一体化された複
合材であることによ^、量産性・工程の難易度ともにフ
ェライトヘッド製造工程並に優れた狭トラツクへヴド製
造工程を採用することができるという効果を有する。
第1図は本発明の磁気ヘッド製造用複合材の構造を示す
断面図。 1・・・・・・非磁性基板 2・・・・・・軟磁性薄膜 3・・・・・・融着ガラス 第2図は狭トラツクヘッドの構造を示す斜視図。 4・・・・・・磁気ヘリドコア材 5.6・・・・・・非磁性基板 第3図A−IPけ狭トラツクヘッドの製造法を示す工程
図。 第4図α〜、fけ複合材を使用し皮狭トラックヘヴドの
製造法を示す工程図。 以 上
断面図。 1・・・・・・非磁性基板 2・・・・・・軟磁性薄膜 3・・・・・・融着ガラス 第2図は狭トラツクヘッドの構造を示す斜視図。 4・・・・・・磁気ヘリドコア材 5.6・・・・・・非磁性基板 第3図A−IPけ狭トラツクヘッドの製造法を示す工程
図。 第4図α〜、fけ複合材を使用し皮狭トラックヘヴドの
製造法を示す工程図。 以 上
Claims (1)
- 複数枚の非磁性基板上に軟磁性薄膜を形成し、前記基板
を重ね合わせてガラス融着等の手段を用いて一体化する
ことにより、軟磁性薄膜と非磁性基板を交互に積層させ
ていることを特徴とする磁気ヘッド製造用複合材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6476285A JPS61222011A (ja) | 1985-03-28 | 1985-03-28 | 磁気ヘツド製造用複合材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6476285A JPS61222011A (ja) | 1985-03-28 | 1985-03-28 | 磁気ヘツド製造用複合材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61222011A true JPS61222011A (ja) | 1986-10-02 |
Family
ID=13267517
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6476285A Pending JPS61222011A (ja) | 1985-03-28 | 1985-03-28 | 磁気ヘツド製造用複合材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61222011A (ja) |
-
1985
- 1985-03-28 JP JP6476285A patent/JPS61222011A/ja active Pending
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