JPS61240418A - 磁気ヘツドの研磨方法 - Google Patents
磁気ヘツドの研磨方法Info
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- JPS61240418A JPS61240418A JP8293485A JP8293485A JPS61240418A JP S61240418 A JPS61240418 A JP S61240418A JP 8293485 A JP8293485 A JP 8293485A JP 8293485 A JP8293485 A JP 8293485A JP S61240418 A JPS61240418 A JP S61240418A
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- magnetic
- polishing
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- grinding
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/1871—Shaping or contouring of the transducing or guiding surface
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は研磨量測定方法ＩＣ特徴を有する磁気へ雫ドの
研磨方法忙関する。
研磨方法忙関する。
本発明は簿膜プロセスにより製造される磁気へ９ド）Ｃ
おいて、磁気へ雫ド素子と同時に作られる研磨量測定用
パターンと外部の高透磁率材とで形成される磁気回路の
磁気抵抗を測定することｋより、非接触の研磨量測定を
可能としかつ高ｎ度な研磨を可能としｔものである。
おいて、磁気へ雫ド素子と同時に作られる研磨量測定用
パターンと外部の高透磁率材とで形成される磁気回路の
磁気抵抗を測定することｋより、非接触の研磨量測定を
可能としかつ高ｎ度な研磨を可能としｔものである。
本発明に関わる磁気へダドは磁気ヘッド素子の上に保１
１１Ｋが形成されている。保護膜材賞はアルミナ、ｍ化
ケイ素のような透明誘電体膜である６Ｓ ′一般
に２０〜５０μｍの厚入である九め、ギヤダブ深すを光
学的に６１］定するのは困難であるため、抵抗素子等を
磁気ヘッド素子と同時に形成し抵抗測定により研摩量を
測定する方法がとられる。
１１Ｋが形成されている。保護膜材賞はアルミナ、ｍ化
ケイ素のような透明誘電体膜である６Ｓ ′一般
に２０〜５０μｍの厚入である九め、ギヤダブ深すを光
学的に６１］定するのは困難であるため、抵抗素子等を
磁気ヘッド素子と同時に形成し抵抗測定により研摩量を
測定する方法がとられる。
〔発明合一解決しようとする問題点及び目的〕しかし紡
速の従来技術においては抵抗測定用のプルーブを抵抗測
定素子の端子に接触させねばならず端子ｈ％小さい沈め
に測定は面倒で手間を要するものである。ざらｉＣ接触
の不安定さｋより抵抗量測定の信頼性がない。
速の従来技術においては抵抗測定用のプルーブを抵抗測
定素子の端子に接触させねばならず端子ｈ％小さい沈め
に測定は面倒で手間を要するものである。ざらｉＣ接触
の不安定さｋより抵抗量測定の信頼性がない。
そこで本発明はこのような問題点？解決するもので、そ
の目的とするところは非接触で確実な研磨量測定方法を
提供することにある。
の目的とするところは非接触で確実な研磨量測定方法を
提供することにある。
本発明の磁気ヘダドの研磨方法は磁極材質で形成された
型磨景測定パターンに、コイルｔ−巻き回しｔ高透磁率
材を近すけて、該研磨量測定ノ（ターンと該高透磁率材
により閉磁路を形成し、該閉磁路の磁気抵抗を測定する
ことＫより研磨量ｆ測定しな６”−ら研磨を行なうこと
を特徴とする。
型磨景測定パターンに、コイルｔ−巻き回しｔ高透磁率
材を近すけて、該研磨量測定ノ（ターンと該高透磁率材
により閉磁路を形成し、該閉磁路の磁気抵抗を測定する
ことＫより研磨量ｆ測定しな６”−ら研磨を行なうこと
を特徴とする。
本発明の上記の構成によれば、コイルを巻き回し九高透
率材をヘゲドに近ずけるか接触させることによりコイル
のインダクタンスを測定できる。
率材をヘゲドに近ずけるか接触させることによりコイル
のインダクタンスを測定できる。
研磨を進めていくと磁気抵抗が上昇しインダクタンス６
を低下してＶｌ〈。インダクタンスの絶対値及びその変
化を観測して研磨量及び研磨終点ｂ’−検出できる。
を低下してＶｌ〈。インダクタンスの絶対値及びその変
化を観測して研磨量及び研磨終点ｂ’−検出できる。
＊実施例は浮動ダ磁気ヘプトに関するものである。
餌２図に研磨工程時の磁気ヘッドの状態が示しである。
数個直線状に配置され九バーの状態になうており、バ一
単位で研磨を行ない、その後第３図に示すように形状加
工が行なわれ各チップに切り離される。第２図斜線部に
研磨量測定パターンが形成される。ＩＩＥＪ図に研磨量
測定パターンの平面図６Ｃ，１ｌｌＥＩ図に研磨量測定
パターンのＩ！Ｆ１面■の一実施例ｂ２示されている。
単位で研磨を行ない、その後第３図に示すように形状加
工が行なわれ各チップに切り離される。第２図斜線部に
研磨量測定パターンが形成される。ＩＩＥＪ図に研磨量
測定パターンの平面図６Ｃ，１ｌｌＥＩ図に研磨量測定
パターンのＩ！Ｆ１面■の一実施例ｂ２示されている。
１８１図に本発明の研磨量測定の概略図が示されている
。
。
これらの図から判るように研磨量測定バクーンは深い溝
６”−規則正しく入れられｔように形成される。これは
