JPS61255959A - 遊離基発生剤を含有し、エネルギ−の供給によつて架橋され得るオルガノポリシラザン組成物 - Google Patents
遊離基発生剤を含有し、エネルギ−の供給によつて架橋され得るオルガノポリシラザン組成物Info
- Publication number
- JPS61255959A JPS61255959A JP61098422A JP9842286A JPS61255959A JP S61255959 A JPS61255959 A JP S61255959A JP 61098422 A JP61098422 A JP 61098422A JP 9842286 A JP9842286 A JP 9842286A JP S61255959 A JPS61255959 A JP S61255959A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- composition
- organopolysilazane
- free radical
- radical generator
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/515—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics
- C04B35/58—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides
- C04B35/584—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides based on silicon nitride
- C04B35/589—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides based on silicon nitride obtained from Si-containing polymer precursors or organosilicon monomers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/50—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials
- C04B41/5025—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials with ceramic materials
- C04B41/5035—Silica
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
- C04B41/81—Coating or impregnation
- C04B41/85—Coating or impregnation with inorganic materials
- C04B41/87—Ceramics
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/60—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
- C08G77/62—Nitrogen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L83/16—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers in which all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0757—Macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
この発明は、遊離基発生剤を含有し且つエネルギーの供
給によって架橋することのできるオルガノポリシラザン
組成物に関する。
給によって架橋することのできるオルガノポリシラザン
組成物に関する。
オルガノポリシラザン(以下ポリシラザンと略す)はモ
ノマー、オリゴマー及び環状又は線状のポリマーの形状
で、そしてまた樹脂状ぎりマーの形状で生成する公知の
物質である。これらポリシラザンは多種の方法を用いて
広範な出発物質から製造することができる。
ノマー、オリゴマー及び環状又は線状のポリマーの形状
で、そしてまた樹脂状ぎりマーの形状で生成する公知の
物質である。これらポリシラザンは多種の方法を用いて
広範な出発物質から製造することができる。
特に、これらポリシラザンはいろいろな形状に成形する
ことができ、そしてSl、H4、SIC又はそれらの混
合物の形で熱分解することができる。
ことができ、そしてSl、H4、SIC又はそれらの混
合物の形で熱分解することができる。
窒化珪素の製造には、高温において気相中でり四ルシラ
ン類(5IC14、H81C1,及びH*81C1t)
をアンモニアと反応させて成る別法がある。粉末状物質
を直接生成するこの方法に従って成形品特にファイバー
を製造するのは困難である。その代りに、ポリシラザン
は、熱分解してセラミックファイバーになる連続7アイ
バーに紡糸することができる。
ン類(5IC14、H81C1,及びH*81C1t)
をアンモニアと反応させて成る別法がある。粉末状物質
を直接生成するこの方法に従って成形品特にファイバー
を製造するのは困難である。その代りに、ポリシラザン
は、熱分解してセラミックファイバーになる連続7アイ
バーに紡糸することができる。
これらポリシラザンは種々の厚さのフィルム、大きい成
形物品に成形することができ、そしてセラミックファイ
バー又はカーボンファイバー用の結合剤として及び多孔
質セラミックファイバー用の焼結結合剤として使用する
ことができる。
形物品に成形することができ、そしてセラミックファイ
バー又はカーボンファイバー用の結合剤として及び多孔
質セラミックファイバー用の焼結結合剤として使用する
ことができる。
しかしながら、これらポリシラザンをファイバー又は被
覆材であってその熱分解後に種々の寸法の7アイパー、
フィルム、被覆材及び成形物品の形状でセラミック物質
を生じるようなものの形状に容易に且つ経済的に変換す
るにあたってはいろいろな問題点がある。
覆材であってその熱分解後に種々の寸法の7アイパー、
フィルム、被覆材及び成形物品の形状でセラミック物質
を生じるようなものの形状に容易に且つ経済的に変換す
るにあたってはいろいろな問題点がある。
米国特許第3.853.567号では上記問題点に対し
て第一溶液を提供する試みが為された。
て第一溶液を提供する試みが為された。
この特許には、溶融性カルボシラザン樹脂を得る目的で
、まずポリシラザンを200〜800℃の温度で熱処理
し、得られた″mI!11性カルボシラザン樹脂を溶融
紡糸し、次いで800〜2000℃の温度で熱分解する
ことによって、他のセラミック物質と共に炭化珪素、窒
化珪素又はそれらの混合物を含有するファイバーのよう
な成形品を製造する方法が提唱されている。
、まずポリシラザンを200〜800℃の温度で熱処理
し、得られた″mI!11性カルボシラザン樹脂を溶融
紡糸し、次いで800〜2000℃の温度で熱分解する
ことによって、他のセラミック物質と共に炭化珪素、窒
化珪素又はそれらの混合物を含有するファイバーのよう
な成形品を製造する方法が提唱されている。
上記特許には確かに著しい進歩があるが、・最初にすで
に非常に高い温度(200〜800℃)における熱処理
が必要である ・無水条件下不活性雰囲気条件下で溶融状態のカルボシ
ラザンを処理する という二重の欠点がある。さらに、セラミックの収量が
不充分である。
に非常に高い温度(200〜800℃)における熱処理
が必要である ・無水条件下不活性雰囲気条件下で溶融状態のカルボシ
ラザンを処理する という二重の欠点がある。さらに、セラミックの収量が
不充分である。
特開昭52−160,446号には、オルガノポリシラ
ザンの処理用の触媒として酸性土を使用した高分子量の
オルガノポリシラザンの重合方法が記載されている。し
かしながら、この方法においては、固体触媒が用いられ
るのでこれを濾過して分離する必要があり、また、ポリ
マーの粘度が高くなり得る場合に溶媒の使用を伴うとい
う大きな欠点がある。
ザンの処理用の触媒として酸性土を使用した高分子量の
オルガノポリシラザンの重合方法が記載されている。し
かしながら、この方法においては、固体触媒が用いられ
るのでこれを濾過して分離する必要があり、また、ポリ
マーの粘度が高くなり得る場合に溶媒の使用を伴うとい
う大きな欠点がある。
この発明の目的は上述の問題点を解決し、1000〜2
000℃の温度で熱分解した場合に優れた特性を有する
セラミック物質を生成する新規のオルガノポリシラザン
組成物を非常に多種の形状(フィラメント、成形品、被
覆材、フィルム等)で製造するための単純で有用で経済
的で且つ容易に利用できる方法を提供することにある。
000℃の温度で熱分解した場合に優れた特性を有する
