JPS61242015A - 熱処理炉 - Google Patents
熱処理炉Info
- Publication number
- JPS61242015A JPS61242015A JP60084253A JP8425385A JPS61242015A JP S61242015 A JPS61242015 A JP S61242015A JP 60084253 A JP60084253 A JP 60084253A JP 8425385 A JP8425385 A JP 8425385A JP S61242015 A JPS61242015 A JP S61242015A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- insulating body
- heat
- reaction tube
- reaction pipe
- heat retaining
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P32/00—Diffusion of dopants within, into or out of wafers, substrates or parts of devices
Landscapes
- Furnace Details (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明はウェハを酸化、拡散する熱処理炉に関し、特に
断熱体に改良を加えたものである。
断熱体に改良を加えたものである。
従来、熱処理炉としては第２図に示すものが知られてい
る（従来例１）。図中の１は、石英からなる反応管であ
る。この反応管１には、複数のシリコンウェハ２・・・
をセットしたゲート３が出入される。前記反応管１の周
囲には、筒状の保温断熱体４が設けられている。なお、
第２図では説明の都合上縦に半分に分割した状態で示し
ている。前記保温断熱体４の内周面には、発熱体５が螺
旋状に設けられている。
る（従来例１）。図中の１は、石英からなる反応管であ
る。この反応管１には、複数のシリコンウェハ２・・・
をセットしたゲート３が出入される。前記反応管１の周
囲には、筒状の保温断熱体４が設けられている。なお、
第２図では説明の都合上縦に半分に分割した状態で示し
ている。前記保温断熱体４の内周面には、発熱体５が螺
旋状に設けられている。
しかしながら、第１図の熱処理炉によれば、反応管１を
取シ付け、または取シはすす際に、上下いずれかの方向
よシ反応管１を出し入れしなければいけないため、縦型
炉の有効性の一つであるスペースの節約という特性を生
かしきれなかった。
取シ付け、または取シはすす際に、上下いずれかの方向
よシ反応管１を出し入れしなければいけないため、縦型
炉の有効性の一つであるスペースの節約という特性を生
かしきれなかった。
また、従来、他の熱処理炉として、保温断熱体が縦方向
に２分割され、かつ発熱体が保温断熱体と縦方向に一体
となシ、ウェハを回転させる構造のものが知られている
（従来例２）。しかしながら、この熱処理炉においては
、つ丑ハ面内の不均一を回避するためにウェハを回転さ
せなければならないため、ゲートと回転部との摺動によ
シ反応管内に微粒子が発生する。また、この回転する方
法においては、シリコンウェハ１を支持するデートを高
温で支えるため、回転により大きな応力がゲートにかか
シ、この応力によってテートの破損を招きやすい、とい
う問題があった。
に２分割され、かつ発熱体が保温断熱体と縦方向に一体
となシ、ウェハを回転させる構造のものが知られている
（従来例２）。しかしながら、この熱処理炉においては
、つ丑ハ面内の不均一を回避するためにウェハを回転さ
せなければならないため、ゲートと回転部との摺動によ
シ反応管内に微粒子が発生する。また、この回転する方
法においては、シリコンウェハ１を支持するデートを高
温で支えるため、回転により大きな応力がゲートにかか
シ、この応力によってテートの破損を招きやすい、とい
う問題があった。
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、反応管の保
温断熱体に対する出入を改善して生産性の向上を図ると
ともに、反応管内の微粒子の発生やゲートの破損を回避
し得る熱処理炉を提供することを目的とする。
温断熱体に対する出入を改善して生産性の向上を図ると
ともに、反応管内の微粒子の発生やゲートの破損を回避
し得る熱処理炉を提供することを目的とする。
本発明は、ウェハをセットしたカートを出入する反応管
と、この反応管の周囲に該反応管に対し回転運動可能に
設けられ、反応管の長手方向に複数に分割された筒状の
保温断熱体と、この保温断熱体に一体的に設けられた発
熱体とを具備することを特徴とし、生産性の向上と、微
粒子の発生やテートの破損の回避を図ったものである。
と、この反応管の周囲に該反応管に対し回転運動可能に
設けられ、反応管の長手方向に複数に分割された筒状の
保温断熱体と、この保温断熱体に一体的に設けられた発
熱体とを具備することを特徴とし、生産性の向上と、微
粒子の発生やテートの破損の回避を図ったものである。
具体的には、保温断熱体を縦方向に複数に分割すること
