JPS6122464B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6122464B2 JPS6122464B2 JP56177189A JP17718981A JPS6122464B2 JP S6122464 B2 JPS6122464 B2 JP S6122464B2 JP 56177189 A JP56177189 A JP 56177189A JP 17718981 A JP17718981 A JP 17718981A JP S6122464 B2 JPS6122464 B2 JP S6122464B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser beam
- wafer
- refracted
- reflected
- receiver
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/50—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for positioning, orientation or alignment
- H10P72/53—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for positioning, orientation or alignment using optical controlling means
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ウエーハ有無判定テーブル位置制御
装置に係り、特に、半導体製造装置でテーブル上
のウエーハの有無の判定並びにテーブルの位置制
御を１台のレーザ発振器からのレーザ光により行
うのに好適なウエーハ有無判定テーブル位置制御
装置に関するものである。
装置に係り、特に、半導体製造装置でテーブル上
のウエーハの有無の判定並びにテーブルの位置制
御を１台のレーザ発振器からのレーザ光により行
うのに好適なウエーハ有無判定テーブル位置制御
装置に関するものである。
従来の半導体製造装置に適用されているウエー
ハ有無判定テーブル位置制御装置を第１図により
説明する。
ハ有無判定テーブル位置制御装置を第１図により
説明する。
第１図で、上部壁にレーザ通過路であるレーザ
光通過孔１０と窓１１が設けられ下部壁に駆動装
置１２を内設したシールド室１３が具設された処
理室１４に、レーザ光通過孔１０と窓１１との対
向位置にレーザ通過孔１５が穿設された固定電極
板１６と、ウエーハ１７が載置される電極板で、
かつ、シールド室１３に内設された駆動装置１２
と駆動軸１８を介して回転可能に連結されたテー
ブル１９とが上下方向に対向して内設されてい
る。処理室１４の上部壁の外側には、レーザ光通
過孔１０と対向しレーザ発振器２０が設置され、
同様に、ウエーハ有無判定装置２１に接続された
反射レーザ光受光器２２がレーザ発振器２０から
発せられたレーザ光がウエーハ１７の表面で反射
されレーザ光通過孔１５，１０と窓１１を通過し
た反射レーザ光の進行軸上に設けられている。シ
ールド室１３に内設された駆動軸１８には駆動軸
１８と一体回動可能にスリツト付円板２３が取付
けられ、スリツト付円板２３の端縁部に近接し駆
動装置１２と接続されたテーブル位置制御装置２
４に接続されたフオトセンサ２５が取付けられて
いる。また、テーブル１９のウエーハ１７の載置
位置で、かつ、レーザ発振器２０から発せられた
レーザ光の進行軸上に吸光体２６がテーブル１９
に埋設され、高周波電源２７が固定電極板１６と
テーブル１９とにそれぞれ接続されている。
光通過孔１０と窓１１が設けられ下部壁に駆動装
置１２を内設したシールド室１３が具設された処
理室１４に、レーザ光通過孔１０と窓１１との対
向位置にレーザ通過孔１５が穿設された固定電極
板１６と、ウエーハ１７が載置される電極板で、
かつ、シールド室１３に内設された駆動装置１２
と駆動軸１８を介して回転可能に連結されたテー
ブル１９とが上下方向に対向して内設されてい
る。処理室１４の上部壁の外側には、レーザ光通