セラミック物質を生成する新規のオルガノポリシラザン
組成物を非常に多種の形状(フィラメント、成形品、被
覆材、フィルム等)で製造するための単純で有用で経済
的で且つ容易に利用できる方法を提供することにある。
さらに、加水分解に対して充分安定であり且つ熱分解し
た場合にセラミック物質を高収量で生成するオルガノポ
リシラザン組成物を容易に入手することができることが
望ましく、これがこの発明の他の目的である。この目的
のためにはポリシラザンが熱分解の際に良好な熱的挙動
を示さなければならないと同時に被覆し含浸すべき支持
体にしつかり付着し続けていなければならない。
た場合にセラミック物質を高収量で生成するオルガノポ
リシラザン組成物を容易に入手することができることが
望ましく、これがこの発明の他の目的である。この目的
のためにはポリシラザンが熱分解の際に良好な熱的挙動
を示さなければならないと同時に被覆し含浸すべき支持
体にしつかり付着し続けていなければならない。
これらの目的及び他の目的は、有効量の少なくとも一種
の遊離基発生剤を含有することを特徴とする、エネルギ
ーの供給によって架橋され得るオルガノポリシラザン組
成物に事実1係る本発明によって達成される。オルガノ
ポリシラザンを架橋するためには、熱、紫外線、電子ビ
ーム等のような前記の遊離基を生成させることが可能な
形状であり且つ充分な量のエネルギーを前記組成物に供
給する。
の遊離基発生剤を含有することを特徴とする、エネルギ
ーの供給によって架橋され得るオルガノポリシラザン組
成物に事実1係る本発明によって達成される。オルガノ
ポリシラザンを架橋するためには、熱、紫外線、電子ビ
ーム等のような前記の遊離基を生成させることが可能な
形状であり且つ充分な量のエネルギーを前記組成物に供
給する。
オルガノポリシラザン(1)としては、(&)次式I:
(R)、 (Y)4−1L SI(I )(式中、Rは
同一であっても興なっていてもよく、1〜12個の炭素
原子を含有し随意にハロゲン化された直鎖状又は分枝鎖
状のアルキル基、5〜7個の炭素原子を含有するシフ胃
アルキル基、7エ二ル及びす7チル基のようなアリール
基、直鎖状又は分枝鎮状のアルキル部分に1〜6個の炭
素原子を含有するアリールアルキル又はアルキルアリー
ル基から選択され、 Yはハpゲン原子、好ましくは塩素原子であり、aは0
.1.2又は3である) の少なくとも1種のオルガノハロシラン及び伽)少なく
とも1個のNl’l!又はNH基を含有する有機又は有
機珪素化合物(例えばアンモニア、第1又は第2アミン
、シリルアミン、アミド、ヒドラジン、ヒドラジド等) の反応生成物を使用することができる。
同一であっても興なっていてもよく、1〜12個の炭素
原子を含有し随意にハロゲン化された直鎖状又は分枝鎖
状のアルキル基、5〜7個の炭素原子を含有するシフ胃
アルキル基、7エ二ル及びす7チル基のようなアリール
基、直鎖状又は分枝鎮状のアルキル部分に1〜6個の炭
素原子を含有するアリールアルキル又はアルキルアリー
ル基から選択され、 Yはハpゲン原子、好ましくは塩素原子であり、aは0
.1.2又は3である) の少なくとも1種のオルガノハロシラン及び伽)少なく
とも1個のNl’l!又はNH基を含有する有機又は有
機珪素化合物(例えばアンモニア、第1又は第2アミン
、シリルアミン、アミド、ヒドラジン、ヒドラジド等) の反応生成物を使用することができる。
単独又は混合物状で用いることのできるオルガノハロシ
ランとしては、下記のものが挙げられる=(CH5)t
s’i C1,、(CH,)3SiC1、CH3B1
C1,,8l C14,0H1lH81C1,、(CH
3)、81 (CM、CI)、、(CHs )s 5I
CH,CI SCH,81(CH,CI )s 、−8
i Cl、、(C,H,)、 81C1,、(CeHs
) (CH3) 81C1,、C,H,8i C19、
(CH,)、H81°C11(CHI)(CH,OR,
)81C1,、HBICI、。
ランとしては、下記のものが挙げられる=(CH5)t
s’i C1,、(CH,)3SiC1、CH3B1
C1,,8l C14,0H1lH81C1,、(CH
3)、81 (CM、CI)、、(CHs )s 5I
CH,CI SCH,81(CH,CI )s 、−8
i Cl、、(C,H,)、 81C1,、(CeHs
) (CH3) 81C1,、C,H,8i C19、
(CH,)、H81°C11(CHI)(CH,OR,
)81C1,、HBICI、。
前記のポリシラザンは公知であり製造するのが容易であ
る。より詳細には、これらポリシラザンには九下記のも
のが包含される: ・次式■及び■ H,N((R)、5iNH)pSi(R)、NH,(I
I)及び(R)s 81NH((R)、S INH)、
+ S i (R)’s (m)(式中、Rは前
記の意味を持ち、p及びplは1〜t000までの間の
整数、一般的には3〜Sooまでの整数である) に相当する線状ポリマー (式■のポリマーはジオルガノジクロルシランをアンモ
ニアと接触させることによって製造することができ、式
■のポリマーはトリオルガノクロルシラン又はジオルガ
ノジクロルシラン及びトリオルガノクロルシランの混合
物とアンモニアとの反応によって製造することができる
(仏画特許第ZOaへ932号及び米国特許第2.56
4,674号を参照されたい)。
る。より詳細には、これらポリシラザンには九下記のも
のが包含される: ・次式■及び■ H,N((R)、5iNH)pSi(R)、NH,(I
I)及び(R)s 81NH((R)、S INH)、
+ S i (R)’s (m)(式中、Rは前
記の意味を持ち、p及びplは1〜t000までの間の
整数、一般的には3〜Sooまでの整数である) に相当する線状ポリマー (式■のポリマーはジオルガノジクロルシランをアンモ
ニアと接触させることによって製造することができ、式
■のポリマーはトリオルガノクロルシラン又はジオルガ
ノジクロルシラン及びトリオルガノクロルシランの混合
物とアンモニアとの反応によって製造することができる
(仏画特許第ZOaへ932号及び米国特許第2.56
4,674号を参照されたい)。
一般にオルガノハロシランと有機アミンとの反応は米国
特許第3.85 B567号及び同第4892.583
号に、オルガノハロシランとジシラザンとの反応はベル
ギー国特許第88 B787号に記載されている。)募 ・次式■: ((R)、81NH)n (I%’)
(式中、nは3〜10、一般的にn=5又は4であり、
Rは前記式■について与えた意味を持つ)に相当する環
状ポリマー (これらは特に英国特許第ast1ys号に記載されて
いる); ・式(R) s S i NHo、s 、式(R)、
81NH,弐R81NHい及び式5l(Nu)zの単位
群から選択される単位群より成る樹脂状ポリマー (これらは対応するオルガノクロルシラン又はそれらシ
ランの混合物をアンモニアと接触、好ましくは有機溶媒
中で接触させることによって有利に製造される(仏画特
許第1.579.245号、同第1,592,855号
及び同第139へ728号を参照されたい)。
特許第3.85 B567号及び同第4892.583
号に、オルガノハロシランとジシラザンとの反応はベル
ギー国特許第88 B787号に記載されている。)募 ・次式■: ((R)、81NH)n (I%’)
(式中、nは3〜10、一般的にn=5又は4であり、
Rは前記式■について与えた意味を持つ)に相当する環
状ポリマー (これらは特に英国特許第ast1ys号に記載されて
いる); ・式(R) s S i NHo、s 、式(R)、
81NH,弐R81NHい及び式5l(Nu)zの単位
群から選択される単位群より成る樹脂状ポリマー (これらは対応するオルガノクロルシラン又はそれらシ
ランの混合物をアンモニアと接触、好ましくは有機溶媒
中で接触させることによって有利に製造される(仏画特
許第1.579.245号、同第1,592,855号
及び同第139へ728号を参照されたい)。
この樹脂状ポリマーは多くのS l −NH−8L結合
及び少しの81NH,結合を含有し、場合によっては架
橋したポリマーの外に線状及び環状ポリマーを含有する
)。
及び少しの81NH,結合を含有し、場合によっては架
橋したポリマーの外に線状及び環状ポリマーを含有する
)。
オルガノポリ(ジシリル)シラザンは、(&) 少な
くとも1個のNH,又はNH基を含有する有機又は有機
珪素化合物(例えばアンモニア、第1又は第2アミン、
シリルアミン、アミド、ヒドラジン、ヒドラジド等)を
、 (b) 次式V: (R)、(Y)、、8181 (R)c(Y)、c(V
)(式中、Rは同一であっても異なっていてもよく、前
記と同じ意味を持ち、 bは0.1.2又は5であり、 Cは0.1又は2であり1 Yはハロゲン、一般に塩素原子である)の少なくとも1
種のオルガノハロジシランに作用させることによって製
造することができる。
くとも1個のNH,又はNH基を含有する有機又は有機
珪素化合物(例えばアンモニア、第1又は第2アミン、
シリルアミン、アミド、ヒドラジン、ヒドラジド等)を