によシ、反応管の出入を従来法１と比べ狭い場所で行な
えるようにして生産性の向上を図った。また、保温断熱
体自身を発熱体とともに回転運動させることによシ、従
来法２の如く反応管内に微粒子が発生したシ、ゲートの
破損が生ずるのを回避するものである。
によシ、反応管の出入を従来法１と比べ狭い場所で行な
えるようにして生産性の向上を図った。また、保温断熱
体自身を発熱体とともに回転運動させることによシ、従
来法２の如く反応管内に微粒子が発生したシ、ゲートの
破損が生ずるのを回避するものである。
以下、本発明の一実施例を第１図を参照して説明する。
但し、同図において、保温断熱体は半開きの状態となっ
ている。
ている。
図中の１１は、例えば石英からなる反応管である。この
反応管１１には、複数のシリコンウェハノ２・・・をセ
ットした石英製の＆−ト１３が出入される。前記反応管
１１の周囲には、反応管１１の長手方向に２つに分割さ
れた筒状の保温断熱体１４が設けられている。この保温
断熱体１４は、２つに分割された境界から例えば４５度
前後に回転運動（矢印Ｘ）するようＫなっている。前記
保温断熱体１４には、発熱体１５が綾状に一体的に設け
られている。
反応管１１には、複数のシリコンウェハノ２・・・をセ
ットした石英製の＆−ト１３が出入される。前記反応管
１１の周囲には、反応管１１の長手方向に２つに分割さ
れた筒状の保温断熱体１４が設けられている。この保温
断熱体１４は、２つに分割された境界から例えば４５度
前後に回転運動（矢印Ｘ）するようＫなっている。前記
保温断熱体１４には、発熱体１５が綾状に一体的に設け
られている。
しかして、本発明によれば、保温断熱体１４が縦方向に
２分割されかつそれ自身回転運動可能な構造となってい
る。従って、以下に示す効果を有する。なお、シリコン
ウェハ１２の径／ｄ８１φ（２００−φ）、反応管１１
の外径は２５０■φ、保温断熱体１４０回転速度は０．
１ｒｐｍとする。
２分割されかつそれ自身回転運動可能な構造となってい
る。従って、以下に示す効果を有する。なお、シリコン
ウェハ１２の径／ｄ８１φ（２００−φ）、反応管１１
の外径は２５０■φ、保温断熱体１４０回転速度は０．
１ｒｐｍとする。
■ 保温断熱体１４を回転することにょシリコンウェハ
１２の等温線が均一になる。即ち、保温断熱体１４が静
止している場合は、第３図（ａ） Ｋ示す如く等温線２
ノが不均一であるが、回転した場合は同図（ｂ）Ｋ示す
如く等温線が均一となる。
１２の等温線が均一になる。即ち、保温断熱体１４が静
止している場合は、第３図（ａ） Ｋ示す如く等温線２
ノが不均一であるが、回転した場合は同図（ｂ）Ｋ示す
如く等温線が均一となる。
■ 保温断熱体１４自身が回転するため、ウェハを回転
させる場合（従来例２）と比べ、ゲートと回転部の摺動
に起因する微粒子の発生を回避し、微粒子数を大幅に軽
減できる。例えば、従来例２及び本発明による０、５／
ｊＦＦｔ以上の微粒子数とウェハの位置との関係は、第
５図に示す通シである。なお、縦軸のウェハの位置は第
４図に沿うものとする。第５図により、従来の場合、ウ
ェハが炉口付近に近づくに従って微粒子が急激に増加し
、本発明の場合はウェハの位置に関係なく僅かな微粒子
しか存在しないことが確認できる。この理由は、本発明
の場合、反応管１１内で？−ト１３が完全に静置され、
反応管１１、内に気体を流入する際に反応管１１の上部
又は下部どちらから流入しても微粒子の発生、舞い上が
シを回避できるからである。
させる場合（従来例２）と比べ、ゲートと回転部の摺動
に起因する微粒子の発生を回避し、微粒子数を大幅に軽
減できる。例えば、従来例２及び本発明による０、５／
ｊＦＦｔ以上の微粒子数とウェハの位置との関係は、第
５図に示す通シである。なお、縦軸のウェハの位置は第
４図に沿うものとする。第５図により、従来の場合、ウ
ェハが炉口付近に近づくに従って微粒子が急激に増加し
、本発明の場合はウェハの位置に関係なく僅かな微粒子
しか存在しないことが確認できる。この理由は、本発明
の場合、反応管１１内で？−ト１３が完全に静置され、
反応管１１、内に気体を流入する際に反応管１１の上部
又は下部どちらから流入しても微粒子の発生、舞い上が
シを回避できるからである。
■ 前記■よシ、回転による応力がかからなくなシ、＆
−）７３の寿命が従来例２の５倍となる。また、Ｎ−ト
１３の破損も従来例２と比べ著しく軽減できる。
−）７３の寿命が従来例２の５倍となる。また、Ｎ−ト
１３の破損も従来例２と比べ著しく軽減できる。
■ 保温断熱体１４が縦方向に２分割されているため、
従来例１と比べ、ケートを反応管へ出し入れする際のス
ペースを省略でき、装置自身を小さくすることが可能と
なる。これを、第６図及び第７図を参照して説明する。
従来例１と比べ、ケートを反応管へ出し入れする際のス
ペースを省略でき、装置自身を小さくすることが可能と
なる。これを、第６図及び第７図を参照して説明する。
ここで、第６図は従来例１による場合を、第７図は本発
明による場合を示す。なお、図において、２１は保温断
熱体を、２２は反応管を、２３はゲートを、２４はエレ
ベータを示す。第６図によれば、反応管２２の長さり、
を１２０ｃＭとすれば、反応管２２の端部からエレベー
