JPS61264352A - 電子写真感光体 - Google Patents
電子写真感光体Info
- Publication number
- JPS61264352A JPS61264352A JP10676685A JP10676685A JPS61264352A JP S61264352 A JPS61264352 A JP S61264352A JP 10676685 A JP10676685 A JP 10676685A JP 10676685 A JP10676685 A JP 10676685A JP S61264352 A JPS61264352 A JP S61264352A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- support
- electrophotographic photoreceptor
- atoms
- amorphous
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/08—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic
- G03G5/082—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic and not being incorporated in a bonding material, e.g. vacuum deposited
- G03G5/08214—Silicon-based
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/08—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic
- G03G5/082—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic and not being incorporated in a bonding material, e.g. vacuum deposited
- G03G5/08214—Silicon-based
- G03G5/08221—Silicon-based comprising one or two silicon based layers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
抜棗光更
本発明は光導電層としてアモルファスシリコンを用いた
電子写真感光体に関する。
電子写真感光体に関する。
災米狡嵐
従来、電子写真感光体における光導電材料としてはSs
、ZnOなどの無機材料やポリ−N−ビニルカルバゾー
ル、トリニトロフルオレノンなどの有機材料が用いられ
てきたが、最近になって、アモルファスシリコン(以降
ra−3iJと称する)が注目されはじめている。これ
は、a−8lを光導電層とした電子写真感光体が従来の
それと比較して同様もしくはそれ以上の特性を有する他
1人および環境に対しても無害であり、耐久性が著しく
大きい等の長所を有しているからである。
、ZnOなどの無機材料やポリ−N−ビニルカルバゾー
ル、トリニトロフルオレノンなどの有機材料が用いられ
てきたが、最近になって、アモルファスシリコン(以降
ra−3iJと称する)が注目されはじめている。これ
は、a−8lを光導電層とした電子写真感光体が従来の
それと比較して同様もしくはそれ以上の特性を有する他
1人および環境に対しても無害であり、耐久性が著しく
大きい等の長所を有しているからである。
しかしながら、これまでのa−3t系電子写真感光体に
おいては、支持体上にa−St層を形成する際の層重が
大きく、また支持体とa−8i層との密着性が不十分な
ため、支持体表面からのa−8i層の浮きや剥離、亀裂
などが生ずるといった大きな問題点が残されている。そ
の解決策として従来より下記(1)〜(3)の方法等が
行われてきた。すなわち、 (1)支持体とa−5i層との間に結晶性シリコン層を
設けて光導電層を構成し、この結晶性シリコン層により
支持体とa −S i層との密着性を向上させる(特開
昭57−44154号公報);(2)支持体表面を化学
構造的に水を含む酸化アルミニウム(AQ、O,−nH
2O:n=1.3)として、支持体とa−8i層との密
着性を向上させる(特開昭57−104938号公報)
;(3)支持体とa−8i層との間に窒素原子を構成原
子として含有するa−8i層の補助層を設け、この補助
層により支持体とa−8i層との密着性を向上させる(
特開昭58−149056号公報)。
おいては、支持体上にa−St層を形成する際の層重が
大きく、また支持体とa−8i層との密着性が不十分な
ため、支持体表面からのa−8i層の浮きや剥離、亀裂
などが生ずるといった大きな問題点が残されている。そ
の解決策として従来より下記(1)〜(3)の方法等が
行われてきた。すなわち、 (1)支持体とa−5i層との間に結晶性シリコン層を
設けて光導電層を構成し、この結晶性シリコン層により