、 (b) 次式V: (R)、(Y)、、8181 (R)c(Y)、c(V
)(式中、Rは同一であっても異なっていてもよく、前
記と同じ意味を持ち、 bは0.1.2又は5であり、 Cは0.1又は2であり1 Yはハロゲン、一般に塩素原子である)の少なくとも1
種のオルガノハロジシランに作用させることによって製
造することができる。
式Vの化合物の例としては、下記のものが挙げられる:
(011g )、Cl8181(CBs)*C1、(C
ut)t Cl5ISICHsC1t。
ut)t Cl5ISICHsC1t。
CM、CI、BIB魚CI、CI、。
前記オルガノポリシラザンの合成に用いることができる
少なくとも1個のNH7又はNH基を含有する化合物の
例としては、下記のものが挙げられる: アンモニア、メチルアミン、ジメチルアミン、エチルア
ミン、シクロプルピルアミン、ヒドラジン、メチルヒド
ラジン、エチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、
ジヘキサメチレンジアミン、アニリン、メチルアニリン
、ジフェニルアミン、トルイジン、グアニジン、アミノ
グアニジン、尿素、メチル ヘキ右うザン、テトラメチルジビニルジシラザン、ジメ
チルジフェニルジビニルジシラザン及びテトラメチルジ
シラザン。
少なくとも1個のNH7又はNH基を含有する化合物の
例としては、下記のものが挙げられる: アンモニア、メチルアミン、ジメチルアミン、エチルア
ミン、シクロプルピルアミン、ヒドラジン、メチルヒド
ラジン、エチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、
ジヘキサメチレンジアミン、アニリン、メチルアニリン
、ジフェニルアミン、トルイジン、グアニジン、アミノ
グアニジン、尿素、メチル ヘキ右うザン、テトラメチルジビニルジシラザン、ジメ
チルジフェニルジビニルジシラザン及びテトラメチルジ
シラザン。
ハロジシランの所望ならばへ田シランの存在下における
アンモニアとの反応は、ヨーロッパ特許第75,826
号に記載されている。ハロジシランとジシランとの反応
は、仏画特許第2,497,812号に記載されている
。
アンモニアとの反応は、ヨーロッパ特許第75,826
号に記載されている。ハロジシランとジシランとの反応
は、仏画特許第2,497,812号に記載されている
。
好ましい具体例における出発物質のオルガノポリシラザ
ン(2)は、1分子につき少なくとも1個の基′!−8
IR1(ここで、R1はアルケン又はアルキン系不飽和
結合1個を有する炭化水素基である)を含有する。実際
、1分子につき少なくとも1個の基=81B、を含有す
るオルガノポリシラザン(2)は、遊離基発生剤の濃度
が同一である場合、基−estR,を含有しないオルガ
ノポリシラザン(1)より低温でより迅速に且つより完
全に架橋するということが本発明によってわかった。
ン(2)は、1分子につき少なくとも1個の基′!−8
IR1(ここで、R1はアルケン又はアルキン系不飽和
結合1個を有する炭化水素基である)を含有する。実際
、1分子につき少なくとも1個の基=81B、を含有す
るオルガノポリシラザン(2)は、遊離基発生剤の濃度
が同一である場合、基−estR,を含有しないオルガ
ノポリシラザン(1)より低温でより迅速に且つより完
全に架橋するということが本発明によってわかった。
従って、より詳細には、本発甲は、1分子につき式1m
、 ■b及びIc: (式中、R,はアルケン又はアルキン系不飽和結合1個
を有する炭化水素基を表わし、 Rは同一であっても興なっていてもよく、前記の意味を
持ちさらに基R,であることもでき、Xは同一であって
も異なっていてもよく、式(CHI)!l(ここで、n
は1〜Bまでの整数である)、−S−及びN−の連鎖を
表わし、Xの少なくとも50%はN−である) の単位から選択される少なくとも2種の単位を含有する
オルガノポリシラザン(2)並びに有効量の遊離基発生
剤を含有することを特徴とするオルガノポリシラザン組
成物を提供するものである。
、 ■b及びIc: (式中、R,はアルケン又はアルキン系不飽和結合1個
を有する炭化水素基を表わし、 Rは同一であっても興なっていてもよく、前記の意味を
持ちさらに基R,であることもでき、Xは同一であって
も異なっていてもよく、式(CHI)!l(ここで、n
は1〜Bまでの整数である)、−S−及びN−の連鎖を
表わし、Xの少なくとも50%はN−である) の単位から選択される少なくとも2種の単位を含有する
オルガノポリシラザン(2)並びに有効量の遊離基発生
剤を含有することを特徴とするオルガノポリシラザン組
成物を提供するものである。
もちろん本発明はオルガノポリシラザン(1)及び(2
)の任意の混合物を含有するオルガノポリシラザン組成
物を提供する。
)の任意の混合物を含有するオルガノポリシラザン組成
物を提供する。
ポリシラザン(2)におけるIa、Ib又はIs以外の
単位は、式na、nb、me及び■d:(式中、基R及
び連@Xは同一であっても異なっていてもよく、前記の
意味を持つ) の単位から選択され、ポリシラザン(1)中にも見出さ
れ得る単位であってよい0 式I−Ib−Ie、 Ilb、 Ile及びItdにお
いて基Rはさらに、水素原子;飽和脂肪族炭化水素基(
好ましくはメチル、エチル、プルピル、ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル、ヘプチル及びオクチルのような1〜8個
の炭素原子を含有するもの);シフ田プ田ビル、シフ田
ブチル、シクロペンチル、シフ田ヘキシル及びシフ田ヘ
プチル基のような3〜7個の炭素原子を含有する飽和環
状炭化水素基;ベンジル及びフェニルエチル基のような
アリールアルキル基;又はトリル及びキシリル基のよう
なアルキルアリール基であってもよい。メチル及び7エ
二ル基が好ましい基である。式Ia、Ib及びIeにお
いて基R1は不飽和脂肪族基(好ましくは2〜8個の炭
素原子を含有するもの)であってよい。
単位は、式na、nb、me及び■d:(式中、基R及
び連@Xは同一であっても異なっていてもよく、前記の
意味を持つ) の単位から選択され、ポリシラザン(1)中にも見出さ
れ得る単位であってよい0 式I−Ib−Ie、 Ilb、 Ile及びItdにお
いて基Rはさらに、水素原子;飽和脂肪族炭化水素基(
好ましくはメチル、エチル、プルピル、ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル、ヘプチル及びオクチルのような1〜8個
の炭素原子を含有するもの);シフ田プ田ビル、シフ田
ブチル、シクロペンチル、シフ田ヘキシル及びシフ田ヘ
プチル基のような3〜7個の炭素原子を含有する飽和環
状炭化水素基;ベンジル及びフェニルエチル基のような
アリールアルキル基;又はトリル及びキシリル基のよう
なアルキルアリール基であってもよい。メチル及び7エ
二ル基が好ましい基である。式Ia、Ib及びIeにお
いて基R1は不飽和脂肪族基(好ましくは2〜8個の炭
素原子を含有するもの)であってよい。
例として、エチニル、プロピニル及びその類の基、ビニ
ル、アリル及びその類の基、並びにシフ胃ペンテニル、
シフ四へキシニル、シフ田へブテニル及びシクロオクテ
ニル基のようなシクロアルケニル基が挙げられる。ビニ
ル基が好ましい基である。
ル、アリル及びその類の基、並びにシフ胃ペンテニル、
シフ四へキシニル、シフ田へブテニル及びシクロオクテ
ニル基のようなシクロアルケニル基が挙げられる。ビニ
ル基が好ましい基である。
オルガノポリシラザン(1)と同様に、オルガノポリシ
ラザン(2)は公知であり、その製造は下記の文献に詳
細に記載されている: 「ジャーナルーオプーポリマーーサイエンス(Th@J
otsnal of P61ym@r Sei@nee
) J A 2巻1第3179頁(1964年)、レ
ド#(R@dl)著の「シラザン−ポリマー(511m
5an・Polymer )アルパ(Arpa)−19
Jアドパンスドーリサーチープロジエクツーエージヤン
シ−(Advanc@d Res@arch Proj
@ets Ag@ncy )刊(1965年10月)、
米国特許第4855.567号及び同第4892,58
5号、ヨー四ツバ特許第75.826号及び仏画特許第
2,49λ812号。
ラザン(2)は公知であり、その製造は下記の文献に詳
細に記載されている: 「ジャーナルーオプーポリマーーサイエンス(Th@J
otsnal of P61ym@r Sei@nee
) J A 2巻1第3179頁(1964年)、レ
ド#(R@dl)著の「シラザン−ポリマー(511m
5an・Polymer )アルパ(Arpa)−19
Jアドパンスドーリサーチープロジエクツーエージヤン
シ−(Advanc@d Res@arch Proj
@ets Ag@ncy )刊(1965年10月)、
米国特許第4855.567号及び同第4892,58
5号、ヨー四ツバ特許第75.826号及び仏画特許第
2,49λ812号。
これらオルガノポリシラザン(2)は、例えば次式:
%式%()
(式中、RNRI及びYは前記の意味を持ち、aは0.
