JPS61245149A - 水溶性レジスト - Google Patents

水溶性レジスト

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Publication number
JPS61245149A
JPS61245149A JP8676185A JP8676185A JPS61245149A JP S61245149 A JPS61245149 A JP S61245149A JP 8676185 A JP8676185 A JP 8676185A JP 8676185 A JP8676185 A JP 8676185A JP S61245149 A JPS61245149 A JP S61245149A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resist
molecule
group
water soluble
side chain
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8676185A
Other languages
English (en)
Inventor
Shoji Suzuki
章司 鈴木
Hideo Saeki
佐伯 英夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP8676185A priority Critical patent/JPS61245149A/ja
Publication of JPS61245149A publication Critical patent/JPS61245149A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、光による画像形成後、酸性染料を用いた染色
工程により染色することのできる水溶性レジストに関す
る。
[従来の技術] 従来、水溶性高分子材料である天然^分子化合物として
ゼラチン、カゼインなど、あるいは合成高分子化合物と
してポリビニルアルコールなどに光架橋試薬として重ク
ロム酸アンモニウムなどを添加した2成分系が感光性材
料として用いられている。通常この感光性材料をレジス
ト水溶液としてスピンコードし、露光、現像して所望の
IIaが形成される。このようにして形成されたレジス
ト画像は染料を溶解した水溶液中に浸し、ポリマー分子
中に染料分子を染着させる。
酸性染料を用いて染色を行なうばあい、染料分子のポリ
マー分子への染着作用は、ポリマー分子内のアンモニウ
ムイオンと染料分子のスルホニウムイオンの静電的なイ
オン結合、ポリマー分子−染料分子間の水素結合あるい
は双極子−灰極子閏相互作用、およびファンデルワール
ス力力よるものと考えられているが、これらの結合のな
かで、イオン結合がもっとも染着の結合力が大きいとさ
れている。
[発明が解決しようとする問題点] 水溶性ポリマーのなかで被染色性のよいゼラチンでも、
側鎖にはアンモニウムイオンとなりうる7ミ7基を含有
するアミlW&は数パーセントしか含まれておらず、染
料の種類によっては充分な光学濃度をうるためには膜厚
を厚(しなければならず、このばあい画像の解像性がわ
るくなるという欠、αが生にる。
本発明は解像性などの画像の特性を劣化させることなく
、酸性染料を用いた染色処理により充分な光学濃度を有
することのできる水溶性レジストを提供することを目的
とするものである。
[問題を解決するための手ff1 本発明は、側鎖または末端に水酸基またはカルボキシル
基を有する水溶性高分子化合物をアミノ酸と反応させる
ことにより、慄鎖京たは末端に7ミノ基を含有させてな
る水溶性レジストに関する。
[実施例J 本発明に用いる側鎖または末端に水酸基またはカルボキ
シル基を有する水溶性高分子化合物とは、セリンのよう
に分子内に水酸基を有するアミノ酸や、グルタミン酸な
どのように分子内に2個以上のカルボキシル基を有しア
ミノ酸を含む水溶性高分子化合物で、平均分子量2X1
03〜30X 10’のものが好ましい、このような水
溶性化合物としてはたとえばアルカリ処理をしたゼラチ
ン、肌脂したカゼインなどがあげられる。
側鎖または末端に水酸基を有する化合物は、式(■): ■ →榴−0CO−CH−NH2 (式中、榴は水溶性高分子化合物の主鎖、Rは有機の置
換基を示す)で示されるように、アミ7基を有する化合
物と反応°し側鎖または末端にアミノ基が導入される。
また側鎖または末端にカルボキシル基を有する化合物は
式(■): oon (式中、榴は水溶性高分子化合物の主鎖、nは1以上の
整数を示す)で示されるように、アミ7基を有する化合
物と反応し側鎖または末端にアミ7基が導入される。
前記のlN鎖または末端にカルボキシル基を有する水溶
性高分子化合物には、ゼラチンやカゼインなどがあり、
ゼラチンは構成アミノ酸のうち12〜18%がカルボキ
シル基を含むアミノ酸であり、またカゼイン中には構成
アミノ酸のうち約25%がカルボキシル基を含むアミノ
酸である。このようなポリマーを用いれば上記のような
反応により、より染色されやすいポリマーに改質される
。
たとえば、カゼイン1分子中には側鎖にアミノ基を有す
るアミノ酸は数%以下しか含まれていないが、本発明に
より改質されたカゼイン1分子中には量大20数%のア
ミ7基を有する7ミ/酸が含まれることになり、染料と
強固に染着する部位が増加し、また染着量も増加する。
本発明の水溶性レジストは、前記のごときIII頷また
は末端に水酸基またはカルボキシル基を有する高分子化
合物とアミノ酸とを反応させることにより、側鎖または
末端にアミノ基を導入させたものであり、前記高分子化
合物としてはゼラチンのように染色されやすい水溶性ポ
リマーであればより好ましい。
太警朗の*溶忰しジ又トにおけ3前記水階某またはカル
ボキシル基の側鎖をアミノ基の*gに変えるためのアミ
ノ酸との変換割合は、形成されるパターンに必要とされ
る染色性あるいは水溶性ポリマーの種類などによって異
なり、−概に決定することはできないが、10〜100