支持体とa −S i層との密着性を向上させる(特開
昭57−44154号公報);(2)支持体表面を化学
構造的に水を含む酸化アルミニウム(AQ、O,−nH
2O:n=1.3)として、支持体とa−8i層との密
着性を向上させる(特開昭57−104938号公報)
;(3)支持体とa−8i層との間に窒素原子を構成原
子として含有するa−8i層の補助層を設け、この補助
層により支持体とa−8i層との密着性を向上させる(
特開昭58−149056号公報)。
しかしながら、上記(1)〜(3)の方法によるもいま
だ、下記の如き問題点を有するものであった。すなわち
。
だ、下記の如き問題点を有するものであった。すなわち
。
(1)の方法による場合、支持体上に前記結晶性シリコ
ン層を形成する際に、支持体温度を高温にする必要があ
り、そのため支持体の損傷が大きく、さらに支持体の構
成原子が結晶性シリコン層へ拡散し、電子写真感光体と
しての特性が劣化する; (2)の方法による場合、酸化アルミニウム中の水の構
成要素であるOH基、酸素原子がa−8i層中へ拡散し
、長時間にいたっては電子写真感光体としての特性が劣
化する;(3)の方法による場合、補助層自体が硬く、
補助層と支持体との密着性も良好とはいえないため、補
助層と支持体との間で剥離、浮き等の問題が解消し得な
いものであった。
ン層を形成する際に、支持体温度を高温にする必要があ
り、そのため支持体の損傷が大きく、さらに支持体の構
成原子が結晶性シリコン層へ拡散し、電子写真感光体と
しての特性が劣化する; (2)の方法による場合、酸化アルミニウム中の水の構
成要素であるOH基、酸素原子がa−8i層中へ拡散し
、長時間にいたっては電子写真感光体としての特性が劣
化する;(3)の方法による場合、補助層自体が硬く、
補助層と支持体との密着性も良好とはいえないため、補
助層と支持体との間で剥離、浮き等の問題が解消し得な
いものであった。
1−一旗
本発明は電子写真感光体としての特性を劣化させずに、
a−8i層と支持体との密着性を向上させてa−8i層
の浮きや剥離、層の亀裂を防止し、繰返し安定性、経時
安定性を有する電子写真感光体を提供することを目的と
する。
a−8i層と支持体との密着性を向上させてa−8i層
の浮きや剥離、層の亀裂を防止し、繰返し安定性、経時
安定性を有する電子写真感光体を提供することを目的と
する。
棗−一履
本発明は支持体と、この支持体上に設けられ、水素原子
、ハロゲン原子、重水素原子のうちから選ばれる少くと
も1種の原子を含むa−3i暦とを有する電子写真感光
体において、前記支持体が非晶質金属からなることを特
徴とするものである。
、ハロゲン原子、重水素原子のうちから選ばれる少くと
も1種の原子を含むa−3i暦とを有する電子写真感光
体において、前記支持体が非晶質金属からなることを特
徴とするものである。
以下に本発明を添付図面を参照して説明する。
図面は本発明に係る電子写真感光体の最も代表的な構成
例を示すもので1図示の電子写真感光体1は支持体2.
およびその上に積層されたa−8i層3とから構成され
る。
例を示すもので1図示の電子写真感光体1は支持体2.
およびその上に積層されたa−8i層3とから構成され
る。
本発明では支持体2として非晶質金属を用いることを特
徴とするものであり、この支持体2としては、例えば液
体急冷法で作成される非晶質合金などがあり、その−例
を挙げれば、Au、、 Gey Siz * Ag+o
o −x Six、Fe、BySi、、Cox si、
B、、(Fe、Co、N1)B、Si、、Fe、PyS
i2、La、oo−X5iX−Mn、、、 、 Si
、、Nb+oo−、Si、 、 Nb、 MoySiz
、NbXMay S its B a 、P dloo
−x S ly、Pd、Cu、Si、、PdxAgy
si2、PdXAu、 Si、 、 Pd54Gex
Siy 。
徴とするものであり、この支持体2としては、例えば液
体急冷法で作成される非晶質合金などがあり、その−例
を挙げれば、Au、、 Gey Siz * Ag+o
o −x Six、Fe、BySi、、Cox si、
B、、(Fe、Co、N1)B、Si、、Fe、PyS
i2、La、oo−X5iX−Mn、、、 、 Si
、、Nb+oo−、Si、 、 Nb、 MoySiz
、NbXMay S its B a 、P dloo
−x S ly、Pd、Cu、Si、、PdxAgy
si2、PdXAu、 Si、 、 Pd54Gex
Siy 。
PL、。。−X Six 、 TiX Nb、
Si1.、Ti、NbySi、Bs 、Ti、Ni、S
i、、zrloo−X5iX、 Zr、 Nb、 Si
、s等が好ましく使用し得る。これらの非晶質金属を用
いる場合、この上に積層されるa−3i層の組成原子で
あるSt同志の結合が行われ易く、界面での状態がより
良好となる。
Si1.、Ti、NbySi、Bs 、Ti、Ni、S
i、、zrloo−X5iX、 Zr、 Nb、 Si
、s等が好ましく使用し得る。これらの非晶質金属を用
いる場合、この上に積層されるa−3i層の組成原子で
あるSt同志の結合が行われ易く、界面での状態がより