タ２４までの距離はＬｔ（１５０ｃｆＲ）必要であった
。これに対し、本発明によれば、反応管２２の端部から
エレベータ２４までの距離（Ｌ、）は８０ｍと無駄なス
イースを省略できる。
明による場合を示す。なお、図において、２１は保温断
熱体を、２２は反応管を、２３はゲートを、２４はエレ
ベータを示す。第６図によれば、反応管２２の長さり、
を１２０ｃＭとすれば、反応管２２の端部からエレベー
タ２４までの距離はＬｔ（１５０ｃｆＲ）必要であった
。これに対し、本発明によれば、反応管２２の端部から
エレベータ２４までの距離（Ｌ、）は８０ｍと無駄なス
イースを省略できる。
なお、上記実施例では、保温断熱体が縦方向に２分割さ
れている場合について述べたが、これに限らず、例えば
３分割以上されててもより０上記実施例では、保温断熱
体が０．１ｒｐｍで４５度での回転往復運動を行う場合
について述べたが、これに限らない。即ち、回転数は０
．０１ｒｐｍ以上、回転角は３０度以上であれば、ウェ
ハ温度の均一性を保つのに十分な効果を有する。また、
回転往復運動は３６０度での連続回転でもよい。
れている場合について述べたが、これに限らず、例えば
３分割以上されててもより０上記実施例では、保温断熱
体が０．１ｒｐｍで４５度での回転往復運動を行う場合
について述べたが、これに限らない。即ち、回転数は０
．０１ｒｐｍ以上、回転角は３０度以上であれば、ウェ
ハ温度の均一性を保つのに十分な効果を有する。また、
回転往復運動は３６０度での連続回転でもよい。
以上詳述した如く本発明によれば、生産性を向上し反応
管内の微粒子の発生や＆−トの破損を回避し得る熱処理
炉を提供できる。
管内の微粒子の発生や＆−トの破損を回避し得る熱処理
炉を提供できる。
第１図は本発明の一実施例に係る熱処理炉の説明図、第
２図は従来の熱処理炉の説明図、第３図（、）、（ｂ）
は夫々ウェハの等温線の状態を説明するための図、第４
図はテート内のウェハの位置を説明するための図、第５
図はウェハの位置と微粒子数との関係を示す特性図、第
６図は従来の熱処理炉における？−トの引き出し状態を
説明するための図、第７図は本発明の熱処理炉における
ケートの引き出し状態を説明するための図である。 １１．２２・・・反応管、１２・・・シリコンウェハ、
１３．２３・・・？−ト、１４．２ノ・・・保温断熱体
、１５・・・発熱体、２４・・・エレベータ。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦区 Ｑフ 賊 第６図 第７図
２図は従来の熱処理炉の説明図、第３図（、）、（ｂ）
は夫々ウェハの等温線の状態を説明するための図、第４
図はテート内のウェハの位置を説明するための図、第５
図はウェハの位置と微粒子数との関係を示す特性図、第
６図は従来の熱処理炉における？−トの引き出し状態を
説明するための図、第７図は本発明の熱処理炉における
ケートの引き出し状態を説明するための図である。 １１．２２・・・反応管、１２・・・シリコンウェハ、
１３．２３・・・？−ト、１４．２ノ・・・保温断熱体
、１５・・・発熱体、２４・・・エレベータ。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦区 Ｑフ 賊 第６図 第７図
Claims (2)
- （１）ウェハをセットしたボートを出入する反応管と、
この反応管の周囲に該反応管に対し回転運動可能に設け
られ、反応管の長手方向に複数に分割された筒状の保温
断熱体と、この保温断熱体に一体的に設けられた発熱体
とを具備することを特徴とする熱処理炉。 - （２）筒状の保温断熱体が反応管の長手方向に対し２分
割されていることを特徴とする特許請求の範囲第１項記
載の熱処理炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60084253A JPS61242015A (ja) | 1985-04-19 | 1985-04-19 | 熱処理炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60084253A JPS61242015A (ja) | 1985-04-19 | 1985-04-19 | 熱処理炉 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61242015A true JPS61242015A (ja) | 1986-10-28 |
Family
ID=13825293
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60084253A Pending JPS61242015A (ja) | 1985-04-19 | 1985-04-19 | 熱処理炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61242015A (ja) |
-
1985
- 1985-04-19 JP JP60084253A patent/JPS61242015A/ja active Pending
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