1又は2であり、bは1.2又は3であり且つa +
bは3以下である) のオルガツバ四シランと、オルガノポリシラザン(1)
の合成用に前記したような、NH,を包含する少なくと
も1個のNHl又はNH基を含有する有機化合物との反
応によって製造することができる。
1又は2であり、bは1.2又は3であり且つa +
bは3以下である) のオルガツバ四シランと、オルガノポリシラザン(1)
の合成用に前記したような、NH,を包含する少なくと
も1個のNHl又はNH基を含有する有機化合物との反
応によって製造することができる。
もちろん、式I、V及び■のシラン類の任意の混合物を
使用することもできる。
使用することもできる。
最も広く用いられる式■のシランは下記のものである:
CM、(CH,=CH)81C1,、(CHs)t(C
H1=CH)SICI。
H1=CH)SICI。
(C@ kl@ )t (CHt=CH) 81 C5
、(CHs ) (C* Hs ) (CHt=CH)
8iC1゜ (C@Hs )(CH,=CH)SIC1!。
、(CHs ) (C* Hs ) (CHt=CH)
8iC1゜ (C@Hs )(CH,=CH)SIC1!。
アンモニアから製造された出発物質のポリシラザンを一
般にアンモノリシス生成物と呼び、前記のようなアミノ
化合物から製造された出発物質のポリシラザンをアミツ
リシス生成物と呼び、これはアンモノリシス生成物を包
含する。
般にアンモノリシス生成物と呼び、前記のようなアミノ
化合物から製造された出発物質のポリシラザンをアミツ
リシス生成物と呼び、これはアンモノリシス生成物を包
含する。
さらに、ポリシラザンタイプのアミツリシス生成物にお
いては、下記の単位が識別され得る二MN: (R)
、81−N” 使用される遊離基発生剤は、特に有機過酸化物、より詳
細には、加熱架橋したオルガノポリシロキサン組成物を
加硫するのにすでに用いられており且つ、例えば、ワル
ター・ノール(Walt*rNoll)の著書「ケミス
トリー−アンド−テクノ四ジーーオプーシリコーンズ(
Ch@m1stry andTechnology o
f Silleom@s ) J第392〜593頁(
1968年)に記載のもの、又はビニル重合用により特
別に用いられており且つ「プラスチックス−デザイン−
アンドープはセシング(plastics Da重量
gn and Procegglng ) J
(1980年2月)、第38〜45頁及び[クンス
トシエトツ7工(Kunmtstoff* ) J第6
2巻(1972年10月)、第39〜41頁に記載され
た有機過酸化物であってよい。
いては、下記の単位が識別され得る二MN: (R)
、81−N” 使用される遊離基発生剤は、特に有機過酸化物、より詳
細には、加熱架橋したオルガノポリシロキサン組成物を
加硫するのにすでに用いられており且つ、例えば、ワル
ター・ノール(Walt*rNoll)の著書「ケミス
トリー−アンド−テクノ四ジーーオプーシリコーンズ(
Ch@m1stry andTechnology o
f Silleom@s ) J第392〜593頁(
1968年)に記載のもの、又はビニル重合用により特
別に用いられており且つ「プラスチックス−デザイン−
アンドープはセシング(plastics Da重量
gn and Procegglng ) J
(1980年2月)、第38〜45頁及び[クンス
トシエトツ7工(Kunmtstoff* ) J第6
2巻(1972年10月)、第39〜41頁に記載され
た有機過酸化物であってよい。
これら過酸化物には、特にシアp−イルペルオキシド(
例えばジベンゾイルペルオキシド1ジーp−クロルベン
ゾイルペルオキシド及びビス−2,4−ジクロルベンゾ
イルペルオキシド)$ジアルキルペルオキシド(例えば
2.5−ジメチル−2,5−ジ(1−ブチルペルオキシ
)ヘキサン及びジ−t−ブチルペルオキシド);シアル
アルキルペルオキシド(例えばジクミルペルオキシド)
Iアルキルアルアルキルペルオキシド(例えばt−ブチ
ルクミルペルオキシド及びt4−ビス(1−プチルペル
オキシイソグロピル)ベンゼン)fアルキルアローイル
ペルオキシド及びアルキルアシルペルオキシド(例えば
t−ブチルペルベンゾニー)、1−ブチルペルアセテー
ト及びt−ブチルペルオクタノエート)が包含される。
例えばジベンゾイルペルオキシド1ジーp−クロルベン
ゾイルペルオキシド及びビス−2,4−ジクロルベンゾ
イルペルオキシド)$ジアルキルペルオキシド(例えば
2.5−ジメチル−2,5−ジ(1−ブチルペルオキシ
)ヘキサン及びジ−t−ブチルペルオキシド);シアル
アルキルペルオキシド(例えばジクミルペルオキシド)
Iアルキルアルアルキルペルオキシド(例えばt−ブチ
ルクミルペルオキシド及びt4−ビス(1−プチルペル
オキシイソグロピル)ベンゼン)fアルキルアローイル
ペルオキシド及びアルキルアシルペルオキシド(例えば
t−ブチルペルベンゾニー)、1−ブチルペルアセテー
ト及びt−ブチルペルオクタノエート)が包含される。
また、例えば米国特許第2.97111L982号に記
載されたようなペルオキシシルキサン及びt−ブチルペ
ルオキシイソプルビルカルボネートのようなペルオキシ
カルボネートも使用することができるO しかしながら、セラミックの先駆体物質において酸素や
硫黄の存在は望ましくないので、これらを含有しない遊
離基発生剤を使用するのが好ましい。
載されたようなペルオキシシルキサン及びt−ブチルペ
ルオキシイソプルビルカルボネートのようなペルオキシ
カルボネートも使用することができるO しかしながら、セラミックの先駆体物質において酸素や
硫黄の存在は望ましくないので、これらを含有しない遊
離基発生剤を使用するのが好ましい。
これら化合物の中では、下記のような対称又は非対称ア
ゾ化合物を使用することができる:・2.2′−アゾビ
ス(イソブチロニトリAI)(これが最も適している)
、 ・2.2′−アゾビス(2,4−ジメチル−4−メトキ
シバレロニトリル)、 ・1−シアノ−1−(t−ブチルアゾ)シクロヘキサン
及び ・2−(t−ブチルアゾ)インブチロニトリル。
ゾ化合物を使用することができる:・2.2′−アゾビ
ス(イソブチロニトリAI)(これが最も適している)
、 ・2.2′−アゾビス(2,4−ジメチル−4−メトキ
シバレロニトリル)、 ・1−シアノ−1−(t−ブチルアゾ)シクロヘキサン
及び ・2−(t−ブチルアゾ)インブチロニトリル。
これらの化合物は公知のものであり、特に過酸化物に関
して前記した最後の2つの刊行物並びに米国特許第2,
500,029号、同第2492.765号及び同第2
.51&628号に記載されている。
して前記した最後の2つの刊行物並びに米国特許第2,
500,029号、同第2492.765号及び同第2
.51&628号に記載されている。
また、米国特許Sλ6Q5,26Q号に記載されたアゾ
ビス(T−ジエチルアミノ−α−メチルブチ四ニトリル
)のような第3アミン基を含有するアゾニトリルを使用
することもできる。
ビス(T−ジエチルアミノ−α−メチルブチ四ニトリル
)のような第3アミン基を含有するアゾニトリルを使用
することもできる。
これら化合物の中では、次式:
%式%)
の2,21−アゾビス(インブチロニトリル)が特に適
している。
している。
遊離基発生剤の有効量とは、オルガノポリシラザンを適
度に架橋させるのに充分な量を意味する。
度に架橋させるのに充分な量を意味する。
遊離基発生剤の濃度は一般に、オルガノポリシラザン1
ヰにつき1lL1〜5011である。セラミックの性質
に影響を及ぼし得る原子を含有しないアゾビスインブチ
ロニトリル型の遊離基発生剤を用いる場合、この濃度は
20011/kIFまでであってよい。
ヰにつき1lL1〜5011である。セラミックの性質
に影響を及ぼし得る原子を含有しないアゾビスインブチ
ロニトリル型の遊離基発生剤を用いる場合、この濃度は
20011/kIFまでであってよい。
オルガノポリシラザン組成物を架橋させるためには、遊
i基を生成せしめるのが可能な形状であり且つ充分な量
のエネルギーをこの組成物に供給する。
i基を生成せしめるのが可能な形状であり且つ充分な量
のエネルギーをこの組成物に供給する。
しかして、この組成物は40〜400℃、好ましくは1
00〜220℃の温度に加熱することによって架橋させ
ることができる。また、電子ビームや紫外線のような放
射線を使用することもできる。(前者はどのような厚さ
にも使用され、後者は100μm以下の薄膜の場合に使
用される。)被覆材、フィルム及び薄膜の用途において
は、この生成物は溶媒なしで使用するのが好ましい。
00〜220℃の温度に加熱することによって架橋させ
ることができる。また、電子ビームや紫外線のような放
射線を使用することもできる。(前者はどのような厚さ
にも使用され、後者は100μm以下の薄膜の場合に使
用される。)被覆材、フィルム及び薄膜の用途において
は、この生成物は溶媒なしで使用するのが好ましい。
これらの用途の場合、組成物の25℃における粘度が1
〜5000 mPa・3になるようにポリシラザン1及
び2を選択する。
〜5000 mPa・3になるようにポリシラザン1及
び2を選択する。
より高粘度のものを使用することもできるが、支持体を
被覆したりこれに含浸させたりするのにこの組成物を眉
いようとする場合、この組成物はポリシラザンと相溶性
の有機溶媒、例えばベンゼン、トルエン、ヘキサン、シ
フ四ヘキサン、イソプロピルエーテル、エチルエーテル
、ジクpルメタン及びり四ルベンゼンに可溶でなければ
ならない0 ファイバーの用途においては、5000 mPa・sよ
り高い粘度のものを使用しなければならない。
被覆したりこれに含浸させたりするのにこの組成物を眉
いようとする場合、この組成物はポリシラザンと相溶性
の有機溶媒、例えばベンゼン、トルエン、ヘキサン、シ
フ四ヘキサン、イソプロピルエーテル、エチルエーテル
、ジクpルメタン及びり四ルベンゼンに可溶でなければ
ならない0 ファイバーの用途においては、5000 mPa・sよ
り高い粘度のものを使用しなければならない。
操作は溶媒を用いない溶融状態でも溶液中でも実施する
ことができ、オープンを通過させ且つ(又は)放射線(
紫外線や電子ビーム)を照射することによってダイの出
口で架橋が作られる。
ことができ、オープンを通過させ且つ(又は)放射線(
紫外線や電子ビーム)を照射することによってダイの出
口で架橋が作られる。
本発明のポリシラザン組成物は、さらに、好ましくはs
tow % 81.N4.8iC,BN% B、O,、
B4C%ムIN、AI、0. 、Al4C,、TIN%
TIO,、TiC。
tow % 81.N4.8iC,BN% B、O,、
B4C%ムIN、AI、0. 、Al4C,、TIN%
TIO,、TiC。
Zr0t 、ZrC,VO2等から選択される添加剤を
含有していてよい。
含有していてよい。
また、本発明に従うポリシラザン組成物は、特に810
% 8101.813N4 、B4 C等から成るセラ
ミック7アイパー用のマトリックスとして使用すること
もできる。
% 8101.813N4 、B4 C等から成るセラ
ミック7アイパー用のマトリックスとして使用すること
もできる。
本発明のポリシラザン組成物は、金属やセラミックファ
イバーから成る硬質や一質の支持体を被覆したりこれに
含浸させたりするのに特に有用である。
イバーから成る硬質や一質の支持体を被覆したりこれに
含浸させたりするのに特に有用である。
本発明のポリシラザン組成物を架橋させるための操作は
、真空下又は不活性気体若しくは不活性雰囲気の圧力下
において遊離基発生剤の種類及びその半減期に適した期
間(これは一般に1分〜24時間である)実施すること
ができる。