良好となる。
以上のように本発明では支持体2として非晶質金属を用
いるため、この非晶質金属の支持体2とa−8i層3と
の密着性を著しく向上させるとともに電子写真感光体と
しての特性をも向上させることができるのである。それ
は次の如き理由によるものである。
いるため、この非晶質金属の支持体2とa−8i層3と
の密着性を著しく向上させるとともに電子写真感光体と
しての特性をも向上させることができるのである。それ
は次の如き理由によるものである。
すなわち、支持体2を構成する非晶質金属はその構造上
、結晶と比べて長距離秩序性が無い為、同じように長距
離秩序性を持たないa−3i層を、非晶質金属の上に堆
積させた場合には、その界面での格子定数の整合などの
問題が無視できる。そのため従来から問題となっている
、a−8i層4と支持体2との界面でのキャリアに対す
るトラップ密度が減少し、電子写真特性が向上する。ま
た、非晶質金属は、高強靭特性を有している上に600
K以下の広範な温度域で熱膨張係数と弾性係数の両者
が、はぼ零である材料(F e −B系合金など)もあ
り、従って非晶質金属を支持体2とした感光体1では、
衝撃や、温度変化などによる膜の剥離や白ヌケ、亀裂な
どの発生が防げる。さらに、高強靭な特性を有している
にもかかわらず、非晶質金属は、本質的に結晶金属など
より、化学的に活性であるため、a−8t層4を積層さ
せた場合には、両者の未結合手が結びつけられることに
なり、界面での密着性が向上し、かつa−8t層4に生
じるストレスも、緩和され、亀裂や剥離の無い電子写真
感光体を形成することができるのである。
、結晶と比べて長距離秩序性が無い為、同じように長距
離秩序性を持たないa−3i層を、非晶質金属の上に堆
積させた場合には、その界面での格子定数の整合などの
問題が無視できる。そのため従来から問題となっている
、a−8i層4と支持体2との界面でのキャリアに対す
るトラップ密度が減少し、電子写真特性が向上する。ま
た、非晶質金属は、高強靭特性を有している上に600
K以下の広範な温度域で熱膨張係数と弾性係数の両者
が、はぼ零である材料(F e −B系合金など)もあ
り、従って非晶質金属を支持体2とした感光体1では、
衝撃や、温度変化などによる膜の剥離や白ヌケ、亀裂な
どの発生が防げる。さらに、高強靭な特性を有している
にもかかわらず、非晶質金属は、本質的に結晶金属など
より、化学的に活性であるため、a−8t層4を積層さ
せた場合には、両者の未結合手が結びつけられることに
なり、界面での密着性が向上し、かつa−8t層4に生
じるストレスも、緩和され、亀裂や剥離の無い電子写真
感光体を形成することができるのである。
これらの非晶質金属は液体急冷法の低真空蒸着法、スパ
ッタリング法の方法によっても作成でき1通常は厚さ2
0〜400μ国、好ましくは50〜300μ■程度とし
、リボン状に成形する。
ッタリング法の方法によっても作成でき1通常は厚さ2
0〜400μ国、好ましくは50〜300μ■程度とし
、リボン状に成形する。
支持体2の上にはa−3t層3をプラズマCVD法、ス
パッタリング法、イオンインプラチージョン法等により
膜厚5〜100μm、好ましくは10〜50μm積層す
る。なお、a−8t層3は単層構造でも多層構造でもよ
い。また、このa−8万層3には水7に原子、ハロゲン
原子1重水素原子のうちから選ばれる少なくとも1種を
5〜40atomic%程度含有させる。これはa−8
t層3中の欠陥を水素原子、ハロゲン原子、重水素原子
などが上記含有量程度で補償してしまうためである。含
有法としては出発ガスにSiH4,5iD4などを用い
ることにより含有せしめることができる。
パッタリング法、イオンインプラチージョン法等により
膜厚5〜100μm、好ましくは10〜50μm積層す
る。なお、a−8t層3は単層構造でも多層構造でもよ
い。また、このa−8万層3には水7に原子、ハロゲン
原子1重水素原子のうちから選ばれる少なくとも1種を
5〜40atomic%程度含有させる。これはa−8
t層3中の欠陥を水素原子、ハロゲン原子、重水素原子
などが上記含有量程度で補償してしまうためである。含
有法としては出発ガスにSiH4,5iD4などを用い
ることにより含有せしめることができる。
以下に実施例を示す。
実施例
支持体として液体急冷法により作成した幅1001、厚
さ250μ■程度の非晶質合金膜Fe、、Si、、−X
B、を使用した。この支持体上に酸素原子およびホウ素
原子を含む20μ譜のa−8t層を積層させた。
さ250μ■程度の非晶質合金膜Fe、、Si、、−X
B、を使用した。この支持体上に酸素原子およびホウ素
原子を含む20μ譜のa−8t層を積層させた。
a−5t層の作業条件を次に示す。
膜形成法 プラズマCVD法
圧力 ITorr
高周波電力 75W
基板温度 200℃
このようにして得られた電子写真感光体をロール状にし
、暗中で6KVの正コロナ放電を施し、次に95 Q
uxの光量で画像露光を行い、静電画像を形成し、負荷
電されたトナーで現像して転写紙上に転写、定着した。
、暗中で6KVの正コロナ放電を施し、次に95 Q