過孔１０と対向しレーザ発振器２０が設置され、
同様に、ウエーハ有無判定装置２１に接続された
反射レーザ光受光器２２がレーザ発振器２０から
発せられたレーザ光がウエーハ１７の表面で反射
されレーザ光通過孔１５，１０と窓１１を通過し
た反射レーザ光の進行軸上に設けられている。シ
ールド室１３に内設された駆動軸１８には駆動軸
１８と一体回動可能にスリツト付円板２３が取付
けられ、スリツト付円板２３の端縁部に近接し駆
動装置１２と接続されたテーブル位置制御装置２
４に接続されたフオトセンサ２５が取付けられて
いる。また、テーブル１９のウエーハ１７の載置
位置で、かつ、レーザ発振器２０から発せられた
レーザ光の進行軸上に吸光体２６がテーブル１９
に埋設され、高周波電源２７が固定電極板１６と
テーブル１９とにそれぞれ接続されている。
この場合、テーブル１９上のウエーハ有無判定
並びにテーブル１９上の位置制御は次のように行
われる。
並びにテーブル１９上の位置制御は次のように行
われる。
まず、テーブル上のウエーハ有無判定を行う前
に、テーブル１９上のウエーハ載置位置が所定の
位置になるように、また、レーザ発振器２０から
発せられたレーザ光の進行軸上に吸光体２６がく
るように、テーブル１９、駆動軸１８と一体回動
するスリツト付円板２３のスリツトをフオトセン
サ２５で検出し、テーブル位置制御装置２４で駆
動装置１２を適正に回動することによりテーブル
１９は適正位置に制御される。その後、レーザ発
振器２０から発せられたレーザ光がウエーハ１７
の表面で反射されるか、又は、吸光体２６で吸収
されるかを反射レーザ光受光器２２、ウエーハ有
無判定装置２１で判別することによりテーブル１
９上のウエーハ有無判定が行われる。
に、テーブル１９上のウエーハ載置位置が所定の
位置になるように、また、レーザ発振器２０から
発せられたレーザ光の進行軸上に吸光体２６がく
るように、テーブル１９、駆動軸１８と一体回動
するスリツト付円板２３のスリツトをフオトセン
サ２５で検出し、テーブル位置制御装置２４で駆
動装置１２を適正に回動することによりテーブル
１９は適正位置に制御される。その後、レーザ発
振器２０から発せられたレーザ光がウエーハ１７
の表面で反射されるか、又は、吸光体２６で吸収
されるかを反射レーザ光受光器２２、ウエーハ有
無判定装置２１で判別することによりテーブル１
９上のウエーハ有無判定が行われる。
このようなウエーハ有無判定テーブル位置制御
装置では、次のような欠点があつた。
装置では、次のような欠点があつた。
(1) 処理が終了又は進行したウエーハの表面状態
は鏡面状態でなくなりレーザ光が乱反射するよ
うになるため、反射レーザ光受光器での反射レ
ーザ光の受光量が不均一となり、したがつて、
ウエーハ有無判定装置でのウエーハ有無の判定
が適正に行えない。
は鏡面状態でなくなりレーザ光が乱反射するよ
うになるため、反射レーザ光受光器での反射レ
ーザ光の受光量が不均一となり、したがつて、
ウエーハ有無判定装置でのウエーハ有無の判定
が適正に行えない。
(2) 高周波出力電源からの高周波出力が高まる
と、これによるノイズの影響をフオトセンサに
内蔵されている電気信号系が受け、テーブル位
置制御装置でのテーブルの位置制御が適正に行
えなくなる。
と、これによるノイズの影響をフオトセンサに
内蔵されている電気信号系が受け、テーブル位
置制御装置でのテーブルの位置制御が適正に行
えなくなる。
なお、テーブル位置制御時に、高周波出力電源
によるノイズの影響を受けないために、レーザ発
振器から発せられるレーザ光を用いてテーブルの
位置制御を行つても良いが、しかし、この場合
は、更に１台レーザ発振器を設置しなければなら
ず装置価格が増大するといつた欠点があつた。
によるノイズの影響を受けないために、レーザ発
振器から発せられるレーザ光を用いてテーブルの
位置制御を行つても良いが、しかし、この場合
は、更に１台レーザ発振器を設置しなければなら
ず装置価格が増大するといつた欠点があつた。
本発明は、上記欠点の除去を目的としたもの
で、処理室に回動可能に内設されたテーブルと一
体回動可能に該テーブルのウエーハ載置位置に対