、真空下又は不活性気体若しくは不活性雰囲気の圧力下
において遊離基発生剤の種類及びその半減期に適した期
間(これは一般に1分〜24時間である)実施すること
ができる。
しかし、開放雰囲気下でポリシラザン組成物を架橋させ
ること及び得られた架橋物質を開放雰囲気下で貯蔵する
こともできる。事実、これら架橋物質が空気中の酸素及
び湿分によってもたらされる分解反応に対して全く思い
がけない耐性を示すことを証明することができた。
ること及び得られた架橋物質を開放雰囲気下で貯蔵する
こともできる。事実、これら架橋物質が空気中の酸素及
び湿分によってもたらされる分解反応に対して全く思い
がけない耐性を示すことを証明することができた。
硬化した組成物で被覆したりこれを含浸させたりした支
持体又はファイバーは、即座に又はその後に、好ましく
は真空下又は不活性圧力下又は不活性雰囲気下で、セラ
ミックやバインダーに望まれる性質に依存して架橋温度
から15aO〜2000℃まで変化する温度において熱
分解処理することができる。
持体又はファイバーは、即座に又はその後に、好ましく
は真空下又は不活性圧力下又は不活性雰囲気下で、セラ
ミックやバインダーに望まれる性質に依存して架橋温度
から15aO〜2000℃まで変化する温度において熱
分解処理することができる。
従って、本発°明の組成物及びこの組成物の架橋方法に
よって、開放空気中で貯蔵することができ且つその後に
熱分解することができる中間体半製品を製造することが
可能になる。
よって、開放空気中で貯蔵することができ且つその後に
熱分解することができる中間体半製品を製造することが
可能になる。
事実上、これが支持体上にセラミック物質を担持させ又
は含浸させ、そしてセラミックファイバー及び焼結結合
剤を得るのに特に有利な方法を構成する。
は含浸させ、そしてセラミックファイバー及び焼結結合
剤を得るのに特に有利な方法を構成する。
以下の実施例は本発明の範囲を何ら制限するものではな
く、本発明を例示するものである〇これら実施例におい
ては、得られたポリシラザンを触媒的に処理したもの及
び未処理のものについて窒素雰囲気下、昇温速度2℃/
分にて室温(20℃)から1400℃までで熱分解しな
がら熱重量分析(TGA)によって分析した。各側にお
けるτGA収率は、1300〜1500℃における固体
残渣の重量%として示した。
く、本発明を例示するものである〇これら実施例におい
ては、得られたポリシラザンを触媒的に処理したもの及
び未処理のものについて窒素雰囲気下、昇温速度2℃/
分にて室温(20℃)から1400℃までで熱分解しな
がら熱重量分析(TGA)によって分析した。各側にお
けるτGA収率は、1300〜1500℃における固体
残渣の重量%として示した。
架橋させた組成物の機械的特性は温度の関数としての相
対硬度RHの変化から評価した。
対硬度RHの変化から評価した。
粘度は25℃において測定し、mJ’a−sの単位で表
わした。さらに、以下の式においてM@はCM、、V
i ハCM、 ==CHを表わす◎アンモノリシス及び
ファンモノリシス反応は、第1の5ノの円筒状反応器I
(反応空間を冷却するためのジャケットを備えたもの)
内で実施した。この反応器の上部には気体冷却器が載せ
られた。攪拌軸にそって配置させた2個のRu5hto
n■タービン(一方はまつすぐの羽根を有し、もう一方
は傾斜した羽根を有する)によって機械的に攪拌した。
わした。さらに、以下の式においてM@はCM、、V
i ハCM、 ==CHを表わす◎アンモノリシス及び
ファンモノリシス反応は、第1の5ノの円筒状反応器I
(反応空間を冷却するためのジャケットを備えたもの)
内で実施した。この反応器の上部には気体冷却器が載せ
られた。攪拌軸にそって配置させた2個のRu5hto
n■タービン(一方はまつすぐの羽根を有し、もう一方
は傾斜した羽根を有する)によって機械的に攪拌した。
NH及びNH,は、第1の攪拌タービンの真下にNH,
が生じるように溶液中に沈ませた細管を介して導入され
た。アンモノリシスが完結した後に、反応混合物を抜き
取り、機械的攪拌機(まっすぐの羽根を有するR@5h
ton■タービン)及び−週末(平均気孔直径10μm
)を備えた第2の及応器■内に導入した。
が生じるように溶液中に沈ませた細管を介して導入され
た。アンモノリシスが完結した後に、反応混合物を抜き
取り、機械的攪拌機(まっすぐの羽根を有するR@5h
ton■タービン)及び−週末(平均気孔直径10μm
)を備えた第2の及応器■内に導入した。
アンモノリシス生成物を一過し、溶媒で洗浄したものを
、ジャケト及び直羽根型1ushton■タービンによ
る機械的攪拌機を備えた第3の61の友応器I内に導入
し、NHでガスシールし又は排気して25 mbar
にした。アンモノリシス生成物を含有する溶液を反応
器!からり一タリーエバボレーターに導入した。
、ジャケト及び直羽根型1ushton■タービンによ
る機械的攪拌機を備えた第3の61の友応器I内に導入
し、NHでガスシールし又は排気して25 mbar
にした。アンモノリシス生成物を含有する溶液を反応
器!からり一タリーエバボレーターに導入した。
操作前の数時間、全体の装置を不活性雰囲気にした。全
部の反応、アンモノリシス、−過及び溶媒の蒸発を乾燥
窒素下で実施した。得られた生成物は窒素でガスシール
した漏れ止め7ラスフ内に入れ、窒素でガスシールした
グシープボックス内にて貯蔵し、重量測定をし、取り扱
った。特に記載がない限り、以下に示される百分率はl
i量襲である◇ 例 1 純度99%以上のM@VISIC1120S I(t4
4モ、/I/)をイソプロピルエーテルtStの存在下
で反応器!内に導入した。
部の反応、アンモノリシス、−過及び溶媒の蒸発を乾燥
窒素下で実施した。得られた生成物は窒素でガスシール
した漏れ止め7ラスフ内に入れ、窒素でガスシールした
グシープボックス内にて貯蔵し、重量測定をし、取り扱
った。特に記載がない限り、以下に示される百分率はl
i量襲である◇ 例 1 純度99%以上のM@VISIC1120S I(t4
4モ、/I/)をイソプロピルエーテルtStの存在下
で反応器!内に導入した。
この反応器!内にアンモニアを6CIII8/秒の速度
で、5cm@/秒の速度のNtと一緒に6.5時間導入
した(KJち、約6モルのNH,を導入した)。
で、5cm@/秒の速度のNtと一緒に6.5時間導入
した(KJち、約6モルのNH,を導入した)。
NH1添加の際の初めの5時間では反応器!の温度を2
℃に保ち、その後の15時間ではNH,を添加し続けな
がらこの温度を20℃に上げた。除去した塩化アンモニ
ウムを真空乾燥して重量測定した。
℃に保ち、その後の15時間ではNH,を添加し続けな
がらこの温度を20℃に上げた。除去した塩化アンモニ
ウムを真空乾燥して重量測定した。
真空下(25mbarx 60℃、次いで15 @ba
y。
y。
60℃にて1時間)で溶媒を除去した後に、澄んだ低粘
度(5mPa・S)の液体119gが回収された0この
反応の収率は97%だった。
度(5mPa・S)の液体119gが回収された0この
反応の収率は97%だった。
回収した溶媒をガスクロマトグラフィーで分析して、生
成物の脱蔵(devolatlllmatlen)の際
に除去された揮発成分を同定しその含有率を測定した。
成物の脱蔵(devolatlllmatlen)の際
に除去された揮発成分を同定しその含有率を測定した。
生成物をIR,プロトン−NMB、雪@S 1−NMR
及びガスクロマトグラフィーで分析した。これは主に2
種の環状化合物; HN NH から成っていた。
及びガスクロマトグラフィーで分析した。これは主に2
種の環状化合物; HN NH から成っていた。
例 2
純度99%以上のCM、 H8IC1,20Z 5 l
l(18モル)をイソプロピルエーテル12ノの存在下
で反応器I内に導入した。この反応器!内にアンそニア
を6csa畠/秒の速度で、3elll/秒の速度のN
、と−緒に15時間導入した(8ち、約7モルのNH8
を導入した)oNHs添加の際の初めの時間では反応器
■の温度を2℃に保ち、その後の15時間ではNH3を
添加し続けながらこの温度を20℃に上げた。除去した
塩化アンモニウムを真空乾燥して重量測定した(188
.9.理論量は192.6N)。
l(18モル)をイソプロピルエーテル12ノの存在下
で反応器I内に導入した。この反応器!内にアンそニア
を6csa畠/秒の速度で、3elll/秒の速度のN
、と−緒に15時間導入した(8ち、約7モルのNH8
を導入した)oNHs添加の際の初めの時間では反応器
■の温度を2℃に保ち、その後の15時間ではNH3を
添加し続けながらこの温度を20℃に上げた。除去した
塩化アンモニウムを真空乾燥して重量測定した(188
.9.理論量は192.6N)。
真空下(25mbar、60℃、次いで15 mbar
。
。
60℃にて1時間)で溶媒を除去した後に、澄んだ低粘
度の液体8411が回収された。この反応の収率は79
%だった。
度の液体8411が回収された。この反応の収率は79
%だった。
回収した溶媒をガスクロマトグラフィーで分析して1生
成物の脱蔵(devolatllisatlOn)の際
に除去された揮発成分を同定しその含有率を測定した。
成物の脱蔵(devolatllisatlOn)の際
に除去された揮発成分を同定しその含有率を測定した。
生成物をI 1% ”8 l −NMR及ヒ”H7’a
) ン−NMR(360MHz NMRD@ C@
)で分析した:δ= (L 1〜0.4 ppm (
プ四−ド:81CH,)、δ=α6〜15ppm(ブロ
ード:NH)、δ=4.lppm <プレード:81H
)、δ:: 4.5〜4.7 ppm(プ胃−ド:81
H)、δ= 4.8〜5.0 ppm (プ田−ド:5
iH)。
) ン−NMR(360MHz NMRD@ C@
)で分析した:δ= (L 1〜0.4 ppm (
プ四−ド:81CH,)、δ=α6〜15ppm(ブロ
ード:NH)、δ=4.lppm <プレード:81H
)、δ:: 4.5〜4.7 ppm(プ胃−ド:81
H)、δ= 4.8〜5.0 ppm (プ田−ド:5
iH)。
液体クロマトグラフィー分析によって、300〜400
17モルと見られる数種の低分子量化合物の存在が示さ
れた。
17モルと見られる数種の低分子量化合物の存在が示さ
れた。
生成物の定量化学分析によって、生成物中の水素含有率
166%と示された(理論値170%)。
166%と示された(理論値170%)。
この結果は分光法によって与えられた結果と一致する0
例 3
例1の方法に従って、コアンモノリシス°を実施した=
CH,5IC1,1ozzII(α72%Ap)(CH
,)I 5iC1,44251((L!16%#)CH
,(CH,=CH)SIC1,5α76I(α36モル
)。
,)I 5iC1,44251((L!16%#)CH
,(CH,=CH)SIC1,5α76I(α36モル
)。
操作はイソプ四ピルエーテルt3jの存在下で実施した
。2℃においてNHlの流速6cm”/Bcて6時間4
5分反応させた。粘度110 mPa・−の粘性油分?
&、7jlが回収された、即ち、ファンモノリシスの収
率は95%だった・ 生成物を1’81−NMR,プロトン−NMR及びIR
によって分析した。その組成はTN/DN=1NVt
N 及びD/D==1のものと一致した。
。2℃においてNHlの流速6cm”/Bcて6時間4
5分反応させた。粘度110 mPa・−の粘性油分?
&、7jlが回収された、即ち、ファンモノリシスの収
率は95%だった・ 生成物を1’81−NMR,プロトン−NMR及びIR
によって分析した。その組成はTN/DN=1NVt
N 及びD/D==1のものと一致した。
例 4
純度99%以上のM@! 81! C1雪258g(2