磁性膜を順次積層して形成しても良いし、厚く磁性膜を
形成し、イオンミリングで溝を入れて形成しても良い。
６”−規則正しく入れられｔように形成される。これは
磁性膜を順次積層して形成しても良いし、厚く磁性膜を
形成し、イオンミリングで溝を入れて形成しても良い。
イオンミリングの方が精度は高い。溝深すは８〜１０哨
穆度である。
穆度である。
第１図に示し九配責で研磨量を測定していくが、研磨を
行なっていくと凸部の数ｂｔ減少するので。
行なっていくと凸部の数ｂｔ減少するので。
磁気抵抗が増し、結果としてコイルインメクタンスｂ’
−減少する。この様子を第５図に示す。点線で示し九と
ころまでインダクタンスが低下すると研磨終了となる。
−減少する。この様子を第５図に示す。点線で示し九と
ころまでインダクタンスが低下すると研磨終了となる。
本発明の大きな特徴として、保２Ｉ膜の友め研磨量測定
パターンと高透磁率材の間は１０〜２０μｍ程度のスペ
ーシングがそもそもある丸め、高透磁寥材と債ｆｉｌの
間に多少の隙間Ｉ！ｌｔ生じても測定に問題は生じない
。ま比高透磁率材のサイズを適当に決めて、ヘッド外形
の端を基準に位置を決めろことができる几め顕微鏡等は
不要で容易に測定できる。
パターンと高透磁率材の間は１０〜２０μｍ程度のスペ
ーシングがそもそもある丸め、高透磁寥材と債ｆｉｌの
間に多少の隙間Ｉ！ｌｔ生じても測定に問題は生じない
。ま比高透磁率材のサイズを適当に決めて、ヘッド外形
の端を基準に位置を決めろことができる几め顕微鏡等は
不要で容易に測定できる。
ｒ発明の効果〕
以上述べてきたように本発明によれば研磨量の測定及び
終点検出が極めて容易に行なえる。さらにインダクタン
スの絶対値を評価することＫより従来は最終のへヴド形
状に仕上るまでけ不可能でトク次磁気ヘダドの磁極材質
の評価をも行なうこ、とｈｔできる。
終点検出が極めて容易に行なえる。さらにインダクタン
スの絶対値を評価することＫより従来は最終のへヴド形
状に仕上るまでけ不可能でトク次磁気ヘダドの磁極材質
の評価をも行なうこ、とｈｔできる。
ｔ１１１図は本発明の実施例の研磨量測定の概念１第２
図は研磨時の磁気へダドバーの平面図。 纂３図はバーから切り離され７を磁気ヘッドの平面図。 ｆ＄４図は研磨量測定パターンの平面図。 第５図はコイルインダクタンスと研磨量の関係図。 １・・・・・・研磨量測定パターン ２・・・・・・７エライト ３・・・・・・インビーダンスメーター４・Ｈ−６１ｍ
コイル ５・・・・・・研磨量測定パターン ６・・・・・・磁気ヘダドスライダー ７・・・・・・溝 以 上 出ｙ人 株式会社 諏訪精工舎
図は研磨時の磁気へダドバーの平面図。 纂３図はバーから切り離され７を磁気ヘッドの平面図。 ｆ＄４図は研磨量測定パターンの平面図。 第５図はコイルインダクタンスと研磨量の関係図。 １・・・・・・研磨量測定パターン ２・・・・・・７エライト ３・・・・・・インビーダンスメーター４・Ｈ−６１ｍ
コイル ５・・・・・・研磨量測定パターン ６・・・・・・磁気ヘダドスライダー ７・・・・・・溝 以 上 出ｙ人 株式会社 諏訪精工舎
Claims (1)
- （１）ａ）磁極材質、導電コイル、ギャップ部、保護材
料等を薄膜材質で積層形成した磁気ヘッドにおいて、 ｂ）磁極材質で形成された研磨量測定パタ ーンに、コイルを巻き回した高透磁率材を近ずけて、該
研磨量測定パターンと該高透磁率材により閉磁路を形成
し、該閉磁路の磁気抵抗を測定することにより研磨量を
測定することを特徴とする磁気ヘッドの研磨方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8293485A JPS61240418A (ja) | 1985-04-18 | 1985-04-18 | 磁気ヘツドの研磨方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8293485A JPS61240418A (ja) | 1985-04-18 | 1985-04-18 | 磁気ヘツドの研磨方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61240418A true JPS61240418A (ja) | 1986-10-25 |
Family
ID=13788055
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8293485A Pending JPS61240418A (ja) | 1985-04-18 | 1985-04-18 | 磁気ヘツドの研磨方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61240418A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010119585A1 (ja) * | 2009-04-17 | 2010-10-21 | 株式会社日立製作所 | 加工量検出方法および加工装置 |
-
1985
- 1985-04-18 JP JP8293485A patent/JPS61240418A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010119585A1 (ja) * | 2009-04-17 | 2010-10-21 | 株式会社日立製作所 | 加工量検出方法および加工装置 |
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