応し、かつ、傾斜して設けられたレーザ光反射具
と、該反射具に対応して設けられたレーザ発振器
と、該発振器から前記レーザ光反射具に向つて発
せられたレーザ光の進行軸上に設けられたレーザ
光部分屈折具と、前記発振器から発せられ前記レ
ーザ光部分屈折具を通過して前記レーザ光反射具
で反射された反射レーザ光の進行軸上に設けられ
た反射レーザ光受光器と、該受光器と前記テーブ
ルを回動させる駆動装置とが接続されたテーブル
位置制御装置と、前記レーザ発振器から発せられ
前記レーザ光部分屈折具で屈折された屈折レーザ
光の進行軸上に前記テーブルのウエーハ載置位置
に穿設された屈折レーザ光通過孔を介して設けら
れた屈折レーザ光受光器と、該受光器が接続され
たウエーハ有無判定装置とを具備し、１台のレー
ザ発振器から発せられたレーザ光を用いウエーハ
の表面状態によらず適正にテーブル上のウエーハ
の有無判定が行え、かつ、高周波電源によるノイ
ズの影響を受けることなく適正にテーブルの位置
制御が行えるウエーハ有無判定テーブル位置制御
装置を提供するものである。
で、処理室に回動可能に内設されたテーブルと一
体回動可能に該テーブルのウエーハ載置位置に対
応し、かつ、傾斜して設けられたレーザ光反射具
と、該反射具に対応して設けられたレーザ発振器
と、該発振器から前記レーザ光反射具に向つて発
せられたレーザ光の進行軸上に設けられたレーザ
光部分屈折具と、前記発振器から発せられ前記レ
ーザ光部分屈折具を通過して前記レーザ光反射具
で反射された反射レーザ光の進行軸上に設けられ
た反射レーザ光受光器と、該受光器と前記テーブ
ルを回動させる駆動装置とが接続されたテーブル
位置制御装置と、前記レーザ発振器から発せられ
前記レーザ光部分屈折具で屈折された屈折レーザ
光の進行軸上に前記テーブルのウエーハ載置位置
に穿設された屈折レーザ光通過孔を介して設けら
れた屈折レーザ光受光器と、該受光器が接続され
たウエーハ有無判定装置とを具備し、１台のレー
ザ発振器から発せられたレーザ光を用いウエーハ
の表面状態によらず適正にテーブル上のウエーハ
の有無判定が行え、かつ、高周波電源によるノイ
ズの影響を受けることなく適正にテーブルの位置
制御が行えるウエーハ有無判定テーブル位置制御
装置を提供するものである。
本発明の一実施例を第２図により説明する。な
お、第２図で、第１図と同一装置、部品等は同一
符号で示し説明を省略する。
お、第２図で、第１図と同一装置、部品等は同一
符号で示し説明を省略する。
第２図で、レーザ光反射具、例えば、ミラー３
０がテーブル１９と一体回動可能にテーブル１９
のウエーハ載置位置に対応し、かつ、傾斜して、
この場合は、シールド室１３内にある駆動軸１８
に設けられている。レーザ発振器２０は、この場
合、シールド室１３の側壁に穿設されたレーザ光
通過孔２９を介し処理室１４並びにシールド室１
３の外側でミラー３０に対応して設けられてい
る。レーザ光部分屈折具、例えば、ハーフミラー
２８は、レーザ発振器２０からミラー３０に向つ
て発せられたレーザ光の進行軸上に、この場合、
シールド室１３の外側で処理室１４の下部壁に対
応して設けられている。反射レーザ光受光器３５
は、レーザ発振器２０から発せられハーフミラー
２８を通過してミラー３０で反射された反射レー
ザ光の進行軸上に、この場合、シールド室１３の
外側でレーザ光通過孔２９を介し設けられてい
る。テーブル位置制御装置２４′には、反射レー
ザ光受光器３５と駆動装置１２とが接続されてい
る。屈折レーザ光受光器３４は、レーザ発振器２
０から発せられハーフミラー２８で屈折された屈
折レーザ光の進行軸上にテーブル１９のウエーハ
１７の載置位置に穿設された屈折レーザ光通過孔
３３を介して、この場合、処理室１４の外側で窓
１１に対応して設けられている。また、処理室１
４の下部壁には、屈折レーザ光の進行軸上で屈折
レーザ光通過孔３１と窓３２とが設けられてい
る。ウエーハ有無判定装置２１′には、屈折レー
ザ光受光器が接続されている。
０がテーブル１９と一体回動可能にテーブル１９
のウエーハ載置位置に対応し、かつ、傾斜して、
この場合は、シールド室１３内にある駆動軸１８
に設けられている。レーザ発振器２０は、この場