uxの光量で画像露光を行い、静電画像を形成し、負荷
電されたトナーで現像して転写紙上に転写、定着した。
この画像形成プロセスを繰返し施し、先の転写紙上の画
像と、5万枚目の転写紙上の画像とを比較したところ、
差異は全く見られず、鮮明な画像が得られた。
像と、5万枚目の転写紙上の画像とを比較したところ、
差異は全く見られず、鮮明な画像が得られた。
また1層の剥離や亀裂の発生も全く認められなかった。
拗−一一米
以上のような本発明によれば、支持体として非晶質金属
を用いるため、この支持体上に積層されるa−3t層と
支持体との密着性が向上し。
を用いるため、この支持体上に積層されるa−3t層と
支持体との密着性が向上し。
a−8t層の浮き、剥離、亀裂が防止され、繰返し安定
性および経時安定性に優れた電子写真感光体が提供され
る。
性および経時安定性に優れた電子写真感光体が提供され
る。
図面は本発明に係る電子写真感光体の代表的な層構成を
示す概略説明図である。 1・・・電子写真感光体 2・・・支持体3・・
・a−8t層
示す概略説明図である。 1・・・電子写真感光体 2・・・支持体3・・
・a−8t層
Claims (1)
- 1、支持体と、この支持体上に設けられ、水素原子、ハ
ロゲン原子、重水素原子のうちから選ばれる少くとも1
種の原子を含むアモルファスシリコン層とを有する電子
写真感光体において、前記支持体が非晶質金属からなる
ことを特徴とする電子写真感光体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10676685A JPS61264352A (ja) | 1985-05-18 | 1985-05-18 | 電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10676685A JPS61264352A (ja) | 1985-05-18 | 1985-05-18 | 電子写真感光体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61264352A true JPS61264352A (ja) | 1986-11-22 |
Family
ID=14442025
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10676685A Pending JPS61264352A (ja) | 1985-05-18 | 1985-05-18 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61264352A (ja) |
-
1985
- 1985-05-18 JP JP10676685A patent/JPS61264352A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS6055347A (ja) | 光導電性要素 | |
| JPS59136742A (ja) | 半導体装置 | |
| JPS6320343B2 (ja) | ||
| JPH04133357A (ja) | 半導体装置の作製方法 | |
| US5075187A (en) | Electrophotographic photoreceptor with oxide of Al, Zr or Ta as charge transport layer | |
| US4900646A (en) | Electrophotographic recording material and method of producing it | |
| JPS61264351A (ja) | 電子写真感光体 | |
| JPS6126056A (ja) | アモルフアスシリコン感光体 | |
| JPS61264350A (ja) | 電子写真感光体 | |
| JPS6228767A (ja) | 電子写真用感光体 | |
| JPH0792610B2 (ja) | 電子写真用感光体 | |
| JPS62118354A (ja) | 電子写真感光体 | |
| JPS60140357A (ja) | 電子写真感光体 | |
| JPS625255A (ja) | 感光体 | |
| JPH0241742B2 (ja) | ||
| JPS63316059A (ja) | 電子写真用感光体 | |
| JP2663666B2 (ja) | 電子写真用有機系感光体 | |
| JPS63218967A (ja) | 電子写真感光体 | |
| JPH02201376A (ja) | 電子写真用感光体 | |
| JPS61264348A (ja) | 電子写真感光体 | |
| JPS61285631A (ja) | 光電変換装置 | |
| JPH01316750A (ja) | 電子写真用感光体 | |
| JPS61264349A (ja) | 電子写真感光体 | |
| JPS6391664A (ja) | 光受容部材 | |
| JPS61264353A (ja) | 電子写真感光体 |