−1’ル)))例1の方法に従って乾燥イソプロピルエ
ーテルtSt中でアンモノリシスに供した。反応は2℃
においてNH,の流速10c11+”/Sにて6時間実
施した。NH,CIを一過した後に、環状シラザン14
011が回収された。188℃における蒸留によって、
cacllで乾燥させたD−が回収されたO 例 5〜8 10パール(約9.9 atm)の圧力に耐性のある反
応器内に、例1で製造したオルガノポリシラザンを、遊
離基発生剤の濃度を増加させながら導入した。この反応
器を所望の反応温度に加熱した。その結果を下記の表I
に示す〇 表 ■ *1 λ21−アゾビス(イソブチロニトリル)例
9〜12 例3のファンモノリシス生成物を例5〜8の方法に従っ
て架橋させた。その結果を下記の表■に示す〇 表 ■ 例1に記載のM@VISIC1,のアンモノリシスによ
って得られるオルガノポリシラザンを使用した。生成物
を例5〜8に記載の方法に従って下記の過酸化物人又は
Bの存在下、窒素雰囲気下170℃にて24時間架橋さ
せた。
−1’ル)))例1の方法に従って乾燥イソプロピルエ
ーテルtSt中でアンモノリシスに供した。反応は2℃
においてNH,の流速10c11+”/Sにて6時間実
施した。NH,CIを一過した後に、環状シラザン14
011が回収された。188℃における蒸留によって、
cacllで乾燥させたD−が回収されたO 例 5〜8 10パール(約9.9 atm)の圧力に耐性のある反
応器内に、例1で製造したオルガノポリシラザンを、遊
離基発生剤の濃度を増加させながら導入した。この反応
器を所望の反応温度に加熱した。その結果を下記の表I
に示す〇 表 ■ *1 λ21−アゾビス(イソブチロニトリル)例
9〜12 例3のファンモノリシス生成物を例5〜8の方法に従っ
て架橋させた。その結果を下記の表■に示す〇 表 ■ 例1に記載のM@VISIC1,のアンモノリシスによ
って得られるオルガノポリシラザンを使用した。生成物
を例5〜8に記載の方法に従って下記の過酸化物人又は
Bの存在下、窒素雰囲気下170℃にて24時間架橋さ
せた。
ム:クミルペルオキシド
11:2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルペル
オキシ)ヘキサン CHs CH。
オキシ)ヘキサン CHs CH。
得られた結果を下記の表■に示す。
表 I
例16
例2で製造したアンモノリシス生成物(1125II)
と例3で製造したコアンモノリシス生成物(4N25N
)との混合物を、Sin/81Vi比がほとんどt°5
になるような量で使用した。この物質を例5〜8の方法
に従って架橋させた。遊離基発生剤はムIBNであり、
その濃度はt、6Ii/j9とした。その結果を下記の
表■に示し、例16の混合物を用いる利点を示すために
例10で得られた結果を再び記載した。
と例3で製造したコアンモノリシス生成物(4N25N
)との混合物を、Sin/81Vi比がほとんどt°5
になるような量で使用した。この物質を例5〜8の方法
に従って架橋させた。遊離基発生剤はムIBNであり、
その濃度はt、6Ii/j9とした。その結果を下記の
表■に示し、例16の混合物を用いる利点を示すために
例10で得られた結果を再び記載した。
表 ■
例4で得られたDNを例5〜8の方法に従い濃度161
17klのAIBNを使用して架橋させたちのを例18
とする。この結果を下記の表Vに示す。
17klのAIBNを使用して架橋させたちのを例18
とする。この結果を下記の表Vに示す。
比較例17においては、AIBNを使用しなかった以外
は同じ方法を用いた。
は同じ方法を用いた。
例19
例4のり、142モルを3つロフラスコ内でトリフルオ
ルメタンスルホン酸500 ppmを使用して165℃
にて15時間塊状重合させた。得られたポリマーを不活
性化し、170℃ 13ミリバール(約α913鱈Hg
)にてa5時間脱蔵した。このポリシラザンをムIBN
1611/に9によって140℃にて20時間架橋させ
た。最終生成物のTGA分析の値は54%だった。
ルメタンスルホン酸500 ppmを使用して165℃
にて15時間塊状重合させた。得られたポリマーを不活
性化し、170℃ 13ミリバール(約α913鱈Hg
)にてa5時間脱蔵した。このポリシラザンをムIBN
1611/に9によって140℃にて20時間架橋させ
た。最終生成物のTGA分析の値は54%だった。
Claims (13)
- (1)少なくとも1種の遊離基発生剤を有効量含有する
ことを特徴とする、エネルギーの供給によつて架橋する
ことのできるオルガノポリシラザン組成物。 - (2)オルガノポリシラザンが1分子につき少なくとも
1個の基■SiR_1(ここで、R_1はアルケン又は
アルキン系不飽和結合を含有する炭化水素基である)を
含有することを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
組成物。 - (3)前記の基R_1がビニル基であることを特徴とす
る特許請求の範囲第2項記載の組成物。 - (4)前記遊離基発生剤がアゾ化合物、好ましくは2、
2′−アゾビス(イソブチロニトリル)であることを特
徴とする特許請求の範囲第1〜3項のいずれかに記載の
組成物。 - (5)前記遊離基発生剤が有機過酸化物であることを特
徴とする特許請求の範囲第1〜3項のいずれかに記載の
組成物。 - (6)添加剤をさらに含有することを特徴とする特許請
求の範囲第1〜5項のいずれかに記載の組成物。 - (7)組成物が溶媒なしで用いられ、該組成物の25℃
における粘度が1〜5000mPa・sになるようにオ
ルガノポリシラザンを選択したことを特徴とする特許請
求の範囲第1〜6項のいずれかに記載の組成物。 - (8)前記粘度が5000mPa・sより高くなるよう
にオルガノポリシラザンを選択し且つ組成物が溶媒なし
の溶融状態又は溶媒中の溶液中にあることを特徴とし、
紡糸ファイバー用に用いることのできる特許請求の範囲
第1〜6項のいずれかに記載の組成物。 - (9)少なくとも1種の遊離基発生剤を有効量含有する
ことを特徴とする、エネルギーの供給によつて架橋する
ことのできるオルガノポリシラザン組成物で支持体を被
覆し又は該組成物を支持体に含浸させ、 該組成物を架橋させ、 この被覆を架橋温度から1500〜2000℃における
熱処理によつて熱分解する ことを特徴とする、支持体をセラミック物質で被覆し及
び支持体にセラミック物質を含浸させる方法。 - (10)前記組成物中のオルガノポリシラザンが1分子
につき少なくとも1個の基■SiR_1(ここで、R_
1はアルケン又はアルキン系不飽和結合を含有する炭化
水素基である)を含有することを特徴とする特許請求の
範囲第9項記載の方法。 - (11)前記の基R_1がビニル基であることを特徴と
する特許請求の範囲第10項記載の方法。 - (12)前記遊離基発生剤がアゾ化合物、好ましくは2
、2′−アゾビス(イソブチロニトリル)であることを
特徴とする特許請求の範囲第9〜11項のいずれかに記
載の方法。 - (13)前記遊離基発生剤が有機過酸化物であることを
特徴とする特許請求の範囲第9〜11項のいずれかに記
載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR85/06829 | 1985-05-06 | ||
| FR8506829A FR2581391B1 (fr) | 1985-05-06 | 1985-05-06 | Composition organo-polysilazane comportant des generateurs de radicaux libres et reticulable par apport d'energie |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61255959A true JPS61255959A (ja) | 1986-11-13 |
| JPH037221B2 JPH037221B2 (ja) | 1991-02-01 |
Family
ID=9318976
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61098422A Granted JPS61255959A (ja) | 1985-05-06 | 1986-04-30 | 遊離基発生剤を含有し、エネルギ−の供給によつて架橋され得るオルガノポリシラザン組成物 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US4722988A (ja) |
| EP (1) | EP0202177A1 (ja) |
| JP (1) | JPS61255959A (ja) |
| AU (1) | AU581983B2 (ja) |
| BR (1) | BR8602000A (ja) |
| CA (1) | CA1282533C (ja) |
| FR (1) | FR2581391B1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63182321A (ja) * | 1987-01-15 | 1988-07-27 | ダウ・コーニング・コーポレーシヨン | ビニルまたはアリル含有プレセラミツク・シラザン重合体の不融性化法 |
| JP2012501290A (ja) * | 2008-08-29 | 2012-01-19 | ダウ コーニング コーポレーション | ナノ粒子を含む繊維およびナノ粒子を製造する方法 |
Families Citing this family (42)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5055431A (en) * | 1985-04-26 | 1991-10-08 | Sri International | Polysilazanes and related compositions, processes and uses |
| FR2584080B1 (fr) * | 1985-06-26 | 1987-12-31 | Rhone Poulenc Rech | Procede de traitement thermique d'un polysilazane contenant des groupes sih et des groupes si-n- |
| FR2584079B1 (fr) * | 1985-06-26 | 1987-08-14 | Rhone Poulenc Rech | Procede de traitement par catalyse cationique d'un polysilazane comportant en moyenne au moins deux groupes sih par molecule |
| US4816497A (en) * | 1986-09-08 | 1989-03-28 | The Dow Corning Corporation | Infusible preceramic silazane polymers via ultraviolet irradiation |
| US4869854A (en) * | 1986-10-31 | 1989-09-26 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Process for manufacturing organic silazane polymers and ceramics therefrom |