合、シールド室１３の側壁に穿設されたレーザ光
通過孔２９を介し処理室１４並びにシールド室１
３の外側でミラー３０に対応して設けられてい
る。レーザ光部分屈折具、例えば、ハーフミラー
２８は、レーザ発振器２０からミラー３０に向つ
て発せられたレーザ光の進行軸上に、この場合、
シールド室１３の外側で処理室１４の下部壁に対
応して設けられている。反射レーザ光受光器３５
は、レーザ発振器２０から発せられハーフミラー
２８を通過してミラー３０で反射された反射レー
ザ光の進行軸上に、この場合、シールド室１３の
外側でレーザ光通過孔２９を介し設けられてい
る。テーブル位置制御装置２４′には、反射レー
ザ光受光器３５と駆動装置１２とが接続されてい
る。屈折レーザ光受光器３４は、レーザ発振器２
０から発せられハーフミラー２８で屈折された屈
折レーザ光の進行軸上にテーブル１９のウエーハ
１７の載置位置に穿設された屈折レーザ光通過孔
３３を介して、この場合、処理室１４の外側で窓
１１に対応して設けられている。また、処理室１
４の下部壁には、屈折レーザ光の進行軸上で屈折
レーザ光通過孔３１と窓３２とが設けられてい
る。ウエーハ有無判定装置２１′には、屈折レー
ザ光受光器が接続されている。
このようなウエーハ有無判定テーブル位置制御
装置では、テーブル上のウエーハの有無判定並び
にテーブル位置制御は次のように行われる。
装置では、テーブル上のウエーハの有無判定並び
にテーブル位置制御は次のように行われる。
まず、テーブルの位置制御であるが、この場合
は、レーザ発振器２０から発せられたレーザ光が
部分的にハーフミラー２８を通過しレーザ光通過
孔２９を通過してミラー３０に入射される。ミラ
ー３０で反射した反射レーザ光はミラー３０が傾
斜して駆動軸１８に取付けられているため、レー
ザ発振器２０から発せられるレーザ光の進行軸と
はある角度をなし、レーザ光通過孔２９を通過し
て反射レーザ光受光器３５に入射する。反射レー
ザ光受光器３５の受光面には左右に少なくとも２
個の受光素子（図示省略）が取付けられており、
もし、各受光素子での反射レーザ光の受光量が異
なる場合は、テーブル位置制御装置２４′により
駆動装置１２を各受光素子での反射レーザ光の受
光量が等しくなるまで回動させる。このようにし
てテーブル１９上のウエーハ載置位置が所定の位
置になるように、また、テーブル１９に穿設され
た屈折レーザ光通過孔３３とレーザ発振器２０か
ら発せられたレーザ光が部分的にハーフミラー２
８により屈折した屈折レーザ光の進行軸とが一致
するようにテーブル１９の位置は適正に制御され
る。
は、レーザ発振器２０から発せられたレーザ光が
部分的にハーフミラー２８を通過しレーザ光通過
孔２９を通過してミラー３０に入射される。ミラ
ー３０で反射した反射レーザ光はミラー３０が傾
斜して駆動軸１８に取付けられているため、レー
ザ発振器２０から発せられるレーザ光の進行軸と
はある角度をなし、レーザ光通過孔２９を通過し
て反射レーザ光受光器３５に入射する。反射レー
ザ光受光器３５の受光面には左右に少なくとも２
個の受光素子（図示省略）が取付けられており、
もし、各受光素子での反射レーザ光の受光量が異
なる場合は、テーブル位置制御装置２４′により
駆動装置１２を各受光素子での反射レーザ光の受
光量が等しくなるまで回動させる。このようにし
てテーブル１９上のウエーハ載置位置が所定の位
置になるように、また、テーブル１９に穿設され
た屈折レーザ光通過孔３３とレーザ発振器２０か
ら発せられたレーザ光が部分的にハーフミラー２
８により屈折した屈折レーザ光の進行軸とが一致
するようにテーブル１９の位置は適正に制御され
る。
次に、テーブル１９上のウエーハ１７の有無の
判定は、この場合、テーブル１９の位置制御が完
了した後に、レーザ発振器２０から発せられたレ
ーザ光が部分的にハーフミラー２８により屈折し
た屈折レーザ光が屈折レーザ光受光器３４に入射
されるか否かにより行われる。つまり、テーブル
１９のウエーハ載置位置にウエーハ１７が載置さ
れ屈折レーザ光通過孔３３を塞いだ状態では屈折
レーザ光は屈折レーザ光受光器３４に入射されな
いためウエーハ有無判定装置２１′でウエーハ１
７が有りとの判定が明示され、逆に、テーブル１