%、好ましくは30〜100%とするのが適当である。
前記のごとb本発明の水溶性レジストは、従来からの水
溶性レノストと同様にして使用される。
すでに説明したように、酸性染料の染着の際のポリマー
分子と染料分子との相互作用で最も大きなものは静電的
なイオン結合によるものである。
その機構はポリマー分子中の7ミ7基(−NO,基)が
酸性染料水溶液中でアンモニウムイオン(−ML)とな
り染料分子中のスルホニウムイオン(−SO2)とイオ
ン結合することにより染着される。
染色槽中では染料が過剰に存在した状態にあるので、レ
ノストパターン中の染着部位、すなわち正電荷を有する
アミ7基の数によって染着量が決定される。したがって
、アミノ酸を反応させ、側鎖にアミ7基を導入させるこ
とにより、しシスト中の染着部位が増加するため、染着
量を増加させることがで終る。
つぎに本発明の水溶性レジストを実施例にもとづき説明
する。
実施例1 ゼラチン中の構成アミノ酸のうちグルタミン酸、アスパ
ラギン酸の側鎖のカルボキシル基をリジンと反応させて
、反応率約50%で側鎖をアミノ基に変換した。この水
溶性ポリマー15重量%溶液と重クロム酸アンモニウム
15重量%水溶液を10:1の割合で混合しでえられた
レジストを塗布し、画像を形成させた。つぎに濃度22
71%pH4のイエロー染料(Kayanol Mil
ling Yellow 3+1;l1l)を温度60
℃で5分間染色させた。つぎにえられたレジスト膜の膜
厚1μlあたりの吸光度を波長410niで測定した。
結果を第1表に示す。
実施例2 分子量10X 10’〜IOX 10’程度のポリビニ
ルアルコールの水酸基とグリシンのカルボキシル基とを
エステル反応させて、反応率約40%でポリビニルアル
コールの側鎖にアミ7基を有する水溶性ポリマーをえた
。この水溶性ポリマー15重量%水溶液と重クロム酸ア
ンモニウム15重量%水溶液を10:1の割合で混合し
てえられたレノストを塗布し、乾燥後画像形成した。こ
れを濃度2 g/l、pH4のブルー染料(にayan
ol Milling Turquoise Blue
 3G)を温度60℃で5分間染色させた。
つぎにえられたレノスト膜の膜厚1μmあたりの吸光度
を波長610FZmで測定した。
結果を第1表に示す。
比較例1 実施例1の組成のものをリジンと反応させないで実施例
1と同様の方法で染色させたレジスト膜をえた。つぎに
えられたレジスト族の膜厚1μ度あたりの吸光度を波長
410nzで測定した。
その結果を第1表に示す。
比較例2 グリシンを含まない実施例2の組成のものを実施例2と
同様の方法で染色させたレジスト膜をえた。つぎにえら
れたレジスト膜の膜厚1μ置あたりの吸光度を波長61
0F11で一定した。
その結果を第1表に示す。
第      1      表 [発明の効果] 以上説明したように、本発明の水溶性レジストは、従来
の水溶性レジストよりも1分子あたりに含まれるアミ7
基が多くなり、したがってイオン結合により染着する染
料分子が増加するので、薄い膜厚で従来と同じ程度の光
学濃度を有する着色されたレジスト膜をうろことができ
る。また膜厚の薄いレジスト膜をうろことができるので
、画像の解像性がよくなり、微細加工もしやすくなると
いう効果を奏する。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)側鎖または末端に水酸基またはカルボキシル基を
    有する水溶性高分子化合物をアミノ酸と反応させること
    により側鎖または末端にアミノ基を含有させてなる水溶
    性レジスト。
JP8676185A 1985-04-23 1985-04-23 水溶性レジスト Pending JPS61245149A (ja)

Priority Applications (1)

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JP8676185A JPS61245149A (ja) 1985-04-23 1985-04-23 水溶性レジスト

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JP8676185A JPS61245149A (ja) 1985-04-23 1985-04-23 水溶性レジスト

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS61245149A true JPS61245149A (ja) 1986-10-31

Family

ID=13895728

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JP8676185A Pending JPS61245149A (ja) 1985-04-23 1985-04-23 水溶性レジスト

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015029615A1 (ja) * 2013-08-26 2015-03-05 独立行政法人科学技術振興機構 接着剤

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2015029615A1 (ja) * 2013-08-26 2015-03-05 独立行政法人科学技術振興機構 接着剤
JPWO2015029615A1 (ja) * 2013-08-26 2017-03-02 国立研究開発法人科学技術振興機構 接着剤
US10011671B2 (en) 2013-08-26 2018-07-03 Japan Science And Technology Agency Adhesive
US10711083B2 (en) 2013-08-26 2020-07-14 Japan Science And Technology Agency Adhesive

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