| JPS63222075A (ja) * | 1987-03-10 | 1988-09-14 | 日本鋼管株式会社 | 高密度焼結体の製造方法 |
| US4835238A (en) * | 1987-06-08 | 1989-05-30 | Dow Corning Corporation | Polysilacyclobutasilazanes |
| DE3840781A1 (de) * | 1988-12-03 | 1990-06-07 | Hoechst Ag | Faserverbundkeramik und verfahren zu ihrer herstellung |
| US5176941A (en) * | 1987-11-07 | 1993-01-05 | Hoechst Aktiengesellschaft | Process of producing a ceramic/fiber composite using a molten polysilazone |
| US5145813A (en) * | 1987-12-11 | 1992-09-08 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Process for manufacturing organic silazane polymers and ceramics therefrom |
| DE3743826A1 (de) * | 1987-12-23 | 1989-07-06 | Hoechst Ag | Polymere hydridothiosilazane, verfahren zu ihrer herstellung, aus ihnen herstellbare, siliziumnitrid enthaltende keramische materialien, sowie deren herstellung |
| US4914063A (en) * | 1988-04-04 | 1990-04-03 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Process for producing organic products containing silicon, hydrogen, nitrogen, and carbon by the direct reaction between elemental silicon and organic amines |
| JPH0645806B2 (ja) * | 1988-07-14 | 1994-06-15 | 日本鋼管株式会社 | 高密度焼結体の製造方法 |
| FR2638753B1 (ja) * | 1988-10-14 | 1990-12-14 | Rhone Poulenc Chimie | |
| US4929704A (en) * | 1988-12-20 | 1990-05-29 | Hercules Incorporated | Isocyanate- and isothiocyanate-modified polysilazane ceramic precursors |
| US5190709A (en) * | 1989-06-29 | 1993-03-02 | Hercules Incorporated | Reaction injection molding of ceramics using a ceramic precursor as a binder |
| US5240658A (en) * | 1991-03-26 | 1993-08-31 | Lukacs Iii Alexander | Reaction injection molding of silicon nitride ceramics having crystallized grain boundary phases |
| US5006625A (en) * | 1989-06-30 | 1991-04-09 | Ethyl Corporation | Process for preparing organosilazanes |
| US5155181A (en) * | 1989-11-27 | 1992-10-13 | Hercules Incorporated | (Thio)amide-modified silazane polymer composition containing a free radical generator |
| US5089552A (en) * | 1989-12-08 | 1992-02-18 | The B. F. Goodrich Company | High char yield silazane-modified phenolic resins |
| US5256487A (en) * | 1989-12-08 | 1993-10-26 | The B. F. Goodrich Company | High char yield silazane derived preceramic polymers and cured compositions thereof |
| US5136007A (en) * | 1989-12-08 | 1992-08-04 | The B. F. Goodrich Company | High char yield silazane derived preceramic polymers and cured compositions thereof |
| US5206327A (en) * | 1991-10-07 | 1993-04-27 | Hercules Incorporated | Preceramic polymers incorporating boron and their application in the sintering of carbide ceramics |
| DE69211273T2 (de) * | 1991-10-07 | 1996-10-02 | Lanxide Technology Co Ltd | Peroxyd-substituierte Polysilazane |
| US5616650A (en) * | 1993-11-05 | 1997-04-01 | Lanxide Technology Company, Lp | Metal-nitrogen polymer compositions comprising organic electrophiles |
| US5612414A (en) * | 1993-11-05 | 1997-03-18 | Lanxide Technology Company, Lp | Organic/inorganic polymers |
| US5563212A (en) * | 1994-05-24 | 1996-10-08 | Exxon Research And Engineering Company | Synthesis of microporous ceramics |
| KR100307839B1 (ko) * | 1995-07-13 | 2002-11-22 | 토넨제네랄세키유 가부시키가이샤 | 세라믹스질물질형성용조성물및세라믹스질물질의제조방법 |
| US5665848A (en) * | 1996-05-20 | 1997-09-09 | Dow Corning Corporation | Crosslinkers for silazane polymers |
| US6426127B1 (en) * | 1999-12-28 | 2002-07-30 | Electron Vision Corporation | Electron beam modification of perhydrosilazane spin-on glass |
| KR100793620B1 (ko) * | 2000-08-31 | 2008-01-11 | 에이제토 엘렉토로닉 마티리알즈 가부시키가이샤 | 감광성 폴리실라잔 조성물 및 패턴화 층간 절연막의 형성방법 |
| CA2435893A1 (en) * | 2002-07-23 | 2004-01-23 | Global Thermoelectric Inc. | High temperature gas seals |
| KR101052434B1 (ko) * | 2002-11-01 | 2011-07-29 | 에이제토 엘렉토로닉 마티리알즈 가부시키가이샤 | 폴리실라잔 함유 코팅 용액 |
| JP2004155834A (ja) * | 2002-11-01 | 2004-06-03 | Clariant Internatl Ltd | ポリシラザン含有コーティング液 |
| US7842774B2 (en) * | 2007-07-24 | 2010-11-30 | United Technologies Corporation | Preceramic silazane polymer for ceramic materials |
| JP5480152B2 (ja) * | 2007-11-20 | 2014-04-23 | ダウ・コーニング・コーポレイション | 物品およびその製造方法 |
| KR101651839B1 (ko) * | 2008-08-29 | 2016-08-29 | 다우 코닝 코포레이션 | 분산물로부터 형성된 금속화된 입자 |
| TW201016909A (en) * | 2008-08-29 | 2010-05-01 | Dow Corning | Article formed from electrospinning a dispersion |
| US9371423B2 (en) * | 2013-07-09 | 2016-06-21 | General Electric Company | Methods and apparatus for crosslinking a silicon carbide fiber precursor polymer |
| US9991182B2 (en) * | 2013-07-19 | 2018-06-05 | Az Electronic Materials (Luxembourg) S.A.R.L. | Encapsulation material for light emitting diodes |
| US9587331B2 (en) * | 2014-02-28 | 2017-03-07 | General Electric Company | Method for curing of green polysilazane-based silicon carbide precursor fibers |
| CN120737805B (zh) * | 2025-09-05 | 2026-01-02 | 山东理工大学 | 耐高温陶瓷粘结剂及其制备方法与应用 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4941736A (ja) * | 1972-04-27 | 1974-04-19 | ||
| JPS55125123A (en) * | 1979-03-19 | 1980-09-26 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Curing of organopolysiloxane |