９のウエーハ載置位置にウエーハ１７が載置され
れていな場合は屈折レーザ光はレーザ屈折光通過
孔３３、レーザ光通過孔１５、レーザ光通過孔１
０と窓１１を通過し受光面に少なくとも１個受光
素子（図示省略）が取付けられた屈折レーザ光受
光器３４に入射されるためウエーハ有無判定装置
２１′でウエーハ１７が無しとの判定が明示され
る。
判定は、この場合、テーブル１９の位置制御が完
了した後に、レーザ発振器２０から発せられたレ
ーザ光が部分的にハーフミラー２８により屈折し
た屈折レーザ光が屈折レーザ光受光器３４に入射
されるか否かにより行われる。つまり、テーブル
１９のウエーハ載置位置にウエーハ１７が載置さ
れ屈折レーザ光通過孔３３を塞いだ状態では屈折
レーザ光は屈折レーザ光受光器３４に入射されな
いためウエーハ有無判定装置２１′でウエーハ１
７が有りとの判定が明示され、逆に、テーブル１
９のウエーハ載置位置にウエーハ１７が載置され
れていな場合は屈折レーザ光はレーザ屈折光通過
孔３３、レーザ光通過孔１５、レーザ光通過孔１
０と窓１１を通過し受光面に少なくとも１個受光
素子（図示省略）が取付けられた屈折レーザ光受
光器３４に入射されるためウエーハ有無判定装置
２１′でウエーハ１７が無しとの判定が明示され
る。
本実施例のように、レーザ発振器から発せられ
ハーフミラーを部分的に通過したレーザ光をテー
ブルと一体で回動するミラーで反射させた反射レ
ーザ光の反射レーザ光受光器への入射角度により
テーブルの位置をテーブル位置制御装置で制御
し、レーザ発振器から発せられたレーザ光をハー
フミラーで部分的に屈折させた屈折レーザ光の屈
折レーザ光受光器への入射有無によりテーブル上
のウエーハの有無をウエーハ有無判定装置で判定
するようにした場合は、１台のレーザ発振器から
発せられたレーザ光を用いて反射レーザ光の反射
レーザ光受光器への入手角度が高周波電源による
ノイズの影響を受けないためテーブルの位置制御
を適正に行うことができ、かつ、レーザ光のウエ
ーハ表面での反射光を用いないためウエーハ表面
状態によらずテーブル上のウエーハの有無判定を
適正に行うことができる。
ハーフミラーを部分的に通過したレーザ光をテー
ブルと一体で回動するミラーで反射させた反射レ
ーザ光の反射レーザ光受光器への入射角度により
テーブルの位置をテーブル位置制御装置で制御
し、レーザ発振器から発せられたレーザ光をハー
フミラーで部分的に屈折させた屈折レーザ光の屈
折レーザ光受光器への入射有無によりテーブル上
のウエーハの有無をウエーハ有無判定装置で判定
するようにした場合は、１台のレーザ発振器から
発せられたレーザ光を用いて反射レーザ光の反射
レーザ光受光器への入手角度が高周波電源による
ノイズの影響を受けないためテーブルの位置制御
を適正に行うことができ、かつ、レーザ光のウエ
ーハ表面での反射光を用いないためウエーハ表面
状態によらずテーブル上のウエーハの有無判定を
適正に行うことができる。
本発明は、以上説明したように、１台のレーザ
発振器から発せられたレーザ光を用いウエーハの
表面状態によらずテーブル上のウエーハの有無判
定が適正に行え、かつ、高周波電源によるノイズ
の影響を受けることなくテーブルの位置制御が適
正に行えるウエーハ有無判定テーブル位置制御装
置を提供できる効果がある。
発振器から発せられたレーザ光を用いウエーハの
表面状態によらずテーブル上のウエーハの有無判
定が適正に行え、かつ、高周波電源によるノイズ
の影響を受けることなくテーブルの位置制御が適
正に行えるウエーハ有無判定テーブル位置制御装
置を提供できる効果がある。
第１図は、従来のウエーハ有無判定テーブル位
置制御装置を説明するもので、従来のウエーハ有
無判定テーブル位置制御装置が適用された半導体
製造装置の断面図、第２図は、本発明の一実施例
を説明するもので、本発明によるウエーハ有無判
定テーブル位置制御装置が適用された半導体製造
装置の断面図である。 １０，１５，２９……レーザ光通過孔、１１，
３２……窓、１２……駆動装置、１３……シール
ド室、１４……処理室、１６……固定電極板、１
８……駆動軸、１９……テーブル、２０……レー
ザ発振器、２１′……ウエーハ有無判定装置、２
