JPS61230611A - 薄膜磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明はＶＴＲＴＲ層積層形薄膜磁気ヘッドヤ、。

ツブ形成方法に係る。

〔発明の背景〕

記録密度の向上にともない、隣接トランク間“で磁化方
向を異ならせるアジマス記録方式のビ゛デオテープレコ
ーダ（以下ＶＴＲ）　において、・パーマロイ、センダ
スト、アモルファス等の鉄。

または鉄族元素を主成分とした軟磁性薄膜をコ・ア材と
し、ギャップ長が小さくトラック幅の小・さい磁気ヘッ
ドが要求されている。この磁気へ・ラドのギャップ形成
法としては機械的な突合せＩｌ＋によるギャップポンチ
１ングを用いた方法か−。

般的であるが、他に薄膜技術を用いギャップ形。

成をバイト切削により溝または段差を形成し、。

その溝または段差斜面部をギャップ面として用。

い、ギャップスペーサを被着させた後、磁性膜、５を積
層するという。積層形のギャップ形成法を。

用いた積層形薄膜磁気ヘッドが提案されている。。

（特開昭５７−１４１００９号） ギャップ形成に関し、高精度なキャップ面精。

度、直線性が要求される為、バイト材質には高精度切削
の可能なダイヤモンドが提案されてい７・る。（特開昭
５７−１４１０１１号） しかし、一般にダイヤモンドは鉄元素と容易・に反応す
るため（精密機械６９巻６号における田・中、弁用によ
る°°軟鋼の研削におけるダイキモ５ンド砥粒損耗の熱
的考察“等に論じられている。、）ターイヤモンドで鉄
を切削すると、ダイヤモンド。

は黒鉛化および炭素の鉄中への拡散過程に基づ。

き、すぐに摩耗し、高精度切削に耐えられなく。

なり、上述の積層形ヘッドを量産性良く製造用１゜来な
いという欠点があった。この現象はＣｏ等の。

鉄族元素にも同様に見られる。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、上記した従来技術の欠点を。

なくシ、ギャップ形成を容易にし、量産性の優、。

れた積層形薄膜磁気ヘッドを提供することにあ。

る。

〔発明の概畷〕

本発明の特徴は、前述のダイヤモンドバイトの摩耗が、
ダイヤモンドの黒鉛化および炭素の鉄族元素が主成分で
ある被剛材への拡散過程が。

支配的であり、その摩耗量が、被剛材の炭素濃゛度が低
くなる程、多くなるということから考え。

て、あらかじめバイト切削により除去する部分。

に炭素等のダイヤモンドと被剛材との反応をお５さえる
元素をドープさせることで、バイト切削・時のダイヤモ
ンド摩耗をおさえだ点にある。　　。

〔発明の実施例〕

以下本発明の一実施例を図を用いて詳細に説・明する。

　　　　　　　　　　　　　　　　　　＋。

ば）　まず第１図１ａ）に示すように、ガラス等の。

非磁性基板１上に切削容易なジルコニウム等の。

非磁性金層膜２を蒸着、スパッタリング等で被。

着し、さらにその上面にセンダスト、アモルフ。

アス等の第１の軟磁性膜６を一層もしくは５Ｉ０２□５
等の層間膜４を介し、トラック幅相当分まで多。

層積層する。

（ロ）次に第１図ｆｔ））に示すように、第１の軟磁。

性膜３の一部を少なくとも非磁性金属膜２に達。

するまでイオンミリング等により除去し、段差２゜、　
６　。

を形成する。

（ハ）次に第１図１ｃ）に示すように、上記残され。

た第１の軟磁性膜の上面に、バイト切削部を残。

して非磁性金属膜ダを蒸着、スパッタリング等。

により被着する。　　　　　　　　　　　　　　５□　
に）次に第１図（ｄ）に示すように、炭素等のダ。

イヤモンドと被剛材との反応をおさえる元素の。

蒸着膜５を形成し、拡散炉で第１の軟磁性膜６・内に拡
散層６を形成する。

（ホ）次に第１図Ｔｅ）に示すように、所定のアジ１０
マス角度を有するダイヤモンドバイトを用いて・拡散層
６及び段差部底部の蒸着膜５を除去する。。

この段差斜面部が磁気ヘッドの動作ギャップ面。

７となる。

（へ）次に第１図山に示すように、上記残りの、。

蒸着膜５、動作ギャップ面７、非磁性金属膜２′。

の上面にＢｉＯ２等のギャップスペーサ膜８１゜着し、
さらにその上面に第２の軟磁性膜９を−。

□層もしくは、５ｈｏ２等の層間膜４′を介し、トラ。

ツク幅用等分以上まで多層積層する。　　　　２゜、　
４　。

（ト）　　次に第１図（ｇｌに示すように、上記残りの
゛蒸着膜５の上部の第２の軟磁性膜９上面を非磁。

性金属膜２′に達する゛までランプ等により除去し゛さ
らにその上面にガラス等の保護膜１０を被着し。

巻線用窓穴１１を形成して積層形薄膜磁気ヘッド５が形
成される。　　　□ 〔発明の効果〕 本発明によれば、鉄族元素のダイヤモンド切・副時、被
剛材に炭素等のダイヤモンドと被剛材・との反応をおさ
える元素をドープさせることで１０ダイヤモンド切削時
のダイヤモンド摩耗をおさ。

えることが出来るのｆＪ’積層形ヘッドのギャツ。

プ形成を量産性良く製造出来るという効果があ。

る。

４、図面の簡単な説叫　　　　　　　　　　　　、。

第１図は本発明の一実施例による積層形ヘソ。

ドの製造工程図である。

１・−非磁性基板　　　　　　２．２′・・・非磁性金
。

属膜 ６・・・第１の軟磁性膜・　　　　４．イ・・・層間膜
　。。

６・・・拡散１＠７・・・動作ギャップ面。

８・・・ギャップスペーサ膜 ９・・・第２の軟磁性膜 １０・・・保護膜 １１・・・巻線用窓穴。　　　　　　　　　　　　　５
ｆ１ ・　７　・ 第１閉

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、非磁性基板上に非磁性膜さらにその上面に第１の軟
   磁性膜を被着し、ダイヤモンドバイトにより前記第１の
   軟磁性膜の一部を、少なくとも非磁性膜に達するまで除
   去し、段差を形成し、前記段差斜面部をギャップ面とし
   、そのギャップ面上にギャップスペーサを被着し、さら
   に第２の軟磁性膜を被着し、前記第１の軟磁性膜、ギャ
   ップスペーサ、第２の軟磁性膜により磁気回路を構成す
   る薄膜磁気ヘッドにおいて、前記ダイヤモンドバイトに
   より除去される部分の第１の軟磁性膜に炭素をドープし
   、前記炭素をドープした部分の第１の軟磁性膜をダイヤ
   モンドバイトで除去しギャップ面を形成することを特徴
   とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。