| JPS6169834A (ja) * | 1984-09-04 | 1986-04-10 | ダウ コーニング コーポレーシヨン | ポリシランの製造方法 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2579418A (en) * | 1949-01-24 | 1951-12-18 | Edwin L Gustus | Polymeric resinous products containing repeating units of silicon linked to nitrogen and process for making same |
| US3702317A (en) * | 1970-11-18 | 1972-11-07 | Us Air Force | Method of making arylene modified siloxazanes incorporating cyclodisilazane structures |
| CH547001A (de) * | 1971-04-08 | 1974-03-15 | Schweizerische Isolawerke | Verfahren zur herstellung eines wickelbands fuer die isolation elektrischer maschinen. |
| DE2218960A1 (de) * | 1972-04-19 | 1973-11-08 | Bayer Ag | Formkoerper aus mogenen mischungen von siliciumcarbid und siliciumnitrid und verfahren zu ihrer erstellung |
| US3837878A (en) * | 1972-12-04 | 1974-09-24 | Gen Electric | Process for treating silica fillers |
| US3803086A (en) * | 1973-02-05 | 1974-04-09 | Us Air Force | Vinyl-substituted siloxane and siloxazane polymers |
| US3865778A (en) * | 1974-02-07 | 1975-02-11 | Gen Electric | Heat vulcanizable silicone rubber compositions resistant to oil degradation |
| JPS52112700A (en) * | 1976-02-28 | 1977-09-21 | Tohoku Daigaku Kinzoku Zairyo | Amorphous organopolysilicone composite for preparing silicone carbide |
| JPS52160446U (ja) * | 1976-05-27 | 1977-12-06 | ||
| JPS6039094B2 (ja) * | 1977-09-26 | 1985-09-04 | 東芝シリコ−ン株式会社 | 熱加硫型シリコ−ンゴム組成物 |
| US4482669A (en) * | 1984-01-19 | 1984-11-13 | Massachusetts Institute Of Technology | Preceramic organosilazane polymers |
| FR2579602B1 (fr) * | 1985-03-29 | 1987-06-05 | Rhone Poulenc Rech | Composition polysilazane pouvant reticuler en presence d'un metal ou d'un compose metallique catalysant la reaction d'hydrosilylation |
-
1985
- 1985-05-06 FR FR8506829A patent/FR2581391B1/fr not_active Expired
-
1986
- 1986-04-14 CA CA000506540A patent/CA1282533C/fr not_active Expired - Fee Related
- 1986-04-30 EP EP86420114A patent/EP0202177A1/fr not_active Withdrawn
- 1986-04-30 JP JP61098422A patent/JPS61255959A/ja active Granted
- 1986-05-05 AU AU57106/86A patent/AU581983B2/en not_active Ceased
- 1986-05-05 BR BR8602000A patent/BR8602000A/pt unknown
- 1986-05-06 US US06/860,111 patent/US4722988A/en not_active Expired - Fee Related
-
1987
- 1987-10-01 US US07/103,219 patent/US4772494A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4941736A (ja) * | 1972-04-27 | 1974-04-19 | ||
| JPS55125123A (en) * | 1979-03-19 | 1980-09-26 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Curing of organopolysiloxane |
| JPS6169834A (ja) * | 1984-09-04 | 1986-04-10 | ダウ コーニング コーポレーシヨン | ポリシランの製造方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63182321A (ja) * | 1987-01-15 | 1988-07-27 | ダウ・コーニング・コーポレーシヨン | ビニルまたはアリル含有プレセラミツク・シラザン重合体の不融性化法 |
| JP2012501290A (ja) * | 2008-08-29 | 2012-01-19 | ダウ コーニング コーポレーション | ナノ粒子を含む繊維およびナノ粒子を製造する方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4772494A (en) | 1988-09-20 |
| AU581983B2 (en) | 1989-03-09 |
| FR2581391A1 (fr) | 1986-11-07 |
| AU5710686A (en) | 1986-11-13 |
| FR2581391B1 (fr) | 1987-06-05 |
| BR8602000A (pt) | 1987-01-06 |
| CA1282533C (fr) | 1991-04-02 |
| JPH037221B2 (ja) | 1991-02-01 |
| US4722988A (en) | 1988-02-02 |
| EP0202177A1 (fr) | 1986-11-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4722988A (en) | Organopolysilazane composition containing free radical generators and capable of being crosslinked by an energy input | |
| US4689252A (en) | Polysilazane composition which can crosslink in the presence of a metal compound catalyzing a hydrosilylation reaction | |
| US5021533A (en) | Crosslinkable poly(thio)ureasilazane composition containing a free radical generator | |
| DE69428043T2 (de) | Pre-keramische silikon-polymere | |
| JPH036172B2 (ja) | ||
| US5032649A (en) | Organic amide-modified polysilazane ceramic precursors | |
| JPS62156136A (ja) | 改善された耐熱性を有し、特にセラミツク先駆体として使用できるオルガノポリシラザン網状ポリマ−の2工程製造方法 | |
| CA1252474A (fr) | Procede de preparation d'organopolysilazanes et d'organopoly(disilyl)silazanes de tenue thermique amelioree et son utilisation notamment comme precurseur de ceramique | |
| US4861844A (en) | Cationic catalysis process for the treatment of a polysilazane containing on average at least two .tbd.SiH groups per molecule | |
| JP3442123B2 (ja) | ポリシラザン重合体の橋かけ法 | |
| CN1034558A (zh) | 聚硅氧氮烷、它们的制备方法、它们作为陶瓷前体的应用及所述陶瓷 | |
| US4866149A (en) | Process for catalytic treatment of a polysilazane containing on average at least two hydrocarbon groups having aliphatic unsaturation per molecule | |
| US5155181A (en) | (Thio)amide-modified silazane polymer composition containing a free radical generator | |
| CA1280845C (fr) | Procede de traitement de polyorganosilazanes et/ou de polyorgano(disilyl)silazanes par un traitement de polyorganosilazanes par un systeme catalytique comprenant un sel mineral ionique et un compose complexant | |
| JPH0542980B2 (ja) | ||
| JPH04219380A (ja) | 炭素を含む物品のセラミックコーティング方法 | |
| JPH02169627A (ja) | ポリシラザン組成物の接触重合を制御する方法 | |
| JPH05117397A (ja) | 有機アミド変性ポリシラザンセラミツク前駆体 | |
| JPH02222454A (ja) | アミノ化合物の作用で架橋できるポリシラザン組成物及びその架橋方法 | |
| JPH05320351A (ja) | 溶融ナトリウム金属と金属イオン封鎖剤の存在におけるポリカルボシランの調製方法 | |
| JPH0218451A (ja) | ポリオルガノシロキサン組成物 |