４′……テーブル位置制御装置、２８……ハーフ
ミラー、３０……ミラー、３１，３３……屈折レ
ーザ光通過孔、３４……屈折レーザ光受光器、３
５……反射レーザ光受光器。
置制御装置を説明するもので、従来のウエーハ有
無判定テーブル位置制御装置が適用された半導体
製造装置の断面図、第２図は、本発明の一実施例
を説明するもので、本発明によるウエーハ有無判
定テーブル位置制御装置が適用された半導体製造
装置の断面図である。 １０，１５，２９……レーザ光通過孔、１１，
３２……窓、１２……駆動装置、１３……シール
ド室、１４……処理室、１６……固定電極板、１
８……駆動軸、１９……テーブル、２０……レー
ザ発振器、２１′……ウエーハ有無判定装置、２
４′……テーブル位置制御装置、２８……ハーフ
ミラー、３０……ミラー、３１，３３……屈折レ
ーザ光通過孔、３４……屈折レーザ光受光器、３
５……反射レーザ光受光器。
Claims (1)
- １ 処理室に回動可能に内設されたテーブルと一
体回動可能に該テーブルのウエーハ載置位置に対
応し、かつ、傾斜して設けられたレーザ光反射具
と、該反射具に対応して設けられたレーザ発振器
と、該発振器から前記レーザ光反射具に向つて発
せられたレーザ光の進行軸上に設けられたレーザ
光部分屈折具と、前記発振器から発せられ前記レ
ーザ光部分屈折具を通過して前記レーザ光反射具
で反射された反射レーザ光の進行軸上に設けられ
た反射レーザ光受光器と、該受光器と前記テーブ
ルを回動させる駆動装置とが接続されたテーブル
位置制御装置と、前記レーザ発振器から発せられ
前記レーザ光部分屈折具で屈折された屈折レーザ
光の進行軸上に前記テーブルのウエーハ載置位置
に穿設された屈折レーザ光通過孔を介して設けら
れた屈折レーザ光受光器と、該受光器が接続され
たウエーハ有無判定装置とを具備したことを特徴
とするウエーハ有無判定テーブル位置制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56177189A JPS5879734A (ja) | 1981-11-06 | 1981-11-06 | ウエ−ハ有無判定テ−ブル位置制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56177189A JPS5879734A (ja) | 1981-11-06 | 1981-11-06 | ウエ−ハ有無判定テ−ブル位置制御装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5879734A JPS5879734A (ja) | 1983-05-13 |
| JPS6122464B2 true JPS6122464B2 (ja) | 1986-05-31 |
Family
ID=16026729
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56177189A Granted JPS5879734A (ja) | 1981-11-06 | 1981-11-06 | ウエ−ハ有無判定テ−ブル位置制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5879734A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102004025150B4 (de) * | 2004-05-21 | 2019-05-09 | Mattson Technology, Inc. | Lagebestimmung eines Halbleitersubstrats auf einer Rotationsvorrichtung |
-
1981
- 1981-11-06 JP JP56177189A patent/JPS5879734A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5879734A (ja) | 1983-05-13 |
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